JPS61155430A - プラズマ処理方法 - Google Patents
プラズマ処理方法Info
- Publication number
- JPS61155430A JPS61155430A JP27433284A JP27433284A JPS61155430A JP S61155430 A JPS61155430 A JP S61155430A JP 27433284 A JP27433284 A JP 27433284A JP 27433284 A JP27433284 A JP 27433284A JP S61155430 A JPS61155430 A JP S61155430A
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- Japan
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- plasma
- gas
- different
- plasma treatment
- processing chamber
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高分子材料等の異なった表面に１夫々別異の
プラズマ処理を施こす方法に関する。
プラズマ処理を施こす方法に関する。
〔従来の技術］
高分子材料等の表面改質法の一つとしてプラズマ処理を
施こす方法が知られている。
施こす方法が知られている。
プラズマ処理方法は、反応ガスのプラズマ化をプラズマ
処理室内で行う方法と、プラズマ処理室外で行う方法と
の２つの方法に大別することができる。
処理室内で行う方法と、プラズマ処理室外で行う方法と
の２つの方法に大別することができる。
これらのプラズマ処理方法を第８図及び第９図に基いて
説明する。
説明する。
第８図はガスのプラズマ化を処理室内で行うタイプの装
置を、第９図はガスのプラズマ化を処理室外で行い、プ
ラズマ化したガスを処理室内に導入するタイプの装置を
示し、夫々の装置において符号１はガスボンベ、２は減
圧弁、３は流量調整弁、４は処理室、４′は処理室のと
びら、５は真空ポンプ、６け反応ガス用バルブ、７けパ
ージ用バルブ、８け真空排気用バルブ、９けリーク用バ
ルブ、１０はパツキン、１１はジェネレーター、１５け
被処理物を示し、第８図において１２Ｖ′！コイル、第
９図において１５は導波管、１４はプラズマシャワー管
を示す。
置を、第９図はガスのプラズマ化を処理室外で行い、プ
ラズマ化したガスを処理室内に導入するタイプの装置を
示し、夫々の装置において符号１はガスボンベ、２は減
圧弁、３は流量調整弁、４は処理室、４′は処理室のと
びら、５は真空ポンプ、６け反応ガス用バルブ、７けパ
ージ用バルブ、８け真空排気用バルブ、９けリーク用バ
ルブ、１０はパツキン、１１はジェネレーター、１５け
被処理物を示し、第８図において１２Ｖ′！コイル、第
９図において１５は導波管、１４はプラズマシャワー管
を示す。
被処理物をプラズマ処理する場合、先づ被処理物１５を
プラズマ処理室４の所定の位置に入れとびら４′を閉じ
ると共にバルブ６．７及び９を閉じ、バルブ８を開とし
た後真空ポンプ５をｏｎ としプラズマ処理室内を排
気する。プラズマ処理室内が所定の圧力に達したらバル
ブ６を開き、処理室内を所定の圧力に保ちながらガスボ
ンベ１から反応ガスを供給しつ＼ジェネレーター１１を
ｏｎ にし、処理室内でガスをプラズマ化するか、プ
ラズマ化されたガスをプラズマシャワー管１４により処
理室内に導入することくより所定の時間被処理物のプラ
ズマ化処理を行う。被処理物のプラズマ化処理が終゛つ
たらジェネレーター１１をｏｆｆとし、バルブ６及び８
を閉とした後パルプ７を開として処理室内を大気圧に戻
し、とびら４′を開いて被処理物１５を取り出す。
プラズマ処理室４の所定の位置に入れとびら４′を閉じ
ると共にバルブ６．７及び９を閉じ、バルブ８を開とし
た後真空ポンプ５をｏｎ としプラズマ処理室内を排
気する。プラズマ処理室内が所定の圧力に達したらバル
ブ６を開き、処理室内を所定の圧力に保ちながらガスボ
ンベ１から反応ガスを供給しつ＼ジェネレーター１１を
ｏｎ にし、処理室内でガスをプラズマ化するか、プ
ラズマ化されたガスをプラズマシャワー管１４により処
理室内に導入することくより所定の時間被処理物のプラ
ズマ化処理を行う。被処理物のプラズマ化処理が終゛つ
たらジェネレーター１１をｏｆｆとし、バルブ６及び８
を閉とした後パルプ７を開として処理室内を大気圧に戻
し、とびら４′を開いて被処理物１５を取り出す。
また、プラズマ処理を行う場合、使用する反応ガス（プ
ラズマ化ガス）の種類により被処理物表面の改質効果が
異なることが知られている。
ラズマ化ガス）の種類により被処理物表面の改質効果が
異なることが知られている。
そして、一つの部品に対して２種類以上のガスを用いて
順次プラズマ処理を施す方法、或いは２ｓ類以上の混合
ガスを用いてプラズマ処理をする方法も知られているが
、一つの部品の部位によるガスの種類を異圧するプラズ
マ処理に関しては、先づマスキングして第１のガスによ
るプラズマ処理を行った後肢マスキングをけがし、つい
で第１のガスによるプラズマ処理を行った部分をマスキ
ングし、ｔ１ｇ２のガスによるプラズマ処理を行うとい
う方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
順次プラズマ処理を施す方法、或いは２ｓ類以上の混合
ガスを用いてプラズマ処理をする方法も知られているが
、一つの部品の部位によるガスの種類を異圧するプラズ
マ処理に関しては、先づマスキングして第１のガスによ
るプラズマ処理を行った後肢マスキングをけがし、つい
で第１のガスによるプラズマ処理を行った部分をマスキ
ングし、ｔ１ｇ２のガスによるプラズマ処理を行うとい
う方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
本発明は、プラズマ処理室に異なったガスを別々に同時
に供給することくよシ、一つの部品の部位によシ異なっ
た表面改質を行う方法を提供するものである。
に供給することくよシ、一つの部品の部位によシ異なっ
た表面改質を行う方法を提供するものである。
本発明は、高分子材料等の表面をプラズマ処理する方法
において、被処理物の異なった表面に夫々別個に異なる
プラズマ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処
理物のプラズマ処理方法である。
において、被処理物の異なった表面に夫々別個に異なる
プラズマ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処
理物のプラズマ処理方法である。
以下、図面に基いて本発明方法を詳しく説明する。
第１図はガスのプラズマ化を処理室外で行なうタイプの
本発明方法を実施するための装置の概略フロー図であっ
て、符号１，１′はガスボンベ、２，２′は減圧弁、３
，３′は流量調整弁、４は処理室、４′は処理室のとび
ら、５は真空ボン７’、６．６’は反応用ガスバルブ、
７はパージ用バルブ、８け真空排気用バルブ、９はリー
ク用バルブ、１０はパツキン、１１．１１’はジェネレ
ーター、１３ 、１５’は導波管、１４ 、１４’はプ
ラズマシャワー管、１５は被処理物を示す。
本発明方法を実施するための装置の概略フロー図であっ
て、符号１，１′はガスボンベ、２，２′は減圧弁、３
，３′は流量調整弁、４は処理室、４′は処理室のとび
ら、５は真空ボン７’、６．６’は反応用ガスバルブ、
７はパージ用バルブ、８け真空排気用バルブ、９はリー
ク用バルブ、１０はパツキン、１１．１１’はジェネレ
ーター、１３ 、１５’は導波管、１４ 、１４’はプ
ラズマシャワー管、１５は被処理物を示す。
該装置を用いて被処理物をプラズマ処理する方法岐、処
理装置内が所定の圧力に達した後、２つのプラズマシャ
ワー管１４及び１４′から異なる反応ガスを被処理物の
異なる面に供給する以外は、第９図について説明したの
と同様である。
理装置内が所定の圧力に達した後、２つのプラズマシャ
ワー管１４及び１４′から異なる反応ガスを被処理物の
異なる面に供給する以外は、第９図について説明したの
と同様である。
即ち、処理室内が所定の圧力に達した後プラズマシャワ
ー管１４′からは例えば反応ガスとしてプラズマ化した
０！ガスを被処理物の上面に供給し、プラズマシャワー
管１４からはプラズマ化したＡｒ・ガスを被処理物の下
面側圧供給し、被処理物の上下両面を夫々異なるプラズ
マガスで処理するものである。
ー管１４′からは例えば反応ガスとしてプラズマ化した
０！ガスを被処理物の上面に供給し、プラズマシャワー
管１４からはプラズマ化したＡｒ・ガスを被処理物の下
面側圧供給し、被処理物の上下両面を夫々異なるプラズ
マガスで処理するものである。
処理室内の圧力、プラズマ化ガスの流量、ジェネレータ
ーの出力、処理時間等は、処理室の大きさ、被処理物の
材質とガスの組み合わせ、或いは希望するプラズマ処理
の程度によシ適宜決定することができる。
ーの出力、処理時間等は、処理室の大きさ、被処理物の
材質とガスの組み合わせ、或いは希望するプラズマ処理
の程度によシ適宜決定することができる。
ジェネレーターの高周波としては、１五５６ＭＨｚのラ
ジオ波、約２４５０ ＭＨＢＩのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはＯＭｒ Ｎ２＊
Ｈ＠ ｒＡｒ ｒ ｌ’ｈｒ Ｃｏ ｒ ＣＩＰ４ｙ
ＣＣｌ４１ＰＮ等プラズマ処理に使用可能なあらゆるガ
スの中から適当なものを選んで使用することができる。
ジオ波、約２４５０ ＭＨＢＩのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはＯＭｒ Ｎ２＊
Ｈ＠ ｒＡｒ ｒ ｌ’ｈｒ Ｃｏ ｒ ＣＩＰ４ｙ
ＣＣｌ４１ＰＮ等プラズマ処理に使用可能なあらゆるガ
スの中から適当なものを選んで使用することができる。
又、プラス１処理室の構造は、第１図に示すようなパッ
チ方式のものに限定されず、連続処理室など、あらゆる
形態の処理室に本発明は応用可能である。
チ方式のものに限定されず、連続処理室など、あらゆる
形態の処理室に本発明は応用可能である。
つぎに図面に基いて具体例を説明するが、本発明は以下
に説明する具体例に限定されるものではない。
に説明する具体例に限定されるものではない。
実施例１
第２図に示す装置を用いてポリオレフィン樹脂製燃料タ
ンクの外面はＯｆガスにより、内面はフッ化炭化水素系
ガスによりプラズマ処理を行った。第２図において、各
符号は第１図について説明した符号と同じ意味を有する
。処理室４にプラズマシャワー管１４′が位置し、外部
に１４へ 位置するようにタンクを配置【７た後、前に説明したの
と同様に処理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、
プラズマシャワー管１４′よりフッ化炭化水素系プラズ
マガスを供給し、プラズマシャワー管１４より０鵞プラ
ズマガスを供給した。その結果、タンク内面にけＣ−Ｆ
結合が生じ、塗装・接着等は困難忙なるが、燃料の透過
性を防止する性質が付与され、一方、タンク外面には〉
Ｃ＝０結合或いは一〇〇ＯＨ結合等の極性基が形成され
、塗装・接着等の二次加工性が向上した。
ンクの外面はＯｆガスにより、内面はフッ化炭化水素系
ガスによりプラズマ処理を行った。第２図において、各
符号は第１図について説明した符号と同じ意味を有する
。処理室４にプラズマシャワー管１４′が位置し、外部
に１４へ 位置するようにタンクを配置【７た後、前に説明したの
と同様に処理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、
プラズマシャワー管１４′よりフッ化炭化水素系プラズ
マガスを供給し、プラズマシャワー管１４より０鵞プラ
ズマガスを供給した。その結果、タンク内面にけＣ−Ｆ
結合が生じ、塗装・接着等は困難忙なるが、燃料の透過
性を防止する性質が付与され、一方、タンク外面には〉
Ｃ＝０結合或いは一〇〇ＯＨ結合等の極性基が形成され
、塗装・接着等の二次加工性が向上した。
第２図に示す装置の場合、第３図及び第４図に示すよう
に１仕切り板１８を設けて２種以上のガスがお互に接触
しないようにするのが好ましい。
に１仕切り板１８を設けて２種以上のガスがお互に接触
しないようにするのが好ましい。
第４図は第３図のＡ−Ａ線における断面図を示し、両図
面にかいて１６は台車、１７けレール、１８は仕切板、
１９はジヤツキ、８′は真空排気用バルブを示し、他の
符号は、Ｍ２図で説明した符号と同一意味を有し、且つ
第５図及び第４図においては処理室の部分のみの断面図
を示す。
面にかいて１６は台車、１７けレール、１８は仕切板、
１９はジヤツキ、８′は真空排気用バルブを示し、他の
符号は、Ｍ２図で説明した符号と同一意味を有し、且つ
第５図及び第４図においては処理室の部分のみの断面図
を示す。
第３図及び第４図に示す装置を用いて被処理物のプラズ
マ処理を行う場合にけ、処理装置内に設置したレール１
７上を台車に乗せた被処理物を移動させ、タンクの開口
部と仕切り板１８に設けた穴の位置があった時点で、台
車に設けたジヤツキ１９を上げることにより、穴の部分
にタンクの開口部が挿入されるように夕／りを位置せし
めた後プラズマ処理を行う。
マ処理を行う場合にけ、処理装置内に設置したレール１
７上を台車に乗せた被処理物を移動させ、タンクの開口
部と仕切り板１８に設けた穴の位置があった時点で、台
車に設けたジヤツキ１９を上げることにより、穴の部分
にタンクの開口部が挿入されるように夕／りを位置せし
めた後プラズマ処理を行う。
板１８の穴と被処理物の開口部との間の隙間は、ゴムシ
ール等によりはソ完全にシールしてもよいが、第５図に
示すように１シ一ル代１８′を設け、この部分を大きく
すれば、プラズマ化したガスは隙間を通過する際忙失活
するため、完全にシールする必要はない。
ール等によりはソ完全にシールしてもよいが、第５図に
示すように１シ一ル代１８′を設け、この部分を大きく
すれば、プラズマ化したガスは隙間を通過する際忙失活
するため、完全にシールする必要はない。
またプラズマ化したガスが失活する距離が判明している
場合には、プラズマ化ガスシャワー管と仕切り部との距
離を前記距離に合わせるととくより、仕切りを省略する
ことができる。
場合には、プラズマ化ガスシャワー管と仕切り部との距
離を前記距離に合わせるととくより、仕切りを省略する
ことができる。
また、仕切り板を設ける代りに１第６図に示すように板
状の仕切り用治具１８’に被処理物１５の開口部にけめ
こみうる接合部２０を設けた板を開口部にはめ込んだ後
、処理室に入れるようＫしてもよい。
状の仕切り用治具１８’に被処理物１５の開口部にけめ
こみうる接合部２０を設けた板を開口部にはめ込んだ後
、処理室に入れるようＫしてもよい。
なお、２種類のガスの混合を少くするためには、真空排
気用管とシャワー管との相対位置を工夫し各々のガスが
まざらないようなガスの流れとすることが望ましい。
気用管とシャワー管との相対位置を工夫し各々のガスが
まざらないようなガスの流れとすることが望ましい。
以上説明した方法により被処理物をプラズマ処理する場
合において、夫々のプラズマ化ガスによる処理時間が異
なる場合、一方のプラズマガスのみを長時間導入し、他
方は短時間導入するようにしてもよい。
合において、夫々のプラズマ化ガスによる処理時間が異
なる場合、一方のプラズマガスのみを長時間導入し、他
方は短時間導入するようにしてもよい。
なお、この場合、短時間導入するプラズマガスの導入を
停止し、一方のプラズマガスのみを送り続ける場合、処
理室内の圧力が変動し、処理効果のバランスがくずれる
恐れがあるので、短時間導入するプラズマガスは、処理
が終った段階でジェネレーターのみを停止しプラズマ化
しないガスを送り続叶るのが好ましい。
停止し、一方のプラズマガスのみを送り続ける場合、処
理室内の圧力が変動し、処理効果のバランスがくずれる
恐れがあるので、短時間導入するプラズマガスは、処理
が終った段階でジェネレーターのみを停止しプラズマ化
しないガスを送り続叶るのが好ましい。
また、前記装置を使用して部分的に表面処理したい場合
、処理したい面に面した方のみにプラズマ化したガスを
導入し、処理を欲しない側にはプラズマ化してないガス
を導入することＫより、処理したい面のみを効率よくプ
ラズマ処理することができる。
、処理したい面に面した方のみにプラズマ化したガスを
導入し、処理を欲しない側にはプラズマ化してないガス
を導入することＫより、処理したい面のみを効率よくプ
ラズマ処理することができる。
実施例２
第７図に基いてポリ塩化ビニル製テープの表面と裏面を
夫々異なる反応ガスを用いてプラズマ処理を行う例を示
す。
夫々異なる反応ガスを用いてプラズマ処理を行う例を示
す。
第７図において符号１５′はポリ塩化ビニル製チー７’
、２１はポリ塩化ビニル製テープの供給口−ル、２２は
同巻取りロールを示１／、他の符号は第２図で説明した
符号と同じ意味を有する。
、２１はポリ塩化ビニル製テープの供給口−ル、２２は
同巻取りロールを示１／、他の符号は第２図で説明した
符号と同じ意味を有する。
処理室が所定の圧力に減圧された場合、ポリ塩化ビニル
テープを一定の速度で供給しながらプラズマシャワー管
１４から有機けい素化合物例えばビニルトリメトキシシ
ラン又はこれとアンモニア又は希ガスとの混合プラズマ
ガスを供給し、一方、プラズマシャワー管１４′から０
．プラズマガスを供給して、ポリ塩化ビニルテープの表
面と裏面とを異なるガスでプラズマ処理し、巻取りテー
プに巻取った。表面には耐汚染性並びに帯電防止性が付
与され、裏面（０鵞ガスで処理した面）は接着剤との接
着力が向上した。従って裏面に接着剤層または粘着剤層
を設けて接着テープとすることができる。
テープを一定の速度で供給しながらプラズマシャワー管
１４から有機けい素化合物例えばビニルトリメトキシシ
ラン又はこれとアンモニア又は希ガスとの混合プラズマ
ガスを供給し、一方、プラズマシャワー管１４′から０
．プラズマガスを供給して、ポリ塩化ビニルテープの表
面と裏面とを異なるガスでプラズマ処理し、巻取りテー
プに巻取った。表面には耐汚染性並びに帯電防止性が付
与され、裏面（０鵞ガスで処理した面）は接着剤との接
着力が向上した。従って裏面に接着剤層または粘着剤層
を設けて接着テープとすることができる。
第１図、第２図、第５図、及び第７図は本発明方法を説
明するための概略図、第４図は第３図のＡ−Ａ線におけ
る断面図、第５図及び第６図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第８図及び第９図は従来方法を説明するた
めの図である。
明するための概略図、第４図は第３図のＡ−Ａ線におけ
る断面図、第５図及び第６図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第８図及び第９図は従来方法を説明するた
めの図である。
Claims (1)
- １、高分子材料等の表面をプラズマ処理する方法におい
て、被処理物の異なつた表面に夫々別個に異なるプラズ
マ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処理物の
プラズマ処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61155430A true JPS61155430A (ja) | 1986-07-15 |
| JPH046214B2 JPH046214B2 (ja) | 1992-02-05 |
Family
ID=17540177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27433284A Granted JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61155430A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10310652A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-11-24 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理方法、その被処理物および表面処理装置 |
| JP2008547166A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | ソフタル エレクトロニック エリック ブルーメンフェルト ゲーエムベーハ− ウント コー カーゲー | 製品、特にプレート材または棒材を大気圧で連続的にプラズマ処理およびプラズマコーティングの少なくともいずれかをする方法 |
| JP2016129138A (ja) * | 2016-01-22 | 2016-07-14 | 沖野 晃俊 | プラズマ処理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515869A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-19 | Torao Tobisu | Ekitaino seidenjokasochi |
| JPS59126437A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-07-21 | Unitika Ltd | シ−ト状物の低温プラズマ処理方法 |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP27433284A patent/JPS61155430A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS515869A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-19 | Torao Tobisu | Ekitaino seidenjokasochi |
| JPS59126437A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-07-21 | Unitika Ltd | シ−ト状物の低温プラズマ処理方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10310652A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-11-24 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理方法、その被処理物および表面処理装置 |
| JP2008547166A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | ソフタル エレクトロニック エリック ブルーメンフェルト ゲーエムベーハ− ウント コー カーゲー | 製品、特にプレート材または棒材を大気圧で連続的にプラズマ処理およびプラズマコーティングの少なくともいずれかをする方法 |
| JP2016129138A (ja) * | 2016-01-22 | 2016-07-14 | 沖野 晃俊 | プラズマ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH046214B2 (ja) | 1992-02-05 |
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