JPS6091352A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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- JPS6091352A JPS6091352A JP20176283A JP20176283A JPS6091352A JP S6091352 A JPS6091352 A JP S6091352A JP 20176283 A JP20176283 A JP 20176283A JP 20176283 A JP20176283 A JP 20176283A JP S6091352 A JPS6091352 A JP S6091352A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- resin
- photosensitive resin
- amine imide
- epoxy group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
木発引は光重合可能なj!i像形成用感光性栴脂組成物
に関する。
に関する。
従来より、高分子材才1からなる/ぐイングー、光重合
性モノマー及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を
基板上に塗布あるい目被覆させ、陰画等を通して紫外線
のような活や1光を照射し、光の当った部分を重合ちる
いや;[架橋させて溶剤に対し不溶化させ、光が当たら
ない部分を溶出させることにより、上IV画仰を基板上
に現仰できることが知られており、印刷版相やプリン1
配線板の製造に利用されている、 しかし、上記の組成物で#:t f!7らiする画$1
被膜t」耐溶剤性、耐薬品性、耐熱+1およびP械的強
瓜が不充分であり、保直披膜としての使用)11.凹t
:I限られている。
性モノマー及び光重合増感剤などからなる樹脂組成物を
基板上に塗布あるい目被覆させ、陰画等を通して紫外線
のような活や1光を照射し、光の当った部分を重合ちる
いや;[架橋させて溶剤に対し不溶化させ、光が当たら
ない部分を溶出させることにより、上IV画仰を基板上
に現仰できることが知られており、印刷版相やプリン1
配線板の製造に利用されている、 しかし、上記の組成物で#:t f!7らiする画$1
被膜t」耐溶剤性、耐薬品性、耐熱+1およびP械的強
瓜が不充分であり、保直披膜としての使用)11.凹t
:I限られている。
例えに、これらの被膜は中性、弱酸イ゛ト溶液11r
)、1耐えるが、強酸性、アルカリ溶液にけ削乏−らJ
lず、従って、エツチング、めっき等のブト埋液σ)m
類が制限される。又、トルエン、トリクレン、メチルエ
チルグトン等の有機溶剤KVi弱く、耐熱性や機械的強
度が不充分なだめ、永久的な保護被覆になし得ない。
)、1耐えるが、強酸性、アルカリ溶液にけ削乏−らJ
lず、従って、エツチング、めっき等のブト埋液σ)m
類が制限される。又、トルエン、トリクレン、メチルエ
チルグトン等の有機溶剤KVi弱く、耐熱性や機械的強
度が不充分なだめ、永久的な保護被覆になし得ない。
永久的な保護被覆を形成する目的で、従来エポキシ化合
的及びその硬化剤を含む系が提案されているが、これら
は室温可使時間が短かく、硬化に高温長時間を要し基板
に反りを生じさせたり、金属屑食を起こしたりする。
的及びその硬化剤を含む系が提案されているが、これら
は室温可使時間が短かく、硬化に高温長時間を要し基板
に反りを生じさせたり、金属屑食を起こしたりする。
又、特公昭52−430929公報、特公昭52−43
091号公報、特公昭56−3539号公報などでは、
永久的な保護被膜を形成する目的で、共重合体バインダ
ーの中に酸成分を含有させて硬化さ促進させようとして
いるが、通常の条件で#i硬化が不充分であり、はんだ
耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性に弱く、更に、冷熱繰
返し特性も充分とは云えない。
091号公報、特公昭56−3539号公報などでは、
永久的な保護被膜を形成する目的で、共重合体バインダ
ーの中に酸成分を含有させて硬化さ促進させようとして
いるが、通常の条件で#i硬化が不充分であり、はんだ
耐熱性、耐溶剤性、耐アルカリ性に弱く、更に、冷熱繰
返し特性も充分とは云えない。
木発11は上記従来の欠点を解消して、貯蔵安定性に富
み、短時間の加熱で充分硬化させることができ、永久的
な保護被膜を形成させるに適した感光性樹脂組成物を提
供することを目的とする。
み、短時間の加熱で充分硬化させることができ、永久的
な保護被膜を形成させるに適した感光性樹脂組成物を提
供することを目的とする。
木発!1の要旨は、
(al 末端エチレン基を実質的に少なくとも2個有す
る光重合可能な不飽和化合物、 (bl 光重合増感剤、 (cl 側鎖にエポキシ基を有する線状高分子化合物、 (dl 下記一般式で表わせるアミンイミド、0 0H (R1、R4は酸素原子を含むことのできる0〜6個の
炭素原子を有する脂肪族p化水3!(、R2+ R3に
0〜6個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素)よりなる
又t」これらを生成’tJとすることを特徴とする感光
性樹脂組成物に存する。
る光重合可能な不飽和化合物、 (bl 光重合増感剤、 (cl 側鎖にエポキシ基を有する線状高分子化合物、 (dl 下記一般式で表わせるアミンイミド、0 0H (R1、R4は酸素原子を含むことのできる0〜6個の
炭素原子を有する脂肪族p化水3!(、R2+ R3に
0〜6個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素)よりなる
又t」これらを生成’tJとすることを特徴とする感光
性樹脂組成物に存する。
木発EJi VCおける不飽和化合物(at t:f、
末端エチレン基を実質的に少なくとも2個有する。実質
的に少なくとも2個とけ、系内に末端エチレン基を1個
しか持たない化合物、末端エチレン基を3個以上持って
いる化合物があってもよく、全体として平均的に末端エ
チレン基が1化合物に少なくとも2個有していることを
意味する。
末端エチレン基を実質的に少なくとも2個有する。実質
的に少なくとも2個とけ、系内に末端エチレン基を1個
しか持たない化合物、末端エチレン基を3個以上持って
いる化合物があってもよく、全体として平均的に末端エ
チレン基が1化合物に少なくとも2個有していることを
意味する。
不飽和化合物(atとしては、多価アルコールのアクリ
ル酸エステルもしくはメタクリル酸エステルが最適であ
り、具体的にtまトリエチレングリコール、テトラエチ
レンクリコール、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、トリメチロールプロノ鳴ン、ペンタグリスリト
ール、ネオペンデルグリコール等のアクリル酸もしくは
メタクリル酸エステルが挙けられる。この成分の使用量
目感光性樹脂組成物中10〜90重量%であり、好捷し
くは15〜60重量%である。
ル酸エステルもしくはメタクリル酸エステルが最適であ
り、具体的にtまトリエチレングリコール、テトラエチ
レンクリコール、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、トリメチロールプロノ鳴ン、ペンタグリスリト
ール、ネオペンデルグリコール等のアクリル酸もしくは
メタクリル酸エステルが挙けられる。この成分の使用量
目感光性樹脂組成物中10〜90重量%であり、好捷し
くは15〜60重量%である。
木発す口でおりる増感剤(blは、活性光の照射により
ill記不飽和化合物の重合を開始するものであり、場
合によっては主たる増感剤と、主たる増感剤の作用を増
大する従たる増感剤を組合わせて用いることがある。
ill記不飽和化合物の重合を開始するものであり、場
合によっては主たる増感剤と、主たる増感剤の作用を増
大する従たる増感剤を組合わせて用いることがある。
該増感剤(blは、従来から用いられる増感剤を使用し
う゛るが、内でもフェニルケトン系の増感剤が好適であ
り、具体的KViベンゾフェノン、P、P−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノン、〈以下ミヒラーケトンと
称する〉などのP−アミノブエニルケトン、ベンツイン
、ベンツインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンツインメチルエーテル、ペンゾインイソグロビ
ルエーテル、ベンジル−アンスラキノン、2−メチル−
アンスラキノン、2−エチルアンスラキl°ン、2−t
−ブチル−アンスラ−1t/ン、2−アミノアンスラキ
ノン雪が挙はうilる。
う゛るが、内でもフェニルケトン系の増感剤が好適であ
り、具体的KViベンゾフェノン、P、P−ビス(ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノン、〈以下ミヒラーケトンと
称する〉などのP−アミノブエニルケトン、ベンツイン
、ベンツインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンツインメチルエーテル、ペンゾインイソグロビ
ルエーテル、ベンジル−アンスラキノン、2−メチル−
アンスラキノン、2−エチルアンスラキl°ン、2−t
−ブチル−アンスラ−1t/ン、2−アミノアンスラキ
ノン雪が挙はうilる。
上記の増感剤tb+は、同様の作用を行なうもので、活
性光の吸収域が異なるものをill右わせ′C1重合開
始効率を改各させ、露光時間をより短縮させることがで
きる。特に、ベンゾフェノンとミトラーグトンの混合物
などが好適である。この成分の使用量は、感光性樹脂組
成物中0.01〜15重量%てあり、好捷しく打l00
1〜10重R%である。
性光の吸収域が異なるものをill右わせ′C1重合開
始効率を改各させ、露光時間をより短縮させることがで
きる。特に、ベンゾフェノンとミトラーグトンの混合物
などが好適である。この成分の使用量は、感光性樹脂組
成物中0.01〜15重量%てあり、好捷しく打l00
1〜10重R%である。
次に、来光IJJ Kおける線状高分子化合物(cl
fi、fl!l 舘にエポキシ基を有するものであり、
例えばグリシジルメタクリレートやグリシジルアクリレ
ートの様なエポキシ基含有アクリル糸モノマーを単独重
合ちるいはビニル単量体と共重合させることKよって容
易KtT)もれる。
fi、fl!l 舘にエポキシ基を有するものであり、
例えばグリシジルメタクリレートやグリシジルアクリレ
ートの様なエポキシ基含有アクリル糸モノマーを単独重
合ちるいはビニル単量体と共重合させることKよって容
易KtT)もれる。
線状高分子化合物(clの具体例としては、メタクリル
酸メチル−グリシジルメタクリレート共重合体、メタク
リル酸メチル−グリシジルメタクリ1/−トーアクリロ
ニトリル共重合体、アクリル酸エヂルーグリシジルアク
リレートースヂレン共重合体、メククリル酸ペンジルー
グリシジルメククリレートースチレン共重合体等を挙は
得る。線状Is分子化合物(cl中、エポキシ基含有1
1爪体e、分は1〜70重景%、好適には5〜40重量
%占めるものがよい。該線状高分子化合物[clの使用
員は、感光性高分組成物中10〜90重量%であり、好
オしくけ30〜70重景%でちる。
酸メチル−グリシジルメタクリレート共重合体、メタク
リル酸メチル−グリシジルメタクリ1/−トーアクリロ
ニトリル共重合体、アクリル酸エヂルーグリシジルアク
リレートースヂレン共重合体、メククリル酸ペンジルー
グリシジルメククリレートースチレン共重合体等を挙は
得る。線状Is分子化合物(cl中、エポキシ基含有1
1爪体e、分は1〜70重景%、好適には5〜40重量
%占めるものがよい。該線状高分子化合物[clの使用
員は、感光性高分組成物中10〜90重量%であり、好
オしくけ30〜70重景%でちる。
水成分、線状高分子化合物(cl #′i、組成物中で
被膜形成性高分子として機能し、31!忙次に脱11〕
るアミンイミドと相乗的に反応12.150″C′程度
で非常傾短時間に高分子量化、架橋化するところに特徴
がある。それ故に重量平均高分子量は1万〜50万であ
り、好捷しく目10万〜30万でちる。余り低分子量で
は硬化に時間が掛かる欠点があり、50万を越える分子
量になると硬化が速すぎて制御しKくNなったり、取扱
いに非常な注意を要するようになる。
被膜形成性高分子として機能し、31!忙次に脱11〕
るアミンイミドと相乗的に反応12.150″C′程度
で非常傾短時間に高分子量化、架橋化するところに特徴
がある。それ故に重量平均高分子量は1万〜50万であ
り、好捷しく目10万〜30万でちる。余り低分子量で
は硬化に時間が掛かる欠点があり、50万を越える分子
量になると硬化が速すぎて制御しKくNなったり、取扱
いに非常な注意を要するようになる。
本発明の1つの特徴は、線状高分子化合物(cl Kよ
り被膜形成性を持たせ、しかも150℃程度で短時聞に
硬化させることにより、精密基板等に反りや腐食を起こ
させることなく機械的強度、耐熱性が充分な保膜被膜を
形成しうるとζろにあり、更に感光性高分子組成物とし
て可使時間が充分長いものである点である。
り被膜形成性を持たせ、しかも150℃程度で短時聞に
硬化させることにより、精密基板等に反りや腐食を起こ
させることなく機械的強度、耐熱性が充分な保膜被膜を
形成しうるとζろにあり、更に感光性高分子組成物とし
て可使時間が充分長いものである点である。
本発明感光性樹脂m酸物の構成成分の一つとして、下記
一般式で表わされるアミンイミド(dlがある。
一般式で表わされるアミンイミド(dlがある。
O0H
(R1,R4#″i酸素原子を含むことのできる0〜6
個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素、R2+ R3は
0〜6個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素) 従来、エポキシ化合物を用いた感光性梅脂組成物におい
て、エポキシ化合物の潜在硬化剤としては、三フッ化ホ
ク累モノエヅルアミン、三フッ化ホウ素ベンジルアミン
錯体、四フッ化ホク棄酸塩、アジピン酸、ジヒドラジド
、トリエチルアミノボラン、フェニレンジアミン−臭化
亜鉛錯体、ジシアンジアミド等があるが、室温可使時間
が卸か過ぎて、保存が不可能である。
個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素、R2+ R3は
0〜6個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素) 従来、エポキシ化合物を用いた感光性梅脂組成物におい
て、エポキシ化合物の潜在硬化剤としては、三フッ化ホ
ク累モノエヅルアミン、三フッ化ホウ素ベンジルアミン
錯体、四フッ化ホク棄酸塩、アジピン酸、ジヒドラジド
、トリエチルアミノボラン、フェニレンジアミン−臭化
亜鉛錯体、ジシアンジアミド等があるが、室温可使時間
が卸か過ぎて、保存が不可能である。
室温可使時間の長い潜在硬化剤としてI’、P’−ジア
ミノジフェニルメタン、P 、 P’−ジアミノジフェ
ニルスルホン酸、2−エチル4−エチルイミダゾール等
も見い出されているが、硬化に高温、長時間を要するた
め、基板妬反りを生じたり、加工時間が長びいて好まし
くない。
ミノジフェニルメタン、P 、 P’−ジアミノジフェ
ニルスルホン酸、2−エチル4−エチルイミダゾール等
も見い出されているが、硬化に高温、長時間を要するた
め、基板妬反りを生じたり、加工時間が長びいて好まし
くない。
又、上記の従来の潜在硬化剤でIJ、全屈表面の基板に
拡散していき、精密電気回路の1@気的竹質妊悪影響を
及はすこ七があり、プリント配線板の製造シては向いて
いなかった。
拡散していき、精密電気回路の1@気的竹質妊悪影響を
及はすこ七があり、プリント配線板の製造シては向いて
いなかった。
そこで鋭意研究の結果、来光りI’fが見い出した一般
式(I)のアミンイミド(di fi、 、將光性祠脂
組成物として室温可使時間が充分長く、適度な?、A度
、短かい時間で硬化し、永久的な保隈被I!を形成した
場合、優れた耐溶剤+1、耐アルカリ+1、はんだ耐熱
性が得られるのである。
式(I)のアミンイミド(di fi、 、將光性祠脂
組成物として室温可使時間が充分長く、適度な?、A度
、短かい時間で硬化し、永久的な保隈被I!を形成した
場合、優れた耐溶剤+1、耐アルカリ+1、はんだ耐熱
性が得られるのである。
上記一般式(I)のアミンイミド(diは、R1−R4
の脂肪族炭化水素が艮過ぎたり、芳香族基が含まれると
充分な耐熱性等が得られなくなる。
の脂肪族炭化水素が艮過ぎたり、芳香族基が含まれると
充分な耐熱性等が得られなくなる。
R2,R3けメヂル基、ニヂルハが好ちしく、最大はヘ
キシル基迄が実用的である。R1、R4も炭素数#−i
6以下が適当でちり、中に酸素原子をエーテル結合の形
で含んでもよい。R1、R4で最も適しているのり、炭
素−m素の二重^17合を有する場合である。
キシル基迄が実用的である。R1、R4も炭素数#−i
6以下が適当でちり、中に酸素原子をエーテル結合の形
で含んでもよい。R1、R4で最も適しているのり、炭
素−m素の二重^17合を有する場合である。
これらの理由111FI停ではないが、一般式(I)の
アミンイミド(diが感光性樹脂組成物中で均一に分散
する適度な極性を持ち、ズリードアクトして基板表面に
悪影響を与えないと考えられる。
アミンイミド(diが感光性樹脂組成物中で均一に分散
する適度な極性を持ち、ズリードアクトして基板表面に
悪影響を与えないと考えられる。
又、J + R4が二重結合を含む場合、活性光照射で
重合系に取込まれ、分散性及び線状高分子化合物(cl
の硬化に好影智が現われると推定される。
重合系に取込まれ、分散性及び線状高分子化合物(cl
の硬化に好影智が現われると推定される。
しかも、上記の範囲のアミンイミド(di V′i、1
50℃程度で、10〜30分の短助同で急速KM状高分
子化合物(clを硬化さ−I)、%れだ耐アルカリ性が
得られ、又、耐溶剤件やはんだ耐熱t’lが向1−シ、
更に冷熱緑返し軽性匠も優れた弾手す々保護被膜が得ら
れるのである。
50℃程度で、10〜30分の短助同で急速KM状高分
子化合物(clを硬化さ−I)、%れだ耐アルカリ性が
得られ、又、耐溶剤件やはんだ耐熱t’lが向1−シ、
更に冷熱緑返し軽性匠も優れた弾手す々保護被膜が得ら
れるのである。
アミンイミドfdlの使用fii、111f%光性倒脂
組成物中02〜12重量%が好適々札囲である。
組成物中02〜12重量%が好適々札囲である。
未発り1の感光性樹脂組成物tま以上の必須成分に加え
て、種々の目的のために更に副次的な成分を含有せしめ
ることが可能である。
て、種々の目的のために更に副次的な成分を含有せしめ
ることが可能である。
即ち貯蔵安定性改善のだめの熱重合禁止剤、被膜特性改
善のための可塑剤、密着改良剤、染1、顔料、その他の
充填剤等である。
善のための可塑剤、密着改良剤、染1、顔料、その他の
充填剤等である。
本発明の感光樹脂組成物を1、通常の感光性樹脂と同様
に感光性を有し、活性光の照射により光重合を起こし、
又、80℃以下でVi熱的に充分安定であり、常法によ
り永久的な保護被膜を形成しうる。
に感光性を有し、活性光の照射により光重合を起こし、
又、80℃以下でVi熱的に充分安定であり、常法によ
り永久的な保護被膜を形成しうる。
即ち、未発FJ1の感光性樹脂組成物を通?tt t:
j、 3〜60重ゑ%の濃度になるように、メチルエチ
ルケトン、トルエン、メチルセロソルブ、クロロホルム
等の有機溶剤に溶解させて、液を調整し、下記(1)あ
るいけ(2)の方法で保護すべき基板、」−に感光層を
形成させる。
j、 3〜60重ゑ%の濃度になるように、メチルエチ
ルケトン、トルエン、メチルセロソルブ、クロロホルム
等の有機溶剤に溶解させて、液を調整し、下記(1)あ
るいけ(2)の方法で保護すべき基板、」−に感光層を
形成させる。
(1)感光樹脂組成物を溶解した泄を基板−1−に塗布
し乾燥する。
し乾燥する。
(2) [8光柑脂組成物を溶解した液をボIJ j−
チレンテレ7クレート管のフィルムに塗布し乾燥する。
チレンテレ7クレート管のフィルムに塗布し乾燥する。
得られたフィルトを熱ロールを用いて基板に貼合わせる
。この場合、フィルムの感光N&ζ保置装ィルムを重ね
て保γf−することもちる。
。この場合、フィルムの感光N&ζ保置装ィルムを重ね
て保γf−することもちる。
感光層を形成した基板に対し、ネガマスクを通して紫(
FPA々どの活性光を照射し、露光部を光重合、架橋に
より硬化さ一亡る。次いで、1,1、l−)リクロルエ
タン等を用いて、未露光部を溶出して現像を行なう。こ
うして、得られた画像的な保護被膜t」通常のエツチン
グ、めっき等の表面変性加工のための耐食膜となるが、
更に、150℃程度で1時間以内の短時間の加熱硬化匠
より、耐熱性及び1(械的強度に優)1だ氷グトン溶剤
、二塩化メチレン等のハロゲン化R化水素先の溶剤に侵
さJlず、又、強酸、アルカリ水溶液しても充の耐える
。従って、はんだ耐熱性VCfFEれたツルグーレジス
ト等の永久的な保護被膜として使用し得る。尚、加熱硬
化に先立って、紫外線などを1〜3 Jlcrlの強さ
で後露光すること((より、僕れた強度を有する保護被
膜を形成することもできる。
FPA々どの活性光を照射し、露光部を光重合、架橋に
より硬化さ一亡る。次いで、1,1、l−)リクロルエ
タン等を用いて、未露光部を溶出して現像を行なう。こ
うして、得られた画像的な保護被膜t」通常のエツチン
グ、めっき等の表面変性加工のための耐食膜となるが、
更に、150℃程度で1時間以内の短時間の加熱硬化匠
より、耐熱性及び1(械的強度に優)1だ氷グトン溶剤
、二塩化メチレン等のハロゲン化R化水素先の溶剤に侵
さJlず、又、強酸、アルカリ水溶液しても充の耐える
。従って、はんだ耐熱性VCfFEれたツルグーレジス
ト等の永久的な保護被膜として使用し得る。尚、加熱硬
化に先立って、紫外線などを1〜3 Jlcrlの強さ
で後露光すること((より、僕れた強度を有する保護被
膜を形成することもできる。
感光性塗料、プラスデックレリーフ、印刷Fj、H料と
しても用い得る。
しても用い得る。
以下に本発明の実施例を説明する。
40)(Mw−21万)C!Aダクリレqト共重合豚
40都 ペンタエリスリ)−ルトリアクリレート30部ベンゾフ
ェノン 3部 ミヒラーケトン 05部 P−メトキシフェノール 0.5部 アミンイミド(ト記の化合4’り) 1部メヂルエヂル
ケトン 2()0部 0 0H 表 1 上記の配合で感光性樹脂組成物を1VllJ整し、#1
1張枦層板上に塗布し、室温でIO+)、80’Cで1
0分乾燥17て5 G // mの厚みの感光層とした
。
40都 ペンタエリスリ)−ルトリアクリレート30部ベンゾフ
ェノン 3部 ミヒラーケトン 05部 P−メトキシフェノール 0.5部 アミンイミド(ト記の化合4’り) 1部メヂルエヂル
ケトン 2()0部 0 0H 表 1 上記の配合で感光性樹脂組成物を1VllJ整し、#1
1張枦層板上に塗布し、室温でIO+)、80’Cで1
0分乾燥17て5 G // mの厚みの感光層とした
。
次Kfx光層を厚さ25μmの透り1なポリエチレンテ
レフタレートフィルムで被覆し、ネガマスクを通して賞
出水銀灯から100 mJ/lylの紫外線を照射した
。ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、1,
1.1−トリクロロエタンを90秒向スプレーして未露
光部を溶出し現像を行なった。次いで150℃で10分
加熱処理を行なった(実施例2.3VCついては150
℃、5分の加熱処理)所、ネガマスクに相応する精密な
像を有する保護被膜が得られた。
レフタレートフィルムで被覆し、ネガマスクを通して賞
出水銀灯から100 mJ/lylの紫外線を照射した
。ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、1,
1.1−トリクロロエタンを90秒向スプレーして未露
光部を溶出し現像を行なった。次いで150℃で10分
加熱処理を行なった(実施例2.3VCついては150
℃、5分の加熱処理)所、ネガマスクに相応する精密な
像を有する保護被膜が得られた。
この保護被膜はメチルエチルケトン、アセトン、クロロ
ホルム、トリクレン、メタノール、50%硫酸水溶液、
トルエン、キシレンに−jれぞれ1日同浸漬しても何の
変化もなく、更に、70℃でP II 12の水酸化ナ
トリウム水溶液に1日間浸漬しても、伺ら異常が耐めら
れなかった。
ホルム、トリクレン、メタノール、50%硫酸水溶液、
トルエン、キシレンに−jれぞれ1日同浸漬しても何の
変化もなく、更に、70℃でP II 12の水酸化ナ
トリウム水溶液に1日間浸漬しても、伺ら異常が耐めら
れなかった。
又、60分間隔で一65℃と125℃の冷却加熱を繰返
し、更に260〜270℃のけんだ浴に2時間浸漬して
も変化がなかった。以上のことから、得られた保護被膜
#[、エツチング、めっき、強アルカリ性態mmめっき
用レジストとしても、はんだ耐熱性が要求されるソルダ
ーレジストとしても充分に使用できることが分かった。
し、更に260〜270℃のけんだ浴に2時間浸漬して
も変化がなかった。以上のことから、得られた保護被膜
#[、エツチング、めっき、強アルカリ性態mmめっき
用レジストとしても、はんだ耐熱性が要求されるソルダ
ーレジストとしても充分に使用できることが分かった。
〈実施例4〉
メククリル酸ベンジル/グリシジルメタクリレート/ス
チレン共重合体(60対30対io)(Rlw−20万
) 60部 ペンタエリスリトールトリアクリレート30部ペンツイ
ンイソフロビルエーテル 5部P−メトキシフェノール
0.5部 アミンイミド(表1の化合物) 2部 メチルエチルケトン 100部 上記配合で得た感光性樹脂組成物を25μmの厚みのボ
リエ°チレンテレフタレート上に塗布乾燥17.50
p mの厚みの感光層を形成した。清浄処理した。銅板
−にに熱ロールを用いて加圧積層した。
チレン共重合体(60対30対io)(Rlw−20万
) 60部 ペンタエリスリトールトリアクリレート30部ペンツイ
ンイソフロビルエーテル 5部P−メトキシフェノール
0.5部 アミンイミド(表1の化合物) 2部 メチルエチルケトン 100部 上記配合で得た感光性樹脂組成物を25μmの厚みのボ
リエ°チレンテレフタレート上に塗布乾燥17.50
p mの厚みの感光層を形成した。清浄処理した。銅板
−にに熱ロールを用いて加圧積層した。
そして、実施例10力法に準じて露光、現像を行ない、
150℃5分同の加熱処理を行ない、実施例1と同様の
試駆で同等の結果を得た。又、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムtut!布N燥し六層光W1は40℃で6
ケ月保存しても、使用VCは全く差支えなかった。
150℃5分同の加熱処理を行ない、実施例1と同様の
試駆で同等の結果を得た。又、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムtut!布N燥し六層光W1は40℃で6
ケ月保存しても、使用VCは全く差支えなかった。
〈比較例1、λ〉
実施例IKおけるアミンイミドを表1のものに換え、同
じ試験(150℃、30分の加熱硬化)を行なった所、
メチルエチルケトン、アセトン、クロロホルムに浸漬し
た所、1時間以内のしか耐性がなく、冷却加熱繰返しに
おいても5ツ”イクルで基板との聞に剥離及びクラック
が見られた。
じ試験(150℃、30分の加熱硬化)を行なった所、
メチルエチルケトン、アセトン、クロロホルムに浸漬し
た所、1時間以内のしか耐性がなく、冷却加熱繰返しに
おいても5ツ”イクルで基板との聞に剥離及びクラック
が見られた。
〈比較例3〉
実施例IKおけるアミンイミドの換りに1ジシアンジア
ミドを用いた。しかし、得られた感光性樹脂組成物は4
0℃で1日しか可使時聞けなかった。又、露光、現像し
た律150℃、30分で加熱硬化したものは、260℃
の1まんだ洛中で30秒で被膜が溶融し、冷却加熱繰返
しでは5ザイクルでクラックを生じた。次いで、170
℃、3時間で加熱硬化したものけ、耐熱性は向上したが
、基板が高温のだめ反り、硬化に長時間を要するだめ製
造が煩雑になった。
ミドを用いた。しかし、得られた感光性樹脂組成物は4
0℃で1日しか可使時聞けなかった。又、露光、現像し
た律150℃、30分で加熱硬化したものは、260℃
の1まんだ洛中で30秒で被膜が溶融し、冷却加熱繰返
しでは5ザイクルでクラックを生じた。次いで、170
℃、3時間で加熱硬化したものけ、耐熱性は向上したが
、基板が高温のだめ反り、硬化に長時間を要するだめ製
造が煩雑になった。
以上の様に1本発171g光性劉脂組成物は、貯蔵安定
性に優れ、硬化の際tま比較的低温で短時間に充分に反
応が進行し、しかも耐溶剤性、耐アルカリ性、耐熱性が
良好な保護被膜を形成しうる。
性に優れ、硬化の際tま比較的低温で短時間に充分に反
応が進行し、しかも耐溶剤性、耐アルカリ性、耐熱性が
良好な保護被膜を形成しうる。
6゛W「出Fi人
積水化学工業株式会社
代表者 虎 沼 基 利
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(a)末端エチレン基を実質的匠少なくとも2個有す
る光重合”J能か不飽和化合物、 (bl光重合増υ剤、 (cl側鎖にエポキシ基を有−する線状高分子化合物、
(dl下記一般式で表わせるアミンイミド°、0 01
1 (R,、R4)1酸索厚子を含むことのできる0〜6個
の#1 素原子を有する脂肪族炭化水素、R2+ R3
打tO〜6個の炭素原子を有する脂肪族炭化水素)より
なる又りこれらを主成分とすることを特徴とする感光件
樹脂組成物。 2 アミンイミドが、一般式(1) において、脂肪族
炭化水素R1、R4が炭素−P、!素の二重結合を有す
るものである第1項記載の感薯性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20176283A JPS6091352A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20176283A JPS6091352A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6091352A true JPS6091352A (ja) | 1985-05-22 |
Family
ID=16446508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20176283A Pending JPS6091352A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6091352A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6410235A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
EP0942331A4 (en) * | 1997-10-08 | 2000-07-26 | Clariant Finance Bvi Ltd | ANTIREFLECTIVE OR PHOTOABSORBENT COATING COMPOSITION AND ITS POLYMER |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS509035A (ja) * | 1973-05-31 | 1975-01-30 | ||
JPS5243092A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-04 | Hitachi Ltd | Nuclear reactor |
JPS6088940A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
1983
- 1983-10-26 JP JP20176283A patent/JPS6091352A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS509035A (ja) * | 1973-05-31 | 1975-01-30 | ||
JPS5243092A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-04 | Hitachi Ltd | Nuclear reactor |
JPS6088940A (ja) * | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6410235A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-13 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
EP0942331A4 (en) * | 1997-10-08 | 2000-07-26 | Clariant Finance Bvi Ltd | ANTIREFLECTIVE OR PHOTOABSORBENT COATING COMPOSITION AND ITS POLYMER |
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