JPS61129184A - O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法 - Google Patents
O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般的に、新規な種類の0−シリル化されたケ
テンアセタール類およびエノールエーテル類並びにそれ
らの製造方法に関するものである。特に本発明は、アミ
ノシラン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシ
ラン類からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物
をα、β−不餡和力ルボニル化合物を用いてヒドロシル
化することにより製造される0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類に関するもので
ある。
テンアセタール類およびエノールエーテル類並びにそれ
らの製造方法に関するものである。特に本発明は、アミ
ノシラン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシ
ラン類からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物
をα、β−不餡和力ルボニル化合物を用いてヒドロシル
化することにより製造される0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類に関するもので
ある。
米国特許番号4,417,034および4,414.3
72中には1種々の0−シリル化されたケテンアセター
ル類が基移動重合(g r o u ptransfe
r polymerjzati。
72中には1種々の0−シリル化されたケテンアセター
ル類が基移動重合(g r o u ptransfe
r polymerjzati。
n)用の開始剤としての用途を有することが報告されて
いる。0−シリル化されたケチ/アセタール類およびエ
ノールエーテル類は数種の公知の合成方法により製造で
き、それらにはヒドロシル化も含まれている。
いる。0−シリル化されたケチ/アセタール類およびエ
ノールエーテル類は数種の公知の合成方法により製造で
き、それらにはヒドロシル化も含まれている。
ヒドロシル化反応は1947年に発見されており、そし
て多種の大規模な商業的用途における使用も含めて長年
にわたり有機珪素化学における最も良く知られそして最
も広〈実施されている反応の一種となってきている。そ
れはまた数種の広範囲にわたる主題でもあり、それに関
しては例えば下記の文献を参照のこと: [第■族元素
類の有機Element s)J 、コンサルタンツ争
ビューロー、ニューヨーク、1966; r第■族元
素類の有機金属化合物類(Organometal l
ic Compounds of the G
roup IV Elements)J、デツカ−
(D e k k e r) 、−=ユE−り、196
8.I巻; 「付加反応による炭素官能性有機シラン類
のction)J、モスクワ、1971.ロシアンφケ
ミカル・レビュース(Russ、 Chem、Rev
、)、46.264(1977);およびジャーナル・
オブ・オルガノメタルΦケミスト リ − (J、
Organometal Chem)、ライ
ブラリー(Library)5.1977.1.−17
9頁。
て多種の大規模な商業的用途における使用も含めて長年
にわたり有機珪素化学における最も良く知られそして最
も広〈実施されている反応の一種となってきている。そ
れはまた数種の広範囲にわたる主題でもあり、それに関
しては例えば下記の文献を参照のこと: [第■族元素
類の有機Element s)J 、コンサルタンツ争
ビューロー、ニューヨーク、1966; r第■族元
素類の有機金属化合物類(Organometal l
ic Compounds of the G
roup IV Elements)J、デツカ−
(D e k k e r) 、−=ユE−り、196
8.I巻; 「付加反応による炭素官能性有機シラン類
のction)J、モスクワ、1971.ロシアンφケ
ミカル・レビュース(Russ、 Chem、Rev
、)、46.264(1977);およびジャーナル・
オブ・オルガノメタルΦケミスト リ − (J、
Organometal Chem)、ライ
ブラリー(Library)5.1977.1.−17
9頁。
ヒドロシル化反応の実施においては、種々の遷移金属類
が有効な触媒であることが知られている。米国特許番号
2,823,218は、可溶性形の白金であるクロロ白
金酸を特に有効なヒドロシル化触媒として教示している
。
が有効な触媒であることが知られている。米国特許番号
2,823,218は、可溶性形の白金であるクロロ白
金酸を特に有効なヒドロシル化触媒として教示している
。
アミノシラン類によるヒドロシル化を含む先行技術は、
大部分1968−1970年の間に発行された一連の論
文中に集中している。ソ連の研究者達は、例えばHN
(S iMe2 H)2の如きジシラザン類および例え
ば(HNMe2 H)4の如きシクロシラザン類はゆっ
くりしたヒドロシル化を受けると報告している:イズベ
スチア・アカデミイ會ナウク@SSR・セリア働キミチ
ェスカヤ(Izv、Akad、Nauk 5SSR,
Ser、Khim、)、1968.351−6頁;およ
び1969.1539−45頁;ズルナル拳オブシュチ
ェイΦキミイ(Zhur。0bshch、Khim)、
38.655、(1968)、および土旦、l 082
、 (1970)、これらの報告はダウ・コーニングの
研究者により確認されており、彼等は七ノー、ビス−お
よびトリス−(ジアルキルアミノ)シラン類がヒドロシ
ル化に対して反応性を示さないことを開示している:ザ
φジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J
、Org、Chem、)、35.3879(1970
)。
大部分1968−1970年の間に発行された一連の論
文中に集中している。ソ連の研究者達は、例えばHN
(S iMe2 H)2の如きジシラザン類および例え
ば(HNMe2 H)4の如きシクロシラザン類はゆっ
くりしたヒドロシル化を受けると報告している:イズベ
スチア・アカデミイ會ナウク@SSR・セリア働キミチ
ェスカヤ(Izv、Akad、Nauk 5SSR,
Ser、Khim、)、1968.351−6頁;およ
び1969.1539−45頁;ズルナル拳オブシュチ
ェイΦキミイ(Zhur。0bshch、Khim)、
38.655、(1968)、および土旦、l 082
、 (1970)、これらの報告はダウ・コーニングの
研究者により確認されており、彼等は七ノー、ビス−お
よびトリス−(ジアルキルアミノ)シラン類がヒドロシ
ル化に対して反応性を示さないことを開示している:ザ
φジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J
、Org、Chem、)、35.3879(1970
)。
ソ連の論文がヒドロシラザン類とアリールアセチレン類
の反応を開示するまではアミノシラン類に関するヒドロ
シル化能力はほとんどないと思われていたニス−ブシュ
舎アカデミイ・ナウク・グルッ*SSR(Soobsh
ch Akad。
の反応を開示するまではアミノシラン類に関するヒドロ
シル化能力はほとんどないと思われていたニス−ブシュ
舎アカデミイ・ナウク・グルッ*SSR(Soobsh
ch Akad。
Nauk Gruz 、 5SR)、84.381
(1976)およびテジシイ令ドクルーヴセス・コy7
eキミイ(Tezisy Dokl−Vses、Ko
nf、Khim、)、アツェチレナ(At set +
、1ena)、5t h、1975゜172゜ 同様に、トリエチルシランが触媒としてPhC1(PP
H3)3を使用するメタクリレート類による1、4−ヒ
ドロシル化を受けるということも文献中で報告されてい
る:ケミカル・アンド番ファーマシューティカルφプリ
テン(Chem、Pharm、Bu l 1 、)、
日本、22(1974)、2767およびジャーナル
・オブφオルガノメタリック・ケミストリー(J、Qr
ganomet 、Chem)、1よ1(197B)、
43゜しかしながら、これらの教示に従うとアクリレー
ト類を反応で使用するときには1,4−および1,2−
ヒドロシル化生成物類の混合物が生じる。
(1976)およびテジシイ令ドクルーヴセス・コy7
eキミイ(Tezisy Dokl−Vses、Ko
nf、Khim、)、アツェチレナ(At set +
、1ena)、5t h、1975゜172゜ 同様に、トリエチルシランが触媒としてPhC1(PP
H3)3を使用するメタクリレート類による1、4−ヒ
ドロシル化を受けるということも文献中で報告されてい
る:ケミカル・アンド番ファーマシューティカルφプリ
テン(Chem、Pharm、Bu l 1 、)、
日本、22(1974)、2767およびジャーナル
・オブφオルガノメタリック・ケミストリー(J、Qr
ganomet 、Chem)、1よ1(197B)、
43゜しかしながら、これらの教示に従うとアクリレー
ト類を反応で使用するときには1,4−および1,2−
ヒドロシル化生成物類の混合物が生じる。
この技術的背景にもかかわらず、主として1゜4−ヒド
ロシル生成物を生成するためのO−シリル化されたケテ
ンアセタール類およびエノールエーテル類の一段階製法
に関する要望が存在している。この要望は、そのような
物質類が基移動重合に、おける開始剤としての用途が見
出された発見により相当増大してきている0本発明の主
な目的は、1,4−ヒドロシル化生成物を生じるための
0−シリル化されたケテンアセタール類およびエノール
エーテル類への工程を提供するものである。本発明の他
の目的は、基移動重合における開始剤として使用できる
新種の0−シリル化されたケテンアセタール類およびエ
ノールエーテル類を製造することである0本発明の他の
目的はここに含まれている開示から明白になるであろう
。
ロシル生成物を生成するためのO−シリル化されたケテ
ンアセタール類およびエノールエーテル類の一段階製法
に関する要望が存在している。この要望は、そのような
物質類が基移動重合に、おける開始剤としての用途が見
出された発見により相当増大してきている0本発明の主
な目的は、1,4−ヒドロシル化生成物を生じるための
0−シリル化されたケテンアセタール類およびエノール
エーテル類への工程を提供するものである。本発明の他
の目的は、基移動重合における開始剤として使用できる
新種の0−シリル化されたケテンアセタール類およびエ
ノールエーテル類を製造することである0本発明の他の
目的はここに含まれている開示から明白になるであろう
。
本発明は、O−シリル化されたケテンアセタール類およ
びエノールエーテル類、並びに主として1.4−ヒドロ
シル化生成物を生じる該O−シリル化されたケテンアセ
タール類およびエノールエーテル類の一段階製造方法を
提供するものである。新規な0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類は、アミノシラ
ン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシラン類
からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物をロジ
ウム触媒の存在下でα、β−不飽和カルポニル化合物を
用いて1,4−ヒドロシル化することにより製造される
ものである。
びエノールエーテル類、並びに主として1.4−ヒドロ
シル化生成物を生じる該O−シリル化されたケテンアセ
タール類およびエノールエーテル類の一段階製造方法を
提供するものである。新規な0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類は、アミノシラ
ン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシラン類
からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物をロジ
ウム触媒の存在下でα、β−不飽和カルポニル化合物を
用いて1,4−ヒドロシル化することにより製造される
ものである。
本発明に従うと、O−シリル化されたケテンアセタール
類およびエノールエーテル類の新規な製造方法が提供さ
れる。該方法は、アミノシラン類、シロキサン類および
アルキルアルコキシシラン類からなる群から選択された
ヒドロシル化用組成物をα、β−不飽和不飽和ニルボニ
ル化合物て1.4−ヒドロシル化することからなってい
る。
類およびエノールエーテル類の新規な製造方法が提供さ
れる。該方法は、アミノシラン類、シロキサン類および
アルキルアルコキシシラン類からなる群から選択された
ヒドロシル化用組成物をα、β−不飽和不飽和ニルボニ
ル化合物て1.4−ヒドロシル化することからなってい
る。
ヒドロシル化で使用できるアミノシラン類は、一般式:
%式%()
[式中、
R,R1およびR2は個々に炭素数が1〜8のアルキル
またはアリール基であり、Rは水素であることもでき、
そしてここでXは1.2または3の値を有する] により表わされるものが包含される。これらのアミノシ
ラン類は市販されているかまたは例えばイーポーン(E
aborn)の「有機珪素化合物類(Organosi
licon Compounds)J、アカデミツク
場プレス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、16
90.339頁中に記されている如き種々の公知の技術
のいずれかにより製造できる。
またはアリール基であり、Rは水素であることもでき、
そしてここでXは1.2または3の値を有する] により表わされるものが包含される。これらのアミノシ
ラン類は市販されているかまたは例えばイーポーン(E
aborn)の「有機珪素化合物類(Organosi
licon Compounds)J、アカデミツク
場プレス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、16
90.339頁中に記されている如き種々の公知の技術
のいずれかにより製造できる。
適当なアミノシラン類には下記のものが包含されるがそ
れらの限定されるものではないニジメチルアミノジメチ
ルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、トリ
ス(ジメチルアミノ)シラン、ジメチルアミノメチルエ
チルシラン、ジエチルアミノメチルプロピルシラン、メ
チル7ミノメチルエチルシラン、エチルアミノメチルエ
チルシラン、フェニルアミノメチルエチルシラン、ジフ
ェニルアミノメチルフェニルシラン、ジベンジルアミノ
エチルフェニルシラン、ジフェニルアミノジメチルシラ
ン、ビス(ジエチルアミノ)エチルシラン、ビス(メチ
ルアミノ)エチルシラン、ビス(ベンジルアミノ)メチ
ルシラン、トリス(ジエチルアミノ)シラン、トリス(
ピペリジノ)シラン、トリス(シクロヘキシルアミノ)
シラン。好適なアミノシランは、R,R1およびR2が
メチル、エチルまたはフェニルでありそしてXが3の値
を有するものである。好適には、該シランはトリス(ジ
メチルアミノ)シランである。
れらの限定されるものではないニジメチルアミノジメチ
ルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、トリ
ス(ジメチルアミノ)シラン、ジメチルアミノメチルエ
チルシラン、ジエチルアミノメチルプロピルシラン、メ
チル7ミノメチルエチルシラン、エチルアミノメチルエ
チルシラン、フェニルアミノメチルエチルシラン、ジフ
ェニルアミノメチルフェニルシラン、ジベンジルアミノ
エチルフェニルシラン、ジフェニルアミノジメチルシラ
ン、ビス(ジエチルアミノ)エチルシラン、ビス(メチ
ルアミノ)エチルシラン、ビス(ベンジルアミノ)メチ
ルシラン、トリス(ジエチルアミノ)シラン、トリス(
ピペリジノ)シラン、トリス(シクロヘキシルアミノ)
シラン。好適なアミノシランは、R,R1およびR2が
メチル、エチルまたはフェニルでありそしてXが3の値
を有するものである。好適には、該シランはトリス(ジ
メチルアミノ)シランである。
ヒドロシル化で使用できるシロキサン類には、一般式:
%式%
[式中、
R3,R4、RsおよびR6は個々に炭素数が1〜Bの
アルキル基であり:そしてaは0または1の値であり、
bはOまたは1の値であり、yは1〜500の値を有し
、2は0〜499の値を有し、モしてy+Zの合計は1
〜500であり、但し条件として2がOであるならa+
bは少なくとも1でなければならない] により表わされるものが包含される。シロキサン類は市
販されているかまたは例えばイーポーン(Eaborn
)c7)r有機珪素化合物類(Organosilfc
on Compounds)J、アカデミツク−プレ
ス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、1690.
339頁中に記されている如き種々の公知の技術のいず
れかにより製造できる。
アルキル基であり:そしてaは0または1の値であり、
bはOまたは1の値であり、yは1〜500の値を有し
、2は0〜499の値を有し、モしてy+Zの合計は1
〜500であり、但し条件として2がOであるならa+
bは少なくとも1でなければならない] により表わされるものが包含される。シロキサン類は市
販されているかまたは例えばイーポーン(Eaborn
)c7)r有機珪素化合物類(Organosilfc
on Compounds)J、アカデミツク−プレ
ス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、1690.
339頁中に記されている如き種々の公知の技術のいず
れかにより製造できる。
適当なシロキサン類にはビス(トリメチルシリルオキシ
)メチルシラン、1,1,3.3−テトラメチルジシロ
キサンおよびヘプタメチルシクロテトラシロキサンが包
含されるが、それらに限定されるものではない、多くの
他のシロキサン類は全ての型のシロキサン類の混合物類
である。好適なシロキサンは、R3,R4,R5、R6
が全てメチル基であるものである。
)メチルシラン、1,1,3.3−テトラメチルジシロ
キサンおよびヘプタメチルシクロテトラシロキサンが包
含されるが、それらに限定されるものではない、多くの
他のシロキサン類は全ての型のシロキサン類の混合物類
である。好適なシロキサンは、R3,R4,R5、R6
が全てメチル基であるものである。
ヒドロシル化において使用できるアルキルアルコキシシ
ラン類には、下記の一般式: [式中、 R7およびRIOはシラン全体中で同一であるかまたは
異なっており、そして個々に炭素数が1〜8のアルキル
基であり、そしてVは−Oまたは1または2である] により表わされるものが包含される。アルキルアルコキ
シシラン類は市販されているかまたは例えば米国特許4
.395.564中に記されている如き種々の公知の技
術のいずれかにより製造できる。アルキルアルコキシシ
ラン類が第二級または第三級アルコール類から製造され
モしてVが0であることが好適である。
ラン類には、下記の一般式: [式中、 R7およびRIOはシラン全体中で同一であるかまたは
異なっており、そして個々に炭素数が1〜8のアルキル
基であり、そしてVは−Oまたは1または2である] により表わされるものが包含される。アルキルアルコキ
シシラン類は市販されているかまたは例えば米国特許4
.395.564中に記されている如き種々の公知の技
術のいずれかにより製造できる。アルキルアルコキシシ
ラン類が第二級または第三級アルコール類から製造され
モしてVが0であることが好適である。
適当なアルキルアルコキシシラン類には下記のものが包
含されるが、それらに限定されるものではないニトリイ
ソプロポキシシラン、トリセカンダリー−ブトキシシラ
ン、トリターシャリー−ブトキシシラン、トリエトキシ
シラン、トリメトキシシラン、メチルジェトキシシラン
、ジメチルエトキシシラン、メチルジイソプロポキシシ
ラン、ジメチルターシャリーーブトキシシラン、メチル
ジセカンダリーーブトキシシラン、およびジメチルメト
キシシラン。
含されるが、それらに限定されるものではないニトリイ
ソプロポキシシラン、トリセカンダリー−ブトキシシラ
ン、トリターシャリー−ブトキシシラン、トリエトキシ
シラン、トリメトキシシラン、メチルジェトキシシラン
、ジメチルエトキシシラン、メチルジイソプロポキシシ
ラン、ジメチルターシャリーーブトキシシラン、メチル
ジセカンダリーーブトキシシラン、およびジメチルメト
キシシラン。
ヒドロシル化を実施する際に使用されるα、β−、β−
単量体類は一般式: [式中、 R11は水素または炭素数が1〜8のアルキルもしくは
アリール基であることができ、モしてZは水素、炭素数
が1〜15の、好適には1〜8の、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基からなる群
から選択される] により表わされる0例えばアクリレート類またはメタク
リレート類の如きα、β−不飽和不飽和ニルボニル化合
物されているかまたは種々の公知の技術により製造でき
る。
単量体類は一般式: [式中、 R11は水素または炭素数が1〜8のアルキルもしくは
アリール基であることができ、モしてZは水素、炭素数
が1〜15の、好適には1〜8の、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基からなる群
から選択される] により表わされる0例えばアクリレート類またはメタク
リレート類の如きα、β−不飽和不飽和ニルボニル化合
物されているかまたは種々の公知の技術により製造でき
る。
本発明の実施において使用するのに適しているα、β−
不飽和不飽和ニルボニル類に公知に化合物類であり、そ
してそれらには下記のものが包含されるがそれらに限定
されるものではない:メチルメタクリレート、ブチルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、エチルアクリ
レート、ブチルアクリレート、2−エチルへキシルメタ
クリレート、2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレ
ート、2−(ジメチルアミノ)エチルアクリレート、3
.3−ジメトキシプロピルアクリレート、3−メタクリ
ルオキシプロピルアクリレート、2−アセトキシエチル
メタクリレート、P−)リルメタクリレート、2,2,
3,3,4,4.4−ヘプタフルオロブチルアクリレー
ト、エチル2−シアノアクリレート、N、N−ジメチル
アクリルアミド、エチル2−シアノアクリレート、4−
フルオロフェニルアクリレート、2−メチルアクリルオ
キシエチルアクリレートおよびリルニート、プロピルビ
ニルケトン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、アクロレイン、メタクロレイ
ン、エチル2−クロロアクリレート、グリシジルメタク
リレート、3−メトキシプロピルメタクリレート、2−
[(1−プロペニル)オキシ]エチルメタクリレート
およびアクリレート、フェニルアクリレート、2−(ト
リメチルシロキシ)エチルメタクリレート、並びにアリ
ルアクリレートおよびメタクリレート、好適な単量体類
には、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−(
トリメチルシロキシ)エチルメタクリレート、2−メタ
クリルオキシエチルアクリレート、2−7セトキシエチ
ルメタクリレート、および2−(ジメチルアミノ)エチ
ルメタクリレートが包含される。メチルメタクリレート
が最も好適である。
不飽和不飽和ニルボニル類に公知に化合物類であり、そ
してそれらには下記のものが包含されるがそれらに限定
されるものではない:メチルメタクリレート、ブチルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、エチルアクリ
レート、ブチルアクリレート、2−エチルへキシルメタ
クリレート、2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレ
ート、2−(ジメチルアミノ)エチルアクリレート、3
.3−ジメトキシプロピルアクリレート、3−メタクリ
ルオキシプロピルアクリレート、2−アセトキシエチル
メタクリレート、P−)リルメタクリレート、2,2,
3,3,4,4.4−ヘプタフルオロブチルアクリレー
ト、エチル2−シアノアクリレート、N、N−ジメチル
アクリルアミド、エチル2−シアノアクリレート、4−
フルオロフェニルアクリレート、2−メチルアクリルオ
キシエチルアクリレートおよびリルニート、プロピルビ
ニルケトン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、アクロレイン、メタクロレイ
ン、エチル2−クロロアクリレート、グリシジルメタク
リレート、3−メトキシプロピルメタクリレート、2−
[(1−プロペニル)オキシ]エチルメタクリレート
およびアクリレート、フェニルアクリレート、2−(ト
リメチルシロキシ)エチルメタクリレート、並びにアリ
ルアクリレートおよびメタクリレート、好適な単量体類
には、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−(
トリメチルシロキシ)エチルメタクリレート、2−メタ
クリルオキシエチルアクリレート、2−7セトキシエチ
ルメタクリレート、および2−(ジメチルアミノ)エチ
ルメタクリレートが包含される。メチルメタクリレート
が最も好適である。
主として(50%以上そして普通は75%以上の)1,
4−ヒドロシル化生成物を得るためには、ヒドロシル反
応をロジウム触媒の存在下で実施する。ロジウム触媒は
そのままで、または例えばカーボンブラックもしくはア
ルミナの如き担体上で、またはロジウムの可溶性化合物
として、すなわち三塩化ロジウム、2,4−ペンタンジ
オン酸ロジウム(m)およびロジウムとホスフィン類と
の錯体、例えばトリス(トリフェニルホスフィン)ロジ
ウムクロライドおよびトリス(トリフェニルホスフィン
)ロジウムカルボニルハイドライド、として溶液中で使
用できる。ロジウム触媒はジョンソン・マテイから市販
されている。触媒の濃度は一般にヒドロシル化用組成物
に関して0゜000010−0.05モル%の間であり
、相当高いこの型の触媒価格のために要求する反応を得
るのに必要なものより多い触媒を使用しないことが好ま
しい、しかしながら、多くのα、β−不飽和力ルボニル
化合物類中に一般的な不純物の理由のだめに比較的高い
濃度が必要となることもある。
4−ヒドロシル化生成物を得るためには、ヒドロシル反
応をロジウム触媒の存在下で実施する。ロジウム触媒は
そのままで、または例えばカーボンブラックもしくはア
ルミナの如き担体上で、またはロジウムの可溶性化合物
として、すなわち三塩化ロジウム、2,4−ペンタンジ
オン酸ロジウム(m)およびロジウムとホスフィン類と
の錯体、例えばトリス(トリフェニルホスフィン)ロジ
ウムクロライドおよびトリス(トリフェニルホスフィン
)ロジウムカルボニルハイドライド、として溶液中で使
用できる。ロジウム触媒はジョンソン・マテイから市販
されている。触媒の濃度は一般にヒドロシル化用組成物
に関して0゜000010−0.05モル%の間であり
、相当高いこの型の触媒価格のために要求する反応を得
るのに必要なものより多い触媒を使用しないことが好ま
しい、しかしながら、多くのα、β−不飽和力ルボニル
化合物類中に一般的な不純物の理由のだめに比較的高い
濃度が必要となることもある。
ヒドロシル化は40℃以上の温度で実施すべきであり、
70℃〜150℃の間が最適である。温度上限は厳密で
はないが、反応は出発物質類または生成物類の分解点よ
り低くすべきである。ヒドロシル化反応は溶媒を用いて
または用いずに実施できる。多くの場合溶媒の使用は有
利ではない。
70℃〜150℃の間が最適である。温度上限は厳密で
はないが、反応は出発物質類または生成物類の分解点よ
り低くすべきである。ヒドロシル化反応は溶媒を用いて
または用いずに実施できる。多くの場合溶媒の使用は有
利ではない。
しかしながら、例えば溶解度または温度調節の如き理由
のために溶媒が望ましい場合には溶媒を使用できる。適
当な溶媒類は炭化水素類、例えばオクタン、キシレンま
たはトリイソプロピルベンゼンである。
のために溶媒が望ましい場合には溶媒を使用できる。適
当な溶媒類は炭化水素類、例えばオクタン、キシレンま
たはトリイソプロピルベンゼンである。
反応物類の添加順序は重要ではないが、一般的にはロジ
ウム触媒をヒドロシル化用組成物に加え、次に熱を適用
し、その後α、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物する
。ヒドロモル化用組成物対α、β−不飽和力ルボニル化
合物に関しては1対1の化学量論的比が好適であるが、
この比を変えても反応に悪影響を与えない、しかしなが
ら、そのような変更は反応収率に影響を与えるであるう
。
ウム触媒をヒドロシル化用組成物に加え、次に熱を適用
し、その後α、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物する
。ヒドロモル化用組成物対α、β−不飽和力ルボニル化
合物に関しては1対1の化学量論的比が好適であるが、
この比を変えても反応に悪影響を与えない、しかしなが
ら、そのような変更は反応収率に影響を与えるであるう
。
1.4−ヒドロシル化により生成する0−シリル化され
たケテンアセタールまたはエノールエーテルは下記の一
般式により表わされる:A、ヒドロシル化用化成組成物
ミノシランである時: B、ヒドロシル化用組成物がシロキサンであるC,ヒド
ロシル用組成物がアルキルアルコキシシ0−シリル化さ
れたケテンアセタール類およびエノールエーテル類は基
移動重合用の開始剤としての用途が見出されている。基
−移動重合は、α、β−不不飽和シルボニル化合物類す
なわちエステル類、ケトン類、カルボキサミド類および
ニトリル類、から逐次共役(ミシェル型)付加工程によ
り重合体を調節製造するための方法である。この技術は
開始剤としてシリルケテンアセタール類を使用しモして
α、β−不飽和力ルボニル化合物類に対するこれらのシ
リル試薬類の共役ミシェル付加に関する公知の化学理論
に基すいている。この反応は近年有機合成において非常
に多く使用されてきている。デュポンの化学者が行なっ
た革新は、重合体を製造するためのα、β−不飽和カル
ボニル化合物類、すなわちエステル類、ケトン類、カル
ボキサミド類およびニトリル類、に対する直後のシリル
ケテンアセタール類の逐次共役付加を促進する触媒の発
見である。
たケテンアセタールまたはエノールエーテルは下記の一
般式により表わされる:A、ヒドロシル化用化成組成物
ミノシランである時: B、ヒドロシル化用組成物がシロキサンであるC,ヒド
ロシル用組成物がアルキルアルコキシシ0−シリル化さ
れたケテンアセタール類およびエノールエーテル類は基
移動重合用の開始剤としての用途が見出されている。基
−移動重合は、α、β−不不飽和シルボニル化合物類す
なわちエステル類、ケトン類、カルボキサミド類および
ニトリル類、から逐次共役(ミシェル型)付加工程によ
り重合体を調節製造するための方法である。この技術は
開始剤としてシリルケテンアセタール類を使用しモして
α、β−不飽和力ルボニル化合物類に対するこれらのシ
リル試薬類の共役ミシェル付加に関する公知の化学理論
に基すいている。この反応は近年有機合成において非常
に多く使用されてきている。デュポンの化学者が行なっ
た革新は、重合体を製造するためのα、β−不飽和カル
ボニル化合物類、すなわちエステル類、ケトン類、カル
ボキサミド類およびニトリル類、に対する直後のシリル
ケテンアセタール類の逐次共役付加を促進する触媒の発
見である。
該工程は基−移動重合と称されており、その理由はそれ
が開始剤および各中間生成物であるケテンアセタールか
ら重合体鎖に加えられる次の単量体分子の不飽和へテロ
原子(例えばエステルのカルボニル酸素)へのシリル基
の移動により進行するからである。従って、全ての中間
生成物分子の鎖端部は反応性であり、すなわち重合体類
は「活性」であり、そして全てのα、β−不飽和不飽和
ニルボニルされるかまたは重合体分子からのシリル基を
分解させる試薬(例えば非プロトン性溶媒)の添加によ
り重合を停止させるまで反応を続ける。
が開始剤および各中間生成物であるケテンアセタールか
ら重合体鎖に加えられる次の単量体分子の不飽和へテロ
原子(例えばエステルのカルボニル酸素)へのシリル基
の移動により進行するからである。従って、全ての中間
生成物分子の鎖端部は反応性であり、すなわち重合体類
は「活性」であり、そして全てのα、β−不飽和不飽和
ニルボニルされるかまたは重合体分子からのシリル基を
分解させる試薬(例えば非プロトン性溶媒)の添加によ
り重合を停止させるまで反応を続ける。
基−移動重合はアクリル系重合体類の分子量を調節する
のに有用であり、その結果アクリル系自動車仕上げおよ
び関連製品類の製造における用途が見出されている。
のに有用であり、その結果アクリル系自動車仕上げおよ
び関連製品類の製造における用途が見出されている。
本発明の正確な範囲は前記の特許請求の範囲中に示され
ているが、下記の特定実施例は本発明の詳細な説明する
ものでありそして特にそれの評価方法を指摘するもので
ある。しかしながら、実施例は単に説明用に示されてお
り本発明を前記の特許請求の範囲中に示されていること
以外に限定しようとするものではない、全ての部数およ
び百分率は特に断わらない限り重量によるものである。
ているが、下記の特定実施例は本発明の詳細な説明する
ものでありそして特にそれの評価方法を指摘するもので
ある。しかしながら、実施例は単に説明用に示されてお
り本発明を前記の特許請求の範囲中に示されていること
以外に限定しようとするものではない、全ての部数およ
び百分率は特に断わらない限り重量によるものである。
実施例1
100mlの五首フラスコには撹拌棒、温度計、10
m l添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに15.7g(0,07
モル)のビス(トリメチルシリルオキシ)メチルシラン
、22.5gのキシレン、1.0gのフェノチアジンお
よび200ppm (23,64mg)のRhC1(P
Ph3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で
7.1g(0,07モル)のメチルメタクリレートを反
応物に1−2時間にわたって滴々添加した0反応物を次
に室温に冷却しそしてガスクロマトグラフ仁ガスクロマ
トグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析によ
り構造が1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(
トリメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンであ
ることが確認された。生成物を58℃/、40mmHg
で蒸留した。
m l添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに15.7g(0,07
モル)のビス(トリメチルシリルオキシ)メチルシラン
、22.5gのキシレン、1.0gのフェノチアジンお
よび200ppm (23,64mg)のRhC1(P
Ph3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で
7.1g(0,07モル)のメチルメタクリレートを反
応物に1−2時間にわたって滴々添加した0反応物を次
に室温に冷却しそしてガスクロマトグラフ仁ガスクロマ
トグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析によ
り構造が1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(
トリメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンであ
ることが確認された。生成物を58℃/、40mmHg
で蒸留した。
実施例2
メチルメタクリレートの代わりにメチルアクリレートを
使用したこと以外は実施例1に記されている如くして反
応を実施した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の主要
生成物が生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ
/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1−メ
チル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリルオキ
シ)メチルシロキシエチレンであることが確認された。
使用したこと以外は実施例1に記されている如くして反
応を実施した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の主要
生成物が生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ
/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1−メ
チル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリルオキ
シ)メチルシロキシエチレンであることが確認された。
実施例3
使用した出発シロキサンがビス(トリメチルシリルオキ
シ)メチルシランの代わりにヘプタメチルシクロテトラ
シロキサンであったこと以外は実施例1に記されている
如くして反応を実施した。
シ)メチルシランの代わりにヘプタメチルシクロテトラ
シロキサンであったこと以外は実施例1に記されている
如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィによると、単一生成物が約80%
の収率で生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴によりこの生成物が1.1−ジ°
メチルー2−メトキシ−2−ヘプタメチルシクロテトラ
シロキシエチレンであることが確認された。
の収率で生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴によりこの生成物が1.1−ジ°
メチルー2−メトキシ−2−ヘプタメチルシクロテトラ
シロキシエチレンであることが確認された。
実施例4
100m1の三首フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに15、Og(o、ttzモ
ル)の1.1,3.3−テトラメチルジシロキサン、3
7.4gc7)−t−シレン、1.5gのフェノチアジ
ンおよび200pp−m (22、2mg)のRhCl
(PPh3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この
時点で22゜4g(0,224モル)のメチルメタクリ
レートを反応物に2−3時間にわたって滴々添加した。
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに15、Og(o、ttzモ
ル)の1.1,3.3−テトラメチルジシロキサン、3
7.4gc7)−t−シレン、1.5gのフェノチアジ
ンおよび200pp−m (22、2mg)のRhCl
(PPh3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この
時点で22゜4g(0,224モル)のメチルメタクリ
レートを反応物に2−3時間にわたって滴々添加した。
反応物を次に室温に冷却しそしてガスクロマトグラフィ
分析は一種の主要生成物が90%以上の収率で生成した
ことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴分析により構造が1.3−ビス(1、
1−ジメチル−2−メトキシ−2−エトキシ)−1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが確認
された。
分析は一種の主要生成物が90%以上の収率で生成した
ことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴分析により構造が1.3−ビス(1、
1−ジメチル−2−メトキシ−2−エトキシ)−1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが確認
された。
実施例5
250 m lの三首フラスコには撹拌棒、温度計、5
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに30.9g(0,15
モル)のトリイソプロポキシシラン、45.9gのキシ
レン、1.82gのフェノチアジンおよび200ppm
(45,78mg)のRhCI (PPh3 ) 3を
充填した。溶液を加熱還流し、この時点で15.Og(
1,5モル)のメチルメタクリレートを反応混合物に1
−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに5時
間加熱した0反応物を次に室温に冷却し、そしてガスク
ロマトグラフィは一種の主要生成物が80%以上の収率
で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリイソプロポキシシロ
キシエチレンであることが確認された。生成物を110
℃/10mmHgで蒸留した。
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに30.9g(0,15
モル)のトリイソプロポキシシラン、45.9gのキシ
レン、1.82gのフェノチアジンおよび200ppm
(45,78mg)のRhCI (PPh3 ) 3を
充填した。溶液を加熱還流し、この時点で15.Og(
1,5モル)のメチルメタクリレートを反応混合物に1
−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに5時
間加熱した0反応物を次に室温に冷却し、そしてガスク
ロマトグラフィは一種の主要生成物が80%以上の収率
で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリイソプロポキシシロ
キシエチレンであることが確認された。生成物を110
℃/10mmHgで蒸留した。
X急賀j
出発シランとしてトリイソプロポキシシランの代わりに
トリターシャリー−ブトキシシランを使用したこと以外
は実施例5に記されている如くして反応を実施した。ガ
スクロマトグラフィ分析は一種の生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブト
キシシロキシエチレンであることが確認された。
トリターシャリー−ブトキシシランを使用したこと以外
は実施例5に記されている如くして反応を実施した。ガ
スクロマトグラフィ分析は一種の生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブト
キシシロキシエチレンであることが確認された。
実施例7
出発シランとしてトリエトキシシランを使用したこと以
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約1対l
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−1−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリエトキシシリ
ルプロパノエートであることが確認された。
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−1−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリエトキシシリ
ルプロパノエートであることが確認された。
実施例8
出発シランとしてトリメトキシシランを使用したこと以
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約1対1
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリメトキシシリ
ルプロパノエートであるこ7とが確認された。
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリメトキシシリ
ルプロパノエートであるこ7とが確認された。
実施例9
100 m lの三首フラスコには撹拌棒、温度計、1
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに7.0g (0,02
8モル)のトリターシャリー−ブトキシシラン、9.5
gのキシレン、0.40gのフェノチアジンおよび20
0pPm(10゜37mg)のRhCl (PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g
(0,028モル)のメチルアクリレートを反応混合物
に1−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに
5時間加熱した3反応物を次に室温に冷却し、そしてガ
スクロマトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1−
メチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブトキ
シシロキシエチレンであることが確認された。
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに7.0g (0,02
8モル)のトリターシャリー−ブトキシシラン、9.5
gのキシレン、0.40gのフェノチアジンおよび20
0pPm(10゜37mg)のRhCl (PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g
(0,028モル)のメチルアクリレートを反応混合物
に1−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに
5時間加熱した3反応物を次に室温に冷却し、そしてガ
スクロマトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1−
メチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブトキ
シシロキシエチレンであることが確認された。
裏ム豊ユA
出発シランとしてトリイソプロポキシシランを使用した
こと以外は実施例9に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトルおよび核
磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メトキシ−2−
)リイソプロボキシシロキシエチレンであることが確認
された。
こと以外は実施例9に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトルおよび核
磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メトキシ−2−
)リイソプロボキシシロキシエチレンであることが確認
された。
丈直鑓11
出発シランとしてトリメトキシシランヲ使用したこと以
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の主要生成物類が生成
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリエトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリエトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリエトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリエトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
Xム烈エヱ
出発シランとしてトリメトキシシランを使用したこと以
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の主要生成物類が生成
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリメトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリメトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリメトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリメトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
虫艶鍔A
出発シランとしてトリターシャリー−ブトキシシランを
使用しそしてH2PtCl6 (200ppm)を触
媒として使用したこと以外は実施例9に記されている如
くして反応を実施した0反応混合物を150℃に8時間
加熱した後に、ガスクロマトグラフィにより生成物は観
察されなかった。
使用しそしてH2PtCl6 (200ppm)を触
媒として使用したこと以外は実施例9に記されている如
くして反応を実施した0反応混合物を150℃に8時間
加熱した後に、ガスクロマトグラフィにより生成物は観
察されなかった。
よ艶鍔互
H2PtCl6 (100ppm)を触媒として使用
したこと以外は実施例13に記されている如くして反応
を実施した0反応混合物を150℃に8時間加熱した後
に、生成物は生じなかった。
したこと以外は実施例13に記されている如くして反応
を実施した0反応混合物を150℃に8時間加熱した後
に、生成物は生じなかった。
実施例13
50mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、10m1
添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが備
えられていた。フラスコに4.7g(0,029モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、5.0gのキシレ
ン、0.28gの7、/チアジンおよび200ppm(
8,32mg)のRhCI (PPh3)3を充填した
。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g(0,029
モル)のメチルアクリレートを反応混合物に1〜2時間
にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃に1
0時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そし
てガスクロマトグラフィ分析は一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが備
えられていた。フラスコに4.7g(0,029モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、5.0gのキシレ
ン、0.28gの7、/チアジンおよび200ppm(
8,32mg)のRhCI (PPh3)3を充填した
。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g(0,029
モル)のメチルアクリレートを反応混合物に1〜2時間
にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃に1
0時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そし
てガスクロマトグラフィ分析は一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
X旌医上1
1000mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、25
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに200g (1,25
モル)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、307gの
キシレン、12.0gのフェノチアジンおよび200p
pm(354mg)のRhCl (PPh3) 3を充
填した。溶液を加熱還流し、この時点で106.8g(
1,24モル)のメチルアクリレートを反E物に2−3
時間にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃
に10時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、
そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに200g (1,25
モル)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、307gの
キシレン、12.0gのフェノチアジンおよび200p
pm(354mg)のRhCl (PPh3) 3を充
填した。溶液を加熱還流し、この時点で106.8g(
1,24モル)のメチルアクリレートを反E物に2−3
時間にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃
に10時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、
そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
lit±11
250mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに30g(0,186モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、50gのキシレン
、0.02gのMEHQおよび200ppm (44,
4mg)のRhCI (PPh3)3を充填した。溶液
を加熱還流し、この時点で18.6g (0,186モ
ル)のメチルメタクリレートを反応物に1−2時間にわ
たって滴々添加し、それを次にさらに150℃に8時間
加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そしてガス
クロマトグラフィは単一生成物が70%以上の収率で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−ジメ
チル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチルアミノ)シ
ロキシエチレンであることが確認された。
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに30g(0,186モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、50gのキシレン
、0.02gのMEHQおよび200ppm (44,
4mg)のRhCI (PPh3)3を充填した。溶液
を加熱還流し、この時点で18.6g (0,186モ
ル)のメチルメタクリレートを反応物に1−2時間にわ
たって滴々添加し、それを次にさらに150℃に8時間
加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そしてガス
クロマトグラフィは単一生成物が70%以上の収率で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−ジメ
チル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチルアミノ)シ
ロキシエチレンであることが確認された。
X旌史ユj
出発シランとしてメチルジェトキシシランを使用したこ
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約3
対2の比で生成したことを示した。核磁気共鳴およびガ
スクロマトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物
が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジェトキシメ
チルシロキシエチレンでありそして少量生成物がメチル
2−メチル−3−ジェトキシメチリシリルプロパノエー
トであることが確認された。
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約3
対2の比で生成したことを示した。核磁気共鳴およびガ
スクロマトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物
が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジェトキシメ
チルシロキシエチレンでありそして少量生成物がメチル
2−メチル−3−ジェトキシメチリシリルプロパノエー
トであることが確認された。
Xム輿11
メチルメタクリレートの代わりにインブチルメタクリレ
ートを使用したこと以外は実施例5に記されている如く
して反応を実施した。一種の生成物類が生成し、そして
核磁気共鳴およびガスクロマトグラフィ/質量スペクト
ルにより構造が1゜1−ジメチル−2−インブトキシ−
2−トリイソプロポキシシロキシエチレンであることが
確認された。
ートを使用したこと以外は実施例5に記されている如く
して反応を実施した。一種の生成物類が生成し、そして
核磁気共鳴およびガスクロマトグラフィ/質量スペクト
ルにより構造が1゜1−ジメチル−2−インブトキシ−
2−トリイソプロポキシシロキシエチレンであることが
確認された。
X五組11
メチルメタクリレートの代わりにインブチルメタクリレ
ートを使用したこと以外は実施例8に記されている如く
して反応を実施した。二層の生成物類が2対1の比で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴により主要生成物が1,1−ジ
メチル−2−インブトキシ−2−トリメトキシシロキシ
エチレンであることが決定された。少量生成物はイソブ
チル2−メチル−3−トリメトキシメチリシリルプロパ
ノエートであることが確認された。
ートを使用したこと以外は実施例8に記されている如く
して反応を実施した。二層の生成物類が2対1の比で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴により主要生成物が1,1−ジ
メチル−2−インブトキシ−2−トリメトキシシロキシ
エチレンであることが決定された。少量生成物はイソブ
チル2−メチル−3−トリメトキシメチリシリルプロパ
ノエートであることが確認された。
X族鍔1旦
メチルメタクリレートの代わりに2−トリメチルシロキ
シエチルメタクリレートを使用したこと以外は実施例1
に記されている如くして反応を実施した。一種の生成物
類が生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴により構造が1.1−ジメチル−2−
(2”−)リメチルシロキシエトキシ)−2−ビス(ト
リメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンである
ことが確認された。
シエチルメタクリレートを使用したこと以外は実施例1
に記されている如くして反応を実施した。一種の生成物
類が生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴により構造が1.1−ジメチル−2−
(2”−)リメチルシロキシエトキシ)−2−ビス(ト
リメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンである
ことが確認された。
実施例20
トリス(ジメチルアミノ)シランの代わりにジメチルア
ミノジメチルシランを使用したこと以外は実施例15に
記されている如くして反応を実施した。一種の生成物類
が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマトグラフ
ィ/質量スペクトルにより構造が1.l−ジメチル−2
−メトキシ−2−ジメチルアミノメチルシロキシエチレ
ンであることが確認された。
ミノジメチルシランを使用したこと以外は実施例15に
記されている如くして反応を実施した。一種の生成物類
が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマトグラフ
ィ/質量スペクトルにより構造が1.l−ジメチル−2
−メトキシ−2−ジメチルアミノメチルシロキシエチレ
ンであることが確認された。
実施例21
トリス(ジメチルアミノ)シランの代わりにメチルビス
(ジメチルアミノ)シランを使用したこと以外は実施例
15に記されている如くして反応を実施した。一種の生
成物類が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマト
グラフィ/質量スペクトルにより構造が1,1−ジメチ
ル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルアミノ)
シロキジエチレンであることが確認された。
(ジメチルアミノ)シランを使用したこと以外は実施例
15に記されている如くして反応を実施した。一種の生
成物類が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマト
グラフィ/質量スペクトルにより構造が1,1−ジメチ
ル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルアミノ)
シロキジエチレンであることが確認された。
X良輿ヱヱ
出発シランとしてジメチルエトキシシランヲ使用したこ
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。二種の生成物類が3対1の比で生成した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により
主要生成物が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジ
メチルエトキシシロキシエチレンであることが確認され
た。
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。二種の生成物類が3対1の比で生成した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により
主要生成物が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジ
メチルエトキシシロキシエチレンであることが確認され
た。
丈惠±ヱユ
実施例7中に記されている如くして製造された1、1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンの試料を基移動重合用の開始剤として使用した。
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンの試料を基移動重合用の開始剤として使用した。
実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・フサ41105巻、5706頁中に記されて
いるものと同一であるが、唯一の例外はニーメトキシ−
1−トリメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリ
エトキシシロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
ケミカル・フサ41105巻、5706頁中に記されて
いるものと同一であるが、唯一の例外はニーメトキシ−
1−トリメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリ
エトキシシロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
Xム斑ヱA
実施例1中に記されている如くして製造された1、1−
ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリル
オキシ)メチルシロキシエチレンの試料を基移動重合用
の開始剤として使用した。
ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリル
オキシ)メチルシロキシエチレンの試料を基移動重合用
の開始剤として使用した。
実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・ソサイエティ(Journalof th
e American Chemjcal 5o
ciet )、105巻、5706頁中に記されてい
るものと同一であるが、唯一の例外は1−メトキシ−1
−()リメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1゜1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス
(トリメチルシリルオキシ)−メチルシロキシエチレン
を使用したことである。基移動重合が起きた。
ケミカル・ソサイエティ(Journalof th
e American Chemjcal 5o
ciet )、105巻、5706頁中に記されてい
るものと同一であるが、唯一の例外は1−メトキシ−1
−()リメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1゜1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス
(トリメチルシリルオキシ)−メチルシロキシエチレン
を使用したことである。基移動重合が起きた。
実施例25
実施例21中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチル
アミ/)シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始
剤として使用した。実施した工程は、ジャーナルΦオブ
・ザ惨アメリカン・S o c f e t y)、1
05@、5706頁中に記されているものと同一である
が、唯一の例外はl−メトキシ−1−(トリメチルシロ
キシ)−2−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルア
ミノ)−シロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチル
アミ/)シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始
剤として使用した。実施した工程は、ジャーナルΦオブ
・ザ惨アメリカン・S o c f e t y)、1
05@、5706頁中に記されているものと同一である
が、唯一の例外はl−メトキシ−1−(トリメチルシロ
キシ)−2−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルア
ミノ)−シロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
実施例26
実施例16中に記されている如くして製造されたり、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチ、X/ジェトキシ
シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として
使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブψザのア
メリカン・ケミカル・ソty)、105巻、5706頁
中ニ記サレテすルものと同一であるが、唯一の例外は1
−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2−メチル−
1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−2−メトキ
シ−2−メチルジェトキシ−シロキシエチレンを使用し
たことである。基移動重合が起きた。
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチ、X/ジェトキシ
シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として
使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブψザのア
メリカン・ケミカル・ソty)、105巻、5706頁
中ニ記サレテすルものと同一であるが、唯一の例外は1
−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2−メチル−
1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−2−メトキ
シ−2−メチルジェトキシ−シロキシエチレンを使用し
たことである。基移動重合が起きた。
実施例27
実施例20中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルアミンジメチ
ルシロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤とし
て使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミ力c i e t y)、105巻、
5706頁中に記されているものと同一であるが、唯一
の例外は1−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2
−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−
1−メトキシ−2−ジメチルアミノジメチルシロキシエ
チレンを使用したことである。基移動重合が起きた。
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルアミンジメチ
ルシロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤とし
て使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミ力c i e t y)、105巻、
5706頁中に記されているものと同一であるが、唯一
の例外は1−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2
−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−
1−メトキシ−2−ジメチルアミノジメチルシロキシエ
チレンを使用したことである。基移動重合が起きた。
衷息鍔ヱA
250m1の三筒フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに48g(0,714モル)
のメチルジェトキシシラン、25gのトリイソプロピル
ベンゼン、0.32gのモノメチルヒドロキノンおよび
300ppm(0,129g)のRhC1(PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で25g(
0,357モル)のメチルビニルケトンを1−2時間に
わたって添加した0反応は発熱性であり、そしてメチル
ビニルケトンの添加過程中反応温度は160℃に上昇し
た1反応物を次に室温に冷却しそしてガスクロマトグラ
フィは一種の生成物が生成したことを示した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物が3−
(メチルジェトキシシロキシ)ブチ−2−ンのシスおよ
びトランス異性体類の混合物であることが確認された。
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに48g(0,714モル)
のメチルジェトキシシラン、25gのトリイソプロピル
ベンゼン、0.32gのモノメチルヒドロキノンおよび
300ppm(0,129g)のRhC1(PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で25g(
0,357モル)のメチルビニルケトンを1−2時間に
わたって添加した0反応は発熱性であり、そしてメチル
ビニルケトンの添加過程中反応温度は160℃に上昇し
た1反応物を次に室温に冷却しそしてガスクロマトグラ
フィは一種の生成物が生成したことを示した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物が3−
(メチルジェトキシシロキシ)ブチ−2−ンのシスおよ
びトランス異性体類の混合物であることが確認された。
Xム医ヱユ
出発シランとしてジメチルエトキシシランを使用したこ
と以外は実施例28に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生
成したことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルにより3−(ジメチルエトキシシロキシ)ブ
チ−2−ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であ
ることが確認された。
と以外は実施例28に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生
成したことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルにより3−(ジメチルエトキシシロキシ)ブ
チ−2−ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であ
ることが確認された。
裏旌糎且旦
出発シランとしてトリエトキシシランヲ使用したこと以
外は実施例28に記されている如くして反応を実施した
。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生成し
たことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルにより3−(トリエトキシシロキシ)ブチ−2−
ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であることが
確認された。
外は実施例28に記されている如くして反応を実施した
。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生成し
たことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルにより3−(トリエトキシシロキシ)ブチ−2−
ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であることが
確認された。
実施例31
500mlの三筒フラスコには撹拌棒、温度計、100
m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに145g(0,71モル
)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、115gのキシ
レン、0.33gのモノメチルヒドロキノンおよび30
0ppm(0、31g)のRhCl (PP、h3)3
を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で50g(0
,71モル)のメチルビニルケトンを1−2時間にわた
って滴々添加した。初期に発熱しそれは温度を140℃
に上昇させた。添加が完了した後に反応物を室温に冷却
し、そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルは主要生成物がシスおよびトランスの3−(ト
リス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ−2−ンの混合
物であることが確認された。
m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに145g(0,71モル
)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、115gのキシ
レン、0.33gのモノメチルヒドロキノンおよび30
0ppm(0、31g)のRhCl (PP、h3)3
を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で50g(0
,71モル)のメチルビニルケトンを1−2時間にわた
って滴々添加した。初期に発熱しそれは温度を140℃
に上昇させた。添加が完了した後に反応物を室温に冷却
し、そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルは主要生成物がシスおよびトランスの3−(ト
リス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ−2−ンの混合
物であることが確認された。
文息燃ユヱ
出発シランとしてメチルビス(ジメトキシアミノ)シラ
ンを使用しそして溶媒としてトリインプロピルベンゼン
を使用したこと以外は実施例31に記されている如くし
て反応を実施した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルにより、生成した単一生成物がシスおよびトランス
の3−(メチルビス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ
−2−ンの混合物であることが確認された。
ンを使用しそして溶媒としてトリインプロピルベンゼン
を使用したこと以外は実施例31に記されている如くし
て反応を実施した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルにより、生成した単一生成物がシスおよびトランス
の3−(メチルビス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ
−2−ンの混合物であることが確認された。
実施例33
500mlの三筒フラスコには撹拌棒、温度計、LOO
mL添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに158g(0,714モ
ル)のビス(トリメチルシロキシ)メチルシラン、15
0gのキシレン、0.42gのモノメチルヒドロキノン
および300ppm(0,43g)のRhCI(PPh
3)3を充填した。溶液を80℃に加熱し、この時点で
50g(0,714モル)のメチルビニルケトンを1−
2時間にわたって滴々添加した。
mL添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに158g(0,714モ
ル)のビス(トリメチルシロキシ)メチルシラン、15
0gのキシレン、0.42gのモノメチルヒドロキノン
および300ppm(0,43g)のRhCI(PPh
3)3を充填した。溶液を80℃に加熱し、この時点で
50g(0,714モル)のメチルビニルケトンを1−
2時間にわたって滴々添加した。
初期に発熱しそれは温度を140℃に上昇させた。添加
が完了した後に反応物を室温に冷却し、そしてガスクロ
マトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の収率で
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルはこの生成物がシスおよびトランスの3−(ビ
ス(トリメチルシロキシ)メチルシロキシ)ブチ−2−
ンの混合物であることが確認された。
が完了した後に反応物を室温に冷却し、そしてガスクロ
マトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の収率で
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルはこの生成物がシスおよびトランスの3−(ビ
ス(トリメチルシロキシ)メチルシロキシ)ブチ−2−
ンの混合物であることが確認された。
X惠桝ユA
実施例22中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルエトキシ−シ
ロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として使
用した。実施した工程は、ジャーナルeオプーザーアメ
リカンΦケミカル・ソサイエテイ (Journal
of thel土ヱ)、105巻、5706頁中に
記されているものと同一であるが、唯一の例外は1−メ
トキシ−1−(トリメチルシロキシ)−2−メチル−1
−プロペンの代わりに1,1ジメチル−2−メトキシ−
2−ジメチルエトキシシロキシエチレンを使用したこと
である。基移動重合が起きた。
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルエトキシ−シ
ロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として使
用した。実施した工程は、ジャーナルeオプーザーアメ
リカンΦケミカル・ソサイエテイ (Journal
of thel土ヱ)、105巻、5706頁中に
記されているものと同一であるが、唯一の例外は1−メ
トキシ−1−(トリメチルシロキシ)−2−メチル−1
−プロペンの代わりに1,1ジメチル−2−メトキシ−
2−ジメチルエトキシシロキシエチレンを使用したこと
である。基移動重合が起きた。
特許出願人 ユニオンφカーバイド会コーポレーション
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、本質的に (a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−アミノシリル化されたケテンアセタール類および
エノールエーテル類、 (b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−シロキサンシリル化されたケテンアセタール類お
よびエノールエーテル類、 (c)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−アルコキシシリル化されたケテンアセタール類お
よびエノールエーテル類 [式中、 R、R^1およびR^2は個々に炭素数が1〜8のアル
キルまたはアリール基でありそしてRは水素であること
もでき;R^3、R^4、R^5、R^6、R^7およ
びR^1^0は個々に炭素数が1〜8のアルキル基であ
り;R^8は水素または炭素数が1〜8のアルキルもし
くはアリール基であり;Zは水素、炭素数が1〜15の
アルキル基、アリール基、アルコキシ基およびアリール
オキシ基からなる群から選択され、そしてaは0または
1の値であり、bは0または1の値であり、yは1〜5
00の値を有し、zは0〜499の値を有し、そしてy
+zの合計は1〜500であり、但し条件としてzが0
であるならa+bは少なくとも1でなければならず、x
は1、2または3の値を有し、そしてvは0、1または
2を有する]からなる、O−シリル化されたケテンアセ
タール類およびエノールエーテル類の群から選択された
O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
ーテル。 2、R、R^1およびR^2がメチル、エチルまたはフ
ェニル基でありそしてxが3の値を有する、特許請求の
範囲第1項記載のO−シリル化されたケテンアセタール
およびエノールエーテル。 3、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R
^6、R^7およびR^1^0がメチル基である、特許
請求の範囲第1項記載のO−シリル化されたケテンアセ
タールおよびエノールエーテル。 4、vが0である、特許請求の範囲第1項記載のO−シ
リル化されたケテンアセタールおよびエノールエーテル
。 5、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(トリ
メチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンである特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 6、1−メチル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチル
シリルオキシ)メチルシロキシエチレンである特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 7、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ヘプタメチ
ルシクロテトラシロキシエチレンである特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 8、1,3−ビス(1,1−ジメチル−2−メトキシ−
2−エテノキシ)−1,1,3,3−テトラメチルジシ
ロキサンである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 9、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリイソプ
ロポキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 10、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリター
シャリーブトキシシロキシエチレンである特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 11、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリエト
キシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 12、1−メチル−2−メトキシ−2−トリターシャリ
ーブトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 13、1−メチル−2−メトキシ−2−トリイソプロポ
キシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 14、1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチ
ルアミノ)シロキシエチレンである特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 15、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリス(
ジメチルアミノ)シロキシエチレンである特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 16、本質的に (a)式 H−Si(NRR^1)_x(R^2)_3_−_xの
アミノシラン類、 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のシロキサン類、および (c)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のアルコキシシラン類 からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物を、ロ
ジウム触媒の存在下で、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のα,β−不飽和カルボニル化合物を用いて1,4−ヒ
ドロシル化することからなる、O−シリル化されたケテ
ンアセタール類およびエノールエーテル類の製造方法。 17、触媒濃度がヒドロシル化用組成物を基にして0.
00001〜0.05モル%である、特許請求の範囲第
16項記載の方法。 18、ヒドロシル化が40℃より高い温度において起き
る、特許請求の範囲第16項記載の方法。 19、温度が70〜150℃である、特許請求の範囲第
18項記載の方法。 20、溶媒を使用する、特許請求の範囲第16項記載の
方法。 21、基移動開始剤として特許請求の範囲第1項記載の
O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
ーテルを使用する基移動重合反応。 22、基移動開始剤として特許請求の範囲第2項記載の
O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
ーテルを使用する基移動重合反応。 23、基移動開始剤として特許請求の範囲第3項記載の
O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
ーテルを使用する基移動重合反応。 24、基移動開始剤として特許請求の範囲第4項記載の
O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
ーテルを使用する基移動重合反応。 25、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルジ
エトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 26、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチル
アミノジメチルシロキシエチレンである特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 27、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビ
ス(ジメチルアミノ)シロキシエチレンである特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 28、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチル
エトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
記載の化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US67328584A | 1984-11-20 | 1984-11-20 | |
US673285 | 1984-11-20 | ||
US741832 | 1985-06-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61129184A true JPS61129184A (ja) | 1986-06-17 |
JPH0242836B2 JPH0242836B2 (ja) | 1990-09-26 |
Family
ID=24702020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60257889A Granted JPS61129184A (ja) | 1984-11-20 | 1985-11-19 | O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61129184A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016060723A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物 |
JP2019001885A (ja) * | 2017-06-14 | 2019-01-10 | 信越化学工業株式会社 | 自己接着性シリコーンゲル組成物及びその硬化物 |
WO2020026760A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2020-02-06 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール |
-
1985
- 1985-11-19 JP JP60257889A patent/JPS61129184A/ja active Granted
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016060723A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物 |
JP2019001885A (ja) * | 2017-06-14 | 2019-01-10 | 信越化学工業株式会社 | 自己接着性シリコーンゲル組成物及びその硬化物 |
WO2020026760A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2020-02-06 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール |
JPWO2020026760A1 (ja) * | 2018-08-03 | 2021-08-19 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール |
US11884820B2 (en) | 2018-08-03 | 2024-01-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicone gel composition and cured product thereof, and power module |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0242836B2 (ja) | 1990-09-26 |
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