JPS61155430A - プラズマ処理方法 - Google Patents
プラズマ処理方法Info
- Publication number
- JPS61155430A JPS61155430A JP27433284A JP27433284A JPS61155430A JP S61155430 A JPS61155430 A JP S61155430A JP 27433284 A JP27433284 A JP 27433284A JP 27433284 A JP27433284 A JP 27433284A JP S61155430 A JPS61155430 A JP S61155430A
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- JP
- Japan
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- plasma
- gas
- different
- plasma treatment
- processing chamber
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高分子材料等の異なった表面に1夫々別異の
プラズマ処理を施こす方法に関する。
プラズマ処理を施こす方法に関する。
〔従来の技術]
高分子材料等の表面改質法の一つとしてプラズマ処理を
施こす方法が知られている。
施こす方法が知られている。
プラズマ処理方法は、反応ガスのプラズマ化をプラズマ
処理室内で行う方法と、プラズマ処理室外で行う方法と
の2つの方法に大別することができる。
処理室内で行う方法と、プラズマ処理室外で行う方法と
の2つの方法に大別することができる。
これらのプラズマ処理方法を第8図及び第9図に基いて
説明する。
説明する。
第8図はガスのプラズマ化を処理室内で行うタイプの装
置を、第9図はガスのプラズマ化を処理室外で行い、プ
ラズマ化したガスを処理室内に導入するタイプの装置を
示し、夫々の装置において符号1はガスボンベ、2は減
圧弁、3は流量調整弁、4は処理室、4′は処理室のと
びら、5は真空ポンプ、6け反応ガス用バルブ、7けパ
ージ用バルブ、8け真空排気用バルブ、9けリーク用バ
ルブ、10はパツキン、11はジェネレーター、15け
被処理物を示し、第8図において12V′!コイル、第
9図において15は導波管、14はプラズマシャワー管
を示す。
置を、第9図はガスのプラズマ化を処理室外で行い、プ
ラズマ化したガスを処理室内に導入するタイプの装置を
示し、夫々の装置において符号1はガスボンベ、2は減
圧弁、3は流量調整弁、4は処理室、4′は処理室のと
びら、5は真空ポンプ、6け反応ガス用バルブ、7けパ
ージ用バルブ、8け真空排気用バルブ、9けリーク用バ
ルブ、10はパツキン、11はジェネレーター、15け
被処理物を示し、第8図において12V′!コイル、第
9図において15は導波管、14はプラズマシャワー管
を示す。
被処理物をプラズマ処理する場合、先づ被処理物15を
プラズマ処理室4の所定の位置に入れとびら4′を閉じ
ると共にバルブ6.7及び9を閉じ、バルブ8を開とし
た後真空ポンプ5をon としプラズマ処理室内を排
気する。プラズマ処理室内が所定の圧力に達したらバル
ブ6を開き、処理室内を所定の圧力に保ちながらガスボ
ンベ1から反応ガスを供給しつ\ジェネレーター11を
on にし、処理室内でガスをプラズマ化するか、プ
ラズマ化されたガスをプラズマシャワー管14により処
理室内に導入することくより所定の時間被処理物のプラ
ズマ化処理を行う。被処理物のプラズマ化処理が終゛つ
たらジェネレーター11をoffとし、バルブ6及び8
を閉とした後パルプ7を開として処理室内を大気圧に戻
し、とびら4′を開いて被処理物15を取り出す。
プラズマ処理室4の所定の位置に入れとびら4′を閉じ
ると共にバルブ6.7及び9を閉じ、バルブ8を開とし
た後真空ポンプ5をon としプラズマ処理室内を排
気する。プラズマ処理室内が所定の圧力に達したらバル
ブ6を開き、処理室内を所定の圧力に保ちながらガスボ
ンベ1から反応ガスを供給しつ\ジェネレーター11を
on にし、処理室内でガスをプラズマ化するか、プ
ラズマ化されたガスをプラズマシャワー管14により処
理室内に導入することくより所定の時間被処理物のプラ
ズマ化処理を行う。被処理物のプラズマ化処理が終゛つ
たらジェネレーター11をoffとし、バルブ6及び8
を閉とした後パルプ7を開として処理室内を大気圧に戻
し、とびら4′を開いて被処理物15を取り出す。
また、プラズマ処理を行う場合、使用する反応ガス(プ
ラズマ化ガス)の種類により被処理物表面の改質効果が
異なることが知られている。
ラズマ化ガス)の種類により被処理物表面の改質効果が
異なることが知られている。
そして、一つの部品に対して2種類以上のガスを用いて
順次プラズマ処理を施す方法、或いは2s類以上の混合
ガスを用いてプラズマ処理をする方法も知られているが
、一つの部品の部位によるガスの種類を異圧するプラズ
マ処理に関しては、先づマスキングして第1のガスによ
るプラズマ処理を行った後肢マスキングをけがし、つい
で第1のガスによるプラズマ処理を行った部分をマスキ
ングし、t1g2のガスによるプラズマ処理を行うとい
う方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
順次プラズマ処理を施す方法、或いは2s類以上の混合
ガスを用いてプラズマ処理をする方法も知られているが
、一つの部品の部位によるガスの種類を異圧するプラズ
マ処理に関しては、先づマスキングして第1のガスによ
るプラズマ処理を行った後肢マスキングをけがし、つい
で第1のガスによるプラズマ処理を行った部分をマスキ
ングし、t1g2のガスによるプラズマ処理を行うとい
う方法しかなく、面倒な操作を必要とする。
本発明は、プラズマ処理室に異なったガスを別々に同時
に供給することくよシ、一つの部品の部位によシ異なっ
た表面改質を行う方法を提供するものである。
に供給することくよシ、一つの部品の部位によシ異なっ
た表面改質を行う方法を提供するものである。
本発明は、高分子材料等の表面をプラズマ処理する方法
において、被処理物の異なった表面に夫々別個に異なる
プラズマ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処
理物のプラズマ処理方法である。
において、被処理物の異なった表面に夫々別個に異なる
プラズマ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処
理物のプラズマ処理方法である。
以下、図面に基いて本発明方法を詳しく説明する。
第1図はガスのプラズマ化を処理室外で行なうタイプの
本発明方法を実施するための装置の概略フロー図であっ
て、符号1,1′はガスボンベ、2,2′は減圧弁、3
,3′は流量調整弁、4は処理室、4′は処理室のとび
ら、5は真空ボン7’、6.6’は反応用ガスバルブ、
7はパージ用バルブ、8け真空排気用バルブ、9はリー
ク用バルブ、10はパツキン、11.11’はジェネレ
ーター、13 、15’は導波管、14 、14’はプ
ラズマシャワー管、15は被処理物を示す。
本発明方法を実施するための装置の概略フロー図であっ
て、符号1,1′はガスボンベ、2,2′は減圧弁、3
,3′は流量調整弁、4は処理室、4′は処理室のとび
ら、5は真空ボン7’、6.6’は反応用ガスバルブ、
7はパージ用バルブ、8け真空排気用バルブ、9はリー
ク用バルブ、10はパツキン、11.11’はジェネレ
ーター、13 、15’は導波管、14 、14’はプ
ラズマシャワー管、15は被処理物を示す。
該装置を用いて被処理物をプラズマ処理する方法岐、処
理装置内が所定の圧力に達した後、2つのプラズマシャ
ワー管14及び14′から異なる反応ガスを被処理物の
異なる面に供給する以外は、第9図について説明したの
と同様である。
理装置内が所定の圧力に達した後、2つのプラズマシャ
ワー管14及び14′から異なる反応ガスを被処理物の
異なる面に供給する以外は、第9図について説明したの
と同様である。
即ち、処理室内が所定の圧力に達した後プラズマシャワ
ー管14′からは例えば反応ガスとしてプラズマ化した
0!ガスを被処理物の上面に供給し、プラズマシャワー
管14からはプラズマ化したAr・ガスを被処理物の下
面側圧供給し、被処理物の上下両面を夫々異なるプラズ
マガスで処理するものである。
ー管14′からは例えば反応ガスとしてプラズマ化した
0!ガスを被処理物の上面に供給し、プラズマシャワー
管14からはプラズマ化したAr・ガスを被処理物の下
面側圧供給し、被処理物の上下両面を夫々異なるプラズ
マガスで処理するものである。
処理室内の圧力、プラズマ化ガスの流量、ジェネレータ
ーの出力、処理時間等は、処理室の大きさ、被処理物の
材質とガスの組み合わせ、或いは希望するプラズマ処理
の程度によシ適宜決定することができる。
ーの出力、処理時間等は、処理室の大きさ、被処理物の
材質とガスの組み合わせ、或いは希望するプラズマ処理
の程度によシ適宜決定することができる。
ジェネレーターの高周波としては、1五56MHzのラ
ジオ波、約2450 MHBIのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはOMr N2*
H@ rAr r l’hr Co r CIP4y
CCl41PN等プラズマ処理に使用可能なあらゆるガ
スの中から適当なものを選んで使用することができる。
ジオ波、約2450 MHBIのマイクロ波等を使用す
ることができ、また反応ガスとしてはOMr N2*
H@ rAr r l’hr Co r CIP4y
CCl41PN等プラズマ処理に使用可能なあらゆるガ
スの中から適当なものを選んで使用することができる。
又、プラス1処理室の構造は、第1図に示すようなパッ
チ方式のものに限定されず、連続処理室など、あらゆる
形態の処理室に本発明は応用可能である。
チ方式のものに限定されず、連続処理室など、あらゆる
形態の処理室に本発明は応用可能である。
つぎに図面に基いて具体例を説明するが、本発明は以下
に説明する具体例に限定されるものではない。
に説明する具体例に限定されるものではない。
実施例1
第2図に示す装置を用いてポリオレフィン樹脂製燃料タ
ンクの外面はOfガスにより、内面はフッ化炭化水素系
ガスによりプラズマ処理を行った。第2図において、各
符号は第1図について説明した符号と同じ意味を有する
。処理室4にプラズマシャワー管14′が位置し、外部
に14へ 位置するようにタンクを配置【7た後、前に説明したの
と同様に処理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、
プラズマシャワー管14′よりフッ化炭化水素系プラズ
マガスを供給し、プラズマシャワー管14より0鵞プラ
ズマガスを供給した。その結果、タンク内面にけC−F
結合が生じ、塗装・接着等は困難忙なるが、燃料の透過
性を防止する性質が付与され、一方、タンク外面には〉
C=0結合或いは一〇〇OH結合等の極性基が形成され
、塗装・接着等の二次加工性が向上した。
ンクの外面はOfガスにより、内面はフッ化炭化水素系
ガスによりプラズマ処理を行った。第2図において、各
符号は第1図について説明した符号と同じ意味を有する
。処理室4にプラズマシャワー管14′が位置し、外部
に14へ 位置するようにタンクを配置【7た後、前に説明したの
と同様に処理室内を減圧し、所定の圧力に達したとき、
プラズマシャワー管14′よりフッ化炭化水素系プラズ
マガスを供給し、プラズマシャワー管14より0鵞プラ
ズマガスを供給した。その結果、タンク内面にけC−F
結合が生じ、塗装・接着等は困難忙なるが、燃料の透過
性を防止する性質が付与され、一方、タンク外面には〉
C=0結合或いは一〇〇OH結合等の極性基が形成され
、塗装・接着等の二次加工性が向上した。
第2図に示す装置の場合、第3図及び第4図に示すよう
に1仕切り板18を設けて2種以上のガスがお互に接触
しないようにするのが好ましい。
に1仕切り板18を設けて2種以上のガスがお互に接触
しないようにするのが好ましい。
第4図は第3図のA−A線における断面図を示し、両図
面にかいて16は台車、17けレール、18は仕切板、
19はジヤツキ、8′は真空排気用バルブを示し、他の
符号は、M2図で説明した符号と同一意味を有し、且つ
第5図及び第4図においては処理室の部分のみの断面図
を示す。
面にかいて16は台車、17けレール、18は仕切板、
19はジヤツキ、8′は真空排気用バルブを示し、他の
符号は、M2図で説明した符号と同一意味を有し、且つ
第5図及び第4図においては処理室の部分のみの断面図
を示す。
第3図及び第4図に示す装置を用いて被処理物のプラズ
マ処理を行う場合にけ、処理装置内に設置したレール1
7上を台車に乗せた被処理物を移動させ、タンクの開口
部と仕切り板18に設けた穴の位置があった時点で、台
車に設けたジヤツキ19を上げることにより、穴の部分
にタンクの開口部が挿入されるように夕/りを位置せし
めた後プラズマ処理を行う。
マ処理を行う場合にけ、処理装置内に設置したレール1
7上を台車に乗せた被処理物を移動させ、タンクの開口
部と仕切り板18に設けた穴の位置があった時点で、台
車に設けたジヤツキ19を上げることにより、穴の部分
にタンクの開口部が挿入されるように夕/りを位置せし
めた後プラズマ処理を行う。
板18の穴と被処理物の開口部との間の隙間は、ゴムシ
ール等によりはソ完全にシールしてもよいが、第5図に
示すように1シ一ル代18′を設け、この部分を大きく
すれば、プラズマ化したガスは隙間を通過する際忙失活
するため、完全にシールする必要はない。
ール等によりはソ完全にシールしてもよいが、第5図に
示すように1シ一ル代18′を設け、この部分を大きく
すれば、プラズマ化したガスは隙間を通過する際忙失活
するため、完全にシールする必要はない。
またプラズマ化したガスが失活する距離が判明している
場合には、プラズマ化ガスシャワー管と仕切り部との距
離を前記距離に合わせるととくより、仕切りを省略する
ことができる。
場合には、プラズマ化ガスシャワー管と仕切り部との距
離を前記距離に合わせるととくより、仕切りを省略する
ことができる。
また、仕切り板を設ける代りに1第6図に示すように板
状の仕切り用治具18’に被処理物15の開口部にけめ
こみうる接合部20を設けた板を開口部にはめ込んだ後
、処理室に入れるようKしてもよい。
状の仕切り用治具18’に被処理物15の開口部にけめ
こみうる接合部20を設けた板を開口部にはめ込んだ後
、処理室に入れるようKしてもよい。
なお、2種類のガスの混合を少くするためには、真空排
気用管とシャワー管との相対位置を工夫し各々のガスが
まざらないようなガスの流れとすることが望ましい。
気用管とシャワー管との相対位置を工夫し各々のガスが
まざらないようなガスの流れとすることが望ましい。
以上説明した方法により被処理物をプラズマ処理する場
合において、夫々のプラズマ化ガスによる処理時間が異
なる場合、一方のプラズマガスのみを長時間導入し、他
方は短時間導入するようにしてもよい。
合において、夫々のプラズマ化ガスによる処理時間が異
なる場合、一方のプラズマガスのみを長時間導入し、他
方は短時間導入するようにしてもよい。
なお、この場合、短時間導入するプラズマガスの導入を
停止し、一方のプラズマガスのみを送り続ける場合、処
理室内の圧力が変動し、処理効果のバランスがくずれる
恐れがあるので、短時間導入するプラズマガスは、処理
が終った段階でジェネレーターのみを停止しプラズマ化
しないガスを送り続叶るのが好ましい。
停止し、一方のプラズマガスのみを送り続ける場合、処
理室内の圧力が変動し、処理効果のバランスがくずれる
恐れがあるので、短時間導入するプラズマガスは、処理
が終った段階でジェネレーターのみを停止しプラズマ化
しないガスを送り続叶るのが好ましい。
また、前記装置を使用して部分的に表面処理したい場合
、処理したい面に面した方のみにプラズマ化したガスを
導入し、処理を欲しない側にはプラズマ化してないガス
を導入することKより、処理したい面のみを効率よくプ
ラズマ処理することができる。
、処理したい面に面した方のみにプラズマ化したガスを
導入し、処理を欲しない側にはプラズマ化してないガス
を導入することKより、処理したい面のみを効率よくプ
ラズマ処理することができる。
実施例2
第7図に基いてポリ塩化ビニル製テープの表面と裏面を
夫々異なる反応ガスを用いてプラズマ処理を行う例を示
す。
夫々異なる反応ガスを用いてプラズマ処理を行う例を示
す。
第7図において符号15′はポリ塩化ビニル製チー7’
、21はポリ塩化ビニル製テープの供給口−ル、22は
同巻取りロールを示1/、他の符号は第2図で説明した
符号と同じ意味を有する。
、21はポリ塩化ビニル製テープの供給口−ル、22は
同巻取りロールを示1/、他の符号は第2図で説明した
符号と同じ意味を有する。
処理室が所定の圧力に減圧された場合、ポリ塩化ビニル
テープを一定の速度で供給しながらプラズマシャワー管
14から有機けい素化合物例えばビニルトリメトキシシ
ラン又はこれとアンモニア又は希ガスとの混合プラズマ
ガスを供給し、一方、プラズマシャワー管14′から0
.プラズマガスを供給して、ポリ塩化ビニルテープの表
面と裏面とを異なるガスでプラズマ処理し、巻取りテー
プに巻取った。表面には耐汚染性並びに帯電防止性が付
与され、裏面(0鵞ガスで処理した面)は接着剤との接
着力が向上した。従って裏面に接着剤層または粘着剤層
を設けて接着テープとすることができる。
テープを一定の速度で供給しながらプラズマシャワー管
14から有機けい素化合物例えばビニルトリメトキシシ
ラン又はこれとアンモニア又は希ガスとの混合プラズマ
ガスを供給し、一方、プラズマシャワー管14′から0
.プラズマガスを供給して、ポリ塩化ビニルテープの表
面と裏面とを異なるガスでプラズマ処理し、巻取りテー
プに巻取った。表面には耐汚染性並びに帯電防止性が付
与され、裏面(0鵞ガスで処理した面)は接着剤との接
着力が向上した。従って裏面に接着剤層または粘着剤層
を設けて接着テープとすることができる。
第1図、第2図、第5図、及び第7図は本発明方法を説
明するための概略図、第4図は第3図のA−A線におけ
る断面図、第5図及び第6図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第8図及び第9図は従来方法を説明するた
めの図である。
明するための概略図、第4図は第3図のA−A線におけ
る断面図、第5図及び第6図は仕切板と開口部の接合状
態を示す図、第8図及び第9図は従来方法を説明するた
めの図である。
Claims (1)
- 1、高分子材料等の表面をプラズマ処理する方法におい
て、被処理物の異なつた表面に夫々別個に異なるプラズ
マ化ガスを同時に供給することを特徴とする被処理物の
プラズマ処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27433284A JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61155430A true JPS61155430A (ja) | 1986-07-15 |
JPH046214B2 JPH046214B2 (ja) | 1992-02-05 |
Family
ID=17540177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27433284A Granted JPS61155430A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61155430A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10310652A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-11-24 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理方法、その被処理物および表面処理装置 |
JP2008547166A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | ソフタル エレクトロニック エリック ブルーメンフェルト ゲーエムベーハ− ウント コー カーゲー | 製品、特にプレート材または棒材を大気圧で連続的にプラズマ処理およびプラズマコーティングの少なくともいずれかをする方法 |
JP2016129138A (ja) * | 2016-01-22 | 2016-07-14 | 沖野 晃俊 | プラズマ処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS515869A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-19 | Torao Tobisu | Ekitaino seidenjokasochi |
JPS59126437A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-07-21 | Unitika Ltd | シ−ト状物の低温プラズマ処理方法 |
-
1984
- 1984-12-28 JP JP27433284A patent/JPS61155430A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS515869A (en) * | 1974-07-02 | 1976-01-19 | Torao Tobisu | Ekitaino seidenjokasochi |
JPS59126437A (ja) * | 1983-01-07 | 1984-07-21 | Unitika Ltd | シ−ト状物の低温プラズマ処理方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10310652A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-11-24 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理方法、その被処理物および表面処理装置 |
JP2008547166A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | ソフタル エレクトロニック エリック ブルーメンフェルト ゲーエムベーハ− ウント コー カーゲー | 製品、特にプレート材または棒材を大気圧で連続的にプラズマ処理およびプラズマコーティングの少なくともいずれかをする方法 |
JP2016129138A (ja) * | 2016-01-22 | 2016-07-14 | 沖野 晃俊 | プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH046214B2 (ja) | 1992-02-05 |
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