JPS6111049A - マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 - Google Patents
マイクロ波放電プラズマ殺菌装置Info
- Publication number
- JPS6111049A JPS6111049A JP13090084A JP13090084A JPS6111049A JP S6111049 A JPS6111049 A JP S6111049A JP 13090084 A JP13090084 A JP 13090084A JP 13090084 A JP13090084 A JP 13090084A JP S6111049 A JPS6111049 A JP S6111049A
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- JP
- Japan
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- sterilization
- vacuum container
- microwave
- sterilized
- gas
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
クロ波放電プラズマ殺菌装置に関するものである。
従来の技術
従来、医療器具等の殺菌には、高圧蒸気や高温空気等に
よる加熱殺菌、酸化エチレンガス等によるガス殺菌、紫
外線殺菌や放射線殺菌等が広く用いられている。
よる加熱殺菌、酸化エチレンガス等によるガス殺菌、紫
外線殺菌や放射線殺菌等が広く用いられている。
加熱殺菌では被殺菌物が高圧蒸気や高温空気にさらされ
、通常１００℃以上の高温となるため、殺菌処理可能な
物質は耐熱性である必要があシ、極めて限定されること
になる。従ってどのような加熱手段を用いてもこの欠点
は避けることができない。
、通常１００℃以上の高温となるため、殺菌処理可能な
物質は耐熱性である必要があシ、極めて限定されること
になる。従ってどのような加熱手段を用いてもこの欠点
は避けることができない。
ガス殺菌は、殺菌剤をガス状にして容器内に充満させ、
ガス濃度、温度、湿度、圧力等を調節し、細菌に作用さ
せるようにしたものであって、低温で殺菌することがで
きる。例えばこのガス殺菌には酸化エチレンが用いられ
るが、上記の条件調節が容易でなく、条件の変動によっ
て作用効果が著しく左右されることになる。またガス殺
菌は殺菌に長時間かかり、しかも被殺菌物の形状が複雑
な場合にはガスが十分に浸透せず十分な殺菌が行なわれ
ない恐れがあシ、まだ殺菌後においても酸化エチレン等
の毒性ガスが被殺菌物に吸着し、長時間残留するので殺
菌後被処理物をすぐに使用できないという欠点がある。
ガス濃度、温度、湿度、圧力等を調節し、細菌に作用さ
せるようにしたものであって、低温で殺菌することがで
きる。例えばこのガス殺菌には酸化エチレンが用いられ
るが、上記の条件調節が容易でなく、条件の変動によっ
て作用効果が著しく左右されることになる。またガス殺
菌は殺菌に長時間かかり、しかも被殺菌物の形状が複雑
な場合にはガスが十分に浸透せず十分な殺菌が行なわれ
ない恐れがあシ、まだ殺菌後においても酸化エチレン等
の毒性ガスが被殺菌物に吸着し、長時間残留するので殺
菌後被処理物をすぐに使用できないという欠点がある。
１だ、紫外線殺菌は極めて短時間で殺菌効果を発揮する
が、紫外線ランプの汚れ等で紫外線強度が低下すること
により殺菌効果も落ち、また細菌の密度が１０４／（−
Ｊ以上では細菌自体の陰影効果により陰になる部分は殺
菌できない。
が、紫外線ランプの汚れ等で紫外線強度が低下すること
により殺菌効果も落ち、また細菌の密度が１０４／（−
Ｊ以上では細菌自体の陰影効果により陰になる部分は殺
菌できない。
さらに放射線殺菌はその設備自体が大がかシとなり、一
般に通常の使用には不向きである。
般に通常の使用には不向きである。
上述のような殺菌法の欠点を解消する方法として放電ま
たはプラズマを用いた殺菌方法が知られている。放電殺
菌装置の従来例は例えは特公昭６３−３ｊｆ７／！号公
報、特開昭３７−／９！弘４７号公報および特開昭５７
−２ｏｏｉｓｔ号公報に記載されている。しかしこれら
の公知の放電殺菌装置ではいずれも真空容器内に放電電
極が配置されておシ、この放電電極に高電圧を印加して
放電させるだめ電極が放電によって生成されたイオンで
スノやツタされ、スパッタされたものが被殺菌物に付着
し殺菌とは別の意味で汚染されることになる。
たはプラズマを用いた殺菌方法が知られている。放電殺
菌装置の従来例は例えは特公昭６３−３ｊｆ７／！号公
報、特開昭３７−／９！弘４７号公報および特開昭５７
−２ｏｏｉｓｔ号公報に記載されている。しかしこれら
の公知の放電殺菌装置ではいずれも真空容器内に放電電
極が配置されておシ、この放電電極に高電圧を印加して
放電させるだめ電極が放電によって生成されたイオンで
スノやツタされ、スパッタされたものが被殺菌物に付着
し殺菌とは別の意味で汚染されることになる。
そこで本発明は、従来の加熱殺菌法における高温に伴な
う被殺菌対象の制限問題、ガス殺菌法に伴なう有毒ガス
の残留の問題、紫外線殺菌法に伴なう殺菌むらの生じる
問題および放電殺菌法における電極等のスパッタによる
被殺菌物の汚染の問題を全て解決して低温、短時間で清
浄で十分な殺菌を行なうことのできるマイクロ波放電プ
ラズマ殺菌装置を提供することにある。
う被殺菌対象の制限問題、ガス殺菌法に伴なう有毒ガス
の残留の問題、紫外線殺菌法に伴なう殺菌むらの生じる
問題および放電殺菌法における電極等のスパッタによる
被殺菌物の汚染の問題を全て解決して低温、短時間で清
浄で十分な殺菌を行なうことのできるマイクロ波放電プ
ラズマ殺菌装置を提供することにある。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するために、本発明によるマイクロ波放
電プラズマ殺菌装置は、排気系に連結される排気ポート
とガス導入ボートとを備えた真空容器内に被殺菌物の処
理板を配置し、捷た真空容器にマイクロ波導入装置を取
付け、真空容器内−、マイクロ波を導入して内部にプラ
ズマを発生させるようにしたことを特徴としている。
電プラズマ殺菌装置は、排気系に連結される排気ポート
とガス導入ボートとを備えた真空容器内に被殺菌物の処
理板を配置し、捷た真空容器にマイクロ波導入装置を取
付け、真空容器内−、マイクロ波を導入して内部にプラ
ズマを発生させるようにしたことを特徴としている。
寸だ本発明の別の特徴によれば、上述の装置においてさ
らに真空容器内にプラズマ状態を制御する磁場を発生さ
せる磁気装置が設けられ、この磁気装置は永久磁石また
は磁気コイルから成ることができる。
らに真空容器内にプラズマ状態を制御する磁場を発生さ
せる磁気装置が設けられ、この磁気装置は永久磁石また
は磁気コイルから成ることができる。
作 用
以上のように構成することによって本発明のマイクロ波
放電プラズマ殺菌装置においては処理板に被殺菌物を置
き、所定の圧力まで排気される。
放電プラズマ殺菌装置においては処理板に被殺菌物を置
き、所定の圧力まで排気される。
そして真空容器内にはガス導入ボートを介してＡｒ。
Ｈｅ等の不活性ガスや０２．Ｈ２，またはＯ６２、フッ
素ガス、殺菌ガス等が導入され、所定の圧力にされる。
素ガス、殺菌ガス等が導入され、所定の圧力にされる。
この状態においてマイクロ波導入装置を作動させてマイ
クロ波エネルギを真空容器内に投入し、プラズマを発生
させることによシ所要の殺菌処理が行なわれる。
クロ波エネルギを真空容器内に投入し、プラズマを発生
させることによシ所要の殺菌処理が行なわれる。
またコイルや永久磁石を設けた真空容器内に磁場を発生
させるようにした場合には磁場作用によって電子の空間
滞在時間がのび、ガス分子と衝突する回数が増し、プラ
ズマ密度が増加し、殺菌効率を上けることができる。
させるようにした場合には磁場作用によって電子の空間
滞在時間がのび、ガス分子と衝突する回数が増し、プラ
ズマ密度が増加し、殺菌効率を上けることができる。
実施例
以下添附図面を参照して本発明の実施例について説明す
る。
る。
第１図には本発明によるマイクロ波放電プラズマ殺菌装
置の一実施例を示し、／は真空容器で、図示してない真
空ポンプに連結される排気ポートλ、適当なガス供給源
に連結されるガス導入ボート３および被殺菌物を入れた
り出したりするためのルミを備えている。真空容器／内
には被殺菌物をのせるための処理板ｊが配置されている
。また真空容器／の壁の一部には図示したように石英ガ
ラス、セラミック等の誘電体から成る窓乙が設けられ、
この窓乙の外側にはマイクロ波導入装置を構成している
マイクロ波導波管７が取付けられている。このマイクロ
波導波管７を介して真空容器ｌ内に導入されるマイクロ
波エネルギのレベルハ運転条件に応じて適当に設定され
得る。
置の一実施例を示し、／は真空容器で、図示してない真
空ポンプに連結される排気ポートλ、適当なガス供給源
に連結されるガス導入ボート３および被殺菌物を入れた
り出したりするためのルミを備えている。真空容器／内
には被殺菌物をのせるための処理板ｊが配置されている
。また真空容器／の壁の一部には図示したように石英ガ
ラス、セラミック等の誘電体から成る窓乙が設けられ、
この窓乙の外側にはマイクロ波導入装置を構成している
マイクロ波導波管７が取付けられている。このマイクロ
波導波管７を介して真空容器ｌ内に導入されるマイクロ
波エネルギのレベルハ運転条件に応じて適当に設定され
得る。
第２図には第１図に示す装置の変形実施例を示し、この
場合には真空容器ｌの構造およびマイクロ波導入装置は
全く同じであり、第１図と同じ番号で示す。この実施例
では真空容器／内に磁気を発生させるため永久磁石ざが
設けられている。
場合には真空容器ｌの構造およびマイクロ波導入装置は
全く同じであり、第１図と同じ番号で示す。この実施例
では真空容器／内に磁気を発生させるため永久磁石ざが
設けられている。
第３図には別の実施例を示し、りは真空容器で、第１，
２図の実施例の場合と同様にガス導入ポート１０１排気
ポート／ｌおよび扉１２を備えており、内部には被殺菌
物の置かれる処理板１３が配置されている。ｌ≠は真空
容器／の壁に設けられた＠電体材料から成る窓でその外
側にはマイクロ波導波管／グが取付けられておシ、また
真空容器りの外側には磁気コイル／ｊが設けられている
。
２図の実施例の場合と同様にガス導入ポート１０１排気
ポート／ｌおよび扉１２を備えており、内部には被殺菌
物の置かれる処理板１３が配置されている。ｌ≠は真空
容器／の壁に設けられた＠電体材料から成る窓でその外
側にはマイクロ波導波管／グが取付けられておシ、また
真空容器りの外側には磁気コイル／ｊが設けられている
。
なおこの場合磁気コイル／ｊの代りに永久磁石を用いる
こともできる。
こともできる。
第グ図にはマイクロ波エネルギを真空容器内へ導入する
方法の別の例を示す。第弘図において真空容器／ｇの壁
に開口部１７が設けられ、この開口部／７にはコイ、フ
タｉｔが取付られ、コネクタ／Ｉから真空容器／６内に
はアンテナｌりがのびており、そし７てコネクタｉｇは
同軸ケーブル２０を介してマイクロ波電源（図示されて
ない）に接続される。
方法の別の例を示す。第弘図において真空容器／ｇの壁
に開口部１７が設けられ、この開口部／７にはコイ、フ
タｉｔが取付られ、コネクタ／Ｉから真空容器／６内に
はアンテナｌりがのびており、そし７てコネクタｉｇは
同軸ケーブル２０を介してマイクロ波電源（図示されて
ない）に接続される。
このように構成された各図示実施例の装置を使用して殺
菌動作を行なう場合には、まず、真空容器（／、り）内
に配置された処理板（！、／３ ）に処理すべき被殺菌
物を置き、所定の圧力まで真空ポンプを用いて排気する
。しかる後、ガス導入ボート（λ、１０）を介して上述
のようカガスを真空容器（／、り）内に導入し、第１図
の実施例ではへ３×ｌＯ１〜１．３×１Ｏ２Ｐａ程度、
また第λ、３図の実施例では／、ＪＸｌｏ −／、Ｊ
Ｘｌｏ Ｐａ程度の圧力にする。この状態においてマ
イクロ波導波管（７，ｌ≠）または同軸ケーブル２０を
介して真空容器（／、？）内に所定のマイクロ波エネル
ギを投入する。これにより真空容器（／、り）内にはプ
ラズマが発生され、処理板（！、／３）に置かれた被殺
菌物の殺菌処理が行なわれる。こうして予定の時間後マ
イクロ波の投入が止められ、そして大気圧捷で戻して被
殺菌物を取シ出す。このようにして一連の殺菌処理動作
が行なわれる。
菌動作を行なう場合には、まず、真空容器（／、り）内
に配置された処理板（！、／３ ）に処理すべき被殺菌
物を置き、所定の圧力まで真空ポンプを用いて排気する
。しかる後、ガス導入ボート（λ、１０）を介して上述
のようカガスを真空容器（／、り）内に導入し、第１図
の実施例ではへ３×ｌＯ１〜１．３×１Ｏ２Ｐａ程度、
また第λ、３図の実施例では／、ＪＸｌｏ −／、Ｊ
Ｘｌｏ Ｐａ程度の圧力にする。この状態においてマ
イクロ波導波管（７，ｌ≠）または同軸ケーブル２０を
介して真空容器（／、？）内に所定のマイクロ波エネル
ギを投入する。これにより真空容器（／、り）内にはプ
ラズマが発生され、処理板（！、／３）に置かれた被殺
菌物の殺菌処理が行なわれる。こうして予定の時間後マ
イクロ波の投入が止められ、そして大気圧捷で戻して被
殺菌物を取シ出す。このようにして一連の殺菌処理動作
が行なわれる。
なお、第３，３図に示すように永久磁石ざや磁気コイル
／ｊを用いて真空容器（／、り）内に磁場を発生させ、
内部に発生したプラズマの状態を制御することによって
より高い殺菌効率を得ることができる。
／ｊを用いて真空容器（／、り）内に磁場を発生させ、
内部に発生したプラズマの状態を制御することによって
より高い殺菌効率を得ることができる。
一例として第２図に示すような構造の装置を用いて０２
プラズマを０．０４ｔ×１０ Ｐａの圧力のもとで発
生させ（この時のマイクロ波入力は２００ Ｗ）試料と
して枯草菌芽胞７０６個をスライドガラスに塗布したも
のを用いて殺菌処理をしたところ、３分間の処理で完全
に殺菌させることができた。同一試料を従来の蒸気殺菌
法で殺菌処理した場合には２０分、また従来の放電殺菌
法では５分かかった。このことから、本発明による装置
は低温でしかも短時間で清浄な滅菌が可能であることが
認められる。
プラズマを０．０４ｔ×１０ Ｐａの圧力のもとで発
生させ（この時のマイクロ波入力は２００ Ｗ）試料と
して枯草菌芽胞７０６個をスライドガラスに塗布したも
のを用いて殺菌処理をしたところ、３分間の処理で完全
に殺菌させることができた。同一試料を従来の蒸気殺菌
法で殺菌処理した場合には２０分、また従来の放電殺菌
法では５分かかった。このことから、本発明による装置
は低温でしかも短時間で清浄な滅菌が可能であることが
認められる。
効 果
以上説明してきたように本発明においては電極を用いず
にマイクロ波エネルギの投入によってプラスマを発生さ
せ、それにより殺菌処理を行なうように構成しているの
で従来の加熱殺菌法、ガス殺菌法、紫外線殺菌法および
放電殺菌法等における欠点を解消して低温、短時間で汚
染のないきれいな殺菌を効率よく行なうことができる。
にマイクロ波エネルギの投入によってプラスマを発生さ
せ、それにより殺菌処理を行なうように構成しているの
で従来の加熱殺菌法、ガス殺菌法、紫外線殺菌法および
放電殺菌法等における欠点を解消して低温、短時間で汚
染のないきれいな殺菌を効率よく行なうことができる。
第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図は
変形実施例を示す概略断面図、第３図は本発明の別の実
施例を示す概略断面図、第弘図はマイクロ波導入手段の
一例を示す図である。 図中、／、り：真空容器、コ、１０：ガス導入ボート、
３．／’Ｉ：排気ボート、ｊ、／３：処理板、７．／グ
、７ｇ’、／り、コＱ：マイクロ波導入装置、ｒ、ｉｓ
：磁気装置。 第１図 第２図 第３図 第４図
変形実施例を示す概略断面図、第３図は本発明の別の実
施例を示す概略断面図、第弘図はマイクロ波導入手段の
一例を示す図である。 図中、／、り：真空容器、コ、１０：ガス導入ボート、
３．／’Ｉ：排気ボート、ｊ、／３：処理板、７．／グ
、７ｇ’、／り、コＱ：マイクロ波導入装置、ｒ、ｉｓ
：磁気装置。 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、排気系に連結される排気ポートとガス導入ポートと
を備えた真空容器内に被殺菌物の処理棚を配置し、また
真空容器にマイクロ波導入装置を取付け、真空容器内へ
マイクロ波を導入して内部にプラズマを発生させるよう
に構成したことを特徴とするマイクロ波放電プラズマ殺
菌装置。 ２、排気系に連結される排気ポートとガス導入ポートと
を備えた真空容器内に被殺菌物の処理棚を配置し、また
真空容器にマイクロ波導入装置を取付け、真空容器内へ
マイクロ波を導入して内部にプラズマを発生させ、さら
に真空容器内にプラズマ状態を制御する磁場を発生させ
る磁気装置を設けたことを特徴とするマイクロ波放電プ
ラズマ殺菌装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13090084A JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13090084A JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6111049A true JPS6111049A (ja) | 1986-01-18 |
| JPH0237183B2 JPH0237183B2 (ja) | 1990-08-22 |
Family
ID=15045342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13090084A Granted JPS6111049A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | マイクロ波放電プラズマ殺菌装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6111049A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005089818A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Japan Science And Technology Agency | マイクロ波プラズマ滅菌方法および装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4865796A (ja) * | 1971-12-13 | 1973-09-10 | ||
| JPS52156074A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-26 | Lilly Co Eli | Plasma sterilizing method |
| JPS56102248A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-15 | Baiofuijikusu Research Ando Co | Pasturization due to gas plasma added with seed |
| JPS56148354A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-17 | Tokyo Shibaura Electric Co | Sterilizing treating device |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP13090084A patent/JPS6111049A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4865796A (ja) * | 1971-12-13 | 1973-09-10 | ||
| JPS52156074A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-26 | Lilly Co Eli | Plasma sterilizing method |
| JPS56102248A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-15 | Baiofuijikusu Research Ando Co | Pasturization due to gas plasma added with seed |
| JPS56148354A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-17 | Tokyo Shibaura Electric Co | Sterilizing treating device |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005089818A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Japan Science And Technology Agency | マイクロ波プラズマ滅菌方法および装置 |
| JPWO2005089818A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2008-01-31 | 独立行政法人科学技術振興機構 | マイクロ波プラズマ滅菌方法および装置 |
| US7700039B2 (en) | 2004-03-19 | 2010-04-20 | Japan Science And Technology Agency | Microwave plasma sterilizing method and device |
| JP4716457B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2011-07-06 | 独立行政法人科学技術振興機構 | マイクロ波プラズマ滅菌装置およびそれを用いた滅菌方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0237183B2 (ja) | 1990-08-22 |
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