JPS6073892A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。

先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込み々いし読み出しヘラＰが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。

このような光記録媒体のうち、暗至による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。

このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その１例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される***を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して６
ノｃみ出しを行うピット形成タイプのものがある。

このようなピット形成タイプの媒体、特にそのうち装置
を小型化できる半導体レーザーを光源とするものは、こ
れまで、Ｔｅを主体とする月料を記録層とするものが大
半をしめている。

しかし、近年、Ｔｅ系材料が有害であること、そしてよ
シ高感度化する必要があること、よシ製造コストを安価
にする必要があることがら、Ｔｅ系にかえ、色素を主と
した有機材料系の記録層を用いる媒体についての提案や
報告が増加している。

例えば、　Ｈｅ−Ｎｅレーザー用としては、スクワリリ
ウム色素〔特開昭５６−４６２２１号、Ｖ、’　Ｂ。

Ｊｉｐｓｏｎ　ａｎｄ　Ｏ，Ｒ，Ｊｏｎｅｓ、Ｊ、　Ｖ
ａｃ、　Ｓｃｉ、　Ｔｅｃｂｎｏｌ、　。

υ８１）１０５（１９８１）〕や、金属フタロシアニン
色素（特開昭５７−８２０９４号、同５７−８２０９５
号）などを用いるものがある。

まだ、金属７タロシアニン色素を半導体レーザー用とし
て使用しだ例（特開昭５６−８６７９５号）もある。

これらは、いずれも色素を蒸着によシ記録層薄膜とした
ものであり、媒体製造上、Ｔｅ系と大差はない。

しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率は−ｆ反
に小さく、反射光景のピットによる変化（減少）によっ
て読み出し信号をうる、現在性われている則富の方式で
は大きなＳ／Ｎ比を得ることができない。

また、記録／ｉ否を担持した透す」基体を、ｍｌ録層が
対向するようにして一体化したいわゆるエアーサンドイ
ッチ（・ｌＩｆ造の媒体とし、基体をとおして谷き込み
および説み出しを行うと、吾き込み怒反を下けずに記録
層の保蔽ができ、かつ記録密度も大きくなる点で有利で
あるが、このような記録再生方式も、色素蒸沼腺では不
ｂＴ詣である。これは、通常の透明樹脂製基体では屈折
率がある程度の値をもち（ポリメチルメタクリレートで
ｉ、５）、また表面反射率がある程度大きく（同４％）
、記録層の基体をと２しての反射率が、例えば、ポリメ
チルメタクリレートでは６０％程度以下になるため、低
い反射率しか示さない記録層では、検出でき疫いからで
ある。

色素蒸着膜からなる記録層の８・ノシみ出しのＳ／Ｎ比
を向上させるためには、通常、基体と記録層との間に、
Ａｔ等の蒸着反射ｊ］ν４を介在させている。

この場合、蒸着反射膜は、反射率全土げてＳ／Ｎ比を向
上させるだめのものであり、ピット形成により反射膜が
露出して反射率が１・〜大したり、あるいは場合によっ
ては反射膜を除去して反射率を減少させるものであるか
、当然のことながら、基体をとおしての記録再生碩、で
きない。

同様に、特開昭５５−１６１６９０号には、Ｉルー１３
２色素（コダック社製）とポリ酢酸ビニルとからなる記
録層、また特開昭５７−７４８４５号には、１．１’−
ジエチル−２，２′−トリカルポジアニン　イオダイト
トニトロセルロースとからなる記録層、さらにはに、　
Ｙ、　Ｌａｗ、　ｅｔ　ａｔ、　、Ａｐｐ／！、。

Ｐｈｙｓ、Ｌｅｔｔ、３９（９）７１８（１９８１）に
は、３゜３′−ジエチル−１２−アセチルチアテトラカ
ルデシアニンとポリ酢酸ビニルとから々る記録層など、
色素と樹脂とからなる記録Ｎ葡塗布法によって設層した
媒体が開示されている。

しかし、これらの場合にも、端体と記録層との間に反射
膜を必要としており、基体裏面側からの記録再生かで＠
々い点で、色素蒸着膜の場合と同様の欠点をもつ。

このように、基体をとおしての記録再生が可実現するに
は、有機材料−自身が大きな反射率を示す必要がある。

しかし、従来、反射層を＆層せずに、有機材料の単層に
て市い反射率を示す例はきわめて少ない。

わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が高反射率
を示す旨の報告（Ｐ、Ｋｉｕｉｔｓ、ｅｔ　ａｔ、　。

昇華温度が高いためであろうと思われるが、書き込み感
度は低い。

まだ、チアゾール系やキノリン系等のシアニン色素やメ
ロシアニン色素でも高反射率が示さこれにもとづく提案
が特開昭５８−１１２７９０号になされているが、これ
ら色素は、特に塗膜として設層したときに、溶剤に対す
る溶解涯が小さく、また結晶化しやすく、さらには読み
出し光に対してきわめて不安定でただちに脱色してしま
い、実用に供しえない。

このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、溶剤に対
する浴解度が高く、結晶化も少なく、かつ熱的に安定で
あって、塗膜の反射率が商いインドリン系のシアニン色
素を単層膜として用いる旨を提案している（特願昭５７
−１３４３９７号、同５７−１３４１７０号）。

また、インドリン系、あるいはチアゾール系、キノリン
系、セレナゾール系等の他のシアニン色素においても、
長鎖アルキル基を分子中に導入して、溶解性の改善と結
晶化の防止がはかられることを提案している（特願昭５
７−１８２５８９号、同５７−１７７７７６号等）。

さらに、光安定性をまし、特に読み出し光による脱色（
再生劣化）を防止するために、シアニン色素に、クエン
チャ−を添加する旨の提案を行っている（特願昭５７−
１６６８３２号、同５７−１６８０４８号等）。

ところで、う゛Ｃ吸収色素の１つとして、下記一般式〔
Ｉ〕で示されるビリリウム、チアピリリウム、セレナピ
リリウムないしテルロピリリウム色素が知られている（
特開昭５８−３２８７６号、Ｍ、Ｒ，Ｄｅｔｔｙ、　ｅ
ｔ　ａｌ、　、Ｊ、Ｏｒｇ　Ｏｈｅ＋ｎ１ｓｔｒｙ　４
７　（２７）５２３５（１９８２）等）。

一般式ＣＩ） １ （上記一般式（Ｉ）において、 Ｋｌ、Ｒ３およびＲ５は、それぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子、直接もしくは２価の連結基を介して結合する置
換もしくは非置換のアルキル基、アリール基もしくはヘ
テロ環残基、まだはモノもしくはポリメチン鎖を有する
基を表わし、几２およびＲ４は、それぞれ、水素原子、
または置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリー
ル基を表わし、 Ｒ２とＲ３または几４とＲ５は、互いに結合して、縮合
環が形成されていてもよく、 Ｙは、０，８．ＳｅまたはＴｅを表わし、Ｘ−は、アニ
オンを表わし、 ｍは１であるが、Ｒ１，Ｒ３またはＲ５中に−電荷が存
在するときに（ａ’、　ｍはＯである。）これらの提案
では、これらビリリウム、チアピリリウム、セレナピリ
リウムないしテルロビリリウム系色素を、電子受容体と
して、光導電性組成分中に添加した例が開示されている
。しかし、これら色素が光記録媒体の光吸収および光反
射用色素として使用できることは示咳すらされていない
。

確かに、これらビリリウム、チアピリリウム、セレナピ
リリウムないしテルロピリリウム系色素を用いて光記録
媒体を構成することは考えられうろことであるが、これ
ら色素を用いて記録層を形成するときには、反射層を積
層することなく、単層膜でも、書き込みと読み出しを基
体をとおして行えるものの、屑、き込み後の読み出しの
際の読み出し光のくシかえし照射によって、色素が脱色
し、読み出しのＳ／Ｎ比が劣化してしまう再生劣化が大
きく、実用に耐えないという欠点がある。

■　発明の目的 本発明の主たる目的は、再生劣化が改心されたｔ　ビリ
リウム、チアピリリウム、セレナピリリウムないしテル
ロビリリウム系の色素を含む記録層を有する光記録媒体
を提供することにある。

とのような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち本発明は、 色素の組成物からなる記録層を基体上に有する光記録媒
体において、 色素が下記一般式〔■〕で示される化合物からなシ、色
素の組成物中にクエンチャ−が含有されていることを特
徴とする光記録媒体である。

一般式ＣＩ） １ （上記一般式［Ｉ）において、 Ｒ１＋　Ｒ３および几、は、それぞれ、水素原子、ハロ
ゲン原子、直接もしくは２価の連結基を介して結合する
置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基もしくは
ヘテロ環残基、捷たはモノもしくはポリメチン鎖を有す
る基を表わし、Ｒ２およびＲ４は、それぞれ、水素原子
、または直換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリ
ール基を表わし、 几２とＲ３またはＲ４とＲ５は、互い・に結合して、縮
合環が形成されていてもよく、 Ｙは、０．Ｓ、Ｓｅｉ：だはＴｅを表わし、Ｘ−は、ア
ニオンを表わし、 ｍは１であるが、几１．几３ま／ヒはＲ５中に一′屯荷
が任在するときにはｍ１ｌ−１：Ｏである。）川　発明
の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明の光記録媒体の記録層中には、上記一般式［１１
で示されるビリリウム、チアピリリウム、セレナピリリ
ウムないしテルロビリリウム系の色素の１種以上が含有
される。

上記一般式（（］においてｂ　”ｌ　＋Ｉｔ３お工び鳥
は、同一でも異なっていても工く、それぞれ。

水素原子；ハロゲン原子；直接もしくは２価の連結基（
−０−、−ＮＨ−、−ＮＨＲ’−ただしＲ′はアルキル
基、アリール基等）を介して結自する置換もしくは非置
換のアルキル基、アリール基もしくはヘテロ環残基；ま
たＷメチン鎖を有する基を表わす。

このような基のうち、特に好適なものは下記のものであ
る。

１ン　水素原子 ２）ハロゲン原子 ３）それぞれ置換または非置換のアルキル基。

アリール基、アルキルアリール基、アルコキシ基、アリ
ーロキシ基、ヘテロ環残基、またはモノもしくはジアル
キルアミノ基等。

特に、置換または非置換のアルキル基（メチル、エチル
、ｐ−アジニルなど）、置換まタハ非置換のアリール基
（フエ＝　ル、ｐ−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノフェニルな
ど）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシなど）、アリ
ーロキシ基（フェノキシなト）等。

４）下記のモノまたはポリメチン鎖を有する基 １）−（−ＯＨ２０Ｈ←　０Ｈ＝Ａｌ （ここに、　ＡＩは、単環または多環のへテロ環２価残
基、例えばオキサゾＩＪリデン、チアゾリリデン、セレ
ナピリリウム、イミダゾリリデン、ピラニリデ′ン、チ
アピリリウム、セレナピリリウム、テルロビリリウム、
オキサインドラジニリデン、ベンゾオキサゾリリデン、
ベンゾチアゾリリデン、ペンゾビラニリデン、ペンゾチ
アビリニリデン、ペンゾセレナピラニリデン、ペンゾテ
ルロピラニリデンなどを表わし、ｎは０〜３の整数であ
る。） １１）−←０Ｈ＝ＯＨｔＡ２ 〔ここに、Ａ２は、水素原子、アルキル基（メチル、エ
チルなど）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシなど）
、アリール基（フェニル、ナフチ□ルなど）、置換もし
くは非置換のアミノ基（ジメチルアミノなど）、ジアル
キルアミノアリール基（ジメチルアミノフェニルなど）
、単環または多環のヘテロ環残基（オキサシリル、９−
ジュロリジル、チアゾリル、セレナゾリル、イミダゾリ
ル、ビリリウム系、チアピリリウムル、セレナピリリウ
ム、テルロビリリウム、ピリジニル、）２ニル、チオフ
ェニル、セレノフェニル、テルロフェニル、オキサイン
ドラジニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベ
ンゾセレナゾリル、ペンゾビリリウミル、ペンゾチアビ
リリウミム、ペンゾセレナビリリウミル、ペンゾテルロ
ピリリウミル、など）を表わし、 ｎは０〜２の整数である。〕 表わし、 ＺｌはＯまたはＳを表わし、 Ｒ６および几７は、互いに同一でも異なっていてもよく
、それぞれ、水素原子、または上記したような、直接も
しくは２価の連結基を介して結合する置換もしくは非置
換のアルキル基、アリ゛−ル基もしくはヘテロ環残基を
表わし、Ｒ６とＲ７は互いに結合して、単一ないし多核
の縮合炭素環ないしヘテロ環（例えば炭素原子約５〜２
０程度）を形成してもよい。〕 この場合、この１１１）の双性イオンジケトネートであ
るときには、ｍは０である。

他方％、ＪＬ、おはび几４　；　Ｕ；、、、同７・で−
も異なって−いてもよく、それぞれ水素原子；または前
記Ｒ１゜Ｒ３，Ｒ５におけるときと同様に置換されるが
、あるいは非置換のアルキル基もしくはアリール基を表
わす。

このような場合、Ｒ２とＲ３あるいは几４とＲ５は互い
に結合して、炭素原子約５〜２０程度の単環ないし多環
の縮合炭素環を形成してもよい。

縮合炭素環としては、特に、置換ないし非１〆換のベン
ゼン環が好適である。

さらにＹは、Ｏ，Ｓ、ＳｅまたはＴｅであり、それぞれ
の原子に応じ、ビリリウム系、チアピリリウム系、セレ
ナピリリウム系またはテルロビリリウム系の色素となる
ものである。

なお、Ｘ−は、通常のアニオン、例えばハロゲンイオン
、０１０：　、　ＰＦ６−、　ＢＦ４−　、　ＯＨ３５
Ｏａ−、ＯＦａ　８０３−。

０Ｈｓ−Ｃン５ｏ３−、ａｔ−ＣンＳ　Ｏｓ　’Ｊ　ヲ
衣ｂ−ｊ−０そして、ｍは０または１であ！ｙｓ　ｍ＝
Ｑのときには、前り己のとおシｓ　Ｒ１、Ｒ３または几
５中に一電荷が存在するものである。

仁のようガ色素は、特開昭５８−３２８７６号およびＪ
、Ｏｒｇ、Ｏｈｅｍ、４７　２７　５２３５〜５２３９
（１９８２）等に従い合成される。

次に、上記一般式ＣＩ）で示される色素の具体例をあげ
る。

なお、下記において、ｐｈはフェニル基を表わす。

ｌ：Ｉ？Ｉ工　工　工　国　１）　工　工ａｔ工　工　
国　工　゛　工　工　鷲 −１ご　二　Ｆ−１＋　Ｅ−１−８ −へ　の　寸　０　ロ　ト Ｑ　Ｑ　ロ　ロ　ロ　ロ　ロ １）　国　国　１）　頴 １）　国　工　工　エ Ｉ：１ρＱ　Ｑ　ｉ−１ ＝　エ　エ　１）　エ　エ　工 ＝　工　エ　エ　エ　エ　田 に）　Ｑ　Ｑ　ρ　ｑ　ρ　ロ 工　工　Ｅｉ　国　工　工 工　Ｏ１８工　工　工　工 Ｑ　Ｑ　Ｉ：ｌ）　ρ　Ｑ　Ｑ 工　工　工　工　工 エ　エ　工　匡　工 〃　囚　切　０　め ０１！　工　工　工　エ 工　工　工　工　工 ■　リ　０　力　■ −二　二　国　工　丑　−４ 漱 工 瓦 工 ＧＪ　Ｑ　Ｑ　Ｑ　Ｑ　Ｑ エ　エ　工　二 ｌ−Ｉ　Ｈ？　Ｅ＠ Ｑ　Ｑ　ロ　ρ エ　エ　エ　エ　エ 末 二　平　工　工　工 Ｑ　ＣＩ　Ｑ　ｉ−＋ 工　工　エ　エ Ｅ＋Ｅ＠１＋Ｅ−１ Ｑ　Ｑ　Ｑ　Ｑ 工　１）　国　工 「 工 集 ？　Ｅ−１ａ　日 Ｑ　ロ　Ｑ　Ｑ 二　０８　国　工 工 ■ 工　工　工 ロ　に）　− このような色素は、本発明の効果をそこなわない範、囲
で、他の色素と組み合わせて記録層を形成してもよい。

記録層中には、必要に応し、樹脂が含まれていてもよい
。

用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性ないし熱可
塑性樹脂が好適である。

これらのうち、特に好適に用いることができる樹脂には
、以下のようなものがある。

ｌ）ポリオレフィン ！ ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１など。

ｉｉ）ポリオレフィン共重合体 例エバ、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重
合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテ
ン−１共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。

この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。

１ｉｉ）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

１ｖ）４４３化ヒニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。

この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。

マ）ポリスチレン ｖｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酪共重合体
（ＳＭＡ樹脂）、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体（
ＳＢＲ）、スチレン−塩化ビニリチン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｖｌｌ）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２
，５−ジクロルスチレン、α。

β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジ賑 ン、アセナフテン、ビニルアントラセンなと、あるいは
これらの共重合体、例えば、α−メチルスチレンとメタ
クリル酸エステルとの共重合体。

ｖｉｉｉ）クマロン−インデン樹脂 クマロン−インテン−スチレンのＩＩＥ合体。

ｉｘ）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
。

＋１）アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。

式　Ｒ１０ ＣＨ−Ｃ− Ｃ−０Ｒ２［１ １ 上記式において、Ｒ１０は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒ２０は、置換または非１δ換のアルキル基
を表わす。　この場合、上記式において、Ｒ１０は、水
素原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、特に
水素原子またはメチル基であることが好ましい。

また、Ｒ２０は、置換、非置換いずれのアルキ　−ル基
であってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１〜８で
あることが好ましく、また、Ｒ２０が置換アルキル基で
あるときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基
、ハロゲン原子またはアミ７基（特に、ジアルキルアミ
ノ基）であることが好ましい。

このような」４記式で示される原子団は、他のくりかえ
し原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹
脂を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子
団の１種または２種以上をくりかえし単位と丈る単独重
合体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成する
ことになる。

ｘｉ）ポリアクリロニトリル ｘｉｉ）アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。

この場合、共重合比は任意のものとすることができる。

ｘｉｉｉ）ダイアセトンアクリルアミドポリマーアクリ
ロニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。

ｘｉｖ）ポリ酢酸ビニル ｘ’ｖ）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。

共重合比は任意のものであってよい。

ｘｖｉ）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。

ｘｖｉｉ）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン
６−６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２．ナイロ
ン９、ナイロンｌｌ、ナイロン１２、ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイＯン６　／　６−６　／
　６−１０、ナイロン６／６−６／１２、ナイロン６／
６−６７１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロ
ンであってもよい。

ｘｖｉｉｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン耐、アジピン酸
、セパステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、テレフタル酪などの芳香族二塩基酸などの各種二
塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリコ
ール・、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。

そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸
との共縮合物は、特に好適である。

さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。

ｘｉｘ）ポリビニルアセクール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。

この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。

ｘｇ）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。

特に、グリコール類とジインシアナート類との綜合によ
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。

ｘｘｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、−環状アセタールの開環重合
物、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプ
ロピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキ
サイド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレン
オキサイドなど。

ｘｘｉｉ）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メ
チルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。

ｘｘｉｉｉ）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ジオキシジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。

ｘｚｉｖ）アイオノマー メタクリル酎、アクリル酸などのＮａ。

Ｌｉ、Ｚｎ、Ｍｇ塩など。

区Ｘマ）ケトン樹脂 例工ば、シクロへキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。

ｘｘｖｉ）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。

ｘｘｖｉｉ）石油樹脂 Ｃ５系、Ｃ９系、Ｃ３−Ｃ９共重合系、ジシクロペンタ
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。

ｘｘｖｉｉｉ）上記ｉ）　〜ｘｘｖｉｉ）の２種以上の
ブ、７ド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。

なお、自己酸化性、熱可塑性等の樹脂の分子量等は、種
々のものであってよい。

このような樹脂と、前記の色素とは、通常、重量比で１
対０．１〜１００の広範な量比にて設層される。

このような記録層中には、クエンチャ−が含有される。

これにより、読み出し光のくりかえし照射によるＳ／Ｎ
比の再生劣化が減少する。　また、明室保存による耐光
性が向上する。

クエンチャ−としては、種々のものを用いることができ
るが、特に、再生劣化が減少すること、そして色素結合
樹脂との相溶性が良好であることなどから、遷移金属ヤ
レート化合物であることが好ましい。　この場合、中心
金属としては、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｐｄ、Ｐｔ
等が好ましく、特に、下記の化合物が好適である。

１）　アセチルアセトナートキレート系Ｑｌ　−Ｉ　Ｎ
ｉ　（ＩＩ）アセチルアセトナートＱ　１−２　０ｕ　
（Ｉｆ）アセチルアセトナートＱ　１−３　Ｍｎ　（Ｉ
ｌｌ）アセチルアセトナートＱｌ−４００（ｎ）アセチ
ルアセトナート２）　下記式で示ざｎるビスジチオ−α
−ジケトン；ＩＱ ここに、１（（１１〜Ｌ、（４）は、置換ないし非し換
のアル・トル乙鼾′ま１こはアリール基を表わし、Ｍは
、Ｎｉ　、　Ｃｏ　、　Ｏｕ　、　Ｉ’ｄ　、　Ｐｔ　
１，４の４８金４３ｉ原子イＣ衣わす。

この場合、Ｍは一定性をもち、４級アンモニウムイオン
等のカチオｙ（Ｏａｔ）と塩？形成してもよい。

なお、以下の記載において、ｐｈ　はフェニル基、φは
１，４−フェニレン基、φ’はｉ。

２−フェニレン基、ｂｅｎｚ　は環上にてとなりあう基
が互いに結合して縮合ベンゼン環葡形成すること金衣わ
すものである。

１　１　ｌ　Ｉ　ｌ 囚　Ｎ　囚　囚　ヘ σ　σ　０１０１　σ ３）　下記式で示されるビスフエニールジチ号−ル系 ここに、１（（５］および几（６）は、氷菓五１こはメ
チル基、エチル基などのアルキル基、０１などのハロゲ
ン原子、あるい（−、ｌニジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基などのアミノ基、♀ｊ、紮我わし、 Ｍは、Ｎｉ　、　Ｃｏ　、　Ｏｕ　、　Ｐｄ　’＋　Ｐ
ｔ　苔のｉ−’＋ｊ　桜金属原子を表わす。

また、上記↓１４造のＭは一電荷定もって、４級アンモ
ニウムイオン等のカチオン（Ｃａｔ）と塩ｒ形成しても
よく、さらにはｈ４の上下には、さらに他の配位子が結
合していてもよい。

このようなものとしては、下自己のものがある。

１−Ｌ（５）Ｒ（６）１（７）Ｒ（８）Ｑ３〜　Ｉ　Ｈ
ｉ−Ｉ　ＨＨ Ｑ３−２　Ｉ工０Ｔ−１３Ｈ１−Ｉ Ｑ３−３　１−１　ｃｚ　Ｃｐ　１ｘ Ｑ３−４　０Ｈ３ＨＩ−（０” Ｑ３　５　ＯＨ３０Ｈ３０’３　ＣＹ’ａＱ３−６　１
１０．＃　ｋ−Ｌ’　” Ｑ３−７　０−とシ　Ｃノイ〉　Ｃ−（シ　〔Ｊ−６シ
Ｑ：３８　Ｉ４　０Ａ　ＯＡ　ＣＡ Ｑ３−９　１−１　１−Ｉ　Ｉ（’ Ｑ３−１０　Ｈ０１１３０Ｈ１ＴＩ Ｑ３−１１　Ｈ０Ｈ３ａｎ　ｉ１ Ｑ３−１２　Ｈ０Ｈ３０’　ＩＩ Ｑ　Ｊ−１３０Ａ　ＣＡ　’　”　ｔ：ＺＱ３−１４　
ＨＯＡ　０７　ａＡ Ｑ３１５　ＨＮ（ＯＨ３）２　”Ｉ” Ｑ３−１６　ＨＮ（ＯＨ３）２Ｎ（””３）２　Ｉ−■
ＱＪ　１７　１．［Ｎ（ＯＨ３）２　。”’　ＩＩＱ３
−１８　ＨＮｔ［Ｉ３）２１１１：ＩＱ３−１　９　Ｈ
Ｎｃｏｎ３　ノ　（１１，１（ご３　２０　ＨＮ（ＯＨ
３Ｃ”” Ｍ　０ａｔ Ｎｉ　Ｎ　（０２１−ＩＳ）４ Ｎｉ　Ｎ　（ｎ　０４Ｈ９）４ Ｎｉ　Ｎ　（ｎ−０４１−Ｉ９）４ Ｎ”　Ｎ　（ＯＨ３）３０＋６Ｈ３３ Ｃｏ　Ｎ＋（ｎ　−０４Ｉ９　）４ Ｎ　ｉ　Ｎ”　（ｎ　−０４Ｉ−＋９　）４Ｎｊ　Ｎ　
Ｃ０Ｔ１３）３０ｔｔ、　１１３３Ｎｉ　Ｎ　（０１（
ａ　）３　（ｊ＋６（ｈ３Ｎｒ　Ｎ　（＋ｊｌｂ　）ａ
　に＋６　］１３ａＮｉ　Ｎ＋（＋１−０４１−１ｇ　
）４Ｎ　ｉ　Ｎ”　（ｎ　〜０７　ｔｌｌｓ　）４Ｎ’
　Ｎ　（Ｏｓ　ＨＩ３　）　（０２Ｉ５　）　３Ｎ皿 Ｎｉ　Ｎ　（ｎ−０４Ｈ９”）ａ ＮｉＮ＋（ｃ６■（ｓ）（ＯＨａ）ａ この他、特開昭５０−４５０２７号や昭和５８年９月５
日付の特許願に記載したものなど。

４）　下記式で示さｎるジチオカルノ々ミン酸キレート
系 ここで、１モ（９）おＬび１（αＱはアルキルわず。ま
た、ＭはＮｉ　、　Ｃｏ　、　Ｏｕ　、　Ｐｄ　、　ｋ
）を等の港移金す番原子・′６：表わす。

５）　下記式で示さｎる比合す ここに、Ｍは、遷移金属原子勿表わし、Ｑｌは、−０＝
Ｏ　（Ｑｌｌ）または−〇−ＯＮ　（Ｑｌ２）１１ 一Ｏ＝０　−０−ＯＮ ？表わし島 Ｏａｔは、カチオン勿表わす。

Ｍ　Ｑ　Ｏａｔ Ｉ　Ｎｉ　Ｑｌ２　２０五６１−１３　３Ｎ”ＣＣ　Ｉ
Ｔ３）　３−　２　Ｎｉ　Ｑｌ２　２（０４Ｈ９）４　
Ｎ＋Ｑ　５　−　３　０ｏ　Ｑｌ２２　（Ｏｄ１９）４
　Ｎ＋Ｑ５−４　０ｕ　Ｑｌ２２（０４Ｈ９）４Ｎ＋Ｑ
５　−５　Ｐｃｔ　Ｑｌ２２　（０４Ｈ９）４Ｎ＋この
他、特ｌ旭昭５８ー１２５６５４号に記−したもの。

６）　下記式で示される（Ｂ合物 ここに、 Ｉｖｉ　１よ、魔ケ釡桐原子を次イクし〜し、 Ｒ（１１）あ・よび１１（１２）は、それぞれ、ＯＮ　
、　Ｃ０１ｔ（１３）、Ｃ００ＴＩ、（１ｉ）　、０ｏ
ＮＩＬ”５）　１．（１６）　ｔ７ｃは５Ｏ２ＴＬ（１
７）全我わい Ｒ（１３）　〜、（１７）は、ソｔｔ、ぞｎ、水素原子
せたはは換もしくは非瞠換のアルキル基もしくはアリー
ル基勿衆イつし、 Ｃ２は、５員または６員環電形成するのに必侵な原子解
紫表わし、 Ｃｂ＋ｔば、カチオンを表わし、 ｎは１瞥たは２である。

ｎ　ズ　７ −　Ｎ　ω　寸　℃　０ ＩＩ　Ｉ　ＩＩ　１ σ　０’　Ｏ’　Ｏ’０’　σ この他、特願昭５８−ｉ２７０７４号に記載したもの。

７）　下記式で示される化合物 ここにｉｖｌ　Ｑよ、逓杉盃Ａ喝諷子τ衆わし、Ｏａｔ
は、カチオンを表わし、 ｎは１′または２である。

八・１０ａｔ Ｃ７１Ｎｉ　２（（ｎ　０４Ｈｇ）３ＮＱ７−２　Ｎｉ
　２（ｎ−Ｃ＋ｏｒ−Ｉａ、＋　（ＣＨ３）５Ｎ〕この
他、ｌ特願昭５８−１２７０７５号に記ｉ’、２Ｌ　１
こもの。

８）　ビスフェニルチオール系 Ｃ３−ＩＮｉ−ビス（オクチルフェニル）サルファイド ９）　下記式で示されるテオ力テコールキンート系 ここに、Ｍはｒｌｉ、　Ｃｏ　、　Ｏｕ　、　Ｐｄ　、
　ＰＬ　等の遷移金へ原子？表わす。

また、Ｍは一電荷全もち、カチオン（Ｃａｔ）と塩？形
成していてもよく、ペンーヒン璋は置換基を有していて
もよい。

Ｑ　９　１　Ｎｉ　Ｎ＋（０４Ｈｇ　）４１Ｏ）下記式
で示さｌｉＬる化合物 ここに几（１８）は、１１面の基（Ｃ表わし、！は、０
〜６であシ、 Ｍは、遷移金属原子？表わし、 Ｏａｔは、カチオンを表わす。

Ｑｌｏ−ｉ　Ｎｉ　ＨＯＮ（ｎ−０＜Ｈ９）ａＱｌ　Ｏ
−２Ｎｉ　０１−１３’　Ｉ　Ｎ（ｎ　Ｏ４Ｈｇ　）４
この他、特願昭５８−１４３５３１号に記載し１こもり
。

１１）下記の両式で示される比・汁物 ここに、上記一般式ＣＩ）および［ＩＩ）において、 （２０）　（２１）　、　、、Ｌ（２２）お工びＲ（２
３）　（は、Ｒ、Ｒ それぞれ水素原子または１価の基を表わし、几（２４）
、、（２５）　、□（２６）および几（２７）（役、水
素原子または１価の基を表わずか、ｌ、（２４）、ｌ！
：ａ（２５）　、　ｋ４（２５）　ｔ　ＩＬ（２６）、
□、（２Ｇ）　、□ＬＬ２７）は、互いに給仕して６員
環奮形成してもＬい◇また、Ｍは、遷移金員原子勿俟わ
す。

この他、特願昭５８−１４５２９４号に記載したもの。

１２）下記式で示される化合物 ここに、Ｍは、Ｉ’ｔ　、　ＮＩＩＩこはＰＯヒ・尺わ
し、Ｘｌ　＊　Ｘ２　＊　Ｘｌ　＋　Ｘ４は、それぞＡ
％（ＪｊたはＳ奮衣わす。

Ｏ１２−Ｉ　Ｎｉ　０　０　０　０ Ｑ１２−２　Ｎｉ　Ｓ　ＳＳ　Ｓ この他、特願昭５８　１４５２９５号に記載したもの。

１３）下記式で示される化合物 ここに、ＩＬ（３１）は置換もしくは非置換のアルキル
基またはアリール基であり、 几（’３２）　、　Ｂ　（３３）　、　、Ｌ（３４）お
よびＲ（３５）は、水素原子１ｆｃは１価のＩＡを衣わ
すが、１（３２）と几（３３）、ｉ□（３３）と几（３
４）　、Ｒ（３４）　とル（３５）は、互い＋ｃ　２６
合して６貝腺釦形放してもよい。

ｔｌこ、ｆ＋４ｉユ、成し釡ｉんζ子ｒべわす。

Ｑ１３１１１０４１−Ｉ９　ＨＨＨＨ歯Ｑ１３−２０６
Ｈ５ＨＨ０２Ｉ−１ｓＨＮ皇Ｑ１３−３　ｎＣ＜１４ｇ
　Ｉｆ　Ｈｂｅｎｚ　Ｎｉこの他、特願昭５８−１５１
９２８号°に記りくしたもの。

１４）下記両氏で示される化合襖 ここに、１Ｌ（４１）　、　Ｒ（４，２）　、　１Ｌ（
４３）ふ−よび１ｔ（４４）　（・２１、そｎぞｎ、水
先原子または１価グツ基を表わすが、−４１）とＲ（４
２）　、　ＩＬ（４２）と几（４３）、几（、＋３）と
１Ｌ（４４）　（、比、互いにｆｊｊ合して６員環葡形
放しても工い〇 また１、、（４５’）ふ・よび几（′１６ンＣづ二、水
泳２「（子または１１ｉＩｉｉｖ基ｋ　’＆　ｂ　ス。

さらに、Ｍは、還移金属原子に艮わす。

Ｑ１４１　ＨＩＩ　ＨＨ１４−Ｎｒ Ｑ１４””２　ＨＩ（Ｃ４１−１７００（）　ＩＩ　ｔ
ｌ　Ｎｉこの他１特願昭５８−１５１９２９号に記載し
たも−の。

１５）下記式で示さ几るｆヒ合物 、（５１） ＣｊＪ？：、Ｂ（５１）　、　Ｂ（５２）　、　Ｂ（５
３）　、　Ｒ（り４）。

□ド５５　）、訂：）ｃ）　、　１４（５７）および、
、（５８）ば、そ几ぞ几、水素原子１１こは１価（１）
基？夫わすが１、、（５１）　ｅ凡（５２）、几（５２
）　（！：Ｂ（５３）　、　１４（５３）、　ＩＬ（５
４）　、　ｉ（、（５５）よ１１（５６′）、　ｌ饅６
）とＢ（５７）および、１（５７）と１４　Ｃｂ　８　
）は、互いに結合して６員璋を形成してもよい。

凡（５９）（，１、水ぶ原子ま７こは置換もしくは非置
換のアルキル基もしくはアリール基を表わすＯ Ｘは、ハロゲンを長わす。

Ｍは、遷移金属原子ｔべわすＯ ２１　芝　ｉ ×１　ご　喧 １Ｌ　ム ぷ　Ｇ この他、特願昭５８−１５３３９２号に記載したもの。

１６）下記式で示されるサリチルアルデヒドオキシム系 ここに　Ｂ、（６０）および几（６１）は、アルキル基
を表わし、Ｍは、Ｎｉ、Ｏｏ、Ｏｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷
移金属原子を表わす。

Ｑｌ　６−１　ｉ　−０３Ｈｔ　ｉ　−０３Ｈ７Ｎ　１
Ｑ１６−２’　（ＣＨｚ）ｓｌＯＨｓ　（ＯＨＪｔｘＯ
ｆ−１３Ｎ１Ｑｌ　６−３　（ＯＨｔ）ｏ　ＯＨｓ　（
ＯＨｔ）ｔｘ　ＯＨ３（：’、０Ｑ１６−４　（ＯＨｔ
）ｔｔＣＨｓ　（ＯＨｔ）ｔｔＯＨ３０ｕＱＬ１６−５
　０ａＨｓ　０ｓＨｓ　Ｎ１Ｑ１６−６　０６Ｈｙ、　
０６Ｈ５Ｃ。

Ｑｌ６−７　０６Ｈ５０６Ｈ５、Ｏｇ Ｑ１６　８　ＮＨＣａＨ５ＮＨＣ！６Ｈ５Ｎ１Ｑ１６−
９　０Ｈ、ＯＨＨ４ １７）下記式で示されるナオビスフエル−トキレート系 ここに１Ｍは前記と同じであハ几（６５）お工びＲ，（
６６）は、アルキル基を表わす。またＭは一電荷金もち
、カチオン（Ｏａｔ）と塩とを形成していても工い。

几（６５）、Ｒ（６６）　Ｍ（３ａｔ ＋ Ｑｌ７−１　ｔ−ｏ８Ｈ亘７　Ｎｉ　ＮＨ３（Ｃ４Ｈ９
）＋ Ｑｌ　７２　ｔ　−０１１Ｈ１７Ｃｏ　ＮＨ３（０４Ｈ
９）Ｑｌ７−３　ｔ　−ＯｇＨ１７Ｎ　ｉ　−１８）下
記式で示される亜ホスホン酸キレート系ここに、Ｍは前
記と同じでおり、Ｒ（７１）お工びＲ（７２）は、アル
キル基、水酸基等の置換基を表わす。

１９）下記各式で示される化合物 ここに、Ｒ（８１）　、几＜＝）、Ｒ（８３）およびＲ
（８４）　は、水素原子または１価の基を表わすが、 几（８１）とＲ（８２）　、　Ｒ（８２）とＲ（８３）
　、　Ｒ，（８３）と几（８４）は、互いに結合して、
６員環全形成してもよい。

Ｂ（８５）お工びＲ（８８）　屯それぞれ、水素原子ま
たは置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール
基を表わす。

Ｒ（８６）　は、水素原子、水酸基または置換もしくは
非置換のアルキル基もしくはアリール基金表わす。

Ｒ（８７）は、置換または非置換のアルキル基またはア
リール基を表わす。

Ｚは、５員または６員の環を形成するのに必要な非金属
原子群？表わす。

Ｍは、遷移金属原子？表わす。

≧巨　；　ｉ 例　ＩＩ＋ 一一？−１＋ ０’Ｏ’Ｃン この他、特願昭５８−１５３３９３号に記載したもの。

２０）下記式で示される化き物 ここに、Ｒ（９１）お工びＲ（９２）は、それぞれ水素
原子、置換または非置換のアルキル基、アリール基、ア
シル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカ
ルバモイル＆、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ−ア
リールスルファモイル基、アルコキシカルゼニル基また
はアリーロキシカルボニル基を表わし、Ｍは遷移金属原
子を表わす。

Ｒ（９１）　Ｒ（９２）　Ｍ １１１２１１４　−一曜一−−閘−―−幽−Ｑ２０−１
　ｎｏａＨｅ　ＯＨ３Ｎｉ Ｑ　２０−２　０Ｈａ　ＯＨｓ　Ｏ−ψ−ＮＨＯＯ’　
Ｎｉこの他、特願昭５８−１５５３５９号に記載したも
の。

この他、他のクエンチャ−としては、下記のようなもの
がある。

２１）ベンゾエート系 Ｑ２１−１　既存化学物質３−３０’４０（チヌビン−
１２０（チノ々ガイギー社製）〕 ２２）ヒンダードアミン系 Ｑ２２−１　既存化学物質５−３７３２　（５ＡＮＯＬ
Ｌ８−７７０　（ニス製薬社製）〕 これら各クりンチヤ−は、色素１モルあｆｃり０．０１
〜１２モル、特に帆１〜１．２モル程度含有される。

なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。

これにエフ、再生劣化はきわめて小さくなる。

これ場合、両者の差はＯか、３５０ｎｍ以下であること
が好ましい。

このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。

そして、記録層の厚さは、通常、０．０３〜１０ｇｍ程
度とされる。

なお、このような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、８　種呵塑剤、界面活性
剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、耐化
防止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。

このような記録層を設層するには、通常、基体上に所定
の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。

なお、ｑ　ｌ（４に用いる溶媒としては、例えばメチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピト
ールアセテート、プチルカルヒＩ・−ルアセテート等の
エステル系、メチルセロソルブ、エチル名ロソルブ等の
エーテル系、すいしトルエン、キシレン等の芳６族系。

ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル系、アルコール
系などを用いればよい。

このような記録層を設層する基体の材質には特に制限は
なく、各種樹脂、ガラス、セラミンクス、金属等いずれ
であってもよいが、書き込み光および読み出し光に対し
て実質的に透明であるものが好ましい。

また、その形状は使用用途に応じ、テープ、ドラム、ベ
ルト等いずれであってもよい。

なお、基体は、通常、トラッキング用の溝を有する。

また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチルメタクリ
レート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン
、メチルペンテンポリマー等の、みぞ付きないしみぞな
し基体が好適である。

これらの基体には、耐溶剤性、ぬれ性、表面張力、熱伝
導度等を改善するために、基体」二にプライマーをコー
ティングすることもできる。

プライマーとしては、例えば、チタン系、シラン系、ア
ルミ系のカップリング剤や、各種感光性樹脂等を用いる
ことができる。

また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。　ただし、
記録層は単層膜とし、反射層を記録層の上または下に積
層しないことが好ましい。

本発明の媒体は、このような基体の一面上に上記の記録
層を有するものであってもよく、その両面に記録層を有
するものであってもよい。

また、基体の一面上に記録層を塗設したものを２つ用い
、それらを記録層が向かいあうようにして、所ボの間隙
をもって対向させ、それを雀閉したりして、ホコリやキ
スがつがないようにすることもできる。

ＩＶ　発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。　このとき記録層中の色素の発熱
により、色素４妹与が融解し、ピントか形成される。

このように形成されたピットは、やはり媒体の走行ない
し回転下、読み出し光の反射光ないし透過光、特に反則
光を検出することにより読み出される。

この場合、記録および読み出しは、基体側から行っても
、記録層側から行ってもよいか、基体をとおして行うこ
とか好適である。

そして、一旦記録層に形成したピットを光ないし熱で消
去し、再書き込みを行うこともできる。

なお、記録ないし読み出し光としては、゛１パ導体レー
ザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ａｒレーザー、Ｈｅ−Ｃｄ
レーザー等を用いることかできる。

■　発明の具体的効果 本発明によれば、読み出し光による再生劣化がきわめて
小さくなる。

そして、耐光性も格段と向上し、明室保存による特性劣
化かきわめて少ない。

そして、消去および再書き込みを行うようなときにも特
性の劣化が少ない。

また、反射層を積層しなくても、基体をとおして書き込
みと読み出しを行うことができる。

そして、溶解性が良好で、結晶化も少ない。

ＶＩ　発明の液体的実施例 以下、本発明の液体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１ 下記表１に示される色素り、ｌ脂Ｒ、クエンチャ−Ｑと
を用い、表１に示される割合にて所定の溶媒中に４容解
し、直径３０ｃｍのアクリルディスク基板上に、０．０
７ｐｍの厚さに塗布設層して、各種媒体をえた。

この用台、表１において、ＮＣは、窒素含量１１．５〜
１２．２％、ＪＩＳ　Ｋ　８７０３ｉ、：もトラく粘Ｈ
５１Ｂ　Ｏ秒のニトロセルロースでアル。

さらに、用いた色素は、上記にて例示した陽、のものを
用いた。

加えて、用いたクエンチャ−は、上記にて例示したもの
の陽、で示される。

そして、表１には、Ｒ／Ｄの重量比と、Ｑ／Ｄの重量比
とが併記される。

このようにして作成した各媒体につき、これを１８０　
Ｏｒｐｍテ回転させながら、　Ａ文ＧａＡｓ−ＧａＡｓ
半導体レーザー記録光（８３０ｎｍ）を１用ｍφに集光
し　（集光部出力　ｌＯｍＷ）　、所定周波数で、パル
ス列状に照射した。

各媒体につき、書き込み光のパルス１１」を変更して照
射し、消光比１．４か得られるパルス１１」を測定し、
その逆数をとって、書き込み感度とした。　結果を表１
に示す。

この場合、消光比は、後述の読み出し光の媒体表面の反
射率のピント部における誠衰度である。

これとは別に、パルスｒ＋＋を１００ｎｓｅｃとして書
き込みを行った。

この後、１ｍＷの半導体レーザー（８３０ｎｍ）１涜み
出し光を１ｇ５ｅｃ巾、３　ＫＨｚのパルスとして照射
して、ティスフ表面におけるピーク−ピーク間の当初の
Ｓ／Ｎ比と、回転を停止したディスク上に読み出し光を
５分間照射した後の、基体裏面側からの反射率の変化（
％）を測定した。

これらの結果を表１に示す。

表１に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。

失施例２ 実施例１の媒体　Ｎｏ、２〜７を用い、実施例１と同様
に書き込みを行ったのち、赤外線ヒーターを用い、媒体
を１５０　’Ｃ１１５秒間加熱して消去を行ったところ
、各媒体とも、くりかえし何回もの消去、再書き込みが
良好にできることか＠、認された。

出願人　ティーディーケイ株式会社 代理人　弁理士　石　井　陽　− 第１頁の続き ０発　明　者　高　橋　−夫　東京都中央区式会社内 ０発　明　者　黒　岩　顕　彦　東京都中央区式会社内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　色素の組成物からなる記録層を基体上に有する光
   記録媒体において、 色素が下記一般式〔■〕で示される化合物がらなシ、色
   素の組成物中にクエンチャ−が含有されていることを特
   徴とする光記録媒体。 一般式〔Ｉ〕 １ （上記一般式（１）において、 几ｌ、Ｒ３および几５は、それぞれ、水素原子、ハロゲ
   ン原子、直接もしくは２価の連結基を介して話合する置
   換もしくは非置換のアルキル基、アリール基もｌ〜くは
   ヘテロ環残基、またはモノもしくはポリメチン鎖を有す
   る基を表わし、Ｒ２および几４は、それぞれ、水素原子
   、または置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリ
   ール基を表わし、 Ｒ２とＲ３またはＲ４とＲ５は、互いに結合して、絹金
   環が形成されていてもよく、 Ｙは、Ｏ，Ｓ、８ｅまたはＴｅを表わし。 ｘ−ｕ、アニオンを表わし、 ｍは１であるが、Ｒ１’、Ｒ＋３またはＲ，中に一電荷
   が存在するときにはｍはＯである。）２、　色素の組成
   物中に樹脂が含まれる特許請求の範囲第１項に記載の光
   記録媒体。 ３、　クエンチャ−が遷移金属キレート化合物である特
   許請求の範囲第１項または第２項に記載の光記録媒体。 ４、　記録層に反射層が積層されていない特許請求の範
   囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の光記録媒体。 ５、　基体をとおして書き込みと読み出しを行う特許請
   求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の光記録
   媒体。