JPH083177A - Production of ene-yne compound in the presence of lewis acid - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To produce an optically active compound useful as an intermediate for synthesis of vitamin D3 derivatives in a high yield without requirement of optical resolution by reacting lithium trisilylacetylide with an epoxide in the presence of a Lewis acid. CONSTITUTION:This compound of formula II is produced by reacting lithium (1 to 7C hydrocarbon)silylacetylide with a compound of formula I [R<1> is H, a tria(1 to 7C hydrocarbon)silyl, etc.] in the presence of a Lewis acid (preferably boron trifluoride ether complex) generally at <=-70 deg.C for 1min to 3hr. Specifically, trimethylsilylacetylene is reacted with n-butyl lithium to obtain lithium trimethylsilylacetylide and the resultant compound is then reacted with 3-(tert- butyldiphenyloxy)-5,6-epoxy-1-hexene which is a compound of formula I to synthesize 3-(tert-butyldiphenylsilyl-oxy)-5-hydroxy-8-trimethylsilyl-1-octen-7-y ne.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、１α―ヒドロキシビタ
ミンＤ類の合成中間体として利用できる３，５―ジヒド
ロキシ―１―オクテン―７―イン類の製造方法に関す
る。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing 3,5-dihydroxy-1-octen-7-ynes which can be used as a synthetic intermediate for 1α-hydroxyvitamin Ds.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、下記式（Ｖ）で表されるエン―イ
ン化合物と、下記式（IV）で表される二環性化合物とを
反応させることにより、活性型ビタミンＤ₃ を合成する
新規な方法が発表された。［Trost, B.M.; J. Am. Che
m. Soc.１１４，１９２４（１９９２）．Trost, B.M.;
同，１１４，９３８６（１９９２）．］2. Description of the Related Art Recently, an active vitamin D ₃ is synthesized by reacting an ene-yne compound represented by the following formula (V) with a bicyclic compound represented by the following formula (IV). A new method was announced. [Trost, BM; J. Am. Che
m. Soc. 114, 1924 (1992). Trost, BM;
Ibid, 114, 9386 (1992). ]

【０００３】[0003]

【化５】 Embedded image

【０００４】その中で活性型ビタミンＤ₃ の合成用中間
体である上記式（Ｖ）で表されるエン―イン化合物の製
法に関して、下記反応工程図に示した合成方法が提案さ
れている。Among them, regarding the method for producing the ene-yne compound represented by the above formula (V), which is an intermediate for the synthesis of active vitamin D ₃ , the synthetic method shown in the following reaction process chart has been proposed.

【０００５】[0005]

【化６】 [Chemical 6]

【０００６】上記のようなラセミ混合物を光学分割して
望みの立体配置をもつ化合物を得るという手法に対し
て、光学活性化合物を出発物質として上記式（Ｖ）で表
されるエン―イン化合物を製造する下記反応工程図に示
す方法が開発されている。In contrast to the above-mentioned method of optically resolving a racemic mixture to obtain a compound having a desired configuration, an en-yne compound represented by the above formula (V) is obtained by using an optically active compound as a starting material. The method shown in the following reaction process diagram for production has been developed.

【０００７】[0007]

【化７】 [Chemical 7]

【０００８】［羽里ら、日本薬学会第１１４年会講演予
稿集２；１９９４，Ｐ８９．］[Hari et al., Proceedings of the 114th Annual Meeting of the Pharmaceutical Society of Japan 2; 1994, P89. ]

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記従来法ではエポキ
シドに対し、アルミニウムトリメチルシリルアセチリド
を反応させる際に、過剰量の試薬が必要である上に、副
生成物が生じ、目的物の収率が低いという問題があっ
た。従って、本発明が解決しようとする課題は、より収
率よく目的物を得ることである。In the above conventional method, when the aluminum trimethylsilyl acetylide is reacted with the epoxide, an excess amount of the reagent is required and by-products are generated, so that the yield of the target product is low. There was a problem. Therefore, the problem to be solved by the present invention is to obtain the target product with higher yield.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は下記式（Ｉ）The present invention provides the following formula (I):

【００１１】[0011]

【化８】 Embedded image

【００１２】（式中、Ｒ¹ は水素原子、トリ（Ｃ₁ 〜Ｃ
₇ 炭化水素）シリル基、または水酸基の酸素原子と共に
アセタール結合を形成する基を表す。また、３位の不斉
炭素についての立体配置は（Ｓ）配置または（Ｒ）配置
であり、５位の不斉炭素についての立体配置は（Ｓ）配
置である。）で表される化合物に、ルイス酸の存在下で
リチウムトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シリルアセチリド
を反応させることを特徴とする下記式（II）(In the formula, R ¹ is a hydrogen atom and tri (C ₁ -C _1
7 hydrocarbons) represents a silyl group or a group that forms an acetal bond together with an oxygen atom of a hydroxyl group. The configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is the (S) configuration or the (R) configuration, and the configuration of the asymmetric carbon at the 5-position is the (S) configuration. ) Is reacted with lithium tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silyl acetylide in the presence of a Lewis acid, the following formula (II):

【００１３】[0013]

【化９】 [Chemical 9]

【００１４】（式中、Ｒ¹ は上記定義に同じ。Ｒ² はト
リ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シリル基を表す。また、３位
の不斉炭素についての立体配置は（Ｓ）配置または
（Ｒ）配置であり、５位の不斉炭素についての立体配置
は（Ｓ）配置である。）で表されるエン―イン化合物の
製造方法である。(In the formula, R ¹ has the same definition as above. R ² represents a tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silyl group. Further, the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is the (S) configuration. Alternatively, it is the (R) configuration and the steric configuration for the asymmetric carbon at the 5-position is the (S) configuration.

【００１５】本反応においては、３位の不斉炭素につい
ての立体配置は保存される。すなわち、３位の不斉炭素
についての立体配置が（Ｓ）配置である上記式（Ｉ）で
表される化合物を出発原料としたときには、３位の不斉
炭素についての立体配置が（Ｓ）配置である上記式（I
I）で表されるエン―イン化合物が得られる。同様に、
３位の不斉炭素についての立体配置が（Ｒ）配置である
上記式（Ｉ）で表される化合物を出発原料としたときに
は、３位の不斉炭素についての立体配置が（Ｒ）配置で
ある上記式（II）で表されるエン―イン化合物が得られ
る。In this reaction, the configuration about the asymmetric carbon at the 3-position is preserved. That is, when a compound represented by the above formula (I) in which the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is the (S) configuration is used as a starting material, the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is (S). The above formula (I
An en-yne compound represented by I) is obtained. Similarly,
When a compound represented by the above formula (I) in which the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is the (R) configuration is used as a starting material, the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is the (R) configuration. An ene-yne compound represented by the above formula (II) is obtained.

【００１６】本発明はまた、下記式（III ）The present invention also provides the following formula (III)

【００１７】[0017]

【化１０】 [Chemical 10]

【００１８】（式中、Ｒ¹ は上記定義に同じ。また、３
位の不斉炭素についての立体配置は（Ｓ）配置または
（Ｒ）配置であり、５位の不斉炭素についての立体配置
は（Ｒ）配置である。）で表される化合物にルイス酸の
存在下でリチウムトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シリルア
セチリドを反応させることを特徴とする下記式（IV）(In the formula, R ¹ has the same definition as above.
The configuration for the asymmetric carbon at position is the (S) configuration or the (R) configuration, and the configuration for the asymmetric carbon at the 5 position is the (R) configuration. ) Is reacted with lithium tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silyl acetylide in the presence of a Lewis acid, the following formula (IV):

【００１９】[0019]

【化１１】 [Chemical 11]

【００２０】（式中、Ｒ¹ およびＲ² は上記定義に同
じ。また、３位の不斉炭素についての立体配置は（Ｓ）
配置または（Ｒ）配置であり、５位の不斉炭素について
の立体配置は（Ｒ）配置である。）で表されるエン―イ
ン化合物の製造方法である。(In the formula, R ¹ and R ² are the same as defined above. Further, the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is (S).
The configuration or the (R) configuration, and the configuration about the asymmetric carbon at the 5-position is the (R) configuration. ) Is a method for producing an en-yne compound.

【００２１】本反応においても、３位の不斉炭素につい
ての立体配置は保存される。Also in this reaction, the configuration of the asymmetric carbon at the 3-position is preserved.

【００２２】上記式（Ｉ）、（II）、（III ）または
（IV）においてＲ¹ は水素原子、トリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化
水素）シリル基、または水酸基の酸素原子と共にアセタ
ール結合を形成する基を表す。例えば、トリ炭化水素シ
リル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、ｔ―ブチルジメチルシリル基のようなトリ（Ｃ₁
〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、ジメチルフェニルシリル基
のようなジ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキル）フェニルシリル基、
ｔ―ブチルジフェニルシリル基のようなジフェニル（Ｃ
₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、トリフェニルシリル基等
を好ましいものとして挙げることができる。これらの中
でも、トリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、ジフェニ
ル（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、フェニルジ（Ｃ₁
〜Ｃ₄ アルキル）シリル基が好ましく、なかでもｔ―ブ
チルジフェニルシリル基、ｔ―ブチルジメチルシリル基
が特に好ましい。In the above formulas (I), (II), (III) or (IV), R ¹ forms an acetal bond together with a hydrogen atom, a tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silyl group or an oxygen atom of a hydroxyl group. Represents the group For example, a trihydrocarbon silyl group may be a tri (C ₁₎ , such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group or a t-butyldimethylsilyl group.
~ C ₄ alkyl) silyl group, di (C ₁ -C ₄ alkyl) phenylsilyl group such as dimethylphenylsilyl group,
Diphenyl such as t-butyldiphenylsilyl group (C
₁ -C ₄ alkyl) silyl group, may be mentioned as being preferred triphenylsilyl group. Among them, tri (C ₁ -C ₄ alkyl) silyl group, diphenyl (C ₁ -C ₄ alkyl) silyl group, phenyldi (C ₁
˜C ₄ alkyl) silyl group is preferred, and t-butyldiphenylsilyl group and t-butyldimethylsilyl group are particularly preferred.

【００２３】また、水酸基の酸素原子と共にアセタール
結合を形成する基としては、例えばメトキシメチル基、
１―エトキシエチル基、２―メトキシ―２―プロピル
基、（２―メトキシエトキシ）メチル基、２―テトラヒ
ドロピラニル基、ベンジルオキシメチル基を挙げること
ができる。なかでも２―テトラヒドロピラニル基が好ま
しい。The group forming an acetal bond with the oxygen atom of the hydroxyl group is, for example, a methoxymethyl group,
Examples thereof include 1-ethoxyethyl group, 2-methoxy-2-propyl group, (2-methoxyethoxy) methyl group, 2-tetrahydropyranyl group and benzyloxymethyl group. Of these, a 2-tetrahydropyranyl group is preferable.

【００２４】上記式（II）または（IV）においてＲ² は
トリ炭化水素シリル基を表す。トリ炭化水素シリル基と
しては、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、ｔ―ブチルジメチルシリル基のようなトリ（Ｃ₁ 〜
Ｃ₄ アルキル）シリル基、ジメチルフェニルシリル基の
ようなジ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）フェニルシリル基、ｔ
―ブチルジフェニルシリル基のようなジフェニル（Ｃ₁
〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、トリフェニルシリル基等を
好ましいものとして挙げることができる。これらの中で
も、トリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基が好ましく、
なかでもトリメチルシリル基、トリエチルシリル基が特
に好ましい。In the above formula (II) or (IV), R ² represents a trihydrocarbon silyl group. Examples of the trihydrocarbon silyl group include tri (C ₁ -C), such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group and t-butyldimethylsilyl group.
A di (C ₁ -C ₄ alkyl) phenylsilyl group such as a C ₄ alkyl) silyl group or a dimethylphenylsilyl group, t
-Diphenyl such as butyldiphenylsilyl group (C ₁
To C ₄ alkyl) silyl group, triphenylsilyl group and the like can be mentioned as preferable ones. Among these, a tri (C ₁ -C ₄ alkyl) silyl group is preferable,
Of these, a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group are particularly preferable.

【００２５】本発明において用いられる反応溶媒は、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル等があげられる
が、これらの溶媒以外でも反応に悪影響を及ぼさないか
ぎり、いかなる溶媒を用いてもよい。反応温度、反応時
間は特に限定されないが、通常は−７０℃以下で行な
い、１分〜３時間の間で反応は終了する。Examples of the reaction solvent used in the present invention include tetrahydrofuran and diethyl ether. Any solvent other than these solvents may be used as long as it does not adversely affect the reaction. Although the reaction temperature and the reaction time are not particularly limited, the reaction is usually performed at -70 ° C or lower, and the reaction is completed within 1 minute to 3 hours.

【００２６】本発明において用いられるリチウムトリ炭
化水素シリルアセチリドのトリ炭化水素シリル基として
は、上記Ｒ²に対応して、トリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基、ｔ―ブチルジメチルシリル基のようなト
リ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、ジメチルフェニル
シリル基のようなジ（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）フェニルシ
リル基、ｔ―ブチルジフェニルシリル基のようなジフェ
ニル（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）シリル基、トリフェニルシ
リル基等が用いられる。リチウムトリ炭化水素アセチリ
ドは対応する炭化水素アセチレンとｎ―ブチルリチウ
ム、メチルリチウム、フェニルリチウム等の炭化水素リ
チウムを反応させることにより得ることができる。The trihydrocarbon silyl group of the lithium trihydrocarbon silyl acetylide used in the present invention corresponds to the above R ² and includes tri (C) such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group and t-butyldimethylsilyl group. ₁ -C ₄ alkyl) silyl group, di (C ₁ -C ₄ alkyl) phenyl silyl groups such as dimethylphenylsilyl group, t- butyl diphenyl (C ₁ -C ₄ alkyl) silyl groups such as diphenyl silyl group, A triphenylsilyl group or the like is used. Lithium trihydrocarbon acetylide can be obtained by reacting the corresponding hydrocarbon acetylene with a lithium hydrocarbon such as n-butyllithium, methyllithium or phenyllithium.

【００２７】ルイス酸として、三フッ化ホウ素エーテル
錯体等の三フッ化ホウ素錯体；トリメチルシリルトリフ
ルオロメタンスルホナート、トリメチルシリルクロライ
ドのようなケイ素化合物；四塩化チタン、ジクロロジイ
ソプロポキシチタンのようなｎ（ｎ＝０〜４）クロロ
（４−ｎ）（Ｃ₁ 〜Ｃ₄ アルキル）チタン化合物；四塩
化スズ；塩化亜鉛等が用いられ、好ましくは三フッ素ホ
ウ素錯体、特に好ましくは三フッ化ホウ素エーテル錯体
が挙げられる。As the Lewis acid, a boron trifluoride complex such as a boron trifluoride ether complex; a silicon compound such as trimethylsilyltrifluoromethanesulfonate or trimethylsilyl chloride; n (n) such as titanium tetrachloride or dichlorodiisopropoxytitanium. = 0 to 4) chloro (4-n) (C ₁ -C ₄ alkyl) titanium compound; tin tetrachloride; zinc chloride and the like are used, preferably a boron trifluoride complex, particularly preferably a boron trifluoride ether complex. Can be mentioned.

【００２８】かくして上記式（Ｉ）または（III ）で表
される３，５―ジヒドロキシ―１―オクテン―７―イン
類を得ることができる。Thus, 3,5-dihydroxy-1-octen-7-ynes represented by the above formula (I) or (III) can be obtained.

【００２９】[0029]

【発明の効果】かくして得られた光学活性３，５―ジヒ
ドロキシ―１―オクテン―７―イン類はビタミンＤ₃ 誘
導体を製造するために有用な中間体である。すなわち、
本発明はかかる中間体を光学分割を伴わず、しかも収率
よく製造できる工業的に有用な方法である。The optically active 3,5-dihydroxy-1-octen-7-ynes thus obtained are useful intermediates for producing vitamin D ₃ derivatives. That is,
The present invention is an industrially useful method capable of producing such an intermediate product in good yield without optical resolution.

【００３０】[0030]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。EXAMPLES The present invention will now be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention.

【００３１】［実施例１］[Example 1]

【００３２】[0032]

【化１２】 [Chemical 12]

【００３３】３―（ｔｅｒｔ―ブチルジフェニルシリル
オキシ）―５―ヒドロキシ―８―トリメチルシリル―１
―オクテン―７―イン（２）の合成 窒素雰囲気下、−７８℃でトリメチルシリルアセチレン
１０６μｌ（０．７５０ｍｍｏｌ）を０．７５ｍｌのテ
トラヒドロフランに溶解した。ここにｎ―ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液（１．６８ｍｏｌ／Ｌ）０．４５ｍｌ
（０．７５６ｍｍｏｌ）を滴下し、１時間攪拌した。次
いで三フッ化ホウ素エーテル錯体９２μｌ（０．７４８
ｍｍｏｌ）を加え、１５分間攪拌したのち、３―（ｔｅ
ｒｔ―ブチルジフェニルシリルオキシ）―５，６―エポ
キシ―１―ヘキセン（１）のテトラヒドロフラン溶液
（１７６ｍｇ／１ｍｌ）（０．４９９ｍｍｏｌ）を加
え、２０分間攪拌した。１Ｎ―水酸化ナトリウム水溶液
２ｍｌを加え、有機物をジエチルエーテルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
（ヘキサン：酢酸エチル＝１５：１〜９：１）で精製
し、目的物（２）２０７ｍｇ（０．４５９ｍｍｏｌ）を
得た。（収率９２％）¹ Ｈ―ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ δｐｐｍ） ０．０５（ｓ，９Ｈ），０．９３〜０．９５（９Ｈ），
１．５〜１．７（ｍ，２Ｈ），２．１〜２．３（ｍ，２
Ｈ），３．６〜４．０（ｍ，１Ｈ），４．２〜４．５
（ｍ，１Ｈ），４．７〜５．０（ｍ，２Ｈ），５．５５
〜５．８５（ｍ，１Ｈ），７．２〜７．５（ｍ，６
Ｈ），７．５〜７．７（ｍ，４Ｈ）． ［実施例２］3- (tert-butyldiphenylsilyloxy) -5-hydroxy-8-trimethylsilyl-1
—Synthesis of Octene-7-yne ( 2 ) In a nitrogen atmosphere, 106 μl (0.750 mmol) of trimethylsilylacetylene was dissolved in 0.75 ml of tetrahydrofuran at −78 ° C. 0.45 ml of hexane solution of n-butyl lithium (1.68 mol / L)
(0.756 mmol) was added dropwise and stirred for 1 hour. Next, boron trifluoride ether complex 92 μl (0.748
mmol) and stirred for 15 minutes, then 3- (te
A tetrahydrofuran solution (176 mg / 1 ml) (0.499 mmol) of rt-butyldiphenylsilyloxy) -5,6-epoxy-1-hexene ( 1 ) was added, and the mixture was stirred for 20 minutes. 2 ml of 1N-sodium hydroxide aqueous solution was added, and the organic matter was extracted with diethyl ether.
The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (hexane: ethyl acetate = 15: 1 to 9: 1) to obtain 207 mg (0.459 mmol) of the desired product ( 2 ). (Yield 92%) ¹ H-NMR (CDCl ₃ δppm) 0.05 (s, 9H), 0.93 to 0.95 (9H),
1.5-1.7 (m, 2H), 2.1-2.3 (m, 2)
H), 3.6-4.0 (m, 1H), 4.2-4.5.
(M, 1H), 4.7 to 5.0 (m, 2H), 5.55
Up to 5.85 (m, 1H), 7.2 to 7.5 (m, 6)
H), 7.5-7.7 (m, 4H). [Example 2]

【００３４】[0034]

【化１３】 [Chemical 13]

【００３５】窒素雰囲気下、−７８℃で化合物（３）５
５１μｌ（３．９０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２ｍｌ）
にＢｕＬｉ（１．６５Ｍ、ヘキサン溶液）２．４ｍｌ
（３．９６ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。ＢＦ₃ ・Ｅｔ₂
Ｏ ４８０μｌ（３．９０ｍｍｏｌ）を加え、１５分間
以上攪拌したのち、化合物（４）１０６０ｍｇ（３．０
１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４ｍｌ）を加え、そのまま
攪拌した。１．５時間後、１ＮのＮａＯＨ水溶液３ｍｌ
と水を加え、酢酸エチルで抽出した。飽和塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、得ら
れた粗製品をシリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル
＝２０：１〜１０：１）で精製した。収量は１３３８ｍ
ｇ（一部酢酸エチル入り、２．８５ｍｍｏｌ、ＮＭＲ比
より）、収率は９５％であった。Compound ( 3 ) 5 was prepared at -78 ° C. under nitrogen atmosphere.
51 μl (3.90 mmol) of THF solution (2 ml)
2.4 ml of BuLi (1.65M, hexane solution)
(3.96 mmol) was added and stirred. BF ₃ · Et ₂
After adding 480 μl (3.90 mmol) of O and stirring for 15 minutes or more, 1060 mg (3.0 of the compound ( 4 ))
THF solution (4 ml) of 1 mmol) was added, and the mixture was stirred as it was. After 1.5 hours, 3 ml of 1N NaOH aqueous solution
And water were added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After washing with a saturated sodium chloride aqueous solution and drying with anhydrous sodium sulfate, the obtained crude product was purified with a silica gel column (hexane: ethyl acetate = 20: 1 to 10: 1). Yield 1338m
g (partially containing ethyl acetate, 2.85 mmol, from NMR ratio), yield was 95%.

【００３６】同様な実験を反応スケール、反応促進剤等
を変えて行なった。その結果を次表に示す。A similar experiment was conducted by changing the reaction scale, reaction accelerator and the like. The results are shown in the table below.

【００３７】[0037]

【表１】 [Table 1]

【００３８】表中＊印部分はデータがない。副生成物
１、副生成物２は、それぞれ次式で表される化合物であ
る。There is no data in the part marked with * in the table. By-products 1 and 2 are compounds represented by the following formulas.

【００３９】[0039]

【化１４】 Embedded image

【００４０】この結果から、本発明の製造方法は、アル
ミニウム化合物を反応促進剤として用いた従来法に比
し、大きく収率が向上していることがわかる。From these results, it can be seen that the production method of the present invention greatly improves the yield as compared with the conventional method using an aluminum compound as a reaction accelerator.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｗ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 羽里 篤夫 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝人 株式会社東京研究センター内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification number Reference number within the agency FI Technical display location C07F 7/18 W // C07B 61/00 300 (72) Inventor Atsio Uri Asahigaoka, Hino City, Tokyo 4-3-2 Teijin Limited Tokyo Research Center

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹ は水素原子、トリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）
シリル基、または水酸基の酸素原子と共にアセタール結
合を形成する基を表す。）で表される化合物に、ルイス
酸の存在下でリチウムトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シリ
ルアセチリドを反応させることを特徴とする下記式（I
I） 【化２】 （式中、Ｒ¹ は上記定義に同じ。Ｒ² はトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ
₇ 炭化水素）シリル基を表す。）で表されるエン―イン
化合物の製造方法。1. The following formula (I): (In the formula, R ¹ is a hydrogen atom, tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon))
A silyl group or a group forming an acetal bond with an oxygen atom of a hydroxyl group. ) The compound represented by the formula (I) is reacted with lithium tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silylacetylide in the presence of a Lewis acid.
I) [Chemical 2] (In the formula, R ¹ is the same as the above definition. R ² is tri (C ₁ -C _1
7 hydrocarbon) represents a silyl group. The manufacturing method of the en-yne compound represented by these. 【請求項２】 下記式（III ） 【化３】 （式中、Ｒ¹ は上記定義に同じ。）で表される化合物
に、ルイス酸の存在下でリチウムトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化
水素）シリルアセチリドを反応させることを特徴とする
下記式（IV） 【化４】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² は上記定義に同じ。）で表され
るエン―イン化合物の製造方法。2. The following formula (III): (Wherein R ¹ is the same as defined above), and lithium tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silylacetylide is reacted with a compound represented by the following formula ( IV) [Chemical 4] (In the formula, R ¹ and R ² are the same as defined above.) A method for producing an en-yne compound. 【請求項３】 リチウムトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シ
リルアセチリドのトリ（Ｃ₁ 〜Ｃ₇ 炭化水素）シリル基
部分がトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、また
はｔｅｒｔ―ブチルジメチルシリル基である請求項１ま
たは２に記載のエン―イン化合物の製造方法。3. The tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silylacetylide tri (C ₁ -C ₇ hydrocarbon) silyl group moiety is a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, or a tert-butyldimethylsilyl group. Item 3. A method for producing the en-yne compound according to Item 1 or 2. 【請求項４】 ルイス酸が三フッ化ホウ素錯体である請
求項１〜３のいずれかに記載のエン―イン化合物の製造
方法。4. The method for producing an en-yne compound according to claim 1, wherein the Lewis acid is a boron trifluoride complex.