JPS6110736A - 圧力センサの製造方法 - Google Patents
圧力センサの製造方法Info
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- JPS6110736A JPS6110736A JP13152484A JP13152484A JPS6110736A JP S6110736 A JPS6110736 A JP S6110736A JP 13152484 A JP13152484 A JP 13152484A JP 13152484 A JP13152484 A JP 13152484A JP S6110736 A JPS6110736 A JP S6110736A
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- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
- G01L9/0072—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
- G01L9/0075—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a ceramic diaphragm, e.g. alumina, fused quartz, glass
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、超精密圧力測定に使用される圧力センサの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
(ロ)従来の技術
圧力センサの一種には、第5図に示すように、石英ガラ
ス等からなるベースaの表面に凹部すを設け、該ベース
aの表面に同質ガラスで成形した薄板状のたわみプレー
ト(感圧プレート)Cを貼設しである微小間隔に設定し
た真空間隙dを形成するとともに、その真空間′Wpd
を挟むベースaとたわみプレートCとに、固定電極eと
可変位電極fとを対設してなる構造のものがある。すな
わち、この構造に係るものでは、そのたわみプレー1−
cに圧力が作用すると、該プレー)Cが内面の1丁変
位電極fと共に変位して、真空間隙dの間隔あるいは容
量が圧力に応じて変化することを利用するようにしたも
のであって、具体的には、可変位電極fと固定電極eと
の間の静電容量の変化や間隔変化による共振周波数の変
化を電気的に検出して圧力を精密測定できるようにして
いる。
ス等からなるベースaの表面に凹部すを設け、該ベース
aの表面に同質ガラスで成形した薄板状のたわみプレー
ト(感圧プレート)Cを貼設しである微小間隔に設定し
た真空間隙dを形成するとともに、その真空間′Wpd
を挟むベースaとたわみプレートCとに、固定電極eと
可変位電極fとを対設してなる構造のものがある。すな
わち、この構造に係るものでは、そのたわみプレー1−
cに圧力が作用すると、該プレー)Cが内面の1丁変
位電極fと共に変位して、真空間隙dの間隔あるいは容
量が圧力に応じて変化することを利用するようにしたも
のであって、具体的には、可変位電極fと固定電極eと
の間の静電容量の変化や間隔変化による共振周波数の変
化を電気的に検出して圧力を精密測定できるようにして
いる。
しかして、この種の構成、原理にもとづく圧力センサに
あっては、前記真空間隙dの設定間隔を可及的小さなも
のとすること、即ち、前記電極e、fの電極間圧# D
、を可及的小さなものとすることが技術的に指向される
。つまり、この種構造のものでは、その圧力検出感度が
、前記対向配置される電極e、fの間隔を小さくしてそ
の静電容量を可及的増大することにより一層鋭敏なもの
とされるからである。
あっては、前記真空間隙dの設定間隔を可及的小さなも
のとすること、即ち、前記電極e、fの電極間圧# D
、を可及的小さなものとすることが技術的に指向される
。つまり、この種構造のものでは、その圧力検出感度が
、前記対向配置される電極e、fの間隔を小さくしてそ
の静電容量を可及的増大することにより一層鋭敏なもの
とされるからである。
ところが、現状では主にその製造技術上の困難に起因し
て上記の高感度化指向に限界を来たしているのが実情で
ある。従来、この種圧カセンサをつくる方法としては、
表面に所要の加工を施こしタベースに別体のたわみプレ
ートを貼設することにより行なわれている。すなわち、
前記ベースaの表面に必要な前記凹部すを機械的に研削
加工して設け、その底部に前記固定電極eをコーティン
ングして設ける一方、同様にその内面に予め前記町変位
電極fを設けた別体の前記たわみプレートCを適宜の接
着剤を介してベースの表面に貼り合せるようにするのが
通例である。しかし、このよ。
て上記の高感度化指向に限界を来たしているのが実情で
ある。従来、この種圧カセンサをつくる方法としては、
表面に所要の加工を施こしタベースに別体のたわみプレ
ートを貼設することにより行なわれている。すなわち、
前記ベースaの表面に必要な前記凹部すを機械的に研削
加工して設け、その底部に前記固定電極eをコーティン
ングして設ける一方、同様にその内面に予め前記町変位
電極fを設けた別体の前記たわみプレートCを適宜の接
着剤を介してベースの表面に貼り合せるようにするのが
通例である。しかし、このよ。
うにして得られるものでは、ベースaに対する加工精度
の点からその凹部すの深さを薄くすること一定の限界(
具体的には15ILm程度以上)があり、そのため真空
間隙dの間隔寸法、従って、その電極e、fの電極間距
離り、を狭めることにも轟然限度がある不都合を招来し
ている。
の点からその凹部すの深さを薄くすること一定の限界(
具体的には15ILm程度以上)があり、そのため真空
間隙dの間隔寸法、従って、その電極e、fの電極間距
離り、を狭めることにも轟然限度がある不都合を招来し
ている。
(ハ)発明が解決しようとする問題点
本発明は、かかる従来技術の問題点に着目してなされた
もので、上記に特定される種類の圧力センサの製造方法
として、特にその真空間隙を挟む前記対向電極の電極間
距離をより狭いものに自在に調整できるようにしたもの
、換言すればより高感度の圧力センサをつくり出すこと
ができるようにしたもの提供することを目的としている
。
もので、上記に特定される種類の圧力センサの製造方法
として、特にその真空間隙を挟む前記対向電極の電極間
距離をより狭いものに自在に調整できるようにしたもの
、換言すればより高感度の圧力センサをつくり出すこと
ができるようにしたもの提供することを目的としている
。
(ニ)問題点を解決するための手段
本発明は、このような目的を達成するために、ベースの
表面に設けた凹部にたわみプレートを貼設して該凹部内
を真空間隙に形成するとともに、この真空間隙を挟むベ
ースとたわみプレートとに固定電極と可変位電極とを対
設してなる圧力センサの製造方法であって、前記ベース
に前記固定電極を設けるにさいし、まずベースの表面に
粗凹郡を設け1次にこの粗四部の底部に極薄の被覆膜を
積層して凹部深さを調節し、この被覆膜の積層体の上に
前記固定電極を設けるようにしたことを特徴としている
。
表面に設けた凹部にたわみプレートを貼設して該凹部内
を真空間隙に形成するとともに、この真空間隙を挟むベ
ースとたわみプレートとに固定電極と可変位電極とを対
設してなる圧力センサの製造方法であって、前記ベース
に前記固定電極を設けるにさいし、まずベースの表面に
粗凹郡を設け1次にこの粗四部の底部に極薄の被覆膜を
積層して凹部深さを調節し、この被覆膜の積層体の上に
前記固定電極を設けるようにしたことを特徴としている
。
(ホ)作用
すなわち、本発明の製造方法は、まずベースの表面に適
宜の手段により粗凹部を設け1次にアルコキシドの焼成
ガラスのような極薄の被覆膜の積層体をもって該粗凹部
を底上げするようにすることにより、従来の加工精度の
限界を超えて、固定電極が設けられるその凹部深さを自
在に調整できるようにしたものである。
宜の手段により粗凹部を設け1次にアルコキシドの焼成
ガラスのような極薄の被覆膜の積層体をもって該粗凹部
を底上げするようにすることにより、従来の加工精度の
限界を超えて、固定電極が設けられるその凹部深さを自
在に調整できるようにしたものである。
(へ)実施例
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は、先に第5図で示した従来法に係るものと勾比
して示すところの、本発明に係る圧力センサの構成を示
している。そこで、このものを例に、その製造工程を説
明すると、まず石英ガラス等からなるベース1の表面に
、従来と同様にして機械的な研削加工等により粗凹部2
を設けている。次にこの粗凹部2には、第2図に示すよ
うに、その底部に対して極薄の被覆膜3を多層に積層し
、それら積層体4で底部を底上げしている。
して示すところの、本発明に係る圧力センサの構成を示
している。そこで、このものを例に、その製造工程を説
明すると、まず石英ガラス等からなるベース1の表面に
、従来と同様にして機械的な研削加工等により粗凹部2
を設けている。次にこの粗凹部2には、第2図に示すよ
うに、その底部に対して極薄の被覆膜3を多層に積層し
、それら積層体4で底部を底上げしている。
この被覆膜3の積層数は、粗四部2の加工深さと設定電
極間距離に応じて適宜の暦数に選定される。また、この
被覆膜3を構成する物質としては、フラットな極薄膜の
ものに仕上げられて底上げ微調整が可能なものであると
同時に、望ましくはベース1と同質の絶縁材料を構成す
るものを使用する。いま、ベース1が石英ガラスである
場合について説明すると、かかる物質の好適な具体例と
して、Slのアルコキシドの焼成ガラスが挙げられる。
極間距離に応じて適宜の暦数に選定される。また、この
被覆膜3を構成する物質としては、フラットな極薄膜の
ものに仕上げられて底上げ微調整が可能なものであると
同時に、望ましくはベース1と同質の絶縁材料を構成す
るものを使用する。いま、ベース1が石英ガラスである
場合について説明すると、かかる物質の好適な具体例と
して、Slのアルコキシドの焼成ガラスが挙げられる。
すなわち、Siのアルコキシド(特にケイ酸エチル;
S i (OcJHf)4が好適である)は溶媒と共に
塗布して0.1〜0.24m程度の極めて薄い膜状体と
して均一に被覆することが容易にできるし、これを加水
分解させて焼成すると、最終的にべ−ス1と同質の5i
OJを構成することになるからである(ちなみに、この
Slのアルコキシド焼成ガラスによる積層体4では、被
覆Wt3とベース1および各被覆膜3同士が完全に一体
均質化することになる)。
S i (OcJHf)4が好適である)は溶媒と共に
塗布して0.1〜0.24m程度の極めて薄い膜状体と
して均一に被覆することが容易にできるし、これを加水
分解させて焼成すると、最終的にべ−ス1と同質の5i
OJを構成することになるからである(ちなみに、この
Slのアルコキシド焼成ガラスによる積層体4では、被
覆Wt3とベース1および各被覆膜3同士が完全に一体
均質化することになる)。
かくして、粗凹部2の底部を被覆膜3の積層体4で底−
ヒげし、その凹部深さを任意に調節したベース1には、
その積層体4の上に従来と同様にして固定電極5が設け
られ、さらにひき続き常法の如くしてたわみプレート6
が貼設される。すなわち、前記積層体4の上に金属蒸着
等によるコーティングで所要の固定電極5を設けるとと
もに、予めその内面所定位置に可変位電極7を設けであ
るたわみプレート6をベース1の表面に適宜接着剤(例
えば前記と同様のアルコキシド)を介し真空中で貼設一
体化することにより、その真空間隙8に電極5.7を対
設をしてなる圧力センサが得られる。このようにして得
られる圧力センサでは、その真空間隙8を挟む固定電極
5と可変位電極7との電極間距離りを、被覆層3の積層
により調節して従来品のそれよりも小さい(D < D
、)任意の微小間隔に制御することが容易に可能となる
。
ヒげし、その凹部深さを任意に調節したベース1には、
その積層体4の上に従来と同様にして固定電極5が設け
られ、さらにひき続き常法の如くしてたわみプレート6
が貼設される。すなわち、前記積層体4の上に金属蒸着
等によるコーティングで所要の固定電極5を設けるとと
もに、予めその内面所定位置に可変位電極7を設けであ
るたわみプレート6をベース1の表面に適宜接着剤(例
えば前記と同様のアルコキシド)を介し真空中で貼設一
体化することにより、その真空間隙8に電極5.7を対
設をしてなる圧力センサが得られる。このようにして得
られる圧力センサでは、その真空間隙8を挟む固定電極
5と可変位電極7との電極間距離りを、被覆層3の積層
により調節して従来品のそれよりも小さい(D < D
、)任意の微小間隔に制御することが容易に可能となる
。
次に、第3図、第4図に示される他の実施例について説
明する。本発明の製造方法では、ベース1に設けられる
四部の電極設置面に当る底部は、最終的には被覆膜3の
積層により任意の深さでかつフラットなものに仕上げる
ことが可能である。
明する。本発明の製造方法では、ベース1に設けられる
四部の電極設置面に当る底部は、最終的には被覆膜3の
積層により任意の深さでかつフラットなものに仕上げる
ことが可能である。
従って、ベース1に最初の工程で設ける粗凹部2は、左
程の加工精度を必要とせず、それ数種々の簡便な加工手
段を採用することが可能である。
程の加工精度を必要とせず、それ数種々の簡便な加工手
段を採用することが可能である。
第3図に示す圧力センサの例では、その粗凹部2−1を
円弧面に成形するようにして凹設し、その底部を被覆膜
3の積層体4で平坦化している。つまり、このようにす
ると、ベースlに対する加工の便宜が図られる。
円弧面に成形するようにして凹設し、その底部を被覆膜
3の積層体4で平坦化している。つまり、このようにす
ると、ベースlに対する加工の便宜が図られる。
また、第4図に示すものの例では、ベース1のプレーン
面に別体の薄膜リング状のスペーサ9を貼設して所要の
粗凹部2−2を設けるようにしている。この場合では、
研削加工を必要としないから加工の簡便化が期待できる
。
面に別体の薄膜リング状のスペーサ9を貼設して所要の
粗凹部2−2を設けるようにしている。この場合では、
研削加工を必要としないから加工の簡便化が期待できる
。
なお、以上に述べた実施例では、ベース1に石英ガラス
を用いる場合を例に一説明したか、ベース1の材質は勿
論これに限定されず、その他種々の材料が使用できる。
を用いる場合を例に一説明したか、ベース1の材質は勿
論これに限定されず、その他種々の材料が使用できる。
そして、特にガラス質のもののベース材料の場合では、
やはりその成分に対応するアルコキシドの焼成ガラスを
被覆膜3の構成材料とすればよい6例えば、AItO,
系ガラスに対しては、A1のアルコキシドの焼成ガラス
をもって被覆膜3を構成するのである。
やはりその成分に対応するアルコキシドの焼成ガラスを
被覆膜3の構成材料とすればよい6例えば、AItO,
系ガラスに対しては、A1のアルコキシドの焼成ガラス
をもって被覆膜3を構成するのである。
(ト)発明の詳細
な説明したように、本発明の製造方法では、ベース表面
にまず粗凹部を設け、次いでその凹部深さを極薄の被覆
膜を積層して調節し、その上に固定電極を設けるように
したものであるから、圧力センサとしてその電極間距離
を狭ばめたもの、つまり非常に高感度のものをつくり出
すことが可能である。そして、その製造工程においては
、粗四部の形成にあまり加工精度を要求されなくなるか
ら、この魚加工上有利であるし、また最終的に真空間隙
乃至電極間距離を決定するその凹部深さは、被覆膜によ
り微調整できるから品質安定化の上でも好都合なもので
ある。
にまず粗凹部を設け、次いでその凹部深さを極薄の被覆
膜を積層して調節し、その上に固定電極を設けるように
したものであるから、圧力センサとしてその電極間距離
を狭ばめたもの、つまり非常に高感度のものをつくり出
すことが可能である。そして、その製造工程においては
、粗四部の形成にあまり加工精度を要求されなくなるか
ら、この魚加工上有利であるし、また最終的に真空間隙
乃至電極間距離を決定するその凹部深さは、被覆膜によ
り微調整できるから品質安定化の上でも好都合なもので
ある。
第1図は、本発明の一実施例に係る圧力センサの構造を
示す概略断面図であり、第2図は、その要部拡大図であ
る。第3図と第4図は、本発明の他の実施例に係る圧力
センサの構造を示す各概略断面図である。第5図は、従
来法により得られる圧力センサの構造を示す概略断面図
である。 1・・・ベース 2.2−1. 2−2・・・粗凹部 3・・・被覆膜 4・・・積層体 5・・拳固定電極 6O拳・たわみプレート 7・・・可変位電極 8・・・真空間隙9・・争スペー
サ。
示す概略断面図であり、第2図は、その要部拡大図であ
る。第3図と第4図は、本発明の他の実施例に係る圧力
センサの構造を示す各概略断面図である。第5図は、従
来法により得られる圧力センサの構造を示す概略断面図
である。 1・・・ベース 2.2−1. 2−2・・・粗凹部 3・・・被覆膜 4・・・積層体 5・・拳固定電極 6O拳・たわみプレート 7・・・可変位電極 8・・・真空間隙9・・争スペー
サ。
Claims (2)
- (1)ベースの表面に設けた凹部にたわみプレートを貼
設して該凹部内を真空間隙に形成するとともに、この真
空間隙を挟むベースとたわみプレートとに固定電極と可
変位電極とを対設してなる圧力センサの製造方法であっ
て、前記ベースに前記固定電極を設けるにさいし、まず
ベースの表面に粗凹部を設け、次にこの粗凹部の底部に
極薄の被覆膜を積層して凹部深さを調節し、この被覆膜
の積層体の上に前記固定電極を設けるようにしたことを
特徴とする圧力センサの製造方法。 - (2)ベースがガラスからなり、被覆膜がアルコキシド
の焼成ガラスからなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の圧力センサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13152484A JPS6110736A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 圧力センサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13152484A JPS6110736A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 圧力センサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6110736A true JPS6110736A (ja) | 1986-01-18 |
JPH0580609B2 JPH0580609B2 (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=15060071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13152484A Granted JPS6110736A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 圧力センサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6110736A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002036521A1 (fr) * | 2000-10-27 | 2002-05-10 | Yamatake Corporation | Materiau de jointoiement et procede associe |
EP1653209A1 (en) * | 2003-07-03 | 2006-05-03 | Toyo Communication Equipment Co., Ltd. | Quartz type pressure sensor, and production method therefor |
US7809089B2 (en) | 2004-03-12 | 2010-10-05 | University Of Tsukuba | Decorrelating discrimination system of code division multiple access signals |
WO2011006741A1 (de) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | Endress+Hauser Gmbh+Co. Kg | Kapazitive keramische druckmesszelle und drucksensor mit einer solchen druckmesszelle |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5942938U (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | 松下電器産業株式会社 | 静電容量型圧力センサ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5942938B2 (ja) * | 1979-05-31 | 1984-10-18 | 松下電工株式会社 | ブレ−カのトリツプ機構 |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP13152484A patent/JPS6110736A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5942938U (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | 松下電器産業株式会社 | 静電容量型圧力センサ |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2002036521A1 (fr) * | 2000-10-27 | 2002-05-10 | Yamatake Corporation | Materiau de jointoiement et procede associe |
US7198666B2 (en) | 2000-10-27 | 2007-04-03 | Yamatake Corporation | Jointing material comprising a mixture of boron oxide and aluminum oxide and method of jointing utilizing said jointing material |
EP1653209A1 (en) * | 2003-07-03 | 2006-05-03 | Toyo Communication Equipment Co., Ltd. | Quartz type pressure sensor, and production method therefor |
EP1653209A4 (en) * | 2003-07-03 | 2007-03-07 | Toyo Communication Equip | QUARTZ TYPE PRESSURE SENSOR, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
US7809089B2 (en) | 2004-03-12 | 2010-10-05 | University Of Tsukuba | Decorrelating discrimination system of code division multiple access signals |
WO2011006741A1 (de) * | 2009-07-15 | 2011-01-20 | Endress+Hauser Gmbh+Co. Kg | Kapazitive keramische druckmesszelle und drucksensor mit einer solchen druckmesszelle |
US8966989B2 (en) | 2009-07-15 | 2015-03-03 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Capacitive ceramic pressure measuring cell and pressure sensor with such a pressure measuring cell |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0580609B2 (ja) | 1993-11-09 |
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