JPS61106544A - 第四級アンモニウム塩の製造法 - Google Patents
第四級アンモニウム塩の製造法Info
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- JPS61106544A JPS61106544A JP22863684A JP22863684A JPS61106544A JP S61106544 A JPS61106544 A JP S61106544A JP 22863684 A JP22863684 A JP 22863684A JP 22863684 A JP22863684 A JP 22863684A JP S61106544 A JPS61106544 A JP S61106544A
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- quaternary ammonium
- reaction
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は第四級アンモニウム塩の製造法に関する。
従来、第四級アンモニウム塩は乳化剤、帯′電防止剤、
柔軟剤、殺菌剤等に広く利用されている。
柔軟剤、殺菌剤等に広く利用されている。
第四級アンモニウム塩を製造する方法としては、三級ア
ミンをアルキルハロダン化物、蝋酸又はスルホン鍍エス
テル等のアルキル化剤を用いてアルギル化する方法が一
般的であへ るが、もう一つ簡便な方法として三級アミン七 塩とエポキシドとを反応させる方法が知られている(
J、 Goerdeler著、Wouben weyl
。
ミンをアルキルハロダン化物、蝋酸又はスルホン鍍エス
テル等のアルキル化剤を用いてアルギル化する方法が一
般的であへ るが、もう一つ簡便な方法として三級アミン七 塩とエポキシドとを反応させる方法が知られている(
J、 Goerdeler著、Wouben weyl
。
11/2、p592)。通常、この三級アミン塩とエポ
キシドとの反応は水浴奴中で行なわれており、目的とす
る第四級アンモニウム塩を水溶液としてかなり好収石で
得たという報告もある(特開昭5g−46029号)。
キシドとの反応は水浴奴中で行なわれており、目的とす
る第四級アンモニウム塩を水溶液としてかなり好収石で
得たという報告もある(特開昭5g−46029号)。
しかしながら、水溶准中での反応は、第四級アンモニウ
ム塩の単離及び濃権において水を留去する必要があるた
め、工業的には不利である。特に炭素数8以上のアルキ
ル鎖を有する三級アミンを用いる場合は、三級アミン塩
を溶解させるのく多重の水を必要とし、水の留去に多大
の労力fceする。−万、M機溶媒中での反工5は、ハ
ロヒドリン寺の副生物のために第四級アンモニウム塩の
収率が低下するという欠点を有する。
ム塩の単離及び濃権において水を留去する必要があるた
め、工業的には不利である。特に炭素数8以上のアルキ
ル鎖を有する三級アミンを用いる場合は、三級アミン塩
を溶解させるのく多重の水を必要とし、水の留去に多大
の労力fceする。−万、M機溶媒中での反工5は、ハ
ロヒドリン寺の副生物のために第四級アンモニウム塩の
収率が低下するという欠点を有する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者は、斯かる問題点を解決すべく鋭意研究の枯果
、第三級アミン、酸及びエポキシドを反応させて第四級
アンモニウム塩を製造するにあたり、少量の水を含有す
る慢性有機1存媒を用い、過剰の第三級アミンを用いる
ことにより、非蕗に温和な条件で、しかも扁収率で目的
とする第四級アンモニウム塩が傅られることを見出し、
本発明を完成した。
、第三級アミン、酸及びエポキシドを反応させて第四級
アンモニウム塩を製造するにあたり、少量の水を含有す
る慢性有機1存媒を用い、過剰の第三級アミンを用いる
ことにより、非蕗に温和な条件で、しかも扁収率で目的
とする第四級アンモニウム塩が傅られることを見出し、
本発明を完成した。
すなわち、本発明は次式
%式%(
(式中、Rt 、R2、Rsは各々同−看しくけ異なっ
て、炭素数1〜24の炭化水素基若しくはアルケニル基
を示す) で表わされる三級アミン(II)、d及びエポキシド(
1)を、少量の水を含有す、る水性有機溶媒中で三級ア
ミンが酸及びエポキシドに対し過剰量存在する条件下反
応させて第四級アンモニウム塩(1)を製造する方法で
ある。
て、炭素数1〜24の炭化水素基若しくはアルケニル基
を示す) で表わされる三級アミン(II)、d及びエポキシド(
1)を、少量の水を含有す、る水性有機溶媒中で三級ア
ミンが酸及びエポキシドに対し過剰量存在する条件下反
応させて第四級アンモニウム塩(1)を製造する方法で
ある。
本発明方法は次の反応式によって示される。
R3R1
(10II) (1)(式中、R
4は炭素数1〜24のアルキル基若しくはアルコキシメ
チル基、Aeは無機アニオン又はX=アニオンを示し、
Rt 、Rz 、Rsは前記と同じ意味を有する) 本発明に用いる三級アミン(II +としては、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルエチルアミン
、ゾメチルブチルγミン、ジメチルオクチルアミン、ジ
メチルドデシルアミン、ジメチルステアリルアミン、ジ
エチルヘキサデシルアミン等が挙げられる。
4は炭素数1〜24のアルキル基若しくはアルコキシメ
チル基、Aeは無機アニオン又はX=アニオンを示し、
Rt 、Rz 、Rsは前記と同じ意味を有する) 本発明に用いる三級アミン(II +としては、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルエチルアミン
、ゾメチルブチルγミン、ジメチルオクチルアミン、ジ
メチルドデシルアミン、ジメチルステアリルアミン、ジ
エチルヘキサデシルアミン等が挙げられる。
本発明に用いる工?キシド(1)としては、例えばゾロ
ビレ/オキシド、ブチレンオキシド、1.2−工?キシ
デカン、1,2−エポキシオクタデカン寺のα−オレフ
ィンオキサイド、)、i 類;メ7″グリ″″”
−7′・ ”7′グリシゾルエーテル、ブチルグリシゾ
ルエーテル、オクチルグリシゾルエーテル、ドデシルグ
リシゾルエーテル、ヘキサデシルグリシゾルエーテル、
オクタデシルグリンゾルエーテル、オクチルグリシゾル
エーテル、2−エチルへキシルグリシゾルエーテル、2
−オクチルデシルグリシゾルエーテル、5 e 717
− トIJメチル−2−(1,3,3−トリメチルブチ
ル)オクチルグリシゾルエーテル、次式(式中、rfi
、 nはm + n = 14の整数であって、m=n
=7i頂点とする分布を有する)で表わされるメチル分
岐インステアリルグリシゾルエーテル等のグリシゾルエ
ーテルが草げられ、就中、炭素数8〜18の飽和若しく
は不飽和の直鎖グリシゾルエーテルが好ましい。
ビレ/オキシド、ブチレンオキシド、1.2−工?キシ
デカン、1,2−エポキシオクタデカン寺のα−オレフ
ィンオキサイド、)、i 類;メ7″グリ″″”
−7′・ ”7′グリシゾルエーテル、ブチルグリシゾ
ルエーテル、オクチルグリシゾルエーテル、ドデシルグ
リシゾルエーテル、ヘキサデシルグリシゾルエーテル、
オクタデシルグリンゾルエーテル、オクチルグリシゾル
エーテル、2−エチルへキシルグリシゾルエーテル、2
−オクチルデシルグリシゾルエーテル、5 e 717
− トIJメチル−2−(1,3,3−トリメチルブチ
ル)オクチルグリシゾルエーテル、次式(式中、rfi
、 nはm + n = 14の整数であって、m=n
=7i頂点とする分布を有する)で表わされるメチル分
岐インステアリルグリシゾルエーテル等のグリシゾルエ
ーテルが草げられ、就中、炭素数8〜18の飽和若しく
は不飽和の直鎖グリシゾルエーテルが好ましい。
また、本発明に用いる酸としては、例えば塩酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸、硝酸、硫cR等の
無機酸:酢酸、ギ酸、コハク酸、安息香酸、及びp−)
ルエンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有機酸が挙げ
られる。
素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸、硝酸、硫cR等の
無機酸:酢酸、ギ酸、コハク酸、安息香酸、及びp−)
ルエンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有機酸が挙げ
られる。
本発明に用いる水性有機溶媒としては、メタノール、エ
タノール、イソテロノqノール、5ee−ブタノール、
tert−ブタノール、tert−アミルアルコール、
トリエチルカルビノール等のアルコール類:ジメチルス
ルホキシド、スルホ2ン券のスルホキシド類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセドアミド等のアミド類;ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類等が挙げ
られ、就中特にメタノール、エタノール、イ°ソゾロ/
Qノール等の炭素数1〜6の低級アルコール類は、三級
アミンの溶解性が大きく、シかも反応処理時の溶媒留去
が容易であるので好ましい。水はポ性M機溶媒中に、三
級アミン(U)に対し5〜20倍モル、特に5〜10倍
モル含有せしめるのが好ましい。なお、ここでいう水に
は酸に含まれる水も含むものとする。水の鼠がこれより
少ないとハロヒドリン等が副生じ、目的物(1)の収墨
が低下するため好ましくない。
タノール、イソテロノqノール、5ee−ブタノール、
tert−ブタノール、tert−アミルアルコール、
トリエチルカルビノール等のアルコール類:ジメチルス
ルホキシド、スルホ2ン券のスルホキシド類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセドアミド等のアミド類;ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類等が挙げ
られ、就中特にメタノール、エタノール、イ°ソゾロ/
Qノール等の炭素数1〜6の低級アルコール類は、三級
アミンの溶解性が大きく、シかも反応処理時の溶媒留去
が容易であるので好ましい。水はポ性M機溶媒中に、三
級アミン(U)に対し5〜20倍モル、特に5〜10倍
モル含有せしめるのが好ましい。なお、ここでいう水に
は酸に含まれる水も含むものとする。水の鼠がこれより
少ないとハロヒドリン等が副生じ、目的物(1)の収墨
が低下するため好ましくない。
本発明においては、三級アミン叩けば及び二?キシドに
対し過剰菫使用され、好筐しくけこれらの1.05〜1
.5倍モル、特に好ましくは1.1−1.3倍モル便用
される。未反応のアミンは再結晶時に容易に除去でき、
また反応終了後、酸を用いて中和処理することもできる
。反応昌度は40〜80℃、好ましくは50〜60℃で
あり、温和な粂注下で、しかも2〜3時間の短時間に反
応を行なうことができる。反応終了後、反応液から有機
溶媒を留去することにより、目的とする第四級アンモニ
ウム塩の高濃度水浴液を得る。史に、この水溶液から酢
ばエチル、n−ヘキサン等の溶媒を用いて枯菌化を行な
えば、第四級アンモニウム塩の白色粉末が単離される。
対し過剰菫使用され、好筐しくけこれらの1.05〜1
.5倍モル、特に好ましくは1.1−1.3倍モル便用
される。未反応のアミンは再結晶時に容易に除去でき、
また反応終了後、酸を用いて中和処理することもできる
。反応昌度は40〜80℃、好ましくは50〜60℃で
あり、温和な粂注下で、しかも2〜3時間の短時間に反
応を行なうことができる。反応終了後、反応液から有機
溶媒を留去することにより、目的とする第四級アンモニ
ウム塩の高濃度水浴液を得る。史に、この水溶液から酢
ばエチル、n−ヘキサン等の溶媒を用いて枯菌化を行な
えば、第四級アンモニウム塩の白色粉末が単離される。
以上の1 反応牧から精品の単離に至る操作は、
溶媒が[1 ) 有機溶媒であり、これに含まれる水も少量で
あるので、きわめて容易に行なうことができる。
溶媒が[1 ) 有機溶媒であり、これに含まれる水も少量で
あるので、きわめて容易に行なうことができる。
本発明によれば、従来の方法に比較して、温和な条件で
短時間のうちに目的とする第四級アンモニウム塩を合成
することができ、しかも反応終了後の有機溶媒の留去も
ノ1常に容易であり、かつ、反応系に會まれろ水が少量
であるが故に果四級アンモニウム塩の尚一度水洛液が得
られる之め、高収率で第四級アンモニウム塩を単離する
ことができる。
短時間のうちに目的とする第四級アンモニウム塩を合成
することができ、しかも反応終了後の有機溶媒の留去も
ノ1常に容易であり、かつ、反応系に會まれろ水が少量
であるが故に果四級アンモニウム塩の尚一度水洛液が得
られる之め、高収率で第四級アンモニウム塩を単離する
ことができる。
次に実施例及び比較例を挙げて本発明を説明する。
実施例1
速流冷却器、滴下ロート、llli度計、撹拌装置を備
えた300rn1.反応容器にジメチルドデシルアミン
25.7 f (0,12モル)、ン昏媒としてインプ
ロピルアルコール50?及び次に加える塩酸に含まれる
水と合せた水の量がジメチルドデシルアミンに対し8倍
モルとなるように水10.3r(0,60モル)を加え
、攪拌しながら10℃以下に冷却する。次いで滴下ロー
トより36%塩酸10.1 r CHCJとしてo、
i oモル、水5.5f(0,36モル)を含む〕を少
しずつ部下する。滴下終了後、反応混合′$IJを徐々
に加温せしめ、50〜55℃に保つ。
えた300rn1.反応容器にジメチルドデシルアミン
25.7 f (0,12モル)、ン昏媒としてインプ
ロピルアルコール50?及び次に加える塩酸に含まれる
水と合せた水の量がジメチルドデシルアミンに対し8倍
モルとなるように水10.3r(0,60モル)を加え
、攪拌しながら10℃以下に冷却する。次いで滴下ロー
トより36%塩酸10.1 r CHCJとしてo、
i oモル、水5.5f(0,36モル)を含む〕を少
しずつ部下する。滴下終了後、反応混合′$IJを徐々
に加温せしめ、50〜55℃に保つ。
仄いて滴下ロートよりオクチルグリシゾルエーテル18
.6F(0,10モル)全約20分を峨して滴下する。
.6F(0,10モル)全約20分を峨して滴下する。
滴下5終了後、2時間50〜55℃で侃拌金つづける。
反応混合物のガスクロマトグラフ分析よりオクチルグリ
シゾルエーテルがほぼ消失したところで反応混合物を冷
却し、減圧下にインデロノ。ノールを留去せしめる。イ
ンゾロノQノールの留出がほとんど認められなくなると
ともに、白色グル状の固形物が得られる。この固形物を
ry−酸エチルおよびn−ヘキサンを用いて再結晶せし
めるコトニヨリ、目的とす、る2 −ヒ)’ Oキシ−
3−オクチロキシプロピルゾメチルドデシルアンモニウ
ムクロリド40.8F(0,094モル)の白色粉末?
得た(収ぶ94%〕。
シゾルエーテルがほぼ消失したところで反応混合物を冷
却し、減圧下にインデロノ。ノールを留去せしめる。イ
ンゾロノQノールの留出がほとんど認められなくなると
ともに、白色グル状の固形物が得られる。この固形物を
ry−酸エチルおよびn−ヘキサンを用いて再結晶せし
めるコトニヨリ、目的とす、る2 −ヒ)’ Oキシ−
3−オクチロキシプロピルゾメチルドデシルアンモニウ
ムクロリド40.8F(0,094モル)の白色粉末?
得た(収ぶ94%〕。
融点:116〜12oc
7c累分析I直:
068.5・!(68,84%)、H12,7%(12
,48%)、N3.2%(3,21%)、C/ 8.
Q%(8,13%)(但し、括弧内は計−痺値をホす。
,48%)、N3.2%(3,21%)、C/ 8.
Q%(8,13%)(但し、括弧内は計−痺値をホす。
以下同じ、〕水酸基価:126(128,6)
IR(α−1):
3650〜3150.2920.2850.1610.
1460.1400.1105.1075.1050.
925.720 ’ H−NMR(δppm ) : 5.98(d)IH,4,1〜4.6(m)LH,3,
1〜 □3、7 (m ) 14 HlL O〜1.
7 (rn ) 32 H%o、87(t)6H 比較例1 塩酸に含まれる水以外に水ヲ祭加しないことを除き実施
例1と同じ反応装置、反応条件(モル比、反応温度等)
で反応を行ない、目9..1 °“″“2−e l”0
17−3−′”°゛′′ゾロピルゾメチルドデシルアン
モニウムクロリド35f(0,082モル)の白色粉末
を得た。収惠82%であり、実施例1に比べ副生物(王
としてクロロヒドリン)による収率低下が認められた。
1460.1400.1105.1075.1050.
925.720 ’ H−NMR(δppm ) : 5.98(d)IH,4,1〜4.6(m)LH,3,
1〜 □3、7 (m ) 14 HlL O〜1.
7 (rn ) 32 H%o、87(t)6H 比較例1 塩酸に含まれる水以外に水ヲ祭加しないことを除き実施
例1と同じ反応装置、反応条件(モル比、反応温度等)
で反応を行ない、目9..1 °“″“2−e l”0
17−3−′”°゛′′ゾロピルゾメチルドデシルアン
モニウムクロリド35f(0,082モル)の白色粉末
を得た。収惠82%であり、実施例1に比べ副生物(王
としてクロロヒドリン)による収率低下が認められた。
実施例2
実施例1で用いたオクチルグリシゾルエーテルに代えて
ヘキサデシルグリシゾルエーテル59.6f(0,20
0モル)を用い、実施例1と同様な反応湊直昆ひに反応
条件で反応を行ない、酢酸エチルより再結晶して、2−
ヒドロキシ−3−ヘキサビンロキシプロビルゾメチルド
デシルアンモニウムクロリド98.5S’(0,180
モル)の白色粉末を得た(収率90%)。
ヘキサデシルグリシゾルエーテル59.6f(0,20
0モル)を用い、実施例1と同様な反応湊直昆ひに反応
条件で反応を行ない、酢酸エチルより再結晶して、2−
ヒドロキシ−3−ヘキサビンロキシプロビルゾメチルド
デシルアンモニウムクロリド98.5S’(0,180
モル)の白色粉末を得た(収率90%)。
役点:113〜116℃
元累分析III!:
C72,0%(72,28%)、H13,0%(12,
87%)、N 2.6囁(2,55%)、C/ 6.
4%(6,47%)水酸基価:100.7(102,3
) IR(crn−”): 3650〜3150.2925.2850.1610.
1460.1400,1105.1075.1050.
925.720 五H−NMR(δ ppm ) : 5.98 (d ) LH,4,1〜4.6 (m )
IFi、 3.0〜3.7 (m) 14H,1,0
〜1.5 (m ) 48H。
87%)、N 2.6囁(2,55%)、C/ 6.
4%(6,47%)水酸基価:100.7(102,3
) IR(crn−”): 3650〜3150.2925.2850.1610.
1460.1400,1105.1075.1050.
925.720 五H−NMR(δ ppm ) : 5.98 (d ) LH,4,1〜4.6 (m )
IFi、 3.0〜3.7 (m) 14H,1,0
〜1.5 (m ) 48H。
0.87(t)6H
実施例3
実施例1で用いたジメチルドデシルアミンに代えてツメ
チルオクタデシルアミン71.4? (0,24モル)
を用い、実施例1と同様な反応@置並びに反応条件で反
応を行ない、酢酸エチルより再結晶して2−ヒドロキシ
−3−オフチロキンプロビルジメチルオクタデシルアン
モニウムクロリド95.79(0,184モル)の白色
粉末?得た。(収率92チ)。
チルオクタデシルアミン71.4? (0,24モル)
を用い、実施例1と同様な反応@置並びに反応条件で反
応を行ない、酢酸エチルより再結晶して2−ヒドロキシ
−3−オフチロキンプロビルジメチルオクタデシルアン
モニウムクロリド95.79(0,184モル)の白色
粉末?得た。(収率92チ)。
融点:106〜110℃
元累分析頭:
C71,1%(71,56%)、HI3.8%(12−
79%)、N 2.6%(2,69悌)、CI 6.
7%(6,81%)水酸基価:107.0(107,8
) IR(cm″″L): 3650〜3150.2925.2850.1610゜
1470.1400.1105.1075.1050.
925.710 ’H−NMR(δppm ) : 6.00(m)LH,4,1〜4.6(m)IH,3,
0〜3.7(m)4H% 1.1〜1.7(m)52H
。
79%)、N 2.6%(2,69悌)、CI 6.
7%(6,81%)水酸基価:107.0(107,8
) IR(cm″″L): 3650〜3150.2925.2850.1610゜
1470.1400.1105.1075.1050.
925.710 ’H−NMR(δppm ) : 6.00(m)LH,4,1〜4.6(m)IH,3,
0〜3.7(m)4H% 1.1〜1.7(m)52H
。
0.87(m)6H
実施例4
実施例1で用いた36%塩酸に代えて、匪酵6.Of
(0,10モル)を用い、実施例1と同様な反応装置お
よび反応条件で反応を行ない2−ヒドロヤシ−3−オク
チロキシゾロピルゾメチルドデシルアンモニウムアセテ
ート44.1 ? (0,096モル)を得た(収ぷ9
6%)。
(0,10モル)を用い、実施例1と同様な反応装置お
よび反応条件で反応を行ない2−ヒドロヤシ−3−オク
チロキシゾロピルゾメチルドデシルアンモニウムアセテ
ート44.1 ? (0,096モル)を得た(収ぷ9
6%)。
元累分析1直:
C70,5%(70,54%)、H12,8%(12,
50慢)、N 2.9%(3−05%) 水酸基価:119(122,0) IR(cIn−1): 3650〜3150,2925.2850,1610.
1600.1460.1390.1105.1075.
925.720 1)1−N、MR(δ ppm ) :5.4(br)
LH,3,2〜4.6(m)15H。
50慢)、N 2.9%(3−05%) 水酸基価:119(122,0) IR(cIn−1): 3650〜3150,2925.2850,1610.
1600.1460.1390.1105.1075.
925.720 1)1−N、MR(δ ppm ) :5.4(br)
LH,3,2〜4.6(m)15H。
1.94(s)3H,1,1〜1.7(m)32H。
0.87(t)6H
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3は各々同一若しくは異
なつて、炭素数1〜24の炭化水素基若しくはアルケニ
ル基を示す) で表わされる三級アミン、酸及びエポキシドを、少量の
水を含有する極性有機溶媒中で三級アミンが酸及びエポ
キシドに対し過剰量存在する条件下反応させることを特
徴とする第四級アンモニウム塩の製造法。 2、極性有機溶媒が、酸に含まれる水を含めて、三級ア
ミンに対し5〜20倍モルとなる量の水を含有する特許
請求の範囲第1項記載の第四級アンモニウム塩の製造法
。 3、第四級アンモニウム塩が次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4は炭素数1〜24のアルキル基若しくは
アルコキシメチル基、A^■は無機アニオン又は有機ア
ニオンを示し、R_1、R_2、R_3は前記と同じ意
味を有する) で表わされるものである特許請求の範囲第1項記載の第
四級アンモニウム塩の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22863684A JPS61106544A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 第四級アンモニウム塩の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22863684A JPS61106544A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 第四級アンモニウム塩の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS61106544A true JPS61106544A (ja) | 1986-05-24 |
Family
ID=16879445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP22863684A Pending JPS61106544A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 第四級アンモニウム塩の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61106544A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1984
- 1984-10-30 JP JP22863684A patent/JPS61106544A/ja active Pending
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