JPS61111940A - 高透過率で低放射率の製品およびその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は金属酸化物フィルムのカソードスパッタリング
の技術に関する。さらに詳しくは、金属および金属酸化
物の多層フィルムの磁気スパッタリング（ｌａｇｎｅｔ
ｉｅ　ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）の技術に関する。

〔従来の技術および発明が解決しようとする問題点コ ギラリ−（Ｇｌｌｌｅｒｙ）らの米国特許第４．０４９
，７６３号明細書には、調節された量の酸素を含有する
低圧雰囲気中、約２０４℃（４００下）より高い温度で
、スズ、インジウムなどの金属をガラスなどの対熱（火
）性基材上にカソードスパッタリングすることによって
、透明がり電気伝導性の製品を製造することが開示され
ている。

ギラリーの米国特許第４，１１３，５９９号明細書には
、酸化インジウムの反応性溶着のためのカソードスパッ
タリング法が教示されている。該方法では、酸素の流速
は一定の放電電流 （ｄｉｓｃｈａｒｇｅ　ｃｕｒｒｅｎｔ）が維持される
ように調節され、一方、アルゴンの流速はスパッタリン
グチャンバ中の圧力を一定に維持するように調節される
。

チャビン（ｃｈａｐｉｎ）の米国特許第４，１８８．０
１８号明細書には、スパッタリング装置が記載されてい
る。該装置においては、平らなスパッタリング面に隣接
して磁場がかけられる。該磁場はスパッタリング面上で
閉ループのエロージョン領域にわたる磁束のアーチ状の
ラインからなっている。

ギレリーの米国特許第４．２０Ｌ、６４９号明細書には
、低抵抗酸化インジウムの薄層を形成する方法が開示さ
れている。該薄層は、典型的に高いカソードスパッタリ
ング温度でカソードスパッタリングすることによって大
部分の厚さの酸化インジウムの導電性の層を付着させる
ために、基材を加熱する前にまず低温で酸化インジウム
の非常に薄いプライマー層を付着させることによって形
成される。

グロス（Ｇｒｏｔｈ）の米国特許第４，３２７，９６７
号明細書には、くすんだ色の（ｎｅｕｔｒａｌ−ｃｏｌ
ｏｒ）外観を有する熱反射パネルが開示されている。該
パネルは板ガラス（ｇｌａｓｓ　ｐａｎｅ）と、該ガラ
ス表面上の２より大きい屈折率を有する干渉フィルムと
、該干渉フィルムにわたって形成される熱を反射する金
層と、該金層にわたって形成されるクロム、鉄、ニッケ
ル、チタンまたはその合金からなる中和フィルムとから
なる。

ミャケ（Ｍｉｙａｋｅ）らの米国特許第４．３４９，４
２５号明細書には、低い電気抵抗率でかつ高い光学的透
明度を有するカドミウム−スズの酸化物フィルムを形成
するための、アルゴン−酸素混合物中でのカドミウム−
スズ合金の直流反応性のスパッタリングが開示されてい
る。

ハート（Ｈａｒｔ）の米国特許第４，４６２，８８３号
明細書には、ガラスなどの透明基村上に、銀と銀量外の
少量の金属との層および金属酸化物の反射防止層をカソ
ードスパッタリングすることによって製造される低放射
率のコーティングが開示されている。該反射防止層は酸
化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化
ビスマスまたは酸化ジルコニウムであってよい。

マウアー（Ｍａｕｅｒ）の再発行特許第２７，４７３号
明細書には、種々の金属、酸化チタン、酸化鉛または酸
化ビスマスなどの透明な材料からなる２つの層のあいた
にはさまれた金または銅の薄層からなる多層の透明製品
が開示されている。

２重にガラスをはめた窓ユニットのエネルギー効率を改
良するためには、ガラス面の１つに、放射熱の伝達を減
することによってユニットの絶縁性を大きくするコーテ
ィングを設けることが望ましい。それゆえ、該コーティ
ングは放射線スペクトルの赤外線波長域の低放射率を有
していなければならない。実際的な理由から、該コーテ
ィングは可視波長域で高い透過率を有していなければな
らない。審美的な理由から、該コーティングは低い光反
射率を有し、かつ好ましくは本質的に無色でなければな
らない。

叙上の高透過率で低放射率のコーティングは、一般に可
視反射率を下げるために、金属酸化物の誘電層間にはさ
まれた、（高）赤外線反射率でかつ低放射率のための薄
い金属層からなる。

これらの多層フィルムは、典型的にカソードスパッタリ
ング、特にマグネトロンスパッタリングによって製造さ
れる。その金属層は金または銅であってよいが、通常は
銀である。従来記述で述べた金属酸化物層には酸化スズ
、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ビスマス、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウムおよび酸化鉛が含まれる。いくつ
かのばあいにおいては、これらの酸化物は、耐久性が乏
しい、または放射率に限界があるなどの不利を克服する
ために少量の他の金属を取りこんでいる。たとえば酸化
ビスマス中にマンガンを取りこみ酸化スズ中にインジウ
ムを取りこみ、その逆に酸化ビスマス中にインジウムを
取りこみ、酸化スズ中にマンガンを取りこむなどである
。しかしながら、これらの金属酸化物はすべである欠陥
を有している。

使用に際し、コーティングは２重にガラスをはめた窓ユ
ニットの内部の一面に保持されてよいけれども、コーテ
ィングの劣化、変質を惹き起こすであろう要素および環
境因子から保護されているところでは、取扱い、包装、
洗浄および製造（ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ）と立付け（
ｉｎｓｔａｌｌａｔｉｏｎ）とのあいだに遭遇する他の
加工工程に耐えうる耐久性のある効果的なコーティング
が特に望ましい。これらの性質は金属酸化物において求
められている。しかしながら。機械的な耐久性を与える
硬さ、化学的な耐久性を与える不活性さ、およびガラス
と金属層との両方に対する良好な付着性に加えて、金属
酸化物はっぎの性質をも有していなければならない。

すなわち、金属酸化物は金属層の反射を減するために、
適度に高い屈折率、好ましくは２．０より大きい屈折率
を有していなければならない。

それにより、コーティングされた製品の透過性が高めら
れる。また、金属酸化物は、コーティ、　ングされた製
品の透過性を最大にするために、最小限の吸収（ａｂｓ
ｏｒｐｔ　ｔｏｎ）を有していなければならない。商業
的な理由から、金属酸化物は適当な価格でなければなら
ず、マグネトロンスパッタリングで比較的速い付着速度
を有していなければならず、また毒性のないものでなけ
ればならない。

金属酸化物フィルムの最も重要でがっ満足いくようにす
るのが最も困難な要求は、金属フィルムとの相互作用に
関するものである。金属酸化物フィルムは、下層の金属
フィルムを外的因子から保護するために低いを孔率（ｐ
ｏｒｏｓ　１ｔｙ）を、また分離層の一体性を維持する
ために金属に対する低い拡散率を存していなければなら
ない。

最後に、とりわけ、金属酸化物は金属層の付着に対する
良好な核生成（ｎｕｃｌｅａｔｉｏｎ）表面を与えなけ
ればならず、それにより連続的な金属フィルムが最小の
（電気）抵抗と最大の透過率で付着されうる。連続な銀
フィルムおよび不連続な銀フィルムの特性がギレリーら
の米国特許第４．４６２，８８４号明細書に記載されて
いる。

通常用いられる金属酸化物フィルムのうちで、酸化亜鉛
と酸化ビスマスとは充分には耐久性がなく、酸およびア
ルカリの両方に可溶であり、指紋によって分解され、か
つ塩中、２酸化イオ　　　　；つ中および湿度試験中で
破壊される。酸化インジウム、好ましくはスズでドーピ
ングされた酸化インジウムはより一層の耐久性を有する
。しかしながら、インジウムはゆっくりとスパッタリン
グされ、比較的高価である。また、インジウムまたはア
ンチモンでドーピングされてもよい酸化スズもまたより
一層の耐久性を有するが、銀フィルムの核生成に好適な
表面を与えず、高抵抗でかつ低透過率となる。ひきつづ
き付着された銀層が適当な核生成をするような金属フィ
ルムの性質は確立されていない。しかしながら、叙上の
金属酸化物に関して試行錯誤の実験が広く行なわれてい
る。

ｃ問題点を解決するための手段］ 本発明は、合金の酸化物からなる新規なフィルム組成物
だけでなく、高透過率で低放射率のコーティングとして
用いるための、金属層および合金酸化物層からなる新規
な多層フィルムを提供する。さらに、本発明は金属層と
金属酸化物層とのあいだの付着性を改善するプライマー
層によって、多層のコーティングに改良された耐久性を
与える。

［作　用］ 合金の酸化物からなる新規なフィルム組成物は、カソー
ドスパッタリング、好ましくはマグネトロンスパッタリ
ングによって付着されるのが好ましい。所望の割合の合
金元素からなるカソードターゲットが製造される。つい
で、該ターゲットを反応性の雰囲気中、好ましくは酸素
を含有する雰囲気中でスパッタリングし、合金酸化物フ
ィルムを基材面上に付着させる。

本発明による好ましい合金酸化物は、亜鉛とスズとから
なる合金の酸化物である。亜鉛／スズ合金酸化物フィル
ムは、本発明にしたがってカソードスパッタリング、好
ましくは磁気的に高められたカソードスパッタリングに
よって付着されてよい。専だ、カソードスパッタリング
は本発明による高透過率で低放射率のフィルムを付着さ
せるための好ましい方法である。そのようなフィルムは
典型的に多層、好ましくは酸化インジウムまたは酸化チ
タンなどの反射防止の金属酸化物層間にはさまれた金、
銀または銅などの高反射性金属の層からなる。本発明に
ょれば、反射防止の金属酸化物層は亜鉛とスズとの合金
の酸化物からなるのが好ましく、また亜鉛のスズ酸塩（
ｚｉｎｃ　５ｔａｎｎａｔｅ）からなるのが好ましい。

合金酸化物フィルムの性質は、高透過率で低放射率のコ
ーティングを形成するために金属フィルム層と組み合わ
せたそれの性能に関して、つねに予言できるものではな
く、それの耐久性およびさらに重要なことに銀層の核生
成に関する有効度を決定するために、種々の試験が行な
われてよい。

耐久性のために、長期間の安定性をあられすものとして
コーティングの色、透過率および反射率の変化を評価す
る熱試験、紫外線、湿度および塩（指紋または海に近い
環境）のような環境条件の影響を評価する促進された耐
候性および暴露試験（ａｃｃｅｌｅｒａｔｅｄ　ｗｅａ
ｔｈｅｒｉｎｇ　ａｎｄｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｔｅｓｔ）
、酸性の環境汚染物質による損傷に対するコーティング
の感受性を評価する２酸化イオウ試験、ならびにコーテ
ィングが従来から知られているガラス洗浄機および酸性
もしくはアルカリ性の洗浄剤によって損傷を受けるかど
うかを評価する試験がある。

さらに重要なことは、銀などの金属層の付着物上での合
金酸化物の影響を評価するために、核生成試験が行なわ
れてもよい。核生成試験を行なうために、基材表面上に
合金酸化物の層を付着させる。ついで基材表面の単位面
積あたりに所与の重量の銀を合金酸化物層にわたって付
着させる。最後に、合金酸化物の第２の層を銀層にわた
って付着させる。評価されるべき第１の効果は、銀を付
着させたときの透過率の減少である。すなわち、透過率
の減少が小さければ小さいほど吸収が低く、核生成が良
好である。

第２の効果は多層コーティングの表面抵抗である。すな
わち、該抵抗が小さければ小さいほど、核生成は良好で
ある。第３の効果は多層コーティングの最終透過率であ
る。すなわち透過率が高ければ高いほど核生成は良好で
ある。

本発明による好ましい高透過率および低放射率の多層フ
ィルムを製造するために、種々の合金が合金酸化物フィ
ルムを形成するためにスパッタリングされてよいが、ス
ズと亜鉛の合金類が好ましい。とくに好ましい合金は、
亜鉛が１０〜９０％に対しスズが９０〜１０％の割合で
ある亜鉛とスズからなる。好ましい亜鉛／スズ合金は亜
鉛が３０〜６０％の範囲にあり、好ましくは４０　：　
８０からＧｏ：　４０の亜鉛／スズ比を有する。最も好
ましいのは、重量比で亜鉛に対するスズの比が４６：５
４から５０：５０の範囲である。酸化力のある雰囲気中
で反応的にスパッタリングされた亜鉛／スズ合金のカソ
ードにより、亜鉛、スズおよび酸素からなる、好ましく
は亜鉛のスズ酸塩またはＺｎ２５ｎ０４からなる合金酸
化物層が付着する。

従来のマグネトロンスパッタリング法では、基材はスパ
ッタリングされるべき材料のターゲツト面を有するカソ
ードと対面してコーティングチャンバ内に位置づけられ
る。本発明による好ましい基材には、コーティング工程
の操作条件によって有害な影響を受けることのないプラ
スチック類、ガラスおよびセラミック類が含まれる。

カソードは従来から知られているいずれの構成をしてい
てもよいが、好ましくは長くされた長方形状の構成をし
ているのが好ましく、電圧源（ａ　５ｏｕｒｃｅ　ｏｆ
’　ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ　ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）に接
続されうる。またカソードはスパッタリング工程を高め
るために磁場と組み合わせて用いるのが好ましい。少な
くとも１つのカソードのターゲツト面は、合金酸化物フ
ィルムを形成するために反応性の雰囲気中でスパッタリ
ングされる亜鉛／スズなどの合金からなる。アノードは
、ギレリーらの１９８４年１月１７日付米国特許出願第
５７１、４０８号明細書中に教示されているような、対
称性を有して構成され位置決めされたアセンブリである
のが好ましい。

本発明の好ましい実施態様においては、多層フィルムが
カソードスパッタリングすることによって付着され、高
透過率で低放射率のコーティングが形成される。合金タ
ーゲットに加えて、少なくとも１つの他のカソードター
ゲツト面は、反射性金属層を形成するためにスパッタリ
ングされるべき金属からなる。反射防止の合金酸化物と
組み合わせて反射性金属層を有する多層コーティングは
、つぎのようにして製造される。

清浄なガラス基材を、好ましくはｌＯ’トル未満、より
好ましくは２Ｘ１０−５トル未満に減圧したコーティン
グチャンバ中に位置づける。不活性ガスと反応性ガスと
の選択された雰囲気、好ましくはアルゴンと酸素との選
択された雰囲気を該チャンバ内に約５ＸｌＯ−４〜１０
−２トルの圧力で確立する。亜鉛／スズ合金のターゲツ
ト面を有するカソードをコーティングされるべき基材の
表面にわたって働かせる。ターゲットの金属をスパッタ
リングし、チャンバ中の雰囲気と反応させ、ガラス基村
上に亜鉛／スズ合金酸化物コーティング層を付着させる
。

亜鉛／スズ合金の酸化物との最初の層を付着させたあと
、コーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンなど
の不活性雰囲気を約５×１０−４　Ｘ　１０’　トルの
圧力で確立する。銀のターゲツト面を有するカソードを
亜鉛／スズ合金の酸化物のコーティングされた表面にわ
たって働かせる。ターゲット金属はスパッタリングされ
、亜鉛／スズ合金の酸化物がコーティングされたガラス
表面上に反射性でかつ導電性の金属層を付着させる。亜
鉛／スズ合金酸化物の第２の層を、第１の亜鉛／スズ合
金酸化物層を付着させるために用いたのと本質的に同じ
条件で銀層上に付着させる。

さらに少なくとも１つのカソードターゲツト面がプライ
マー層として付着されるべき金属からなるのが好ましい
。反射防止の合金酸化物フィルムと組み合わせて、反射
性金属フィルムを有する耐久性のある多層コーティング
は、金属フィルムと金属酸化物フィルムとの接着性を改
良するためのプライマー層を用いてつぎのようにして製
造される。

すなわち、清浄なガラス基材を、好ましくは１０−４　
）ル未満、さらに好ましくは　２ＸｌＯ−５）ル未満の
圧力に減圧したコーティングチャンバ内に位置づける。

不活性ガスと反応性ガス、好ましくはアルゴンと酸素の
選択された雰囲気を、チャンバ中で約５Ｘ１０−４〜１
Ｇ−２トルの圧力にする。亜鉛／スズ合金のターゲツト
面を有するカソードをコーティングされるべき基材表面
にわたって働かせる。ターゲット金属をスパッタリング
し、チャンバ中の雰囲気と反応させ、ガラス基材表面上
に亜鉛／スズ合金酸化物を付着させる。

亜鉛／スズ合金酸化物の最初の層を付着させたあと、コ
ーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンなどの不
活性ガスを約５Ｘ１０−４〜１０−２トルの圧力にする
。銅などの金属ターゲツト面を有するカソードをスパッ
タリングし、亜鉛／スズ合金酸化物層にわたってプライ
マー層を付着させる。ついで、銀のターゲツト面を有す
るカソードをスパッタリングし、下層の金属酸化物フィ
ルムに対する銀フィルムの接着性を改良するプライマー
層にわたって金属銀の反射層を付着させる。ついで、銀
フィルムとそれにひきつづいて付着される上層の金属酸
化物フィルムとのあいだの接着性を改良するために、反
射性の銀層にわたって、銅などの金属をスパッタリング
することによって、さらにプライマー層を付着させる。

最後に、第１の亜鉛／スズ合金酸化物層を付着させるの
に用いたのと本質的・に同じ条件で、亜鉛／スズ合金酸
化物の第２の層を第２のプライマー層にわたって付着さ
せる。

本発明の最も好ましい実施態様においては、最終の金属
酸化物フィルムにわたって、保護膜（ｐｒｏｔｅｃｔｉ
Ｖｅ　ｏｖｅｒｃｏａｔ＞が付着される０保護膜は、ギ
レリーらの１９８３年９月　９日付米国特許出願第５３
０．５７０号明細書に記載されているような金属層を、
金属酸化物フィルムにわたってスパッタリングさせるこ
とによって付着させるのが好ましい。保護膜のための好
ましい金属には、ステンレス鋼またはインコネルなどの
鉄またはニッケルの合金が含まれる。チタンは高い透過
率を有するので保護膜としては最も好ましい。

［実施例］ つぎに記載する特定の実施例から、本発明は一層その理
解が深められるであろう。実施例においては、亜鉛／ス
ズ合金酸化物を亜鉛のスズ酸塩と呼ぶが、該フィルム組
成物は正確にＺｎｚ　５ｎ０４である必要はない。

実施例１ 横４３．２ｃｍ　（１フインチ）、縦１２．７８ｍ　（
５インチ）の寸法の静置型カソードは、５２．４重量％
の亜鉛と４７．６重二％のスズとからなる亜鉛／スズ合
金のスパッタリング面からなっていた。５０１５０のア
ルゴン／酸素の雰囲気中で４ミリトルの圧力を確立する
ように減圧したコーティングチャンバ中に、ソーダ石灰
のシリカガラスを位置づけた。カソードを１．７Ｋｖの
出力の磁場の中でスパッタリングすると共に、ガラスを
２．８ｍ／分（１１０インチ／分）の速度でスパッタリ
ング面を通るようにして運搬させた。ガラス表面上に亜
鉛のスズ酸塩を付着させた。３度の通過により約３４０
人の厚さのフィルムを形成した。該フィルムは透過率を
減少させる結果となった。すなわち、ガラス基材の透過
率は９０％であったのに対し、亜鉛のスズ酸塩をコーテ
ィングしたガラス基材の透過率は８１％であった。

実施例２ 高透過率で低放射率のコーティングされた製品をつくる
ために、ソーダ石灰のシリカガラス上に多層フィルムを
付着させた。まず亜鉛のスズ酸塩を実施例１と同じよう
にして付着させた。

つぎに、４ミリトルの圧力のアルゴンガス雰囲気中で銀
のカソードターゲットをスパッタリングすることによっ
て、銀層を亜鉛のスズ酸塩にわたって付着させた。基材
を実施例１と同じ速度で銀カソードターゲットを２回通
過させて、約９０人の厚さのフィルムに相当する１１μ
ｇｌｃ１１２の銀を付着させた。透過率はさらに減少し
た。

すなわち、亜鉛のスズ酸塩の第１のフィルムをコーティ
ングした基材の透過率が８１％であったのに対して、さ
らに銀層をコーティングした基材の透過率は７２％であ
った。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止層を付着させる前
に、銀層との接着性および銀層の保護を改善するため、
銀は亜鉛／スズ合金でコーティングされるのが好ましい
。その合金は透過率をさらに減少させるものであるため
、その厚さは最小限にとどめておくのが好ましい。４ミ
リトルの圧力のアルゴン中、最小出力で亜鉛／スズ合金
ターゲットをスパッタリングすることによって、該金属
層を付着させた。該試料の透過率は１回の通過後６０％
に減少した。最後に、亜鉛のスズ酸塩のフィルムを形成
するため、実施例１のような酸化力のある雰囲気中で、
亜鉛／スズ合金カソードターゲットをスパッタリングし
た。　２．８＋＊／分（１１０インチ／分）の速度で４
回通過させることにより、約４３０人の厚さのフィルム
を形成した。これにより、コーティング製品の透過率は
６０％から８７％に増加した。最終コーティング製品は
表面抵抗が１０Ω／口であり、両側かられずかに青味が
かった反射光を発していた。コーティングした側の光反
射率は５％で、コーティングしていない側の光反射率は
６％であった。

実施例３ 高透過率で低放射率のコーティングされた製品をつくる
ために、ソーダ石灰のシリカガラス基村上に多層フィル
ムを付着した。横４３．２ｃｍ（１フインチ）、縦１２
．７ｃｍ　（５インチ）の寸法の静置型カソードは、５
２．４重量％の亜鉛と４７．６重量％のスズとからなる
亜鉛／スズ合金のスパッタリング面からなっていた。５
０１５０のアルゴン／酸素雰囲気中で４ミリトルの圧力
となるように減圧したコーティングチャンバ中に、ソー
ダ石灰のシリカガラス基材を位置づけた。１．７Ｋｖの
出力で磁場中でカソードをスパッタリングすると共に、
スパッタリング面を通るようにして２．８ｍ／分（ｆ１
Ｍ’ンチ／分）の速度でガラスを運搬した。ガラス表面
上に亜鉛のスズ酸塩フィルムを付着させた。３回通過さ
せることにより、約３４０人の厚さのフィルムを形成し
た。その結果、透過率は減少した。すなわち、ガラス基
材の透過率が９０％であったのに対し、亜鉛のスズ酸塩
でコーティングしたガラス基材の透過率は８３％であっ
た。ついで、亜鉛のスズ酸塩にわたって銅のプライマー
層を形成するために、銅のターゲットを備えた静置型カ
ソードをスパッタリングした。透過率は約８０．６％に
減少した。つぎに、４ミリトルの圧力のアルゴンガス雰
囲気中で銀のカソードターゲットをスパッタリングする
ことによって、銀層を銅のプライマー層にわたって付着
させた。同じ速度で基材を銀カソードのターゲットの下
を通過させた。約９０人の厚さのフィルムに相当する１
１μｇ７ａｍ２の銀を付着させるためには、２回通過さ
せる必要があった。コーティングした基材の透過率は約
７０．３％に減少した。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止
層を付着させる前に、銀層との接着性および銀層の保護
を改善するために、銀層にわたって銅の第２の１９４７
〜層をスパッタリングした。銅のプライマー層は透過率
を減少させるので、それらの厚さは最小限にとどめるの
が好ましい。

４ミリトルの圧力のアルゴン中で、最小出力で銅のター
ゲットをスパッタリングすることによって、銅のプライ
マー層を付着させた。銅の第２のプライマー層を付着さ
せたあと、試料の透過率は６８，３％に減少した。最後
に、亜鉛のスズ酸塩のフィルムを形成するために、酸化
力かある雰囲気中で亜鉛／スズ合金のカソードのターゲ
ットをスパッタリングした。　２．８ａ＋／分（１００
インチ／分）の速度で４回通過させることにより、約４
３０人の厚さのフィルムを形成した。コーティングされ
た製品の透過率は６８．３％から８３．２％に増加した
。最終のコーティングされた製品は表面抵抗が１０Ω／
口であり、両側かられずかに青味がかった反射光を発し
ていた。コーティングした側の光反射率は５％で、コー
ティングしていない側の光反射率は６％であった。

本発明のプライマー層により金属フィルムと金属酸化物
フィルムとのあいだの改良された接着性に起因するコー
ティングされた製品の改良　　　　゛された耐久性は、
コーティングされた表面に湿った布をこすりつける簡単
な摩耗試験で容易に証明された。本発明によるプライマ
ー層を有さない亜鉛のスズ酸塩／銀／亜鉛のスズ酸塩で
コーティングされた表面の反射率は、湿った布を数回通
過させたあとには、約６％から約１８％まで増加した。

一番上層の亜鉛のスズ酸塩およびその下層の銀フィルム
の両方が除去された。逆に、湿った布を長いあいだ力強
くこすりつけることによって、本発明のプライマー層か
らなる亜鉛のスズ酸塩／銅／銀／銅／亜鉛のスズ酸塩を
コーティングした製品になんら目に見える変化は生じな
かった。

叙上の実施例は本発明を説明するために提供したもので
ある。本発明には該製品および方法に種々の修正がほど
こされてよい。たとえば、本発明の範囲には他のコーテ
ィング組成物が含まれる。亜鉛／スズ合金をスパッタリ
ングするときの亜鉛とスズとの割合に依存して、コーテ
ィングは亜鉛のスズ酸塩に加えて、広く種々の量の酸化
亜鉛および酸化マグネシウムを含有していてもよい。該
方法はあまり高温が要求されないので、種々のプラスチ
ックなどのガラス以外の基材をコーティングすることも
できる。走査型カソードを静置型基材に用いてもよいし
、または両方とも静置型であってもよい。ガスの圧力お
よび濃度などのパラメータは広範囲にわたって種々変化
させてもよい。種々の金属フィルムと金属酸化物フィル
ムとのあいだの接着性は、本発明によるプライマー層に
よって改良されてもよい。プライマー層はインジウムな
どの他の金属、または酸化銅もしくは酸化インジウムな
どの酸化物からなっていてもよい。本発明の範囲は特許
請求の範囲の記載によって定められる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　（ａ）透明な非金属基材と、 （ｂ）該基材表面上に付着された亜鉛とスズとかからな
   る合金の酸化反応生成物からなる透明な第１の透明フィ
   ルムと、 （ｃ）該第１の合金酸化物フィルム上に付着された透明
   な金属フィルムと、 （ｄ）該金属フィルム上の付着された亜鉛とスズとから
   なる合金の酸化反応生成物からなる第２の透明フィルム とからなる高透過率で低放射率の製品。 ２　前記基材がガラスである特許請求の範囲第１項記載
   の製品。 ３　前記金属フィルムが銀である特許請求の範囲第２項
   記載の製品。 ４　前記合金が本質的に亜鉛とスズとからなる特許請求
   の範囲第３項記載の製品。 ５　前記合金が約１０〜約９０％の亜鉛からなる特許請
   求の範囲第４項記載の製品。 ６　前記合金が約３０〜６０％の亜鉛からなる特許請求
   の範囲第５項記載の製品。 ７　前記合金が約５０〜５４％の亜鉛からなる特許請求
   の範囲第６項記載の製品。 ８　合金の酸化反応生成物からなる透明なフィルムが亜
   鉛のスズ酸塩からなる特許請求の範囲第４項記載の製品
   。 ９　前記透明な金属フィルムと、合金の酸化生成物から
   なる前記第２の透明フィルムとのあいだに、さらに合金
   の透明なフィルムが付着された特許請求の範囲第１項記
   載の製品。 １０　前記合金の透明なフィルムが亜鉛とスズとからな
   る特許請求の範囲第９項記載の製品。 １１　（ａ）亜鉛とスズとの合金からなるカソードター
   ゲットを形成する工程と、 （ｂ）該カソードターゲットを備えた減圧されたチャン
   バ中に、コーティングされるべき基材を位置づける工程
   と、 （ｃ）酸素からなる反応性雰囲気中で該合金カソードタ
   ーゲットをスパッタリングし、該基材表面上に合金酸化
   物フィルムを付着させる工程 とからなる合金の酸化物からなるフィルムを付着させる
   方法。 １２　前記スパッタリングが磁気的に高められて行なわ
   れる特許請求の範囲第１１項記載の方法。 １３　前記基材がガラスである特許請求の範囲第１２項
   記載の方法。 １４　前記合金が本質的に亜鉛とスズとからなる特許請
   求の範囲第１３項記載の方法。 １５　前記フィルムが亜鉛のスズ酸塩からなる特許請求
   の範囲第１４項記載の方法。 １６　（ａ）スパッタリングチャンバ内に透明で非金属
   性の基材を位置づける工程と、 （ｂ）酸素からなる反応性雰囲気中で、亜鉛とスズとの
   合金からなるカソードターゲットをスパッタリングし、
   該基材表面上に透明な合金酸化物フィルムを付着させる
   工程と、 （ｃ）不活性雰囲気中で銀のカソードターゲットをスパ
   ッタリングし、該合金酸化物フィルム上に透明な銀フィ
   ルムを付着させる工程と、 （ｄ）酸素からなる反応性雰囲気中で亜鉛とスズとから
   なる合金からなるカソードターゲットをスパッタリング
   し、該銀フィルム上に合金酸化物フィルムを付着させる
   工程 とからなる多層の高透過率で低放射率のコーティングさ
   れた製品をつくる方法。 １７　前記基材がガラスである特許請求の範囲第１６項
   記載の方法。 １８　前記合金が本質的に亜鉛とスズとからなる特許請
   求の範囲第１７項記載の方法。 １９　前記合金酸化物フィルムが亜鉛のスズ酸塩からな
   る特許請求の範囲第１８項記載の方法。 ２０　前記銀フィルムと前記合金酸化物フィルムとのあ
   いだに、透明な合金フィルムを付着させる工程をさらに
   有する特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２１　（ａ）透明な非金属性の基材と、 （ｂ）該基材上に付着された金属酸化物からなる第１の
   透明フィルムと、 （ｃ）該第１の金属酸化物フィルム上に付着された第１
   の透明なプライマー層と、 （ｄ）該プライマー層上に付着された透明な反射性金属
   フィルムと、 （ｅ）該反射性金属フィルム上に付着された第２の透明
   なプライマー層と、 （ｆ）該第２のプライマー層上に付着された金属酸化物
   からなる第２の透明なフィルム とからなる高透過率で低放射率の製品。 ２２　前記基材がガラスである特許請求の範囲第２１項
   記載の製品。 ２３　前記反射性金属フィルムが銀である特許請求の範
   囲第２２項記載の製品。 ２４　前記金属酸化物が、亜鉛とスズとからなる合金の
   酸化反応生成物からなる特許請求の範囲第２２項記載の
   製品。 ２５　前記合金の酸化反応生成物からなる透明なフィル
   ムが亜鉛のスズ酸塩からなる特許請求の範囲第２４項記
   載の製品。 ２６　前記反射性金属フィルムと前記透明な金属酸化物
   フィルムとのあいだに付着させた前記プライマーフィル
   ムが銅、インジウムおよびその酸化物よりなる群から選
   ばれたものである特許請求の範囲第２１項記載の製品。 ２７　前記プライマーフィルムが銅からなる特許請求の
   範囲第２６項記載の製品。 ２８　各プライマー層が製品の透過率を０．５〜１０％
   減少させる厚さである特許請求の範囲第２６項記載の製
   品。 ２９　各プライマー層によって製品の透過率が１〜５％
   減少した特許請求の範囲第２８項記載の製品。 ３０　前記プライマー層が酸化銅からなる特許請求の範
   囲第２９項記載の製品。 ３１　（ａ）酸素からなる反応性雰囲気中で金属のカソ
   ードターゲットをスパッタリングし、基材表面上に金属
   酸化物フィルムを付着させる工程と、 （ｂ）前記金属酸化物フィルムにわたってプライマー層
   をスパッタリングする工程と （ｃ）前記プライマー層にわたって反射性金属フィルム
   をスパッタリングする工程と、 （ｄ）前記反射性金属フィルムにわたって第２のプライ
   マー層をスパッタリングする工程と、 （ｅ）前記第２のプライマー層にわたって合金酸化物フ
   ィルムをスパッタリングする工程 とからなる耐久性のあるフィルムを付着させる方法。 ３２　前記プライマー層が、銅、インジウムおよびその
   酸化物よりなる群から選ばれたものである特許請求の範
   囲第３１項記載の方法。 ３３　前記基材がガラスである特許請求の範囲第３２項
   記載の方法。 ３４　前記金属酸化物フィルムが、亜鉛とスズとからな
   る合金の酸化反応生成物からなる特許請求の範囲第３３
   項記載の方法。 ３５　前記フィルムが亜鉛のスズ酸塩からなる特許請求
   の範囲第３４項記載の方法。 ３６　（ａ）透明で非金属の基材をスパッタリングチャ
   ンバ中に位置づける工程と、 （ｂ）酸素からなる反応性雰囲気中で亜鉛とスズとの合
   金からなるカソードターゲットをスパッタリングし、該
   基材表面上に透明な合金酸化物フィルムを付着させる工
   程と、 （ｃ）銅のターゲットをスパッタリングし、該酸化物フ
   ィルム上にプライマー層を付着させる工程と、 （ｄ）不活性雰囲気中で銀のカソードターゲットをスパ
   ッタリング、該プライマー層上に透明な銀フィルムを付
   着させる工程と、 （ｅ）銅のターゲットをスパッタリングし、該銀フィル
   ム上に第２のプライマー層を付着させる工程と、 （ｆ）酸素からなる反応性雰囲気中で亜鉛とスズとの合
   金からなるカソードのターゲットをスパッタリングし、
   前記第２のプライマー層上に合金酸化物フィルムを付着
   させる工程 とからなる多層の高透過率で低放射率のコーティングさ
   れた製品をつくる方法。 ３７　前記基材がガラスである特許請求の範囲第３６項
   記載の方法。 ３８　前記合金が本質的に亜鉛とスズとからなる特許請
   求の範囲第３７項記載の方法。 ３９　前記合金酸化物フィルムが亜鉛のスズ酸塩からな
   る特許請求の範囲第３８項記載の方法。 ４０　前記プライマー層が酸化銅からなる特許請求の範
   囲第３６項記載の方法。