JPS61124187A - 半導体レ−ザ発振波長制御装置 - Google Patents
半導体レ−ザ発振波長制御装置Info
- Publication number
- JPS61124187A JPS61124187A JP24576484A JP24576484A JPS61124187A JP S61124187 A JPS61124187 A JP S61124187A JP 24576484 A JP24576484 A JP 24576484A JP 24576484 A JP24576484 A JP 24576484A JP S61124187 A JPS61124187 A JP S61124187A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- hologram
- feedback
- semiconductor laser
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
- H01S5/141—External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は半導体レーザ装置に係わり、特にその発振波長
制御装置に関する。
制御装置に関する。
（２）技術の背景
半導体レーザはガスレーザなどに比べて低出力である半
面、小型、安価なものを製作することが可能であり、か
つ直接変調が可能であることなどから光フアイバ通信、
ＤＡＤ、ＶＤ （ビデオディスク）、光走査装置、及び
光計測装置などに広く使用され、注目されている。
面、小型、安価なものを製作することが可能であり、か
つ直接変調が可能であることなどから光フアイバ通信、
ＤＡＤ、ＶＤ （ビデオディスク）、光走査装置、及び
光計測装置などに広く使用され、注目されている。
（３）従来技術と問題点
従来の半導体レーザ（以下、ＬＤと略す）は。
流れる電流や温度などによって、その発振波長がずれて
しまうモードホッピングと呼ばれる現象が起こるという
問題点があった。
しまうモードホッピングと呼ばれる現象が起こるという
問題点があった。
そのような問題点を除くための第１の従来例を第２図に
示す。この方式はＬＤＩからのモニタ光２をレンズ３に
よって平行光にし、それを反射型回折格子（以下、単に
回折格子と呼ぶ）４に入射させるようにしたものである
。この状態で回折格子４のピッチと向きを調整すること
によって２回折格子４に入射したモニタ光は特定波長λ
０の回折光のみがそのまま平行光として入射光の逆方向
に反射し、ＬＤＩに帰還する。これにより、レンズ５を
介したＬＤＩからのシステム光６の発振波長をλ０で安
定させることができる。しかしこの方式では、ＬＤＩか
らのモニタ光２を必要とするが９通常のＬＤにおいては
モニタ光をＬＤの外部に導くことが困難であり、上記従
来例を直接通用することができない。
示す。この方式はＬＤＩからのモニタ光２をレンズ３に
よって平行光にし、それを反射型回折格子（以下、単に
回折格子と呼ぶ）４に入射させるようにしたものである
。この状態で回折格子４のピッチと向きを調整すること
によって２回折格子４に入射したモニタ光は特定波長λ
０の回折光のみがそのまま平行光として入射光の逆方向
に反射し、ＬＤＩに帰還する。これにより、レンズ５を
介したＬＤＩからのシステム光６の発振波長をλ０で安
定させることができる。しかしこの方式では、ＬＤＩか
らのモニタ光２を必要とするが９通常のＬＤにおいては
モニタ光をＬＤの外部に導くことが困難であり、上記従
来例を直接通用することができない。
また、第３図は他の従来例（特開昭５８−６０５９０
）を示したものである。この方式は第２図のようなモニ
タ光を使用せずに、レンズ８を介したＬＤ７からの出力
光９をホログラム１０に入射させている。そしてホログ
ラム１０からの１次透過光１１を収束性があるようにホ
ログラム１０を調整し。
）を示したものである。この方式は第２図のようなモニ
タ光を使用せずに、レンズ８を介したＬＤ７からの出力
光９をホログラム１０に入射させている。そしてホログ
ラム１０からの１次透過光１１を収束性があるようにホ
ログラム１０を調整し。
それをピンホール１２を介してミラー１３に入射させて
いる。この時、ピンホール１２を特定波長λ０の回折光
のみが透過するように設定することによって、ミラー１
３で反射した特定波長λ０の回折光は再びホログラム１
０を介してＬＤ７に帰還する。そして、ホログラム１０
からのＯ？！Ｒ，透過光をシステム光１４として用いる
ことによって。
いる。この時、ピンホール１２を特定波長λ０の回折光
のみが透過するように設定することによって、ミラー１
３で反射した特定波長λ０の回折光は再びホログラム１
０を介してＬＤ７に帰還する。そして、ホログラム１０
からのＯ？！Ｒ，透過光をシステム光１４として用いる
ことによって。
その波長をλ０で安定させている。しかしこの方式を光
走査装置などに、適用した場合、ホログラム１０の０次
透過光であるシステム光１４をさらに走査用のホログラ
ムスキャナなどに入射することになる。従って、システ
ム光１０はホログラム１４を透過したものを用いるため
２次段の走査用のホログラムスキャナに入射する際にシ
ステム光１４の波面は乱れている可能性があり、またホ
ログラム１０を透過したことによる光量の損失も大きい
という問題点があった。さらに、波長λ０を決定するた
めのピンホール１１の設定も鉗しいという問題点があっ
た。
走査装置などに、適用した場合、ホログラム１０の０次
透過光であるシステム光１４をさらに走査用のホログラ
ムスキャナなどに入射することになる。従って、システ
ム光１０はホログラム１４を透過したものを用いるため
２次段の走査用のホログラムスキャナに入射する際にシ
ステム光１４の波面は乱れている可能性があり、またホ
ログラム１０を透過したことによる光量の損失も大きい
という問題点があった。さらに、波長λ０を決定するた
めのピンホール１１の設定も鉗しいという問題点があっ
た。
（４）発明の目的
本発明は上記問題点を除くために、ホログラムからの０
次透過光をＬＤへの帰還に用い、１次透過光を直接走査
光などとして用いることにより。
次透過光をＬＤへの帰還に用い、１次透過光を直接走査
光などとして用いることにより。
安定した波し、波面、光量の出力を供給することのでき
る半導体レーザ発振波長制御装置を提供することを目的
とする。
る半導体レーザ発振波長制御装置を提供することを目的
とする。
（５）発明の構成
本発明は上記目的を達成するために、半導体レーザを光
源とする光学装置において、該光源からの出射光の光路
中にホログラムと、該ホログラムからの０次透過光の光
路中に特定波長の光のみを前記半導体レーザに帰還させ
る帰還手段を有することを特徴とする半導体レーザ発振
波長制御装置を提供する。
源とする光学装置において、該光源からの出射光の光路
中にホログラムと、該ホログラムからの０次透過光の光
路中に特定波長の光のみを前記半導体レーザに帰還させ
る帰還手段を有することを特徴とする半導体レーザ発振
波長制御装置を提供する。
（６）発明の実施例
、以下１本発明の実施例について詳細に説明を行う。
第１図は本発明による半導体レーザ発振制御装置の基本
的な構成図ある。半導体レーザ（以下。
的な構成図ある。半導体レーザ（以下。
ＬＤと略す）１５からの出力光はレンズ１６を介して平
行出力光１７に変換され、ホログラム１８に入射する。
行出力光１７に変換され、ホログラム１８に入射する。
ホログラム１８からの０次透過光１９は反射型回折格子
（以下、単に回折格子と呼ぶ）２０に入射する。回折格
子２０からの反射回折光２３はホログラム１８及びレン
ズ１６と介してＬＤＩ５に帰還する。またホログラム１
８からの１次透過光２４は直接回折光として用いられる
。
（以下、単に回折格子と呼ぶ）２０に入射する。回折格
子２０からの反射回折光２３はホログラム１８及びレン
ズ１６と介してＬＤＩ５に帰還する。またホログラム１
８からの１次透過光２４は直接回折光として用いられる
。
上記のような構成の半導体レーザ発振制御装置において
１回折格子２０のピッチをｄ、０次透過光１９の光軸２
２と回折格子２０の法線２３との交角をθ、固定したい
波長をλ０とすると、設定角θは θ−５ｉｎ−’ （λｏ／２ｄ）・・・・（Ａ）という
ように決定できる。これによって、１次透過光２４の波
長はλ０に固定することができる。
１回折格子２０のピッチをｄ、０次透過光１９の光軸２
２と回折格子２０の法線２３との交角をθ、固定したい
波長をλ０とすると、設定角θは θ−５ｉｎ−’ （λｏ／２ｄ）・・・・（Ａ）という
ように決定できる。これによって、１次透過光２４の波
長はλ０に固定することができる。
そしてこの１次透過光２４はたとえば直接走査用の回折
光として用いられる。すなわち、第３図の従来例が１次
透過光を帰還に用い、０次透過光をシステム光としてさ
らにその後段に走査用のホログラムスキャナを配置した
のに対し、第１図の実施例においては第３図の場合と全
く逆で０次透過光を帰還用に用いている。そして１次透
過光は本来走査用の回折光として用いられるので、ホロ
グラム１８を走査用のホログラムスキャナと兼用にすれ
ば、１次透過光２４は直接走査用の回折光となり、第３
図の従来例のように帰還用のホログラム１０を配置した
ことによるシステム光１４の波面の乱れや光量の損失な
どの影響を除くことかできる。このように本発明によれ
ば、０次透過光を帰還用に用いたことにより帰還用のホ
ログラムと走査用のホログラムスキャナを共通にするこ
とができ、波面の乱れや光量の損失を抑制することがで
きる。また帰還用に回折格子２０を用いているが、前記
（Ａ）式に基づく波長λ０設定のためのピッチｄと設定
角θの決定は第３図のピンホール１１の設定に比べて容
易であるという利点がある。
光として用いられる。すなわち、第３図の従来例が１次
透過光を帰還に用い、０次透過光をシステム光としてさ
らにその後段に走査用のホログラムスキャナを配置した
のに対し、第１図の実施例においては第３図の場合と全
く逆で０次透過光を帰還用に用いている。そして１次透
過光は本来走査用の回折光として用いられるので、ホロ
グラム１８を走査用のホログラムスキャナと兼用にすれ
ば、１次透過光２４は直接走査用の回折光となり、第３
図の従来例のように帰還用のホログラム１０を配置した
ことによるシステム光１４の波面の乱れや光量の損失な
どの影響を除くことかできる。このように本発明によれ
ば、０次透過光を帰還用に用いたことにより帰還用のホ
ログラムと走査用のホログラムスキャナを共通にするこ
とができ、波面の乱れや光量の損失を抑制することがで
きる。また帰還用に回折格子２０を用いているが、前記
（Ａ）式に基づく波長λ０設定のためのピッチｄと設定
角θの決定は第３図のピンホール１１の設定に比べて容
易であるという利点がある。
次に第４図は本発明を用いたホログラムスキャナによる
光走査装置の構成図である。ＬＤ光学装置２５からの平
行出力光２６はホログラムスキャナ２７に入射する。ホ
ログラムスキャナ２７からの０次透過光２９は回折格子
２８に入射し、その反射回折光３０はホログラムスキャ
ナ２７を介してＬＤ光学装置２５に帰還する。また、ホ
ログラムスキャナ２７が回転するに従ってその１次透過
光は３２−１．３２−２．３２−３のように走査される
。このような構成の光走査装置は、第１図の本発明によ
る基本的実施例においてホログラム１８を具体的なホロ
グラムスキャナ２７としたものであり、全く同じ効果を
得ることができる。すなわちと、ホログラムスキャナ２
７が回転するに従って、その１次透過光が３２−１．３
２−２゜３２−３のように走査され直接走査用の回折光
として用いられる。この場合９回折格子２８の設定は第
１図の場合と同様に前記（Ａ）式に基づいて行われる。
光走査装置の構成図である。ＬＤ光学装置２５からの平
行出力光２６はホログラムスキャナ２７に入射する。ホ
ログラムスキャナ２７からの０次透過光２９は回折格子
２８に入射し、その反射回折光３０はホログラムスキャ
ナ２７を介してＬＤ光学装置２５に帰還する。また、ホ
ログラムスキャナ２７が回転するに従ってその１次透過
光は３２−１．３２−２．３２−３のように走査される
。このような構成の光走査装置は、第１図の本発明によ
る基本的実施例においてホログラム１８を具体的なホロ
グラムスキャナ２７としたものであり、全く同じ効果を
得ることができる。すなわちと、ホログラムスキャナ２
７が回転するに従って、その１次透過光が３２−１．３
２−２゜３２−３のように走査され直接走査用の回折光
として用いられる。この場合９回折格子２８の設定は第
１図の場合と同様に前記（Ａ）式に基づいて行われる。
また、ここで回折格子２８がらの特定波長λ０の反射回
折光３０は回折格子２８からの１次透過光であり（ホロ
グラムスキャナからの０次透過光とは意味が異なる）、
その他の成分を含む回折格子２８からの０次回折光は第
４図３１に示すように正反射光となってＬＤ光学装置２
５には帰還されないため、ＬＤの不安定要因とはならな
い。なお、光走査装置はレーザプリンタなどの用途があ
る。
折光３０は回折格子２８からの１次透過光であり（ホロ
グラムスキャナからの０次透過光とは意味が異なる）、
その他の成分を含む回折格子２８からの０次回折光は第
４図３１に示すように正反射光となってＬＤ光学装置２
５には帰還されないため、ＬＤの不安定要因とはならな
い。なお、光走査装置はレーザプリンタなどの用途があ
る。
なお上記実施例において反射回折光の光量が弱いときは
波長の固定力が弱くなる。このような場合、特にホログ
ラムスキャナが表面レリーフ型のものであるとき、ホロ
グラムスキャナへの入射偏光特性を変えることによって
０次透過光の光量を強＜シ１反射回析光の光量を強くす
ることができる（第１１図参照）。
波長の固定力が弱くなる。このような場合、特にホログ
ラムスキャナが表面レリーフ型のものであるとき、ホロ
グラムスキャナへの入射偏光特性を変えることによって
０次透過光の光量を強＜シ１反射回析光の光量を強くす
ることができる（第１１図参照）。
第５図は第４図の光走査装置において、ＬＤ光学装置か
らの出力光が平行出力光２６ではなく。
らの出力光が平行出力光２６ではなく。
収束出力光２６′である場合の実施例である。この場合
は、ホログラムスキャナ２７と回折格子２８の間の０次
透過光の光路中に凹レンズ３３を配置している。これに
よっす、ホログラムスキャナ２７からの０次透過光は平
行０次透過光２９′、 に変換される。このとき９回
折格子２８からの反射回折光３０１は平行光として凹レ
ンズ３３に再び入射し、収束出力光２６′の逆の光路を
たどってＬＤに帰還する。なおこの場合、１次透過光３
２は収束光となるようにホログラムスキャナ２７が設定
される。
は、ホログラムスキャナ２７と回折格子２８の間の０次
透過光の光路中に凹レンズ３３を配置している。これに
よっす、ホログラムスキャナ２７からの０次透過光は平
行０次透過光２９′、 に変換される。このとき９回
折格子２８からの反射回折光３０１は平行光として凹レ
ンズ３３に再び入射し、収束出力光２６′の逆の光路を
たどってＬＤに帰還する。なおこの場合、１次透過光３
２は収束光となるようにホログラムスキャナ２７が設定
される。
！！８６図は同様に、ＬＤ光学装置がらの出力光が発散
出力光２６″の場合の実施例である。この場合は、同図
に示すように凸レンズ３４を配置している。これによっ
てホログラムスキャナ２７がらの０次透過光は平行０次
透過光２９″に変換される。そして回折格子２８からの
反射回折光３０″は平行光として凸レンズに再び入射し
２発散出力光２６”の逆の光路をたどってＬＤに帰還す
る。
出力光２６″の場合の実施例である。この場合は、同図
に示すように凸レンズ３４を配置している。これによっ
てホログラムスキャナ２７がらの０次透過光は平行０次
透過光２９″に変換される。そして回折格子２８からの
反射回折光３０″は平行光として凸レンズに再び入射し
２発散出力光２６”の逆の光路をたどってＬＤに帰還す
る。
この場合も、１次透過光３２は収束光となるようにホロ
グラムスキャナ２７が設定される。
グラムスキャナ２７が設定される。
第７図は第５図と同様にＬＤ光学装置からの出力光が収
束出力光２６′である場合において、凹レンズを用いな
い実施例である。このとき１回折格子３７は第９図に示
すように、固定したい波長λ０において発散球面波４０
ではＢ点で焦点を結び、収束球面波４１では０点で焦点
を結び、それらの焦点距離は同−距１ｉ１１１ｆになる
ようにピンチを調整し作成する。そして第７図で示すよ
うに０次透過光３５が０点で焦点を結び、かつ回折格子
３７と０点との距離が上記焦点距離ｆになるように配置
する。これによって波長λ０の反射回折光３６は完全に
収束出力光２６′の逆の光路をたどってＬＤに帰還され
ることができる。
束出力光２６′である場合において、凹レンズを用いな
い実施例である。このとき１回折格子３７は第９図に示
すように、固定したい波長λ０において発散球面波４０
ではＢ点で焦点を結び、収束球面波４１では０点で焦点
を結び、それらの焦点距離は同−距１ｉ１１１ｆになる
ようにピンチを調整し作成する。そして第７図で示すよ
うに０次透過光３５が０点で焦点を結び、かつ回折格子
３７と０点との距離が上記焦点距離ｆになるように配置
する。これによって波長λ０の反射回折光３６は完全に
収束出力光２６′の逆の光路をたどってＬＤに帰還され
ることができる。
第８図は第６図と同様にＬＤ光学装置からの出力光が発
散出力光２６″である場合において、凸レンズを用いな
い実施例である。このとき１回折格子３７は上記第９図
で説明したのと同様のものを用い、それを第８図に示す
ようにＬＤの入射点をＢ点として、Ｂ点と回折格子３７
との距離が前記焦点距離ｆになるように配置する。これ
によって回折格子３７に入射した０次透過光３８は、波
長λ０の反射回折光３９として完全に発散出力光２６”
の逆の光路をたどってＬＤに帰還されることができる。
散出力光２６″である場合において、凸レンズを用いな
い実施例である。このとき１回折格子３７は上記第９図
で説明したのと同様のものを用い、それを第８図に示す
ようにＬＤの入射点をＢ点として、Ｂ点と回折格子３７
との距離が前記焦点距離ｆになるように配置する。これ
によって回折格子３７に入射した０次透過光３８は、波
長λ０の反射回折光３９として完全に発散出力光２６”
の逆の光路をたどってＬＤに帰還されることができる。
最後に第１０図は第４図における光走査装置のホログラ
ムスキャナを表面レリーフ型ホログラムスキャナ４３と
した場合の実施例である。また表面レリーフ型ホログラ
ムスキャナ４３においては。
ムスキャナを表面レリーフ型ホログラムスキャナ４３と
した場合の実施例である。また表面レリーフ型ホログラ
ムスキャナ４３においては。
第１１図に示すように入射光の偏光特性によって１次透
過光５２および０次透過光５３の回折効率ηが変化する
。そしてホログラムスキャナにおいては走査光である１
次透過光５１ （第１０図）の回折効率ηが高いのが望
ましい。このため９表面レリーフ型ホログラムスキャナ
４３に入射するＬＤの出力光４２はホログラムのグレー
ティング方向と同一のＳ偏光特性にする。この時、０次
透過光４４は４分の１波長板４５を通過することによっ
て円偏光０次透過光４６となり２回折格子４７に入射す
る。そしてその反射回折光４８は再び４分の１波長板４
５を通過することによってＰ偏光反射回折光４９となっ
て表面レリーフ型ホログラムスキャナ４３に再び入力す
る。ここで第１１図よりホログラムスキャナへの入射光
がＰ偏光の時はその０次透過光の回折効率は最大となる
ので、上記Ｐ偏光反射回折光４９は表面レリーフ型ホロ
グラムスキャナをほとんど通過し、その帰還光５０はほ
ぼＬＤに帰還され、従って１次透過光５１のより強い発
振波長の制御を行うことができる。
過光５２および０次透過光５３の回折効率ηが変化する
。そしてホログラムスキャナにおいては走査光である１
次透過光５１ （第１０図）の回折効率ηが高いのが望
ましい。このため９表面レリーフ型ホログラムスキャナ
４３に入射するＬＤの出力光４２はホログラムのグレー
ティング方向と同一のＳ偏光特性にする。この時、０次
透過光４４は４分の１波長板４５を通過することによっ
て円偏光０次透過光４６となり２回折格子４７に入射す
る。そしてその反射回折光４８は再び４分の１波長板４
５を通過することによってＰ偏光反射回折光４９となっ
て表面レリーフ型ホログラムスキャナ４３に再び入力す
る。ここで第１１図よりホログラムスキャナへの入射光
がＰ偏光の時はその０次透過光の回折効率は最大となる
ので、上記Ｐ偏光反射回折光４９は表面レリーフ型ホロ
グラムスキャナをほとんど通過し、その帰還光５０はほ
ぼＬＤに帰還され、従って１次透過光５１のより強い発
振波長の制御を行うことができる。
以上９本実施例においてはホログラムスキャナを用いた
場合について説明を行ったが９本発明はＤＡＤやＶＤの
ような光ビックアンプや、光フアイバ通信などにも適用
できるのは言うまでもない。
場合について説明を行ったが９本発明はＤＡＤやＶＤの
ような光ビックアンプや、光フアイバ通信などにも適用
できるのは言うまでもない。
（７）発明の効果
本発明によれば、ホログラムの０次透過光を帰還のため
に用いているため、１次透過光を直接回折光として使用
することができ、帰還専用のホログラムを新たに必要と
しないため１回折光の波面の乱れや光量の損失を抑制す
ることができる。また、帰還手段に回折格子を用いれば
ＬＤの発振波長を従来に比較して容易に制御することが
できる。
に用いているため、１次透過光を直接回折光として使用
することができ、帰還専用のホログラムを新たに必要と
しないため１回折光の波面の乱れや光量の損失を抑制す
ることができる。また、帰還手段に回折格子を用いれば
ＬＤの発振波長を従来に比較して容易に制御することが
できる。
さらに表面レリーフ型のホログラムスキャナを用いた場
合は、帰還手段との間に４分の１波長板を配置すること
によって、帰還効率を向上させることができる。
合は、帰還手段との間に４分の１波長板を配置すること
によって、帰還効率を向上させることができる。
第１図は本発明による半導体レーザ発振制御装置の基本
的な構成図。 第２図は従来の半導体レーザ発振制御装置の一例の構成
図。 第３図は従来の半導体レーザ発振制御装置の他の一例の
構成図。 第４図は本発明を用いた光走査装置の実施例の構成図。 第５図は本発明を用いた光走査装置の第２の実施例の構
成図。 第６図は本発明を用いた光走査装置の第３の実施例の構
成図。 第７図は本発明を用いた光走査装置の第４の実施例の構
成図。 第８図は本発明を用いた光走査装置の第５の実施例の構
成図。 第９図は第７図及び第８図の実施例の説明図。 第１０図は本発明を表面レリーフ型ホログラムスキャナ
を有する光走査装置に適用した場合の実施例の構成図。 第１１図は第１０図の実施例を説明するための表面レリ
ーフ型ホログラムスキャナの入射偏光特性と回折効率と
の関係図である。 １５・・・半導体レーザ。 １６・・・レンズ。 １８・・・ホログラム。 ２０．２Ｂ、３７．４７・・・回折格子。 ２５・・・半導体レーザ光学装置。 ２７・・・ホログラムスキャナ。 ３３・・・凹レンズ。 ３４・・・凸レンズ。 ４３・・・表面レリーフ型ホログラムスキャナ。 第 １ − ウ４ Ｉソ 第２図 第３図 第６図 第７図 第８図 第９図
的な構成図。 第２図は従来の半導体レーザ発振制御装置の一例の構成
図。 第３図は従来の半導体レーザ発振制御装置の他の一例の
構成図。 第４図は本発明を用いた光走査装置の実施例の構成図。 第５図は本発明を用いた光走査装置の第２の実施例の構
成図。 第６図は本発明を用いた光走査装置の第３の実施例の構
成図。 第７図は本発明を用いた光走査装置の第４の実施例の構
成図。 第８図は本発明を用いた光走査装置の第５の実施例の構
成図。 第９図は第７図及び第８図の実施例の説明図。 第１０図は本発明を表面レリーフ型ホログラムスキャナ
を有する光走査装置に適用した場合の実施例の構成図。 第１１図は第１０図の実施例を説明するための表面レリ
ーフ型ホログラムスキャナの入射偏光特性と回折効率と
の関係図である。 １５・・・半導体レーザ。 １６・・・レンズ。 １８・・・ホログラム。 ２０．２Ｂ、３７．４７・・・回折格子。 ２５・・・半導体レーザ光学装置。 ２７・・・ホログラムスキャナ。 ３３・・・凹レンズ。 ３４・・・凸レンズ。 ４３・・・表面レリーフ型ホログラムスキャナ。 第 １ − ウ４ Ｉソ 第２図 第３図 第６図 第７図 第８図 第９図
Claims (2)
- （１）半導体レーザを光源とする光学装置において、該
光源からの出射光の光路中に設けられたホログラムと、
該ホログラムからの０次透過光の光路中に特定波長の光
のみを前記半導体レーザに帰還させる帰還手段を有する
ことを特徴とする半導体レーザ発振波長制御装置。 - （２）前記ホログラムは表面レリーフ型であり、該ホロ
グラムと前記帰還手段との間の前記０次透過光の光路中
に、４分の１波長板を有することを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の半導体レーザ発振波長制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24576484A JPS61124187A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 半導体レ−ザ発振波長制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24576484A JPS61124187A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 半導体レ−ザ発振波長制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61124187A true JPS61124187A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17138453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24576484A Pending JPS61124187A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 半導体レ−ザ発振波長制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61124187A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0911924A2 (en) * | 1997-10-23 | 1999-04-28 | Ando Electric Co., Ltd. | External cavity laser type light source |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP24576484A patent/JPS61124187A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0911924A2 (en) * | 1997-10-23 | 1999-04-28 | Ando Electric Co., Ltd. | External cavity laser type light source |
| EP0911924A3 (en) * | 1997-10-23 | 2000-04-26 | Ando Electric Co., Ltd. | External cavity laser type light source |
| EP1475868A2 (en) * | 1997-10-23 | 2004-11-10 | Ando Electric Co., Ltd. | External cavity laser |
| EP1475868A3 (en) * | 1997-10-23 | 2005-07-20 | Ando Electric Co., Ltd. | External cavity laser |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8811823B2 (en) | Dynamic optical devices | |
| US4701005A (en) | Light beam combining method and apparatus | |
| US4397527A (en) | Apparatus for use in correcting beam anamorphicity by vector diffraction | |
| US5377291A (en) | Wavelength converting optical device | |
| US5117433A (en) | Second harmonic generator for obtaining an aberration free plane wave and information processing system using the same | |
| US4778984A (en) | Apparatus for detecting focus from astigmatism | |
| JPH04361584A (ja) | 位相同期型半導体レーザ | |
| JPH02179626A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JPS61124187A (ja) | 半導体レ−ザ発振波長制御装置 | |
| JP2001013474A (ja) | 多波長レーザー変調光学系 | |
| KR100245414B1 (ko) | 노광 시스템과 노광 시스템의 노광 방법 | |
| JPH0216782A (ja) | 狭帯域レーザ装置 | |
| JPH01152781A (ja) | レーザ光源 | |
| JPH09179155A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JPH06250022A (ja) | 表示装置 | |
| JPH10133243A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JPS61193130A (ja) | 光ビ−ム偏向装置 | |
| JPH0385578A (ja) | ホログラム記録装置 | |
| JP2001102663A (ja) | 多波長レーザー光学系 | |
| JPH0482032A (ja) | 光情報記録・再生用ヘッド | |
| WO2022201310A1 (ja) | レーザ装置 | |
| US5109376A (en) | Optical axis monitoring device | |
| CN218040200U (zh) | 一种可调谐半导体激光光源发射装置 | |
| JPS6377003A (ja) | グレ−テイングレンズ光学系 | |
| JPH05323404A (ja) | 光波長変換素子 |