JPS61129184A - O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法 - Google Patents

O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法

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JPS61129184A
JPS61129184A JP60257889A JP25788985A JPS61129184A JP S61129184 A JPS61129184 A JP S61129184A JP 60257889 A JP60257889 A JP 60257889A JP 25788985 A JP25788985 A JP 25788985A JP S61129184 A JPS61129184 A JP S61129184A
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般的に、新規な種類の0−シリル化されたケ
テンアセタール類およびエノールエーテル類並びにそれ
らの製造方法に関するものである。特に本発明は、アミ
ノシラン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシ
ラン類からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物
をα、β−不餡和力ルボニル化合物を用いてヒドロシル
化することにより製造される0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類に関するもので
ある。
米国特許番号4,417,034および4,414.3
72中には1種々の0−シリル化されたケテンアセター
ル類が基移動重合(g r o u ptransfe
r  polymerjzati。
n)用の開始剤としての用途を有することが報告されて
いる。0−シリル化されたケチ/アセタール類およびエ
ノールエーテル類は数種の公知の合成方法により製造で
き、それらにはヒドロシル化も含まれている。
ヒドロシル化反応は1947年に発見されており、そし
て多種の大規模な商業的用途における使用も含めて長年
にわたり有機珪素化学における最も良く知られそして最
も広〈実施されている反応の一種となってきている。そ
れはまた数種の広範囲にわたる主題でもあり、それに関
しては例えば下記の文献を参照のこと: [第■族元素
類の有機Element s)J 、コンサルタンツ争
ビューロー、ニューヨーク、1966;  r第■族元
素類の有機金属化合物類(Organometal l
ic  Compounds  of  the  G
roup  IV  Elements)J、デツカ−
(D e k k e r) 、−=ユE−り、196
8.I巻; 「付加反応による炭素官能性有機シラン類
のction)J、モスクワ、1971.ロシアンφケ
ミカル・レビュース(Russ、  Chem、Rev
、)、46.264(1977);およびジャーナル・
オブ・オルガノメタルΦケミスト リ − (J、  
  Organometal    Chem)、ライ
ブラリー(Library)5.1977.1.−17
9頁。
ヒドロシル化反応の実施においては、種々の遷移金属類
が有効な触媒であることが知られている。米国特許番号
2,823,218は、可溶性形の白金であるクロロ白
金酸を特に有効なヒドロシル化触媒として教示している
アミノシラン類によるヒドロシル化を含む先行技術は、
大部分1968−1970年の間に発行された一連の論
文中に集中している。ソ連の研究者達は、例えばHN 
(S iMe2 H)2の如きジシラザン類および例え
ば(HNMe2 H)4の如きシクロシラザン類はゆっ
くりしたヒドロシル化を受けると報告している:イズベ
スチア・アカデミイ會ナウク@SSR・セリア働キミチ
ェスカヤ(Izv、Akad、Nauk  5SSR,
Ser、Khim、)、1968.351−6頁;およ
び1969.1539−45頁;ズルナル拳オブシュチ
ェイΦキミイ(Zhur。0bshch、Khim)、
38.655、(1968)、および土旦、l 082
、 (1970)、これらの報告はダウ・コーニングの
研究者により確認されており、彼等は七ノー、ビス−お
よびトリス−(ジアルキルアミノ)シラン類がヒドロシ
ル化に対して反応性を示さないことを開示している:ザ
φジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J
 、Org、Chem、)、35.3879(1970
)。
ソ連の論文がヒドロシラザン類とアリールアセチレン類
の反応を開示するまではアミノシラン類に関するヒドロ
シル化能力はほとんどないと思われていたニス−ブシュ
舎アカデミイ・ナウク・グルッ*SSR(Soobsh
ch  Akad。
Nauk  Gruz 、  5SR)、84.381
(1976)およびテジシイ令ドクルーヴセス・コy7
eキミイ(Tezisy  Dokl−Vses、Ko
nf、Khim、)、アツェチレナ(At set +
、1ena)、5t h、1975゜172゜ 同様に、トリエチルシランが触媒としてPhC1(PP
H3)3を使用するメタクリレート類による1、4−ヒ
ドロシル化を受けるということも文献中で報告されてい
る:ケミカル・アンド番ファーマシューティカルφプリ
テン(Chem、Pharm、Bu l 1 、)、 
 日本、22(1974)、2767およびジャーナル
・オブφオルガノメタリック・ケミストリー(J、Qr
ganomet 、Chem)、1よ1(197B)、
43゜しかしながら、これらの教示に従うとアクリレー
ト類を反応で使用するときには1,4−および1,2−
ヒドロシル化生成物類の混合物が生じる。
この技術的背景にもかかわらず、主として1゜4−ヒド
ロシル生成物を生成するためのO−シリル化されたケテ
ンアセタール類およびエノールエーテル類の一段階製法
に関する要望が存在している。この要望は、そのような
物質類が基移動重合に、おける開始剤としての用途が見
出された発見により相当増大してきている0本発明の主
な目的は、1,4−ヒドロシル化生成物を生じるための
0−シリル化されたケテンアセタール類およびエノール
エーテル類への工程を提供するものである。本発明の他
の目的は、基移動重合における開始剤として使用できる
新種の0−シリル化されたケテンアセタール類およびエ
ノールエーテル類を製造することである0本発明の他の
目的はここに含まれている開示から明白になるであろう
本発明は、O−シリル化されたケテンアセタール類およ
びエノールエーテル類、並びに主として1.4−ヒドロ
シル化生成物を生じる該O−シリル化されたケテンアセ
タール類およびエノールエーテル類の一段階製造方法を
提供するものである。新規な0−シリル化されたケテン
アセタール類およびエノールエーテル類は、アミノシラ
ン類、シロキサン類およびアルキルアルコキシシラン類
からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物をロジ
ウム触媒の存在下でα、β−不飽和カルポニル化合物を
用いて1,4−ヒドロシル化することにより製造される
ものである。
本発明に従うと、O−シリル化されたケテンアセタール
類およびエノールエーテル類の新規な製造方法が提供さ
れる。該方法は、アミノシラン類、シロキサン類および
アルキルアルコキシシラン類からなる群から選択された
ヒドロシル化用組成物をα、β−不飽和不飽和ニルボニ
ル化合物て1.4−ヒドロシル化することからなってい
る。
ヒドロシル化で使用できるアミノシラン類は、一般式: %式%() [式中、 R,R1およびR2は個々に炭素数が1〜8のアルキル
またはアリール基であり、Rは水素であることもでき、
そしてここでXは1.2または3の値を有する] により表わされるものが包含される。これらのアミノシ
ラン類は市販されているかまたは例えばイーポーン(E
aborn)の「有機珪素化合物類(Organosi
licon  Compounds)J、アカデミツク
場プレス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、16
90.339頁中に記されている如き種々の公知の技術
のいずれかにより製造できる。
適当なアミノシラン類には下記のものが包含されるがそ
れらの限定されるものではないニジメチルアミノジメチ
ルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、トリ
ス(ジメチルアミノ)シラン、ジメチルアミノメチルエ
チルシラン、ジエチルアミノメチルプロピルシラン、メ
チル7ミノメチルエチルシラン、エチルアミノメチルエ
チルシラン、フェニルアミノメチルエチルシラン、ジフ
ェニルアミノメチルフェニルシラン、ジベンジルアミノ
エチルフェニルシラン、ジフェニルアミノジメチルシラ
ン、ビス(ジエチルアミノ)エチルシラン、ビス(メチ
ルアミノ)エチルシラン、ビス(ベンジルアミノ)メチ
ルシラン、トリス(ジエチルアミノ)シラン、トリス(
ピペリジノ)シラン、トリス(シクロヘキシルアミノ)
シラン。好適なアミノシランは、R,R1およびR2が
メチル、エチルまたはフェニルでありそしてXが3の値
を有するものである。好適には、該シランはトリス(ジ
メチルアミノ)シランである。
ヒドロシル化で使用できるシロキサン類には、一般式: %式% [式中、 R3,R4、RsおよびR6は個々に炭素数が1〜Bの
アルキル基であり:そしてaは0または1の値であり、
bはOまたは1の値であり、yは1〜500の値を有し
、2は0〜499の値を有し、モしてy+Zの合計は1
〜500であり、但し条件として2がOであるならa+
bは少なくとも1でなければならない] により表わされるものが包含される。シロキサン類は市
販されているかまたは例えばイーポーン(Eaborn
)c7)r有機珪素化合物類(Organosilfc
on  Compounds)J、アカデミツク−プレ
ス・インコーホレーテッド、ニューヨーク、1690.
339頁中に記されている如き種々の公知の技術のいず
れかにより製造できる。
適当なシロキサン類にはビス(トリメチルシリルオキシ
)メチルシラン、1,1,3.3−テトラメチルジシロ
キサンおよびヘプタメチルシクロテトラシロキサンが包
含されるが、それらに限定されるものではない、多くの
他のシロキサン類は全ての型のシロキサン類の混合物類
である。好適なシロキサンは、R3,R4,R5、R6
が全てメチル基であるものである。
ヒドロシル化において使用できるアルキルアルコキシシ
ラン類には、下記の一般式: [式中、 R7およびRIOはシラン全体中で同一であるかまたは
異なっており、そして個々に炭素数が1〜8のアルキル
基であり、そしてVは−Oまたは1または2である] により表わされるものが包含される。アルキルアルコキ
シシラン類は市販されているかまたは例えば米国特許4
.395.564中に記されている如き種々の公知の技
術のいずれかにより製造できる。アルキルアルコキシシ
ラン類が第二級または第三級アルコール類から製造され
モしてVが0であることが好適である。
適当なアルキルアルコキシシラン類には下記のものが包
含されるが、それらに限定されるものではないニトリイ
ソプロポキシシラン、トリセカンダリー−ブトキシシラ
ン、トリターシャリー−ブトキシシラン、トリエトキシ
シラン、トリメトキシシラン、メチルジェトキシシラン
、ジメチルエトキシシラン、メチルジイソプロポキシシ
ラン、ジメチルターシャリーーブトキシシラン、メチル
ジセカンダリーーブトキシシラン、およびジメチルメト
キシシラン。
ヒドロシル化を実施する際に使用されるα、β−、β−
単量体類は一般式: [式中、 R11は水素または炭素数が1〜8のアルキルもしくは
アリール基であることができ、モしてZは水素、炭素数
が1〜15の、好適には1〜8の、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基からなる群
から選択される] により表わされる0例えばアクリレート類またはメタク
リレート類の如きα、β−不飽和不飽和ニルボニル化合
物されているかまたは種々の公知の技術により製造でき
る。
本発明の実施において使用するのに適しているα、β−
不飽和不飽和ニルボニル類に公知に化合物類であり、そ
してそれらには下記のものが包含されるがそれらに限定
されるものではない:メチルメタクリレート、ブチルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、エチルアクリ
レート、ブチルアクリレート、2−エチルへキシルメタ
クリレート、2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレ
ート、2−(ジメチルアミノ)エチルアクリレート、3
.3−ジメトキシプロピルアクリレート、3−メタクリ
ルオキシプロピルアクリレート、2−アセトキシエチル
メタクリレート、P−)リルメタクリレート、2,2,
3,3,4,4.4−ヘプタフルオロブチルアクリレー
ト、エチル2−シアノアクリレート、N、N−ジメチル
アクリルアミド、エチル2−シアノアクリレート、4−
フルオロフェニルアクリレート、2−メチルアクリルオ
キシエチルアクリレートおよびリルニート、プロピルビ
ニルケトン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン、エチルビニルケトン、アクロレイン、メタクロレイ
ン、エチル2−クロロアクリレート、グリシジルメタク
リレート、3−メトキシプロピルメタクリレート、2−
 [(1−プロペニル)オキシ]エチルメタクリレート
およびアクリレート、フェニルアクリレート、2−(ト
リメチルシロキシ)エチルメタクリレート、並びにアリ
ルアクリレートおよびメタクリレート、好適な単量体類
には、メチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−(
トリメチルシロキシ)エチルメタクリレート、2−メタ
クリルオキシエチルアクリレート、2−7セトキシエチ
ルメタクリレート、および2−(ジメチルアミノ)エチ
ルメタクリレートが包含される。メチルメタクリレート
が最も好適である。
主として(50%以上そして普通は75%以上の)1,
4−ヒドロシル化生成物を得るためには、ヒドロシル反
応をロジウム触媒の存在下で実施する。ロジウム触媒は
そのままで、または例えばカーボンブラックもしくはア
ルミナの如き担体上で、またはロジウムの可溶性化合物
として、すなわち三塩化ロジウム、2,4−ペンタンジ
オン酸ロジウム(m)およびロジウムとホスフィン類と
の錯体、例えばトリス(トリフェニルホスフィン)ロジ
ウムクロライドおよびトリス(トリフェニルホスフィン
)ロジウムカルボニルハイドライド、として溶液中で使
用できる。ロジウム触媒はジョンソン・マテイから市販
されている。触媒の濃度は一般にヒドロシル化用組成物
に関して0゜000010−0.05モル%の間であり
、相当高いこの型の触媒価格のために要求する反応を得
るのに必要なものより多い触媒を使用しないことが好ま
しい、しかしながら、多くのα、β−不飽和力ルボニル
化合物類中に一般的な不純物の理由のだめに比較的高い
濃度が必要となることもある。
ヒドロシル化は40℃以上の温度で実施すべきであり、
70℃〜150℃の間が最適である。温度上限は厳密で
はないが、反応は出発物質類または生成物類の分解点よ
り低くすべきである。ヒドロシル化反応は溶媒を用いて
または用いずに実施できる。多くの場合溶媒の使用は有
利ではない。
しかしながら、例えば溶解度または温度調節の如き理由
のために溶媒が望ましい場合には溶媒を使用できる。適
当な溶媒類は炭化水素類、例えばオクタン、キシレンま
たはトリイソプロピルベンゼンである。
反応物類の添加順序は重要ではないが、一般的にはロジ
ウム触媒をヒドロシル化用組成物に加え、次に熱を適用
し、その後α、β−不飽和不飽和ニルボニル化合物する
。ヒドロモル化用組成物対α、β−不飽和力ルボニル化
合物に関しては1対1の化学量論的比が好適であるが、
この比を変えても反応に悪影響を与えない、しかしなが
ら、そのような変更は反応収率に影響を与えるであるう
1.4−ヒドロシル化により生成する0−シリル化され
たケテンアセタールまたはエノールエーテルは下記の一
般式により表わされる:A、ヒドロシル化用化成組成物
ミノシランである時: B、ヒドロシル化用組成物がシロキサンであるC,ヒド
ロシル用組成物がアルキルアルコキシシ0−シリル化さ
れたケテンアセタール類およびエノールエーテル類は基
移動重合用の開始剤としての用途が見出されている。基
−移動重合は、α、β−不不飽和シルボニル化合物類す
なわちエステル類、ケトン類、カルボキサミド類および
ニトリル類、から逐次共役(ミシェル型)付加工程によ
り重合体を調節製造するための方法である。この技術は
開始剤としてシリルケテンアセタール類を使用しモして
α、β−不飽和力ルボニル化合物類に対するこれらのシ
リル試薬類の共役ミシェル付加に関する公知の化学理論
に基すいている。この反応は近年有機合成において非常
に多く使用されてきている。デュポンの化学者が行なっ
た革新は、重合体を製造するためのα、β−不飽和カル
ボニル化合物類、すなわちエステル類、ケトン類、カル
ボキサミド類およびニトリル類、に対する直後のシリル
ケテンアセタール類の逐次共役付加を促進する触媒の発
見である。
該工程は基−移動重合と称されており、その理由はそれ
が開始剤および各中間生成物であるケテンアセタールか
ら重合体鎖に加えられる次の単量体分子の不飽和へテロ
原子(例えばエステルのカルボニル酸素)へのシリル基
の移動により進行するからである。従って、全ての中間
生成物分子の鎖端部は反応性であり、すなわち重合体類
は「活性」であり、そして全てのα、β−不飽和不飽和
ニルボニルされるかまたは重合体分子からのシリル基を
分解させる試薬(例えば非プロトン性溶媒)の添加によ
り重合を停止させるまで反応を続ける。
基−移動重合はアクリル系重合体類の分子量を調節する
のに有用であり、その結果アクリル系自動車仕上げおよ
び関連製品類の製造における用途が見出されている。
本発明の正確な範囲は前記の特許請求の範囲中に示され
ているが、下記の特定実施例は本発明の詳細な説明する
ものでありそして特にそれの評価方法を指摘するもので
ある。しかしながら、実施例は単に説明用に示されてお
り本発明を前記の特許請求の範囲中に示されていること
以外に限定しようとするものではない、全ての部数およ
び百分率は特に断わらない限り重量によるものである。
実施例1 100mlの五首フラスコには撹拌棒、温度計、10 
m l添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに15.7g(0,07
モル)のビス(トリメチルシリルオキシ)メチルシラン
、22.5gのキシレン、1.0gのフェノチアジンお
よび200ppm (23,64mg)のRhC1(P
Ph3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で
7.1g(0,07モル)のメチルメタクリレートを反
応物に1−2時間にわたって滴々添加した0反応物を次
に室温に冷却しそしてガスクロマトグラフ仁ガスクロマ
トグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析によ
り構造が1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(
トリメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンであ
ることが確認された。生成物を58℃/、40mmHg
で蒸留した。
実施例2 メチルメタクリレートの代わりにメチルアクリレートを
使用したこと以外は実施例1に記されている如くして反
応を実施した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の主要
生成物が生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ
/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1−メ
チル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリルオキ
シ)メチルシロキシエチレンであることが確認された。
実施例3 使用した出発シロキサンがビス(トリメチルシリルオキ
シ)メチルシランの代わりにヘプタメチルシクロテトラ
シロキサンであったこと以外は実施例1に記されている
如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィによると、単一生成物が約80%
の収率で生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴によりこの生成物が1.1−ジ°
メチルー2−メトキシ−2−ヘプタメチルシクロテトラ
シロキシエチレンであることが確認された。
実施例4 100m1の三首フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに15、Og(o、ttzモ
ル)の1.1,3.3−テトラメチルジシロキサン、3
7.4gc7)−t−シレン、1.5gのフェノチアジ
ンおよび200pp−m (22、2mg)のRhCl
 (PPh3)3を充填した。溶液を加熱還流し、この
時点で22゜4g(0,224モル)のメチルメタクリ
レートを反応物に2−3時間にわたって滴々添加した。
反応物を次に室温に冷却しそしてガスクロマトグラフィ
分析は一種の主要生成物が90%以上の収率で生成した
ことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴分析により構造が1.3−ビス(1、
1−ジメチル−2−メトキシ−2−エトキシ)−1,1
,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが確認
された。
実施例5 250 m lの三首フラスコには撹拌棒、温度計、5
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに30.9g(0,15
モル)のトリイソプロポキシシラン、45.9gのキシ
レン、1.82gのフェノチアジンおよび200ppm
(45,78mg)のRhCI (PPh3 ) 3を
充填した。溶液を加熱還流し、この時点で15.Og(
1,5モル)のメチルメタクリレートを反応混合物に1
−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに5時
間加熱した0反応物を次に室温に冷却し、そしてガスク
ロマトグラフィは一種の主要生成物が80%以上の収率
で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリイソプロポキシシロ
キシエチレンであることが確認された。生成物を110
℃/10mmHgで蒸留した。
X急賀j 出発シランとしてトリイソプロポキシシランの代わりに
トリターシャリー−ブトキシシランを使用したこと以外
は実施例5に記されている如くして反応を実施した。ガ
スクロマトグラフィ分析は一種の生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブト
キシシロキシエチレンであることが確認された。
実施例7 出発シランとしてトリエトキシシランを使用したこと以
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約1対l
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−1−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリエトキシシリ
ルプロパノエートであることが確認された。
実施例8 出発シランとしてトリメトキシシランを使用したこと以
外は実施例5に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約1対1
の比で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴により構造が1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンおよびメチル2−メチル−3−トリメトキシシリ
ルプロパノエートであるこ7とが確認された。
実施例9 100 m lの三首フラスコには撹拌棒、温度計、1
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに7.0g (0,02
8モル)のトリターシャリー−ブトキシシラン、9.5
gのキシレン、0.40gのフェノチアジンおよび20
0pPm(10゜37mg)のRhCl (PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g
(0,028モル)のメチルアクリレートを反応混合物
に1−2時間にわたって滴々添加し、それを次にさらに
5時間加熱した3反応物を次に室温に冷却し、そしてガ
スクロマトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の
収率で生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/
質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1−
メチル−2−メトキシ−2−トリターシャリー−ブトキ
シシロキシエチレンであることが確認された。
裏ム豊ユA 出発シランとしてトリイソプロポキシシランを使用した
こと以外は実施例9に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトルおよび核
磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メトキシ−2−
)リイソプロボキシシロキシエチレンであることが確認
された。
丈直鑓11 出発シランとしてトリメトキシシランヲ使用したこと以
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の主要生成物類が生成
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリエトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリエトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
Xム烈エヱ 出発シランとしてトリメトキシシランを使用したこと以
外は実施例9に記されている如くして反応を実施した。
ガスクロマトグラフィ分析は二種の主要生成物類が生成
したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルおよび核磁気共鳴により構造が1−メチル−2−メ
トキシ−2−トリメトキシシロキシエチレンおよびメチ
ル3−トリメトキシシリルプロパノエートであることが
確認された。
虫艶鍔A 出発シランとしてトリターシャリー−ブトキシシランを
使用しそしてH2PtCl6  (200ppm)を触
媒として使用したこと以外は実施例9に記されている如
くして反応を実施した0反応混合物を150℃に8時間
加熱した後に、ガスクロマトグラフィにより生成物は観
察されなかった。
よ艶鍔互 H2PtCl6  (100ppm)を触媒として使用
したこと以外は実施例13に記されている如くして反応
を実施した0反応混合物を150℃に8時間加熱した後
に、生成物は生じなかった。
実施例13 50mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、10m1
添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが備
えられていた。フラスコに4.7g(0,029モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、5.0gのキシレ
ン、0.28gの7、/チアジンおよび200ppm(
8,32mg)のRhCI (PPh3)3を充填した
。溶液を加熱還流し、この時点で2.5g(0,029
モル)のメチルアクリレートを反応混合物に1〜2時間
にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃に1
0時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そし
てガスクロマトグラフィ分析は一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
X旌医上1 1000mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、25
0m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサ
ーが備えられていた。フラスコに200g (1,25
モル)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、307gの
キシレン、12.0gのフェノチアジンおよび200p
pm(354mg)のRhCl (PPh3) 3を充
填した。溶液を加熱還流し、この時点で106.8g(
1,24モル)のメチルアクリレートを反E物に2−3
時間にわたって満々添加し、それを次にさらに150℃
に10時間加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、
そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が80
%以上の収率で生成したことを示した。ガスクロマトグ
ラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴分析により構
造が1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチル
アミノ)シロキシエチレンであることが確認された。
lit±11 250mlの三首フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに30g(0,186モル)
のトリス(ジメチルアミノ)シラン、50gのキシレン
、0.02gのMEHQおよび200ppm (44,
4mg)のRhCI (PPh3)3を充填した。溶液
を加熱還流し、この時点で18.6g (0,186モ
ル)のメチルメタクリレートを反応物に1−2時間にわ
たって滴々添加し、それを次にさらに150℃に8時間
加熱した0反応混合物を次に室温に冷却し、そしてガス
クロマトグラフィは単一生成物が70%以上の収率で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴分析により構造が1.1−ジメ
チル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチルアミノ)シ
ロキシエチレンであることが確認された。
X旌史ユj 出発シランとしてメチルジェトキシシランを使用したこ
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。ガスクロマトグラフィ分析は二種の生成物類が約3
対2の比で生成したことを示した。核磁気共鳴およびガ
スクロマトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物
が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジェトキシメ
チルシロキシエチレンでありそして少量生成物がメチル
2−メチル−3−ジェトキシメチリシリルプロパノエー
トであることが確認された。
Xム輿11 メチルメタクリレートの代わりにインブチルメタクリレ
ートを使用したこと以外は実施例5に記されている如く
して反応を実施した。一種の生成物類が生成し、そして
核磁気共鳴およびガスクロマトグラフィ/質量スペクト
ルにより構造が1゜1−ジメチル−2−インブトキシ−
2−トリイソプロポキシシロキシエチレンであることが
確認された。
X五組11 メチルメタクリレートの代わりにインブチルメタクリレ
ートを使用したこと以外は実施例8に記されている如く
して反応を実施した。二層の生成物類が2対1の比で生
成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルおよび核磁気共鳴により主要生成物が1,1−ジ
メチル−2−インブトキシ−2−トリメトキシシロキシ
エチレンであることが決定された。少量生成物はイソブ
チル2−メチル−3−トリメトキシメチリシリルプロパ
ノエートであることが確認された。
X族鍔1旦 メチルメタクリレートの代わりに2−トリメチルシロキ
シエチルメタクリレートを使用したこと以外は実施例1
に記されている如くして反応を実施した。一種の生成物
類が生成した。ガスクロマトグラフィ/質量スペクトル
および核磁気共鳴により構造が1.1−ジメチル−2−
(2”−)リメチルシロキシエトキシ)−2−ビス(ト
リメチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンである
ことが確認された。
実施例20 トリス(ジメチルアミノ)シランの代わりにジメチルア
ミノジメチルシランを使用したこと以外は実施例15に
記されている如くして反応を実施した。一種の生成物類
が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマトグラフ
ィ/質量スペクトルにより構造が1.l−ジメチル−2
−メトキシ−2−ジメチルアミノメチルシロキシエチレ
ンであることが確認された。
実施例21 トリス(ジメチルアミノ)シランの代わりにメチルビス
(ジメチルアミノ)シランを使用したこと以外は実施例
15に記されている如くして反応を実施した。一種の生
成物類が生成し、そして核磁気共鳴およびガスクロマト
グラフィ/質量スペクトルにより構造が1,1−ジメチ
ル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルアミノ)
シロキジエチレンであることが確認された。
X良輿ヱヱ 出発シランとしてジメチルエトキシシランヲ使用したこ
と以外は実施例5に記されている如くして反応を実施し
た。二種の生成物類が3対1の比で生成した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルおよび核磁気共鳴により
主要生成物が1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジ
メチルエトキシシロキシエチレンであることが確認され
た。
丈惠±ヱユ 実施例7中に記されている如くして製造された1、1−
ジメチル−2−メトキシ−2−トリエトキシシロキシエ
チレンの試料を基移動重合用の開始剤として使用した。
実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・フサ41105巻、5706頁中に記されて
いるものと同一であるが、唯一の例外はニーメトキシ−
1−トリメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1.1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリ
エトキシシロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
Xム斑ヱA 実施例1中に記されている如くして製造された1、1−
ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチルシリル
オキシ)メチルシロキシエチレンの試料を基移動重合用
の開始剤として使用した。
実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・ソサイエティ(Journalof  th
e  American  Chemjcal  5o
ciet  )、105巻、5706頁中に記されてい
るものと同一であるが、唯一の例外は1−メトキシ−1
−()リメチルシロキシ)−2−メチル−1−プロペン
の代わりに1゜1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス
(トリメチルシリルオキシ)−メチルシロキシエチレン
を使用したことである。基移動重合が起きた。
実施例25 実施例21中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチル
アミ/)シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始
剤として使用した。実施した工程は、ジャーナルΦオブ
・ザ惨アメリカン・S o c f e t y)、1
05@、5706頁中に記されているものと同一である
が、唯一の例外はl−メトキシ−1−(トリメチルシロ
キシ)−2−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−
ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビス(ジメチルア
ミノ)−シロキシエチレンを使用したことである。基移
動重合が起きた。
実施例26 実施例16中に記されている如くして製造されたり、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−メチ、X/ジェトキシ
シロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として
使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブψザのア
メリカン・ケミカル・ソty)、105巻、5706頁
中ニ記サレテすルものと同一であるが、唯一の例外は1
−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2−メチル−
1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−2−メトキ
シ−2−メチルジェトキシ−シロキシエチレンを使用し
たことである。基移動重合が起きた。
実施例27 実施例20中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルアミンジメチ
ルシロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤とし
て使用した。実施した工程は、ジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミ力c i e t y)、105巻、
5706頁中に記されているものと同一であるが、唯一
の例外は1−メトキシ−1−0リメチルシロキシ)−2
−メチル−1−プロペンの代わりに1.1−ジメチル−
1−メトキシ−2−ジメチルアミノジメチルシロキシエ
チレンを使用したことである。基移動重合が起きた。
衷息鍔ヱA 250m1の三筒フラスコには撹拌棒、温度計、50m
1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサーが
備えられていた。フラスコに48g(0,714モル)
のメチルジェトキシシラン、25gのトリイソプロピル
ベンゼン、0.32gのモノメチルヒドロキノンおよび
300ppm(0,129g)のRhC1(PPh3)
3を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で25g(
0,357モル)のメチルビニルケトンを1−2時間に
わたって添加した0反応は発熱性であり、そしてメチル
ビニルケトンの添加過程中反応温度は160℃に上昇し
た1反応物を次に室温に冷却しそしてガスクロマトグラ
フィは一種の生成物が生成したことを示した。ガスクロ
マトグラフィ/質量スペクトルにより主要生成物が3−
(メチルジェトキシシロキシ)ブチ−2−ンのシスおよ
びトランス異性体類の混合物であることが確認された。
Xム医ヱユ 出発シランとしてジメチルエトキシシランを使用したこ
と以外は実施例28に記されている如くして反応を実施
した。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生
成したことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量
スペクトルにより3−(ジメチルエトキシシロキシ)ブ
チ−2−ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であ
ることが確認された。
裏旌糎且旦 出発シランとしてトリエトキシシランヲ使用したこと以
外は実施例28に記されている如くして反応を実施した
。ガスクロマトグラフィ分析は一種の生成物類が生成し
たことを示し、それはガスクロマトグラフィ/質量スペ
クトルにより3−(トリエトキシシロキシ)ブチ−2−
ンのシスおよびトランス異性体類の混合物であることが
確認された。
実施例31 500mlの三筒フラスコには撹拌棒、温度計、100
m1添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに145g(0,71モル
)のトリス(ジメチルアミノ)シラン、115gのキシ
レン、0.33gのモノメチルヒドロキノンおよび30
0ppm(0、31g)のRhCl (PP、h3)3
を充填した。溶液を加熱還流し、この時点で50g(0
,71モル)のメチルビニルケトンを1−2時間にわた
って滴々添加した。初期に発熱しそれは温度を140℃
に上昇させた。添加が完了した後に反応物を室温に冷却
し、そしてガスクロマトグラフィは一種の主要生成物が
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルは主要生成物がシスおよびトランスの3−(ト
リス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ−2−ンの混合
物であることが確認された。
文息燃ユヱ 出発シランとしてメチルビス(ジメトキシアミノ)シラ
ンを使用しそして溶媒としてトリインプロピルベンゼン
を使用したこと以外は実施例31に記されている如くし
て反応を実施した。ガスクロマトグラフィ/質量スペク
トルにより、生成した単一生成物がシスおよびトランス
の3−(メチルビス(ジメチルアミノ)シロキシ)ブチ
−2−ンの混合物であることが確認された。
実施例33 500mlの三筒フラスコには撹拌棒、温度計、LOO
mL添加漏斗および窒素入口管付きの還流コンデンサー
が備えられていた。フラスコに158g(0,714モ
ル)のビス(トリメチルシロキシ)メチルシラン、15
0gのキシレン、0.42gのモノメチルヒドロキノン
および300ppm(0,43g)のRhCI(PPh
3)3を充填した。溶液を80℃に加熱し、この時点で
50g(0,714モル)のメチルビニルケトンを1−
2時間にわたって滴々添加した。
初期に発熱しそれは温度を140℃に上昇させた。添加
が完了した後に反応物を室温に冷却し、そしてガスクロ
マトグラフィは一種の主要生成物が90%以上の収率で
生成したことを示した。ガスクロマトグラフィ/質量ス
ペクトルはこの生成物がシスおよびトランスの3−(ビ
ス(トリメチルシロキシ)メチルシロキシ)ブチ−2−
ンの混合物であることが確認された。
X惠桝ユA 実施例22中に記されている如くして製造された1、1
−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチルエトキシ−シ
ロキシエチレンの試料を基移動重合用の開始剤として使
用した。実施した工程は、ジャーナルeオプーザーアメ
リカンΦケミカル・ソサイエテイ (Journal 
 of  thel土ヱ)、105巻、5706頁中に
記されているものと同一であるが、唯一の例外は1−メ
トキシ−1−(トリメチルシロキシ)−2−メチル−1
−プロペンの代わりに1,1ジメチル−2−メトキシ−
2−ジメチルエトキシシロキシエチレンを使用したこと
である。基移動重合が起きた。
特許出願人 ユニオンφカーバイド会コーポレーション

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、本質的に (a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−アミノシリル化されたケテンアセタール類および
    エノールエーテル類、 (b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−シロキサンシリル化されたケテンアセタール類お
    よびエノールエーテル類、 (c)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のO−アルコキシシリル化されたケテンアセタール類お
    よびエノールエーテル類 [式中、 R、R^1およびR^2は個々に炭素数が1〜8のアル
    キルまたはアリール基でありそしてRは水素であること
    もでき;R^3、R^4、R^5、R^6、R^7およ
    びR^1^0は個々に炭素数が1〜8のアルキル基であ
    り;R^8は水素または炭素数が1〜8のアルキルもし
    くはアリール基であり;Zは水素、炭素数が1〜15の
    アルキル基、アリール基、アルコキシ基およびアリール
    オキシ基からなる群から選択され、そしてaは0または
    1の値であり、bは0または1の値であり、yは1〜5
    00の値を有し、zは0〜499の値を有し、そしてy
    +zの合計は1〜500であり、但し条件としてzが0
    であるならa+bは少なくとも1でなければならず、x
    は1、2または3の値を有し、そしてvは0、1または
    2を有する]からなる、O−シリル化されたケテンアセ
    タール類およびエノールエーテル類の群から選択された
    O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
    ーテル。 2、R、R^1およびR^2がメチル、エチルまたはフ
    ェニル基でありそしてxが3の値を有する、特許請求の
    範囲第1項記載のO−シリル化されたケテンアセタール
    およびエノールエーテル。 3、R、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R
    ^6、R^7およびR^1^0がメチル基である、特許
    請求の範囲第1項記載のO−シリル化されたケテンアセ
    タールおよびエノールエーテル。 4、vが0である、特許請求の範囲第1項記載のO−シ
    リル化されたケテンアセタールおよびエノールエーテル
    。 5、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ビス(トリ
    メチルシリルオキシ)メチルシロキシエチレンである特
    許請求の範囲第1項記載の化合物。 6、1−メチル−2−メトキシ−2−ビス(トリメチル
    シリルオキシ)メチルシロキシエチレンである特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。 7、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ヘプタメチ
    ルシクロテトラシロキシエチレンである特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。 8、1,3−ビス(1,1−ジメチル−2−メトキシ−
    2−エテノキシ)−1,1,3,3−テトラメチルジシ
    ロキサンである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 9、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリイソプ
    ロポキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 10、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリター
    シャリーブトキシシロキシエチレンである特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 11、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリエト
    キシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項記載
    の化合物。 12、1−メチル−2−メトキシ−2−トリターシャリ
    ーブトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1
    項記載の化合物。 13、1−メチル−2−メトキシ−2−トリイソプロポ
    キシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項記載
    の化合物。 14、1−メチル−2−メトキシ−2−トリス(ジメチ
    ルアミノ)シロキシエチレンである特許請求の範囲第1
    項記載の化合物。 15、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−トリス(
    ジメチルアミノ)シロキシエチレンである特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 16、本質的に (a)式 H−Si(NRR^1)_x(R^2)_3_−_xの
    アミノシラン類、 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のシロキサン類、および (c)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のアルコキシシラン類 からなる群から選択されたヒドロシル化用組成物を、ロ
    ジウム触媒の存在下で、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のα,β−不飽和カルボニル化合物を用いて1,4−ヒ
    ドロシル化することからなる、O−シリル化されたケテ
    ンアセタール類およびエノールエーテル類の製造方法。 17、触媒濃度がヒドロシル化用組成物を基にして0.
    00001〜0.05モル%である、特許請求の範囲第
    16項記載の方法。 18、ヒドロシル化が40℃より高い温度において起き
    る、特許請求の範囲第16項記載の方法。 19、温度が70〜150℃である、特許請求の範囲第
    18項記載の方法。 20、溶媒を使用する、特許請求の範囲第16項記載の
    方法。 21、基移動開始剤として特許請求の範囲第1項記載の
    O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
    ーテルを使用する基移動重合反応。 22、基移動開始剤として特許請求の範囲第2項記載の
    O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
    ーテルを使用する基移動重合反応。 23、基移動開始剤として特許請求の範囲第3項記載の
    O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
    ーテルを使用する基移動重合反応。 24、基移動開始剤として特許請求の範囲第4項記載の
    O−シリル化されたケテンアセタールまたはエノールエ
    ーテルを使用する基移動重合反応。 25、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルジ
    エトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。 26、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチル
    アミノジメチルシロキシエチレンである特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。 27、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−メチルビ
    ス(ジメチルアミノ)シロキシエチレンである特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。 28、1,1−ジメチル−2−メトキシ−2−ジメチル
    エトキシシロキシエチレンである特許請求の範囲第1項
    記載の化合物。
JP60257889A 1984-11-20 1985-11-19 O‐シリル化されたケテンアセタール類およびエノールエーテル類並びに製造方法 Granted JPS61129184A (ja)

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JP2016060723A (ja) * 2014-09-19 2016-04-25 信越化学工業株式会社 有機ケイ素化合物
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