JPS6110498A - 浮彫模様の形成方法 - Google Patents
浮彫模様の形成方法Info
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- JPS6110498A JPS6110498A JP13061484A JP13061484A JPS6110498A JP S6110498 A JPS6110498 A JP S6110498A JP 13061484 A JP13061484 A JP 13061484A JP 13061484 A JP13061484 A JP 13061484A JP S6110498 A JPS6110498 A JP S6110498A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mortar layer
- pattern
- mortar
- sheet
- forming
- Prior art date
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- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
浮彫模様を有する材料は、建築関係の外装及び内装用を
はじめとして、その他さまざまな分野において幅広く利
用されている 〔従来の技#i1 従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方法の代表
的なものとしては、(1)こて へらによる方法、(2
)ローラー(・(−よる方法、(3)吹付による方法(
4)エンボッソングによる方法、(5)ブラストによる
方法等が知らノ1ている。
はじめとして、その他さまざまな分野において幅広く利
用されている 〔従来の技#i1 従来、モルタル層表面へ浮彫模様を形成する方法の代表
的なものとしては、(1)こて へらによる方法、(2
)ローラー(・(−よる方法、(3)吹付による方法(
4)エンボッソングによる方法、(5)ブラストによる
方法等が知らノ1ている。
しかして、(1)の方法は、しっくい壁の仕上げ工法と
して発展してきたものであり、相かな浮彫模様を形成す
ることは非常に難しく、熟練を要するものであった。J また、(2)の方法は・Pターンローラーを押印してい
くことにより凹凸を形成させるものであるため、単純な
繰返し模様の形成には適した方法であるが、複雑、微細
な模様の形成には適さないものであったO さらに、(3)の方法は、吹付ガンによりランダムな凹
凸模様を形成するには適した方法であるが、任意の例え
ば図柄1文字等の特定な模様を形成することが出来りい
という欠点を有するものであった。
して発展してきたものであり、相かな浮彫模様を形成す
ることは非常に難しく、熟練を要するものであった。J また、(2)の方法は・Pターンローラーを押印してい
くことにより凹凸を形成させるものであるため、単純な
繰返し模様の形成には適した方法であるが、複雑、微細
な模様の形成には適さないものであったO さらに、(3)の方法は、吹付ガンによりランダムな凹
凸模様を形成するには適した方法であるが、任意の例え
ば図柄1文字等の特定な模様を形成することが出来りい
という欠点を有するものであった。
また、(4)の方V―は、一応工場における犬量牛産に
適した方法であAが、個々のシリ品El’千J1それ異
なった模様を付すV(−け不i+ζ当々方法で7bつか
。
適した方法であAが、個々のシリ品El’千J1それ異
なった模様を付すV(−け不i+ζ当々方法で7bつか
。
(5)の方法はモルタル層」−を部分的に一1スクI2
、マスクさtlてない個所をプラスト処理すZ)−二と
により削り、凹凸状の浮彫模様を形成するものである。
、マスクさtlてない個所をプラスト処理すZ)−二と
により削り、凹凸状の浮彫模様を形成するものである。
1.かじ、この方法は、プラス) +11. Jllj
の際に、粉塵及び騒音等が発生するために作朶環境の悪
什をまねき、さらには作業場の周囲への悪影響も大Aく
、また、作業時間も長く、竜険をら伴う等の欠点を有す
るものであった。
の際に、粉塵及び騒音等が発生するために作朶環境の悪
什をまねき、さらには作業場の周囲への悪影響も大Aく
、また、作業時間も長く、竜険をら伴う等の欠点を有す
るものであった。
さらに、コンクリート・千ネルにモルタルヲ塗布スル際
、モルタルとコンクリートの密着性を向上させるtl的
で、コンクリート表面を凹凸状にする手段として、次の
ような方法が知られている。すなわち、ヤ枠に5多)ら
かじめ部分的にセメント硬化M延剤を塗布し、次いでコ
ンクリートを型枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出
しを行なう凹凸状のコニ・クリート・9オルを製造する
方法である。
、モルタルとコンクリートの密着性を向上させるtl的
で、コンクリート表面を凹凸状にする手段として、次の
ような方法が知られている。すなわち、ヤ枠に5多)ら
かじめ部分的にセメント硬化M延剤を塗布し、次いでコ
ンクリートを型枠内に流し込み、養生し、次いで洗い出
しを行なう凹凸状のコニ・クリート・9オルを製造する
方法である。
1、 #)L、こ(h方法には型枠を心安と17、しか
も任意の基lにル1用できるものではなかった。さらに
、4!J r)れた凹凸は、シャープな(輪郭のはっき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかった。
も任意の基lにル1用できるものではなかった。さらに
、4!J r)れた凹凸は、シャープな(輪郭のはっき
りした)、かつ彫りの深い凹凸模様ではなかった。
それ故、この方法は、央観を目的とした浮彫模様の形成
手段としては不適当なものであった。
手段としては不適当なものであった。
[、′Ir、明が解決しJ、つとする間舶点〕本発明l
tらは、以上の如き浮彫模様の分野における現状に鑑み
、任意の基材上に、鮮明でランダム模様でない任意の凹
凸状の浮彫模様を、熟練を要することなく簡単に形成す
る方法につき鋭意検討の結果、本発明に到ったのである
。
tらは、以上の如き浮彫模様の分野における現状に鑑み
、任意の基材上に、鮮明でランダム模様でない任意の凹
凸状の浮彫模様を、熟練を要することなく簡単に形成す
る方法につき鋭意検討の結果、本発明に到ったのである
。
すなわち本発明は、
(1)基材−ヒに(ルタルを塗布し、モ/1.タ11.
層を形成する]、程、 (11)該モルタル層が未硬化の間に、給体6過性部分
と液体小^過f1部分とから模様を形成したノートをモ
ルタル層上p(−のせた後、あるいはWE体不透過性シ
ート金モルタル層上に俟様状にのせた後、モルタル層表
面にセメント硬化遅延剤溶液を塗布する工程、 (ii+)前記シートを除去した後、モルタル層を養生
する工程、及び (1v)モルタル層の養生後、セメント硬化遅延剤溶液
を塗布した個所のモルタル層を、洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の形成方
法に関するものである。
層を形成する]、程、 (11)該モルタル層が未硬化の間に、給体6過性部分
と液体小^過f1部分とから模様を形成したノートをモ
ルタル層上p(−のせた後、あるいはWE体不透過性シ
ート金モルタル層上に俟様状にのせた後、モルタル層表
面にセメント硬化遅延剤溶液を塗布する工程、 (ii+)前記シートを除去した後、モルタル層を養生
する工程、及び (1v)モルタル層の養生後、セメント硬化遅延剤溶液
を塗布した個所のモルタル層を、洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の形成方
法に関するものである。
本発明の方法においては、前記未硬化のモルタル層上に
密着したシートの模様に応じ、セメント硬化遅延剤溶液
をモルタル層に含浸する。したがって、硬化遅延剤を含
浸した個所は、硬化が遅延し、養生後であっても洗浄に
より容易に除去できる、っそれ数本発明の方法は、シー
トの模様に応じてンヤーグな形伏で、深い凹凸を有する
浮彫模様を、モルタル層表面に形成できるという特長を
有するものである。
密着したシートの模様に応じ、セメント硬化遅延剤溶液
をモルタル層に含浸する。したがって、硬化遅延剤を含
浸した個所は、硬化が遅延し、養生後であっても洗浄に
より容易に除去できる、っそれ数本発明の方法は、シー
トの模様に応じてンヤーグな形伏で、深い凹凸を有する
浮彫模様を、モルタル層表面に形成できるという特長を
有するものである。
また、本発明においては、モルタル層の厚さ及びl=/
ノl−硬化遅蝋削の含浸及び除去の程度を適当にコント
ロールすることにより、浅い凹凸を有するものは勿論Q
)こと、深い凹凸を有するものまで、所望の深さの凹凸
を有する浮彫模様が自由に形成できるという特長を有す
る。さらに本発明の方法は、浮彫模様がモルタル層から
なるものであるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有
する浮彫模様を形成することができるという特長を有す
る。
ノl−硬化遅蝋削の含浸及び除去の程度を適当にコント
ロールすることにより、浅い凹凸を有するものは勿論Q
)こと、深い凹凸を有するものまで、所望の深さの凹凸
を有する浮彫模様が自由に形成できるという特長を有す
る。さらに本発明の方法は、浮彫模様がモルタル層から
なるものであるため、非常に安価にしかも深い凹凸を有
する浮彫模様を形成することができるという特長を有す
る。
以下、本発明の凹凸を有する浮彫模様の形成方法につき
、さらに具体的に説明する。
、さらに具体的に説明する。
まず本号へ明において使用する基材としては、公知の)
ルタルを密着できるあらゆる基材が適用でキル。例えば
、鉄、アルミニウム、ステルレス等の金属、ガラス、タ
イル、陶磁器、コンクリート。
ルタルを密着できるあらゆる基材が適用でキル。例えば
、鉄、アルミニウム、ステルレス等の金属、ガラス、タ
イル、陶磁器、コンクリート。
レンガ、石材、木材、グラスチックあるいはこれらの積
層体等を挙げることができる。その森面は必ずしも平面
である必要はなく、例えば曲面であってもよい。これら
基材には、必要に応じて川面にしたり、着色したり、l
ライマーを施したり等の下地処理を施゛ノこともできる
。
層体等を挙げることができる。その森面は必ずしも平面
である必要はなく、例えば曲面であってもよい。これら
基材には、必要に応じて川面にしたり、着色したり、l
ライマーを施したり等の下地処理を施゛ノこともできる
。
本発明においては、第一工程として、前8〔二のよウナ
基材上にモルタル層、コテ、ヘラ、スプレー等の通常用
いられる手段により塗布し、モルタル層を形成する。該
モルタル層の厚さは、特に制限はない。しかし凹凸の彫
りの深さに応じ、実用1約/ −= 20 mmにする
ことが好ましい。
基材上にモルタル層、コテ、ヘラ、スプレー等の通常用
いられる手段により塗布し、モルタル層を形成する。該
モルタル層の厚さは、特に制限はない。しかし凹凸の彫
りの深さに応じ、実用1約/ −= 20 mmにする
ことが好ましい。
本発明で使用するモルタルは、従来から一般に使用され
ているものがそのまま適用出来る。すなわち七メ/ト、
砂等の骨材及び水からなるものであり、必要に応じさら
に着色顔料、各種添加剤等を配合したものである。また
アクリル樹脂糸エマルジョン、酢酸ビニル樹脂系エマル
ゾヨ/、ニブキシ樹脂系エマルジョン、スチレンブタジ
ェン樹脂糸エマルション等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。
ているものがそのまま適用出来る。すなわち七メ/ト、
砂等の骨材及び水からなるものであり、必要に応じさら
に着色顔料、各種添加剤等を配合したものである。また
アクリル樹脂糸エマルジョン、酢酸ビニル樹脂系エマル
ゾヨ/、ニブキシ樹脂系エマルジョン、スチレンブタジ
ェン樹脂糸エマルション等を配合した、いわゆる樹脂モ
ルタルも本発明において使用出来る。
本発明においてはモルタル層は、同一色のモルタルを使
用する以外に、色の異なるモルタルを複数回塗り重ねる
こともできる。このように色の異なる複数のモ/Lタル
層を形成することにより、後述する。−rp除去工程に
、おいて、モルタル層を洗浄除去する際の各場所の除去
程度、すなわち四部の深さを加減することにより、深さ
に応じて多色の変仕のある凹凸浮彫模様を形成すること
が可能となる。
用する以外に、色の異なるモルタルを複数回塗り重ねる
こともできる。このように色の異なる複数のモ/Lタル
層を形成することにより、後述する。−rp除去工程に
、おいて、モルタル層を洗浄除去する際の各場所の除去
程度、すなわち四部の深さを加減することにより、深さ
に応じて多色の変仕のある凹凸浮彫模様を形成すること
が可能となる。
このようにして形成したモルタル層が未硬化の間に、好
ましくはキルタル層表面の遊離水が消失し、指で軽く押
して変形しない程度になった時点で、液体透過性部分と
液体透過性部分とで模様を形成したシートを、モルタル
層表面に密着させる。
ましくはキルタル層表面の遊離水が消失し、指で軽く押
して変形しない程度になった時点で、液体透過性部分と
液体透過性部分とで模様を形成したシートを、モルタル
層表面に密着させる。
該/−トは、具体的には、塗料業界で通常使用されてい
るシルクスクリーンであることが好ましい。
るシルクスクリーンであることが好ましい。
あるいは、シートを模様状に(所望の模様をjll成す
るように)切り抜いたものをモルタル層表面に密着させ
ることもできる。
るように)切り抜いたものをモルタル層表面に密着させ
ることもできる。
本発明に於てはまた別の即様々して、液体不透過性ノー
トをモルタル層−ヒに、該シーlが模様を形成するよう
にvljSさせることもできる。
トをモルタル層−ヒに、該シーlが模様を形成するよう
にvljSさせることもできる。
このようVCL ’C’/−トをf= ルl ル層1:
、 (/LI C’) 14た後、該シートの上からモ
ルタル層表面に1!I/ト硬化遅延剤溶液を塗布する。
、 (/LI C’) 14た後、該シートの上からモ
ルタル層表面に1!I/ト硬化遅延剤溶液を塗布する。
さらに塗布したセメント硬化遅延剤溶液を、ノートの液
体不1h過性部分が密着している以外のモルタル層に含
浸する。
体不1h過性部分が密着している以外のモルタル層に含
浸する。
すなわち、該シートを、モルタル層が未硬化の間にモル
タル層の上にのせるために、モルタル要人シート(液体
不透過性部分)との間に空き間はなく、液体不透過性部
分で覆われたモルタル層にセメント硬化遅延剤溶液が含
浸することはない。
タル層の上にのせるために、モルタル要人シート(液体
不透過性部分)との間に空き間はなく、液体不透過性部
分で覆われたモルタル層にセメント硬化遅延剤溶液が含
浸することはない。
まだセメント硬化遅延剤溶液の粘度、塗布蓋を調節する
ことにより、凹凸の深さを自由に変えることができる。
ことにより、凹凸の深さを自由に変えることができる。
すなわち、例えばセメント硬化遅延剤の粘度を低くシ、
及び/又は塗布量を多くすることにより、セメント硬化
遅延剤をより深く含浸することができるため、凹凸の深
さを大きくすることができる。
及び/又は塗布量を多くすることにより、セメント硬化
遅延剤をより深く含浸することができるため、凹凸の深
さを大きくすることができる。
本発明において使用するセメント硬化遅延剤溶液の粘度
4」、モルタル層への浸誘性等を考慮すると10−10
311?イズ(20℃において)であることかなr上1
y 1.、い。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤?d液
を使11]することによって、よりシャープなU字状の
1部1部をjし成することができる。
4」、モルタル層への浸誘性等を考慮すると10−10
311?イズ(20℃において)であることかなr上1
y 1.、い。該粘度範囲のセメント硬化遅延剤?d液
を使11]することによって、よりシャープなU字状の
1部1部をjし成することができる。
本発明においてセメント硬化遅延剤溶液としては、従来
から一般に使用されているものがそのままfl! 74
1 u[能である。具体的には、例えばリン酸二水素プ
トリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム
、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢酸カル7ウム、オキシ
カルデン酸塩、リグニンスルフォン酸塩・アルコール等
が代表的々ものとしてあげられる。なお、固体のものに
ついては、水溶液として使用する。また、粘度が前記範
囲より低い場合は、ポリビニルアルコール、メチルセル
ロース、アルギン酸ソーダ、ベントナイト等の増粘剤を
添加する等の手段により、粘度を前記範囲に調整するこ
とができる。
から一般に使用されているものがそのままfl! 74
1 u[能である。具体的には、例えばリン酸二水素プ
トリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム
、四ホウ酸ナトリウム、糖類、酢酸カル7ウム、オキシ
カルデン酸塩、リグニンスルフォン酸塩・アルコール等
が代表的々ものとしてあげられる。なお、固体のものに
ついては、水溶液として使用する。また、粘度が前記範
囲より低い場合は、ポリビニルアルコール、メチルセル
ロース、アルギン酸ソーダ、ベントナイト等の増粘剤を
添加する等の手段により、粘度を前記範囲に調整するこ
とができる。
また、着色剤を配合したセメント硬化遅延剤溶液を、モ
ルタル層に塗布することにより、七メ・ト硬化遅延剤溶
液を含浸せしめた洗浄除去すべき個所が着色によって判
別できるために、後述する洗浄除去工程において便利な
ことがある。
ルタル層に塗布することにより、七メ・ト硬化遅延剤溶
液を含浸せしめた洗浄除去すべき個所が着色によって判
別できるために、後述する洗浄除去工程において便利な
ことがある。
本発明においては、セメント硬化遅延剤溶液を塗布後、
前記シートを除来し、次いでモルタル層を一定時間養生
させる。養生方法としては、通常モルタルの養生方法と
して知られている自然養生法、水蒸気養生法、加圧養生
法等が採用出来る。
前記シートを除来し、次いでモルタル層を一定時間養生
させる。養生方法としては、通常モルタルの養生方法と
して知られている自然養生法、水蒸気養生法、加圧養生
法等が採用出来る。
養生のための時間は、後述する洗浄除去工程において、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸していない個所の
モルタル層は除去されない程度に硬化し、かつセメント
硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個所のモルタル層は未
硬化であるかもしくは比較的容易に除去できる程度に半
硬化するに委する時間とする。具体的には、例えば自然
養生法の場合、常温(20℃)でざ〜j′θ時間とする
ことが好ましい。
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸していない個所の
モルタル層は除去されない程度に硬化し、かつセメント
硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個所のモルタル層は未
硬化であるかもしくは比較的容易に除去できる程度に半
硬化するに委する時間とする。具体的には、例えば自然
養生法の場合、常温(20℃)でざ〜j′θ時間とする
ことが好ましい。
モルタル層を養生させた後、水あるいは水と溶剤等から
なる洗浄液を用い、かつ同転ブラシで擦る方〃に、あ・
:)いは該洗浄液を高圧喧射する方法等の手段により、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個n「のモル
タル層を洗浄除去する。
なる洗浄液を用い、かつ同転ブラシで擦る方〃に、あ・
:)いは該洗浄液を高圧喧射する方法等の手段により、
セメント硬化遅延剤溶液を塗布、含浸した個n「のモル
タル層を洗浄除去する。
かくて深い凹凸を南する浮彫模様を形成したモルタル層
が得らねる。本発明に於いてはさらに会費に応じ、色彩
を付与したり、光沢度を調整したりすることができる。
が得らねる。本発明に於いてはさらに会費に応じ、色彩
を付与したり、光沢度を調整したりすることができる。
さらに耐候性、耐水性、耐薬品性等を付与するために、
全面もl、 <は凹部(又は凸部)に別の着色塗膜を施
したり、全面にクリヤーもし、〈はカラークリヤー等の
塗膜を施したり、あるいは研tメすることもできる。
全面もl、 <は凹部(又は凸部)に別の着色塗膜を施
したり、全面にクリヤーもし、〈はカラークリヤー等の
塗膜を施したり、あるいは研tメすることもできる。
以上、記載したように本発明の方法により、任意の深さ
の、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡単に、かつ安価
に得ることかり能である。またシー)KJiJ成さil
、fC模様を色々と変化させることにより、所望の凹凸
模様を簡単にうることができるという特長を有する。
の、深い凹凸を有する、浮彫模様を、簡単に、かつ安価
に得ることかり能である。またシー)KJiJ成さil
、fC模様を色々と変化させることにより、所望の凹凸
模様を簡単にうることができるという特長を有する。
また、本発明の方法により得られた凹凸模様を形成した
モルタル層を有するものは、建材、装飾品等に利用でき
、工場あるいは現場においても製造できる特長を411
−でいる。
モルタル層を有するものは、建材、装飾品等に利用でき
、工場あるいは現場においても製造できる特長を411
−でいる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
なお、実施例中1部」、「%」は重量基準である。
実施例 /
周囲に木製枠をもうけた石綿ツ、レート板(り00 X
/110θX10mm)表面に、チルトランドセメン
トノ00部、シリカ粉20θ部、減水剤/部及び水75
部からなるモルタルを、コテにて3 mm厚の平滑なモ
ルタル層を形成した。7時間放置し、表面の水が消失し
、指で軽く押して変形しないことをs′認した後、液体
透過性部分と液体不透過性部分とから模様を形成したシ
ルクスクリーンを、モルタル層表面に密着させた。
/110θX10mm)表面に、チルトランドセメン
トノ00部、シリカ粉20θ部、減水剤/部及び水75
部からなるモルタルを、コテにて3 mm厚の平滑なモ
ルタル層を形成した。7時間放置し、表面の水が消失し
、指で軽く押して変形しないことをs′認した後、液体
透過性部分と液体不透過性部分とから模様を形成したシ
ルクスクリーンを、モルタル層表面に密着させた。
次いでリン酸水素二ナトリウムg部、メチル奄ルローに
糸増粘M/、3部、フタロシアニンブルー1部及び水9
0部からなる粘度、210ボイズ(,20’c)oセメ
ント硬化〃延剤后液を、シルクスクリーン上にドクター
ブレードで塗布(10θ9/m″)した11次いでンル
クス、クリーンを除去1.た後、温度:2部フ℃、相対
18度7jチの雰囲気中で7日養生させた。
糸増粘M/、3部、フタロシアニンブルー1部及び水9
0部からなる粘度、210ボイズ(,20’c)oセメ
ント硬化〃延剤后液を、シルクスクリーン上にドクター
ブレードで塗布(10θ9/m″)した11次いでンル
クス、クリーンを除去1.た後、温度:2部フ℃、相対
18度7jチの雰囲気中で7日養生させた。
次いで、水を注ぎ(3017分)ながらj分/mr槽]
合で111転(2ダOrpm >するナイUン糸(?゛
Lθ.mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で給
り、七メ/ト硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタ
ル層を除去した。
合で111転(2ダOrpm >するナイUン糸(?゛
Lθ.mm)を束ねた円型ブラシ(φ100mm)で給
り、七メ/ト硬化遅延剤溶液を含浸させた個所のモルタ
ル層を除去した。
得らitだ表面には、シルクスクリーンの模様に対応し
また、平均深さ約/ mmのシャープな模様状凹凸が形
成、された1、 次いでアクリルクリヤーラッカーを全面に塗布した。
また、平均深さ約/ mmのシャープな模様状凹凸が形
成、された1、 次いでアクリルクリヤーラッカーを全面に塗布した。
このようにして得られたモルタル層表面には、きわめて
浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
実施例 !
!Irl鈑力A/Cツム/j部、メチルセルo−スJ[
粘ff’l / 部、フタ0ンアニンブル一/部及び水
ト3B1〜からなる粘度gOIイズC,20℃)のセメ
ント硬什遅廷剤uり液を1ψ用[7た以外は、実施例/
と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した。
粘ff’l / 部、フタ0ンアニンブル一/部及び水
ト3B1〜からなる粘度gOIイズC,20℃)のセメ
ント硬什遅廷剤uり液を1ψ用[7た以外は、実施例/
と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した。
得られた表面にはシルクスクリーンの模様に対応した、
平均深さ約2.3mrnのシャープな模様状凹凸が形成
でき、きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
平均深さ約2.3mrnのシャープな模様状凹凸が形成
でき、きわめて浮彫り感のある、浮彫模様が得られた。
実施例 3
デルトランドセメ/ト30部、シリカ粉、2.!i部。
メチルセルロース系増粘剤/部、酢酸ビニル樹脂系エマ
ルション(NVJ0チ)に部、減水剤0.3部及び水、
2部部からなる樹脂モルタルを/ 、2 mm厚に塗布
し、モルタル層を形成したこと、リン酸三ナトリウム、
20部、メチルセルロース糸増粘剤/部、フタロシアー
/ブルー/部及び水7り部からなる粘度、20ポイズ(
,20℃)のセメ/ト硬化遅延剤溶液を使用したこと以
外iJ 、実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸
を1[チ成17た、。
ルション(NVJ0チ)に部、減水剤0.3部及び水、
2部部からなる樹脂モルタルを/ 、2 mm厚に塗布
し、モルタル層を形成したこと、リン酸三ナトリウム、
20部、メチルセルロース糸増粘剤/部、フタロシアー
/ブルー/部及び水7り部からなる粘度、20ポイズ(
,20℃)のセメ/ト硬化遅延剤溶液を使用したこと以
外iJ 、実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸
を1[チ成17た、。
得られた表向には、シルクスクリーンの(9様に対応し
た平均深さ約3.、fmmのシャーfな(Q機状凹凸が
形成でき、きわめて浮彫り感のあるfr彫模様が得られ
た。
た平均深さ約3.、fmmのシャーfな(Q機状凹凸が
形成でき、きわめて浮彫り感のあるfr彫模様が得られ
た。
実施例 ≠
石綿スレー ト板表面に白色ダルトランドセメント30
fm、シリカ粉、2部部、メチルセルロース糸増粘剤/
部、′rクリル樹脂糸エマルノヨン(NVJ O% )
7 部、フタロンアニンブルー〇。3部、−・ンザイ
エロー1部、減水剤0.3部及び水、2部部からなるモ
ルタルを3 mm厚に塗布し、次いで前記モルタル中の
着色剤の代りにナフトールレッド/部を配合したモルタ
ルを1.2mm厚に塗り重ねた。
fm、シリカ粉、2部部、メチルセルロース糸増粘剤/
部、′rクリル樹脂糸エマルノヨン(NVJ O% )
7 部、フタロンアニンブルー〇。3部、−・ンザイ
エロー1部、減水剤0.3部及び水、2部部からなるモ
ルタルを3 mm厚に塗布し、次いで前記モルタル中の
着色剤の代りにナフトールレッド/部を配合したモルタ
ルを1.2mm厚に塗り重ねた。
2時間放置し、表向の水が消失し、指で軽く押して変形
しないことをfIii認した後、液体透過性部分と液体
不透過性部分とから模様を形成したシルクスクリーンを
、モルタル層表面に密着させた。
しないことをfIii認した後、液体透過性部分と液体
不透過性部分とから模様を形成したシルクスクリーンを
、モルタル層表面に密着させた。
次いで、実施例3で使用したものと同じ七メン) 硬(
L ′M延剤溶液をシルクスクリーン上に塗布し、以下
実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した
。
L ′M延剤溶液をシルクスクリーン上に塗布し、以下
実施例/と同様にしてモルタル層表面に凹凸を形成した
。
Claims (4)
- (1)(i)基材上にモルタルを塗布し、モルタル層を
形成する工程、 (ii)液体透過性部分と液体不透過性部分とで模様を
形成したシートをモルタル層上にのせた後、あるいは液
体不透過性シートをモルタル層上に模様状にのせた後、
モルタル層表面にセメント硬化遅延剤溶液を塗布する工
程、 (iii)前記シートを除去し、モルタル層を養生する
工程、 (iv)モルタル層の養生の後、セメント硬化遅延剤溶
液を塗布した個所のモルタル層を洗浄除去する工程、 の諸工程からなる、深い凹凸を有する浮彫模様の形成方
法。 - (2)セメント硬化遅延剤溶液の粘度が10〜10^3
ポイズ(20℃において)であることを特徴とする、特
許請求の範囲第(1)項記載の浮彫模様の形成方法。 - (3)模様を形成したシートが、シルクスクリーンであ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第(1)項又は第
(2)項記載の浮彫模様の形成方法。 - (4)モルタル層が、色の異なる複数のモルタル層から
構成されていることを特徴とする、特許請求の範囲第(
1)項〜第(3)項のいずれか一項に記載の浮彫模様の
形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13061484A JPS6110498A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 浮彫模様の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13061484A JPS6110498A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 浮彫模様の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6110498A true JPS6110498A (ja) | 1986-01-17 |
JPS6332637B2 JPS6332637B2 (ja) | 1988-06-30 |
Family
ID=15038428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13061484A Granted JPS6110498A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 浮彫模様の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6110498A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0351375A (ja) * | 1989-05-24 | 1991-03-05 | Dow Corning Ltd | 繊維材料の処理方法 |
JPH03152275A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ウール処理剤 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105059038A (zh) * | 2015-09-11 | 2015-11-18 | 南安市亿辉油画工艺有限公司 | 一种佛像画的制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5642620A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of decorative material |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP13061484A patent/JPS6110498A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5642620A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of decorative material |
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JPH0351375A (ja) * | 1989-05-24 | 1991-03-05 | Dow Corning Ltd | 繊維材料の処理方法 |
JPH03152275A (ja) * | 1989-11-06 | 1991-06-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ウール処理剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6332637B2 (ja) | 1988-06-30 |
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