JPS61106544A - 第四級アンモニウム塩の製造法 - Google Patents

第四級アンモニウム塩の製造法

Info

Publication number
JPS61106544A
JPS61106544A JP22863684A JP22863684A JPS61106544A JP S61106544 A JPS61106544 A JP S61106544A JP 22863684 A JP22863684 A JP 22863684A JP 22863684 A JP22863684 A JP 22863684A JP S61106544 A JPS61106544 A JP S61106544A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
tertiary amine
quaternary ammonium
reaction
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22863684A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Yano
真司 矢野
Akira Kawamata
章 川俣
Naotake Takaishi
高石 尚武
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP22863684A priority Critical patent/JPS61106544A/ja
Publication of JPS61106544A publication Critical patent/JPS61106544A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は第四級アンモニウム塩の製造法に関する。
〔従来の技術〕
従来、第四級アンモニウム塩は乳化剤、帯′電防止剤、
柔軟剤、殺菌剤等に広く利用されている。
第四級アンモニウム塩を製造する方法としては、三級ア
ミンをアルキルハロダン化物、蝋酸又はスルホン鍍エス
テル等のアルキル化剤を用いてアルギル化する方法が一
般的であへ るが、もう一つ簡便な方法として三級アミン七 塩とエポキシドとを反応させる方法が知られている( 
J、 Goerdeler著、Wouben weyl
 。
11/2、p592)。通常、この三級アミン塩とエポ
キシドとの反応は水浴奴中で行なわれており、目的とす
る第四級アンモニウム塩を水溶液としてかなり好収石で
得たという報告もある(特開昭5g−46029号)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、水溶准中での反応は、第四級アンモニウ
ム塩の単離及び濃権において水を留去する必要があるた
め、工業的には不利である。特に炭素数8以上のアルキ
ル鎖を有する三級アミンを用いる場合は、三級アミン塩
を溶解させるのく多重の水を必要とし、水の留去に多大
の労力fceする。−万、M機溶媒中での反工5は、ハ
ロヒドリン寺の副生物のために第四級アンモニウム塩の
収率が低下するという欠点を有する。
〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は、斯かる問題点を解決すべく鋭意研究の枯果
、第三級アミン、酸及びエポキシドを反応させて第四級
アンモニウム塩を製造するにあたり、少量の水を含有す
る慢性有機1存媒を用い、過剰の第三級アミンを用いる
ことにより、非蕗に温和な条件で、しかも扁収率で目的
とする第四級アンモニウム塩が傅られることを見出し、
本発明を完成した。
すなわち、本発明は次式 %式%( (式中、Rt 、R2、Rsは各々同−看しくけ異なっ
て、炭素数1〜24の炭化水素基若しくはアルケニル基
を示す) で表わされる三級アミン(II)、d及びエポキシド(
1)を、少量の水を含有す、る水性有機溶媒中で三級ア
ミンが酸及びエポキシドに対し過剰量存在する条件下反
応させて第四級アンモニウム塩(1)を製造する方法で
ある。
本発明方法は次の反応式によって示される。
R3R1 (10II)           (1)(式中、R
4は炭素数1〜24のアルキル基若しくはアルコキシメ
チル基、Aeは無機アニオン又はX=アニオンを示し、
Rt 、Rz 、Rsは前記と同じ意味を有する) 本発明に用いる三級アミン(II +としては、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルエチルアミン
、ゾメチルブチルγミン、ジメチルオクチルアミン、ジ
メチルドデシルアミン、ジメチルステアリルアミン、ジ
エチルヘキサデシルアミン等が挙げられる。
本発明に用いる工?キシド(1)としては、例えばゾロ
ビレ/オキシド、ブチレンオキシド、1.2−工?キシ
デカン、1,2−エポキシオクタデカン寺のα−オレフ
ィンオキサイド、)、i    類;メ7″グリ″″”
−7′・ ”7′グリシゾルエーテル、ブチルグリシゾ
ルエーテル、オクチルグリシゾルエーテル、ドデシルグ
リシゾルエーテル、ヘキサデシルグリシゾルエーテル、
オクタデシルグリンゾルエーテル、オクチルグリシゾル
エーテル、2−エチルへキシルグリシゾルエーテル、2
−オクチルデシルグリシゾルエーテル、5 e 717
− トIJメチル−2−(1,3,3−トリメチルブチ
ル)オクチルグリシゾルエーテル、次式(式中、rfi
、 nはm + n = 14の整数であって、m=n
=7i頂点とする分布を有する)で表わされるメチル分
岐インステアリルグリシゾルエーテル等のグリシゾルエ
ーテルが草げられ、就中、炭素数8〜18の飽和若しく
は不飽和の直鎖グリシゾルエーテルが好ましい。
また、本発明に用いる酸としては、例えば塩酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸、硝酸、硫cR等の
無機酸:酢酸、ギ酸、コハク酸、安息香酸、及びp−)
ルエンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有機酸が挙げ
られる。
本発明に用いる水性有機溶媒としては、メタノール、エ
タノール、イソテロノqノール、5ee−ブタノール、
tert−ブタノール、tert−アミルアルコール、
トリエチルカルビノール等のアルコール類:ジメチルス
ルホキシド、スルホ2ン券のスルホキシド類;ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセドアミド等のアミド類;ア
セトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類等が挙げ
られ、就中特にメタノール、エタノール、イ°ソゾロ/
Qノール等の炭素数1〜6の低級アルコール類は、三級
アミンの溶解性が大きく、シかも反応処理時の溶媒留去
が容易であるので好ましい。水はポ性M機溶媒中に、三
級アミン(U)に対し5〜20倍モル、特に5〜10倍
モル含有せしめるのが好ましい。なお、ここでいう水に
は酸に含まれる水も含むものとする。水の鼠がこれより
少ないとハロヒドリン等が副生じ、目的物(1)の収墨
が低下するため好ましくない。
本発明においては、三級アミン叩けば及び二?キシドに
対し過剰菫使用され、好筐しくけこれらの1.05〜1
.5倍モル、特に好ましくは1.1−1.3倍モル便用
される。未反応のアミンは再結晶時に容易に除去でき、
また反応終了後、酸を用いて中和処理することもできる
。反応昌度は40〜80℃、好ましくは50〜60℃で
あり、温和な粂注下で、しかも2〜3時間の短時間に反
応を行なうことができる。反応終了後、反応液から有機
溶媒を留去することにより、目的とする第四級アンモニ
ウム塩の高濃度水浴液を得る。史に、この水溶液から酢
ばエチル、n−ヘキサン等の溶媒を用いて枯菌化を行な
えば、第四級アンモニウム塩の白色粉末が単離される。
以上の1    反応牧から精品の単離に至る操作は、
溶媒が[1 )    有機溶媒であり、これに含まれる水も少量で
あるので、きわめて容易に行なうことができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、従来の方法に比較して、温和な条件で
短時間のうちに目的とする第四級アンモニウム塩を合成
することができ、しかも反応終了後の有機溶媒の留去も
ノ1常に容易であり、かつ、反応系に會まれろ水が少量
であるが故に果四級アンモニウム塩の尚一度水洛液が得
られる之め、高収率で第四級アンモニウム塩を単離する
ことができる。
〔実施例〕
次に実施例及び比較例を挙げて本発明を説明する。
実施例1 速流冷却器、滴下ロート、llli度計、撹拌装置を備
えた300rn1.反応容器にジメチルドデシルアミン
25.7 f (0,12モル)、ン昏媒としてインプ
ロピルアルコール50?及び次に加える塩酸に含まれる
水と合せた水の量がジメチルドデシルアミンに対し8倍
モルとなるように水10.3r(0,60モル)を加え
、攪拌しながら10℃以下に冷却する。次いで滴下ロー
トより36%塩酸10.1 r CHCJとしてo、 
i oモル、水5.5f(0,36モル)を含む〕を少
しずつ部下する。滴下終了後、反応混合′$IJを徐々
に加温せしめ、50〜55℃に保つ。
仄いて滴下ロートよりオクチルグリシゾルエーテル18
.6F(0,10モル)全約20分を峨して滴下する。
滴下5終了後、2時間50〜55℃で侃拌金つづける。
反応混合物のガスクロマトグラフ分析よりオクチルグリ
シゾルエーテルがほぼ消失したところで反応混合物を冷
却し、減圧下にインデロノ。ノールを留去せしめる。イ
ンゾロノQノールの留出がほとんど認められなくなると
ともに、白色グル状の固形物が得られる。この固形物を
ry−酸エチルおよびn−ヘキサンを用いて再結晶せし
めるコトニヨリ、目的とす、る2 −ヒ)’ Oキシ−
3−オクチロキシプロピルゾメチルドデシルアンモニウ
ムクロリド40.8F(0,094モル)の白色粉末?
得た(収ぶ94%〕。
融点:116〜12oc 7c累分析I直: 068.5・!(68,84%)、H12,7%(12
,48%)、N3.2%(3,21%)、C/  8.
Q%(8,13%)(但し、括弧内は計−痺値をホす。
以下同じ、〕水酸基価:126(128,6) IR(α−1): 3650〜3150.2920.2850.1610.
1460.1400.1105.1075.1050.
925.720 ’ H−NMR(δppm ) : 5.98(d)IH,4,1〜4.6(m)LH,3,
1〜  □3、7 (m ) 14 HlL O〜1.
7 (rn ) 32 H%o、87(t)6H 比較例1 塩酸に含まれる水以外に水ヲ祭加しないことを除き実施
例1と同じ反応装置、反応条件(モル比、反応温度等)
で反応を行ない、目9..1 °“″“2−e l”0
17−3−′”°゛′′ゾロピルゾメチルドデシルアン
モニウムクロリド35f(0,082モル)の白色粉末
を得た。収惠82%であり、実施例1に比べ副生物(王
としてクロロヒドリン)による収率低下が認められた。
実施例2 実施例1で用いたオクチルグリシゾルエーテルに代えて
ヘキサデシルグリシゾルエーテル59.6f(0,20
0モル)を用い、実施例1と同様な反応湊直昆ひに反応
条件で反応を行ない、酢酸エチルより再結晶して、2−
ヒドロキシ−3−ヘキサビンロキシプロビルゾメチルド
デシルアンモニウムクロリド98.5S’(0,180
モル)の白色粉末を得た(収率90%)。
役点:113〜116℃ 元累分析III!: C72,0%(72,28%)、H13,0%(12,
87%)、N 2.6囁(2,55%)、C/  6.
4%(6,47%)水酸基価:100.7(102,3
) IR(crn−”): 3650〜3150.2925.2850.1610.
1460.1400,1105.1075.1050.
925.720 五H−NMR(δ ppm )  : 5.98 (d ) LH,4,1〜4.6 (m )
IFi、  3.0〜3.7 (m) 14H,1,0
〜1.5 (m ) 48H。
0.87(t)6H 実施例3 実施例1で用いたジメチルドデシルアミンに代えてツメ
チルオクタデシルアミン71.4? (0,24モル)
を用い、実施例1と同様な反応@置並びに反応条件で反
応を行ない、酢酸エチルより再結晶して2−ヒドロキシ
−3−オフチロキンプロビルジメチルオクタデシルアン
モニウムクロリド95.79(0,184モル)の白色
粉末?得た。(収率92チ)。
融点:106〜110℃ 元累分析頭: C71,1%(71,56%)、HI3.8%(12−
79%)、N 2.6%(2,69悌)、CI  6.
7%(6,81%)水酸基価:107.0(107,8
) IR(cm″″L): 3650〜3150.2925.2850.1610゜
1470.1400.1105.1075.1050.
925.710 ’H−NMR(δppm ) : 6.00(m)LH,4,1〜4.6(m)IH,3,
0〜3.7(m)4H% 1.1〜1.7(m)52H
0.87(m)6H 実施例4 実施例1で用いた36%塩酸に代えて、匪酵6.Of 
(0,10モル)を用い、実施例1と同様な反応装置お
よび反応条件で反応を行ない2−ヒドロヤシ−3−オク
チロキシゾロピルゾメチルドデシルアンモニウムアセテ
ート44.1 ? (0,096モル)を得た(収ぷ9
6%)。
元累分析1直: C70,5%(70,54%)、H12,8%(12,
50慢)、N 2.9%(3−05%) 水酸基価:119(122,0) IR(cIn−1): 3650〜3150,2925.2850,1610.
1600.1460.1390.1105.1075.
925.720 1)1−N、MR(δ ppm ) :5.4(br)
LH,3,2〜4.6(m)15H。
1.94(s)3H,1,1〜1.7(m)32H。
0.87(t)6H 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3は各々同一若しくは異
    なつて、炭素数1〜24の炭化水素基若しくはアルケニ
    ル基を示す) で表わされる三級アミン、酸及びエポキシドを、少量の
    水を含有する極性有機溶媒中で三級アミンが酸及びエポ
    キシドに対し過剰量存在する条件下反応させることを特
    徴とする第四級アンモニウム塩の製造法。 2、極性有機溶媒が、酸に含まれる水を含めて、三級ア
    ミンに対し5〜20倍モルとなる量の水を含有する特許
    請求の範囲第1項記載の第四級アンモニウム塩の製造法
    。 3、第四級アンモニウム塩が次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_4は炭素数1〜24のアルキル基若しくは
    アルコキシメチル基、A^■は無機アニオン又は有機ア
    ニオンを示し、R_1、R_2、R_3は前記と同じ意
    味を有する) で表わされるものである特許請求の範囲第1項記載の第
    四級アンモニウム塩の製造法。
JP22863684A 1984-10-30 1984-10-30 第四級アンモニウム塩の製造法 Pending JPS61106544A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22863684A JPS61106544A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 第四級アンモニウム塩の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22863684A JPS61106544A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 第四級アンモニウム塩の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61106544A true JPS61106544A (ja) 1986-05-24

Family

ID=16879445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22863684A Pending JPS61106544A (ja) 1984-10-30 1984-10-30 第四級アンモニウム塩の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61106544A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4982000A (en) * 1989-11-03 1991-01-01 Sherex Chemical Co., Inc. Process for preparing quaternary ammonium compounds
US5463127A (en) * 1995-01-17 1995-10-31 The Dow Chemical Company Process for preparation of halohydroxypropyl-trialkylammonium halides
WO2009078369A1 (ja) * 2007-12-14 2009-06-25 Aisin Aw Co., Ltd. 界面活性剤
JP2010065000A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Kao Corp レオロジー改質剤の製造方法
JP2013079284A (ja) * 2006-09-01 2013-05-02 Lubrizol Corp:The マンニッヒ化合物の第四級アンモニウム塩
WO2019129710A1 (en) * 2017-12-27 2019-07-04 Akzo Nobel Chemicals International B.V. Process for making a quaternary ammonium compound

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51136609A (en) * 1975-01-31 1976-11-26 Degussa Nn2*33dihydroxypropyllnn22 hydroxyl amine and its salt * their preparation and antiistatic agent comprising them for thermoplastics
JPS5242811A (en) * 1975-10-02 1977-04-04 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Process for preparation of cationic novel compound
JPS57181044A (en) * 1981-04-23 1982-11-08 Henkel Kgaa Manufacture of quaternary ammonium compound, spun textile softening and antistatic method and fungous repulsion

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51136609A (en) * 1975-01-31 1976-11-26 Degussa Nn2*33dihydroxypropyllnn22 hydroxyl amine and its salt * their preparation and antiistatic agent comprising them for thermoplastics
JPS5242811A (en) * 1975-10-02 1977-04-04 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Process for preparation of cationic novel compound
JPS57181044A (en) * 1981-04-23 1982-11-08 Henkel Kgaa Manufacture of quaternary ammonium compound, spun textile softening and antistatic method and fungous repulsion

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4982000A (en) * 1989-11-03 1991-01-01 Sherex Chemical Co., Inc. Process for preparing quaternary ammonium compounds
US5463127A (en) * 1995-01-17 1995-10-31 The Dow Chemical Company Process for preparation of halohydroxypropyl-trialkylammonium halides
JP2013079284A (ja) * 2006-09-01 2013-05-02 Lubrizol Corp:The マンニッヒ化合物の第四級アンモニウム塩
WO2009078369A1 (ja) * 2007-12-14 2009-06-25 Aisin Aw Co., Ltd. 界面活性剤
JP2009161752A (ja) * 2007-12-14 2009-07-23 Aisin Aw Co Ltd 洗浄組成物
US8110707B2 (en) 2007-12-14 2012-02-07 Aisin Aw Co., Ltd. Surfactant
JP5070298B2 (ja) * 2007-12-14 2012-11-07 アイシン・エィ・ダブリュ株式会社 界面活性剤
JP2010065000A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Kao Corp レオロジー改質剤の製造方法
WO2019129710A1 (en) * 2017-12-27 2019-07-04 Akzo Nobel Chemicals International B.V. Process for making a quaternary ammonium compound

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5663444A (en) Preparation of a pure dialkylaminoethanol stable against discoloration
JPH069516A (ja) 水性ベタイン溶液の製造方法
JPS61106544A (ja) 第四級アンモニウム塩の製造法
JPH0249316B2 (ja)
JPH0237341B2 (ja)
JPS59206376A (ja) オキシラン類の製造法
US3662004A (en) Process for producing hydroxyalkyl mercaptans
JPH04182492A (ja) アスコルビン酸誘導体及びその製造法
JPH02147A (ja) N,n‐ジアルキルヒドロキシルアミンの合成方法
JP2004345953A (ja) 抗菌活性を有する新規な第四級アンモニウム塩化合物およびその製造方法
JP3011493B2 (ja) 4−アルキル−3−チオセミカルバジドの製造方法
JPH0552299B2 (ja)
JPS5917115B2 (ja) 芳香核中で置換されていないか又は置換されている5−アリ−リデンヒダントインの製法
US2748113A (en) Polymethyleneiminoalkanols
JP3081359B2 (ja) 2−アミノ−1−フェニル−1−エタノール誘導体
JP3899626B2 (ja) 2−メルカプトチアゾ−ルの製法
JPS6412265B2 (ja)
JPH0551584B2 (ja)
JPH0710829B2 (ja) ベンジルメルカプタン誘導体の製造法
EP0138156B1 (en) Process for producing a halogen-containing ethylbenzene derivative
JP2657641B2 (ja) クロロアルキルアミン塩酸塩類の製造方法
JP2602068B2 (ja) 新規分解性界面活性剤
JP3426785B2 (ja) 第4級アンモニウム塩の製造法
JPH10175927A (ja) 脂肪酸エステル官能基を含有するヒドロキシプロピル化第4級アンモニウム誘導体の調製方法
JP6664887B2 (ja) トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法