JPS61151196A - Production of substituted-1,3-butadiene derivative - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled compound economically by easy reaction control in reduced number of processes, by using both a magnesium substituted butadienyl halide and a silane compound having a specific structure as starting raw materials. CONSTITUTION:A magnesium substituted-1,3-butadienyl halide shown by the formula I [B1 and B2 are H, lower alkyl, or MgX (X is halogen), and at least one is MgX; A1 and A2 are H, or lower alkyl] such as Grignard reagent of chloroprene, etc. is reacted with a silane compound shown by the formula SiX1 X2X3X4 (X1-X4 are halogen, lower alkyl, lower alkoxy, with the proviso that a case where X1-X4 are simultaneously lower alkyl is omitted) such as tetramethoxysilane, etc. preferably in a solvent such as THF, etc. in an argon atmosphere at 0 deg.C - room temperature, to give the aimed compound shown by the formula II [Z1 and Z2 are H, lower alkyl, SiY1Y2Y3 (Y1-Y3 are H, lower alkyl, etc.), and at least one is SiY1Y2Y3].

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は構造式（［１ ％式％ （式中、Ｚｌ、　Ｚ、はそれぞれ水素原子、低級アルキ
ル基又はＳｔ　ｙｌｙ２ｙａを示すが、Ｚｉ、ＺｎＯい
ずれか１つは８１　ＹＩＹ、　ｙ、であり、Ｙ、　、Ｙ
、　。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention has a structural formula ([1% formula% (in the formula, Zl and Z each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or Styly2ya, and either one of Zi or ZnO is 81 YIY, y, and Y, ,Y
, .

Ｙｌはそれぞれハロゲン原子、低級アルキル基又は低級
アルコキシ基である。また、Ａ、　、　Ａ、はそれぞれ
水素原子又は低級アルキル基を示す。）で表わされる置
換−１，３−ブタジェン誘導体の製造法に関する。Yl is each a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group. Further, A, , A each represent a hydrogen atom or a lower alkyl group. ) The present invention relates to a method for producing a substituted-1,3-butadiene derivative represented by:

従来の技術 従来より、１，４−ジクロル−２−ブチンとトリエチル
シランとを反応させて２−トリエチルシリル−１，４−
ジクロル−２−ブテンを合成し、更にアルコール中で脱
塩素して２−トリエチルシリル−１，３−ブタジェンと
する方法は知られている〔テトラヘドロンレターズ（Ｔ
ｅｔｒａｈ＠ｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）。Conventional technology Conventionally, 1,4-dichloro-2-butyne and triethylsilane are reacted to form 2-triethylsilyl-1,4-
A method for synthesizing dichloro-2-butene and further dechlorinating it in alcohol to produce 2-triethylsilyl-1,3-butadiene is known [Tetrahedron Letters (T
etrah@dron Letters).

３６巻、３３２３頁〕。しかしながら、この方法はハロ
ゲン及びアルコキシ基、更にアルコキシ基とアルキル基
とを同時に持つ化合物等、各種置換シリル基を有する化
合物の製造には適用できない欠点がある。Volume 36, page 3323]. However, this method has the disadvantage that it cannot be applied to the production of compounds having various substituted silyl groups, such as compounds having halogen and alkoxy groups, or compounds having both alkoxy and alkyl groups.

この点を改良するため、本発明者は先に特願昭５９−３
３７３３号において、 構造式 ％式％ （但シ、Ｒ’　、　１２１　Ｒ’　ハソレ（”ｈ　ハａ
　ｃ　ｙ原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を
示す。）で表わされる２−置換−１，３−ブタジェンの
製造法について提案した。In order to improve this point, the present inventor previously filed a patent application filed in 1983-3.
In No. 3733, the structural formula % formula % (However, R', 121 R'hasore("h haa
cy represents a y atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group. ) proposed a method for producing 2-substituted-1,3-butadiene.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記の「テトラヘト−３タ一ズ３６巻３
３２３頁」及び「特願昭５９−３３７３３号」記載の方
法は必然的にアセチレンを出発原料とするので、１．４
−ジヒドロキシ−２−ブチン、１，４−ジハロゲノ−２
−ブチン、及び２−置換−１，４−Ｎへロｒノー２−ブ
チンを経由する製造法であり、反応の制御が困難であり
、また工程も長いなど、煩雑で高価な製造法になりてい
る。従うて、反応の制御及び工程の簡略化した置換−１
，３−２タノ工ン誘導体の製造法の開発が強く望まれる
。Problems that the invention attempts to solve
Since the method described in "Page 323" and "Japanese Patent Application No. 59-33733" necessarily uses acetylene as a starting material, 1.4
-dihydroxy-2-butyne, 1,4-dihalogeno-2
-butyne and 2-substituted-1,4-N via 2-butyne, making it difficult to control the reaction and requiring long steps, resulting in a complicated and expensive production method. ing. Therefore, reaction control and process simplified substitution-1
, 3-2 It is strongly desired to develop a method for producing tanotechone derivatives.

問題点を解決する為の手段 本発明者は反応の制御が容易で工程数も少く、経済的な
置換−１，３−ブタジェン誘導体の製造法の開発を目的
として鋭意研究を進めた結果、構造式ＣＩ） Ａ４　　　　　　Ａｘ （式中、Ｂｌｖ　Ｂｚｔ家それぞれ水素原子、低級アル
キル基又はＭｇＸ基を示すが、Ｂ１．Ｂ、のいずれか１
つはＭｇＸ基であり、Ｘはハロゲン原子である。Means for Solving the Problems The present inventor has carried out extensive research with the aim of developing an economical method for producing substituted-1,3-butadiene derivatives with easy reaction control and a small number of steps. Formula CI) A4 Ax (wherein the Blv Bzt family each represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a MgX group, but any one of B1.B)
One is a MgX group, and X is a halogen atom.

また、ＡＨ，Ａ、はそれぞれ水素原子又は低級アルキル
基を示す。） で表わされる置換−１，３−ブタジエニルノ１０ｒン化
マグネシウムと 構造式［１〕 Ｓｔ　ＸＩＸｚ　Ｘ３　Ｘ４　　　　・・・・・・〔…
〕（式中、Ｘ、　、ｘ２　、ｘ、　、ｘ４　　はそれぞ
れハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基
を示す。）で表わされるシラン化合物とを反応させるこ
とにより、反応を容易に制御し得ると共に、工程数を削
減して、 構造式（１１１ ％式％ （式中、ｚｔ　ｔ　ｚ、はそれぞれ水素原子、低級ア／
Ｉ／　キ／ｌ／基又はｓｉ　ｙｌ　ｙ、　Ｙｓを示すが
％　Ｚｔ　ｅＺｓ　Ｏいずれか１つは５ｔＹＩＹ鵞Ｙ３
であり、Ｙｌ　ａ　Ｙａ　ｔ　Ｙｌはそれぞれハロゲン
原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である。ま
た、Ａｌ　＃　ＡＨはそれぞれ水素原子、低級アルキル
基を示す、） で表わされる置換−１，３−ブタジェン誘導体が安価に
製造されることを知見し、本発明をなすに至ったもので
ある。Further, AH and A each represent a hydrogen atom or a lower alkyl group. ) Substituted-1,3-butadienylno-10rnide magnesium and structural formula [1] St XIXz X3 X4 ...... [...
] (wherein, X, x2, x, x4 each represent a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group), the reaction can be easily controlled and , the number of steps was reduced, and the structural formula (111% formula% (in the formula, zt tz, respectively, is a hydrogen atom, a lower a/
I/ Ki/l/ group or si yl y, Ys is shown, but any one of % Zt eZs O is 5tYIY鵞Y3
and Yl a Ya t Yl are each a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group. In addition, the present inventors have discovered that a substituted-1,3-butadiene derivative represented by the formula (Al #AH represents a hydrogen atom and a lower alkyl group, respectively) can be produced at low cost, leading to the present invention.

ここで、前記式（Ｉｎ）で示される本発明の目的物質で
ある置換−１，３−ブタジェン誘導体としては、具体的
に２−〔トリメトキシ〕シリル−１，３−プタジエン、
２−（メトキシジメチル〕シリル−１，３−ブタジェン
、２−（ジメトキシメチル〕シリル−１，３−ブタジェ
ン、２−（）リクロロ〕シリル−１，３−フタジエン、
２−［ニジメチルクロロ〕シリル−１，３−ブタジェン
等のブタジェン誘導体、２−（）リメトキシ〕シリルー
１．３−ペンタジェン、２−（メトキシジメチル〕シリ
ル−１，３−ペンタジェン、２−（ジメトキシメチル〕
シリル−１，３−ペンタジェン、２−（）リクロロ〕シ
リルー１，３−ペンタジェン、２−（ジメチルクロロ〕
シリルー１，３−ペンタジェン等の２−［換ペンタジェ
ン誘導体、３−（）リメトキシ〕シリルー１，３−ペン
タジエン、３−〔メトキシジメチル〕シリルーＬ３−’
ンタジエン、３−（ジメトキジメチルシラン−１，３−
ペンタジェン、３−（）リクロロ〕シリルー１．３−ペ
ンタジェン、３−（ジメチルクロロ〕シリル−１，３−
−ｅフタジエン等の３−置換ペンタジェン誘導体を挙げ
ることができる。Here, the substituted-1,3-butadiene derivative represented by the above formula (In), which is the target substance of the present invention, specifically includes 2-[trimethoxy]silyl-1,3-butadiene,
2-(methoxydimethyl]silyl-1,3-butadiene, 2-(dimethoxymethyl)silyl-1,3-butadiene, 2-()lichloro]silyl-1,3-phtadiene,
Butadiene derivatives such as 2-[nidimethylchloro]silyl-1,3-butadiene, 2-()rimethoxy]silyl-1,3-pentadiene, 2-(methoxydimethyl]silyl-1,3-pentadiene, 2-(dimethoxy Methyl]
Silyl-1,3-pentadiene, 2-()lichloro]silyl-1,3-pentadiene, 2-(dimethylchloro)
2-[converted pentadiene derivatives such as silyl-1,3-pentadiene, 3-()rimethoxy]silyl-1,3-pentadiene, 3-[methoxydimethyl]silyl-L3-'
ntadiene, 3-(dimethoxydimethylsilane-1,3-
Pentadiene, 3-()lichloro]silyl-1,3-pentadiene, 3-(dimethylchloro]silyl-1,3-
Mention may be made of 3-substituted pentadiene derivatives such as -e phtadiene.

本発明はこれらの式（ＩＩＩ）の化合物を合成するため
に、上述した式（１）の化合物と式（ＩＩ）の化合物と
を反応させるものであるが、本発明に使用する出発物質
の１つである式′）の置換−１，３−ブタジェニルハロ
ダン化マグネシウムとしては、クロロプレン、ブロモプ
レン、２，３−フクロロー１，３−ブタジエン、２−ク
ロロ−１，３−ペンタジェン。The present invention involves reacting the above-mentioned compound of formula (1) with the compound of formula (II) in order to synthesize these compounds of formula (III). Substituted-1,3-butadienylmagnesium halide of the formula ') is chloroprene, bromoprene, 2,3-fuchloro-1,3-butadiene, 2-chloro-1,3-pentadiene.

２−ブローＥニー１．３−ペンタジェン、２．３−ジク
ロロ−１，３−ペンタノエン、３−クロロ−１，３−ペ
ンタジェン、３−ゾロモー１．３−ペンタジェン、２．
３−ジクロロ−１，３−ペンタジェン等のグリニヤール
化合物を挙げることができる。2-BlowEnie 1,3-pentadiene, 2,3-dichloro-1,3-pentanoene, 3-chloro-1,3-pentadiene, 3-zolomo 1,3-pentadiene, 2.
Grignard compounds such as 3-dichloro-1,3-pentadiene can be mentioned.

ここで、グリニヤール化合物の製造法としては通常の方
法を採用することができ１例えば１−ジャーナル・オブ
・オルガニック・ケミストリー。Here, as a method for producing the Grignard compound, a conventional method can be adopted.For example, 1-Journal of Organic Chemistry.

４４巻、４７８８頁（１９７９年）」に記載の方法に準
拠して製造することができる。44, p. 4788 (1979).

また、本発明に使用する出発物質の他の１つの原料であ
る式（Ｉｔ）のシラン化合物としては、テトラメトキシ
シラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシクロロシ
ラン、トリプトキシブロモシラン、トリメトキシメチル
シラン、トリブトキシブチルシラン、ジメトキシジクロ
ロシラン、ジブトキシジブロモシラン、ジメトキシジメ
チルシラン、ジブトキシジブチルシラン、ジメトキシメ
チルクロロシラン、ジブトキシブチルブロモシラン、メ
トキシトリクロロシラン、ブトキシトリブロモシラン、
メトキシトリメチルシラン、ブトキシドリッチルシラン
、ブトキシジクロロメチルシラン、ブトキシジブロモブ
チルシラン、メトキシクロロジメチルシラン、ブトキシ
ブロモジブチルシラン、テトラクロロシラン、テトラブ
ロモシラン、トリクロロメチルシラン、トリブロモブチ
ルシラン、ジクロロジメチルシラン、ジブロモジブチル
シラン、クロロトリメチルシラン、プロモトリッチルシ
ラン、テトラメチルシラン、テトラブチルシラン等を挙
げることができる。In addition, examples of the silane compound of formula (It), which is another raw material for the starting material used in the present invention, include tetramethoxysilane, tetrabutoxysilane, trimethoxychlorosilane, triptoxybromosilane, trimethoxymethylsilane, and trimethoxysilane. Butoxybutylsilane, dimethoxydichlorosilane, dibutoxydibromosilane, dimethoxydimethylsilane, dibutoxydibutylsilane, dimethoxymethylchlorosilane, dibutoxybutylbromosilane, methoxytrichlorosilane, butoxytribromosilane,
Methoxytrimethylsilane, butoxydolytylsilane, butoxydichloromethylsilane, butoxydibromobutylsilane, methoxychlorodimethylsilane, butoxybromodibutylsilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, trichloromethylsilane, tribromobutylsilane, dichlorodimethylsilane, dibromo Examples include dibutylsilane, chlorotrimethylsilane, bromotritylsilane, tetramethylsilane, and tetrabutylsilane.

本発明における式（１）のグリニヤール試薬と式〔…〕
のシラン化合物との反応は、グリニヤール試薬をテトラ
ヒドロフラン等の溶媒に溶解しこれを室温以下に冷却し
、不活性ガスの雰囲気下にシラン化合物を反応させれば
良い。また、反応温度は一り０℃〜溶媒の沸点が好まし
く、特にはＯ℃〜室温が好適に用いられる。反応時間は
１０分間〜５時間、特に３０分間〜２時間とすることが
好ましい。Grignard reagent of formula (1) and formula […] in the present invention
The reaction with the silane compound can be carried out by dissolving the Grignard reagent in a solvent such as tetrahydrofuran, cooling it to room temperature or below, and reacting the silane compound in an inert gas atmosphere. Further, the reaction temperature is preferably 0° C. to the boiling point of the solvent, and particularly preferably 0° C. to room temperature. The reaction time is preferably 10 minutes to 5 hours, particularly 30 minutes to 2 hours.

グリニヤール試薬とシラン化合物のモル比は１：０．２
〜１：５を採用することができるが、１：１〜ｌ：２と
することが好ましい。反応に用いる溶媒としてはテトラ
ヒドロフランのほかに反応を妨害しない溶媒を単独又は
テトラヒドロフランと混合して使用できる。なお、反応
液の稀釈割合は反応熱、容積効率等を考慮して適宜法め
ることができる。The molar ratio of Grignard reagent and silane compound is 1:0.2
Although a ratio of 1:5 to 1:5 can be adopted, a ratio of 1:1 to 1:2 is preferable. As the solvent used for the reaction, in addition to tetrahydrofuran, a solvent that does not interfere with the reaction can be used alone or in combination with tetrahydrofuran. Incidentally, the dilution ratio of the reaction solution can be determined as appropriate in consideration of reaction heat, volumetric efficiency, and the like.

グリニヤール試薬とシラン化合物との反応は通常不活性
ガス雰囲気で進めるが、不活性ガスとしテハアルゴン、
ヘリウム、窒素、水素等の１種又は２種以上の混合ガス
を使用することができ、このなかではアルゴンが好適に
用いられる。The reaction between the Grignard reagent and the silane compound usually proceeds in an inert gas atmosphere, but the reaction between the Grignard reagent and the silane compound is carried out in an inert gas atmosphere.
One type or a mixture of two or more gases such as helium, nitrogen, hydrogen, etc. can be used, and among these, argon is preferably used.

なお、上記の反応により生成した置換−１，３−ブタツ
エン誘導体がハロダン化シラン置換−１．３−ブタジェ
ン誘導体である場合、このハロダン化シラン置換−１，
３−ブタジェン誘導体と低級アルコールとを塩基例えば
トリエチルアミン等の有機脂肪族アミンの存在下、テト
ラヒドロフラン等の非アルコール性溶媒を使用して反応
を行なうことにより、反応を円滑に進行させてシランに
結合しているハロダン原子を低級アルコキシ基に容易に
置換することができる。この場合、反応温度は一１０℃
〜５０℃が望ましく、反応時間は３０分間〜２時間で十
分である。In addition, when the substituted-1,3-butatsuene derivative produced by the above reaction is a halodanated silane-substituted-1,3-butadiene derivative, this halodanated silane-substituted-1,
By reacting a 3-butadiene derivative and a lower alcohol in the presence of a base such as an organic aliphatic amine such as triethylamine using a non-alcoholic solvent such as tetrahydrofuran, the reaction proceeds smoothly and is bonded to silane. The halodane atom can be easily substituted with a lower alkoxy group. In this case, the reaction temperature is -10℃
A temperature of ~50°C is desirable, and a reaction time of 30 minutes to 2 hours is sufficient.

発明の効果 本発明に係る置換−１，３−ブタジェン誘導体の製造法
によれば、容易に製造可能な置換−１，３−ブタジェニ
ルハロダン化マグネシウムとシラン化合物とを出発原料
とする製造法であるので、反応の制御が容易であり、か
つ工程数も少く、従って置換−１，３−ブタジェン誘導
体を経済的に製造することができる。Effects of the Invention According to the method for producing substituted-1,3-butadiene derivatives according to the present invention, the method uses easily produced substituted-1,3-butadienyl magnesium halide and a silane compound as starting materials. Therefore, the reaction can be easily controlled and the number of steps is small, so that substituted-1,3-butadiene derivatives can be produced economically.

以下、実施例を示して本発明を説明するが、本発明はこ
れら実施例に制限されるも°のではない。The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

〔実施例１〕 反応容器にマグネシウム金属４．０９　（０，１５モル
）、乾燥テトラヒドロフラン４ｄ及び乾燥ソブロモエタ
ンＩＩＬｔを加える。発熱が起り、テトラヒドロフラン
の還流が始まる。発熱が終了した後、塩化亜鉛を反応さ
せるクロロプレンに対して２−Ｅ、ルチの量と、更に乾
燥テトラヒドロフラン５０−とを添加する。Example 1 4.09 (0.15 mol) of magnesium metal, 4d of dry tetrahydrofuran and dry sobromoethane IILt are added to a reaction vessel. An exotherm occurs and tetrahydrofuran begins to reflux. After the exotherm has ended, an amount of 2-E, ruti and 50-50% of dry tetrahydrofuran are added to the chloroprene with which the zinc chloride is to be reacted.

次に、りｎｏデＬ／：／１０ａｊ（０，１４ル）、乾燥
テトラヒドロフラン４〇−及びノプロモエタン１、８１
ｔの混合溶液を約３０分間で添加し反応を進める。発熱
が起り、テトラヒドロフランの還流が始まり、更に引続
き１時間反応させると、テトラヒドロフラン溶液中に、
２−（１，３−ツタジェニル）塩化マグネシウムが生成
した。Then add 0,14 liters of dry tetrahydrofuran and 1,81 liters of nopromoethane.
A mixed solution of t is added over about 30 minutes to advance the reaction. An exotherm occurred and the tetrahydrofuran started to reflux, and when the reaction was continued for 1 hour, in the tetrahydrofuran solution,
2-(1,3-tutagenyl)magnesium chloride was produced.

なお、その含有量は水と過剰の塩酸で２−（１，３−ツ
タジェニル）塩化マグネシウムを加水分解し九後、苛性
ソーダ水溶液で塩酸を逆滴定して求めた。The content was determined by hydrolyzing 2-(1,3-tutagenyl)magnesium chloride with water and excess hydrochloric acid, and then back titrating the hydrochloric acid with an aqueous solution of caustic soda.

上記のようにして得られた２　−（１，３−ブタジェニ
ル）塩化マグネシウム（２０ミリモル）のテトラヒドロ
溶液２０１１１ｔをアルゴン気流下に反応器に仕込む。20111 t of a tetrahydro solution of 2-(1,3-butadienyl)magnesium chloride (20 mmol) obtained as above was charged into a reactor under an argon stream.

次に、反応容器を０℃に冷却し、テトラメトキシシラン
１．ｔａｊ（１Ｇ−ミリモル）をゆっくり加え、その後
反応温度を室温とし、１時間反応させる。反応終了後溶
媒を減圧上留去し、減圧蒸留により２−（トリメトキシ
）シリル−１，３−ブタジェンを得た。Next, the reaction vessel was cooled to 0°C, and tetramethoxysilane 1. taj (1 G-mmol) is added slowly, then the reaction temperature is brought to room temperature and allowed to react for 1 hour. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 2-(trimethoxy)silyl-1,3-butadiene was obtained by distillation under reduced pressure.

収率：３０％、ｂ、ｐ、：２４℃／　１　ｗａＨｇ　。Yield: 30%, b, p: 24°C/1 waHg.

１ＨＮＭＲ（ＣＣＬ４）：内標テトラメチルシランδ３
．４９　（ｓ　、９Ｈ−ＣＨｓＯ）　、５−０２　（ｄ
　ｔ　Ｊ　；１０．８　Ｈｚ　、ＩＨ−ＣＨ２ＣＨ）　
、　５．３４（ｄ、Ｊ＝１７Ｈ１、ＩＨ、ＣＨ２ＣＨ）
５．６４　（ｄ　、Ｊ　＝３．３Ｈｚ　、ＩＨ−ＣＨ２
Ｃ）　ｐ　５．７７　（ｄ　ｌＪ　＝３．３　Ｈｚ　ｌ
ＩＨ，ＣＨ２Ｃ）　ｅ　６．３０　（ｄｄ、Ｊ＝　１０
．８　、１７ＨｚｌＩＨ１ＣＨＣＨｚ）〔実施例２〕 実施例１で得られた２　−（１，３−ブタジェニル）塩
化マグネシウム（４，０ミリモル）のテトラヒドロフラ
ン溶液４．１　ｄと乾燥テトラヒドロフラン６−とをア
ルゴン気流下に反応器に仕込む。次に、反応容器な０℃
に冷却し、テトラメトキシシラン０．６ａｊ（４ミリモ
ル）をゆっくり滴下する。その後、反応温度を室温とし
、１時間反応させる。反応終了後、溶媒を減圧上留去し
、減圧蒸留により２−（）リメトキシ）シリル−１，３
−ブタジェンを得た。1HNMR (CCL4): internal standard tetramethylsilane δ3
．． 49 (s, 9H-CHsO), 5-02 (d
tJ; 10.8 Hz, IH-CH2CH)
, 5.34 (d, J=17H1, IH, CH2CH)
5.64 (d, J = 3.3Hz, IH-CH2
C) p 5.77 (d lJ =3.3 Hz l
IH, CH2C) e 6.30 (dd, J= 10
．． 8,17HzlIH1CHCHz) [Example 2] 4.1 d of the tetrahydrofuran solution of 2-(1,3-butadienyl)magnesium chloride (4.0 mmol) obtained in Example 1 and dry tetrahydrofuran 6- were heated under an argon stream. into the reactor. Next, the reaction vessel was heated to 0°C.
0.6aj (4 mmol) of tetramethoxysilane was slowly added dropwise. Thereafter, the reaction temperature is brought to room temperature and the reaction is allowed to proceed for 1 hour. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 2-()rimethoxy)silyl-1,3 was obtained by distillation under reduced pressure.
-Butadiene was obtained.

収率：３５％ 〔実施例３〕 実施例１で得られた２　−（１，３−プタジエニ助塩化
マグネシウム（４，０ミリモル）のテトラヒトフラン −）１「瘉４１−と乾燥テトラヒドロ７ラン６ｄとをア
ルゴン気流下に反応器に仕込む。次に１反応器を０ＣＩ
Ｃ冷却し、テトラメトキシシラン１．２　ｄ（８ミリモ
ル）をゆっくり滴下する。次に１反応源度なＯ’ＣＫ保
持したまま、３０分間反応を続ける。反応終了後溶媒を
減圧下に留去し、減圧蒸留により２−（）リメトキシ）
シリル−１，３−ブタジェンを得九。Yield: 35% [Example 3] 2-(Tetrahydrofuran-(1,3-ptadiene auxiliary magnesium chloride (4.0 mmol)) obtained in Example 1 and dried tetrahydrofuran 6d into a reactor under an argon stream.Next, one reactor was charged with 0CI
C. Cool and slowly add 1.2 d (8 mmol) of tetramethoxysilane dropwise. Next, the reaction is continued for 30 minutes while maintaining O'CK at 1 reaction source. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 2-()rimethoxy) was obtained by distillation under reduced pressure.
Silyl-1,3-butadiene was obtained.

収率：６５チYield: 65 chi

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、構造式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔 I
〕 （式中、Ｂ＿１、Ｂ＿２はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基又はＭｇＸ基を示すが、Ｂ＿１、Ｂ＿２のいずれ
か１つはＭｇＸ基であり、Ｘはハロゲン原子である。 また、Ａ＿１、Ａ＿２はそれぞれ水素原子又は低級アル
キル基を示す。） で表わされる置換−１，３−ブタジエニルハロゲン化マ
グネシウムと 構造式〔II〕 ＳｉＸ＿１Ｘ＿２Ｘ＿３Ｘ＿４・・・・・・〔II〕（式
中、Ｘ＿１、Ｘ＿２、Ｘ＿３、Ｘ＿４、はそれぞれハロ
ゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す
。） で表わされるシラン化合物とを反応させることを特徴と
する 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・〔III
〕 （式中、Ｚ＿１、Ｚ＿２はそれぞれ水素原子、低級アル
キル基又はＳｉ　Ｙ＿１　Ｙ＿２　Ｙ＿３を示すが、Ｚ
＿１、Ｚ＿２のいずれか１つはＳｉ　Ｙ＿１　Ｙ＿２　
Ｙ＿３であり、Ｙ＿１、Ｙ＿２、Ｙ＿３はそれぞれハロ
ゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である
。また、Ａ＿１、Ａ＿２はそれぞれ水素原子又は低級ア
ルキル基を示す。） で表わされる置換−１，３−ブタジエン誘導体の製造法
。[Claims] 1. Structural formula [I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼・・・・・・[I
] (In the formula, B_1 and B_2 each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a MgX group, but one of B_1 and B_2 is a MgX group, and X is a halogen atom. In addition, A_1 and A_2 are each represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) and a substituted-1,3-butadienyl magnesium halide represented by the structural formula [II] X_3 and X_4 each represent a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group. ...[III
] (In the formula, Z_1 and Z_2 each represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or Si Y_1 Y_2 Y_3, but Z
Either one of _1 and Z_2 is Si Y_1 Y_2
Y_3, and Y_1, Y_2, and Y_3 are each a halogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group. Moreover, A_1 and A_2 each represent a hydrogen atom or a lower alkyl group. ) A method for producing a substituted-1,3-butadiene derivative represented by: