JPS6067700A - 電解処理装置 - Google Patents
電解処理装置Info
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- JPS6067700A JPS6067700A JP17367483A JP17367483A JPS6067700A JP S6067700 A JPS6067700 A JP S6067700A JP 17367483 A JP17367483 A JP 17367483A JP 17367483 A JP17367483 A JP 17367483A JP S6067700 A JPS6067700 A JP S6067700A
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- Japan
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- electrolytic
- soft start
- electrode
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は交番波形電ｌ５Ｉｔ、を用いて連続的に金属ウ
ェブにａｔｊＦＦエツチング処理を行うに際して均一性
に曖れた電解エツチング処理が可能な連続電解処理槽を
提供しようとするものである。アルミニウム２、鉄など
の表面に電解エツチングする方法は広く実用化されてお
り、請求される品質や反応効率の向上の目的から交番波
形電流を用いることは一般的に行われている。たとえば
特公昭ｊ Ｊ−／り２ｇθ号公報ではアルミ板の電解粗
１６］ｒし処理に於て陽極時電圧が陰極暗電圧よｐ犬な
るよう印加した交番波形電圧を用いることによりオフセ
ット印刷版支持体として優れた粗面化処理がｉｉＪ能に
なるという記載がある。通常電解エツチング処理は１〜
３％の硝酸あるいは塩酸等酸性范解浴中で電流密度１０
Ａ／ｄｍ２〜１０（７Ａ／ｄｍ２ で行われる。
ェブにａｔｊＦＦエツチング処理を行うに際して均一性
に曖れた電解エツチング処理が可能な連続電解処理槽を
提供しようとするものである。アルミニウム２、鉄など
の表面に電解エツチングする方法は広く実用化されてお
り、請求される品質や反応効率の向上の目的から交番波
形電流を用いることは一般的に行われている。たとえば
特公昭ｊ Ｊ−／り２ｇθ号公報ではアルミ板の電解粗
１６］ｒし処理に於て陽極時電圧が陰極暗電圧よｐ犬な
るよう印加した交番波形電圧を用いることによりオフセ
ット印刷版支持体として優れた粗面化処理がｉｉＪ能に
なるという記載がある。通常電解エツチング処理は１〜
３％の硝酸あるいは塩酸等酸性范解浴中で電流密度１０
Ａ／ｄｍ２〜１０（７Ａ／ｄｍ２ で行われる。
交番波形電流を用いる時たとえば金属ウェブとしてアル
ミニウム板を用いた時陽極局期時はＡｌ→Ａ１３＋＋Ｊ
Ｑの溶解反応が生じ又陰極の周期時はＨ＋＋ｅ−＋−！
−Ｈ２牛、とｈｐ３＋→３ Ｑ ｌ−１→Ａ＃（ＯＨ）
ａの水素ガス発生灰Ｌ１；と同時に水酸１しアルミのス
ー７ット生成反応がアルミ板上で生じる。
ミニウム板を用いた時陽極局期時はＡｌ→Ａ１３＋＋Ｊ
Ｑの溶解反応が生じ又陰極の周期時はＨ＋＋ｅ−＋−！
−Ｈ２牛、とｈｐ３＋→３ Ｑ ｌ−１→Ａ＃（ＯＨ）
ａの水素ガス発生灰Ｌ１；と同時に水酸１しアルミのス
ー７ット生成反応がアルミ板上で生じる。
これらの反応は電源の周波数に応じてメガに起る。
これらの基本反応を浴の種類、記尋度、温度千件および
電流密度、投入電気逍等の電気条件を制御することによ
り要求される粗面化表面を得ることが一般的に可能であ
る。
電流密度、投入電気逍等の電気条件を制御することによ
り要求される粗面化表面を得ることが一般的に可能であ
る。
しかし交番波形電流を用いる時には必ず金属ウェブが電
解槽に導入された時に電流周期により、溶解反応により
処が１１がスタートする部分とスマット生成反応により
処理がスタートする部分との相違がある。これらの相違
は当然のことながら電源の周波数に応じて発生する。た
とえば処理スピードｒｏｍ７Ｍ、電源周波数がｔ ＯＨ
ｚとし７た場合に金属ウェブの長手方向で／、Ｊりのピ
ッチでその相違が発生する。優れた処理表面の均一性が
要求されるときはこの相違は極めて重要である。即ちス
タート時点での反応の相違により処理完了でも不均一な
処理表面となることがあるからである。
解槽に導入された時に電流周期により、溶解反応により
処が１１がスタートする部分とスマット生成反応により
処理がスタートする部分との相違がある。これらの相違
は当然のことながら電源の周波数に応じて発生する。た
とえば処理スピードｒｏｍ７Ｍ、電源周波数がｔ ＯＨ
ｚとし７た場合に金属ウェブの長手方向で／、Ｊりのピ
ッチでその相違が発生する。優れた処理表面の均一性が
要求されるときはこの相違は極めて重要である。即ちス
タート時点での反応の相違により処理完了でも不均一な
処理表面となることがあるからである。
これらの不均一（’＋：はその発生メカニズムからして
電流密度が高くなるほど又処理スピードが高いほど程匹
が強いものとなるのは当然である。しかし量産化の観点
からは高い処理スピード及び高電流密度処理が望まれる
所であり、この不均一性が生じる欠陥は縫産比の観点か
らは非常に不都合な問題である。従来技術はこの問題の
解決方法について何ら開示していないＬ午れらの不均一
性が問題にならない程度に全体の電流密度をおさえるし
かなかった。本発明はこれらの欠陥を解消する高電流密
度処理が可能な電解処理装置を提供するものである。本
発明による電解処理装置の特徴は″電解処理開始部分で
あるセル入１コ部分に抵電流密１圧処理を行うソフトス
タートゾーンを設けたことである。
電流密度が高くなるほど又処理スピードが高いほど程匹
が強いものとなるのは当然である。しかし量産化の観点
からは高い処理スピード及び高電流密度処理が望まれる
所であり、この不均一性が生じる欠陥は縫産比の観点か
らは非常に不都合な問題である。従来技術はこの問題の
解決方法について何ら開示していないＬ午れらの不均一
性が問題にならない程度に全体の電流密度をおさえるし
かなかった。本発明はこれらの欠陥を解消する高電流密
度処理が可能な電解処理装置を提供するものである。本
発明による電解処理装置の特徴は″電解処理開始部分で
あるセル入１コ部分に抵電流密１圧処理を行うソフトス
タートゾーンを設けたことである。
このことによし初期の反応の相違に起因する欠陥を実質
上解消し処理槽全体としては高電流密度処理０■能であ
り、高い処理スピードで均一な処理表面を得ることが出
来る。
上解消し処理槽全体としては高電流密度処理０■能であ
り、高い処理スピードで均一な処理表面を得ることが出
来る。
以下、添付図面に従い本発明の内存ヲさらに詳細に説明
する。第１図は従来から２うるラジアル型電解セルであ
る。金属ウェブｌはガイドロール２によりセル内に導入
されドラムロール３にまきつけられてセル内を搬送し、
ガイトロールｔによりセル外へ移送される。ｊ、Ａは電
極であり金属ウェブ／に対間して配設される、通常金属
ウェブ／と１に極ｔ、Ｘとの間隔（極間隔）はｊ、！１
０聰である、スはコンタクト給電ロールであり金属ウェ
ブに接触しウェブと同速で回転駆動される。又電解液ｆ
−ｕドラムロールの真下に配設した電解液給液部りより
供給されセル内金満たし、ｉａ７’／ｉ！液排出部１０
液排出部上０セル外に排出され循環タンク／／を経てポ
ンプ／２等により強制循環される。
する。第１図は従来から２うるラジアル型電解セルであ
る。金属ウェブｌはガイドロール２によりセル内に導入
されドラムロール３にまきつけられてセル内を搬送し、
ガイトロールｔによりセル外へ移送される。ｊ、Ａは電
極であり金属ウェブ／に対間して配設される、通常金属
ウェブ／と１に極ｔ、Ｘとの間隔（極間隔）はｊ、！１
０聰である、スはコンタクト給電ロールであり金属ウェ
ブに接触しウェブと同速で回転駆動される。又電解液ｆ
−ｕドラムロールの真下に配設した電解液給液部りより
供給されセル内金満たし、ｉａ７’／ｉ！液排出部１０
液排出部上０セル外に排出され循環タンク／／を経てポ
ンプ／２等により強制循環される。
又／３は交番波形電源であり電源出力端子の一方はコン
タクト給電ロール７に、他方は、を極ｊ、４に接続され
電圧ｔ；ｒノ加される。このようにして金属ウェブ／に
連続的に′電解エツナング処理を施すことが市来る。連
続的に走行している金属ウェブ／にはスマットの生成反
応が金属ウェブの表面で起る。これらの溶解反応及びス
マットの生成反応を交互にｊ、１２０秒間くりかえして
与えることにより粗面化処理が可能となる。しかし金属
ウェブのある部分がセル内に導入された瞬間セル内の金
わｔウェブの反応周期が陽極の場合と１８：極の場合と
がある。このことによυ金属ウェブにｔよ最初の反応と
して溶解反応でスフ−１−シた部分とスマット生成反応
でスタートした部分とが’ＴｈＴｈ波周波数じて交互に
現われる。３０ Ａ、 ／ ｄｍ２ 以上の高ｔＴＬ流
密度処理に於てはこの相違の影響がノ（きく処理の最後
まで履歴として残り規則正しい横段状の処理の不均一性
が生じることがある。／ ＯＡ、 ／ ｄｍ２以下の低
電流密度処理以下に於ては影響が小さく問題にならない
程朋までに均一１ツにが確保出来るが緻産比の観点から
は反応時間が長くなるため不都合である。又第２図はＷ
Ｊ１図の従来装置直に於て屯１管処理開始点Ａから電解
処理終了点Ｂまでの金属ウェブ長手方向の電流分布を表
わすものであるが電解処理が進行するにつれ金ｊ１１．
．’ウェブに生成するスマットの蓄積が多くｌるため電
気抵抗が、ｔ’；、 くなるため右下がりのカーブとな
り′ｎ、ｒ、 Ｉ’＋’Ｆ処理開始部分の電流密度が最
も大きくなるのが？’Ｆ ＋ｌ’！’ｌである。第３図
は本発明装置の実施例を示ず。金属ウェブλ／はガイド
ロール２．２によりセル内に導入されドラムロール、２
３にまきつけられセル内を搬送しガψ イドロールＪｊ−によりセル外へ移送される。２Ｊｉ。
タクト給電ロール７に、他方は、を極ｊ、４に接続され
電圧ｔ；ｒノ加される。このようにして金属ウェブ／に
連続的に′電解エツナング処理を施すことが市来る。連
続的に走行している金属ウェブ／にはスマットの生成反
応が金属ウェブの表面で起る。これらの溶解反応及びス
マットの生成反応を交互にｊ、１２０秒間くりかえして
与えることにより粗面化処理が可能となる。しかし金属
ウェブのある部分がセル内に導入された瞬間セル内の金
わｔウェブの反応周期が陽極の場合と１８：極の場合と
がある。このことによυ金属ウェブにｔよ最初の反応と
して溶解反応でスフ−１−シた部分とスマット生成反応
でスタートした部分とが’ＴｈＴｈ波周波数じて交互に
現われる。３０ Ａ、 ／ ｄｍ２ 以上の高ｔＴＬ流
密度処理に於てはこの相違の影響がノ（きく処理の最後
まで履歴として残り規則正しい横段状の処理の不均一性
が生じることがある。／ ＯＡ、 ／ ｄｍ２以下の低
電流密度処理以下に於ては影響が小さく問題にならない
程朋までに均一１ツにが確保出来るが緻産比の観点から
は反応時間が長くなるため不都合である。又第２図はＷ
Ｊ１図の従来装置直に於て屯１管処理開始点Ａから電解
処理終了点Ｂまでの金属ウェブ長手方向の電流分布を表
わすものであるが電解処理が進行するにつれ金ｊ１１．
．’ウェブに生成するスマットの蓄積が多くｌるため電
気抵抗が、ｔ’；、 くなるため右下がりのカーブとな
り′ｎ、ｒ、 Ｉ’＋’Ｆ処理開始部分の電流密度が最
も大きくなるのが？’Ｆ ＋ｌ’！’ｌである。第３図
は本発明装置の実施例を示ず。金属ウェブλ／はガイド
ロール２．２によりセル内に導入されドラムロール、２
３にまきつけられセル内を搬送しガψ イドロールＪｊ−によりセル外へ移送される。２Ｊｉ。
２６は電極であり金属ウェブ２１に対向して配設される
。又３≠はソフトスターｌ−ゾーンすなわち電解処理開
始部分の電極であり、電極コｊとは絶縁物よりなるイン
シュレーター３！により電気的に絶縁される。、２７は
コンタクト給電ロールであり金属ウェブに接触しウェブ
と同速で回転駆動される。又電解液λ♂はドラムロール
の真下に配設した電解液給液部λりより供給され、セル
内を満たし電解液排出部３θ、３０′よりセル外に＃ト
出され循環タンク３１を経てポンプ３２等にょシ強制循
環される。又３３は交番波形電源であり出方端子の一方
はコンタクト給電ロール、２７に、他方は電極−２Ｋ
、、２４及びソフトスタートゾーンの電極３グに接続し
電圧印加する。この１１ηソフトスタートゾーン電極３
弘へは抵抗器３Ａｆ経て接続する。このようにしてソフ
トスタートゾーン電極ＪＩＩへの電流制御を行うことが
出来、この部分での反応を電流密度／ ＯＡ ／Ａ２以
下におさえソフトスタートゾーンを形成することが出来
る。第弘図は本発明装置において電解処理開始点Ａ′か
ら、電解処理終了点Ｂ′まアの金属−ウニブ長手方向に
沿った電流分布を示すものである。第３図、第弘図にお
いてンフトスタートゾーンの長さはｊ−λθ儂であり電
解時間に（７て！θ〜−〇ｏｍＳ程度であるが、最初の
反応の相違の影響を解消するには充分である。たとえば
処理速＃ｊＯｍ／Ｍ５電源周波数４０Ｈｚとしたときソ
フトスタートゾーン長が１００ｆｌＷｎであれば００７
２秒間の低電流密度処理が最初に行われる。これは電流
周期（／周期ｏ、ｏ／１８＞で７周期分に相当する。こ
の後Ｊ Ｏ−／ ００Ａ／ｄｍ２ の高電流密度処理を
行っても優れた処理表面の均一性＊ （４）ることか出
来た。
。又３≠はソフトスターｌ−ゾーンすなわち電解処理開
始部分の電極であり、電極コｊとは絶縁物よりなるイン
シュレーター３！により電気的に絶縁される。、２７は
コンタクト給電ロールであり金属ウェブに接触しウェブ
と同速で回転駆動される。又電解液λ♂はドラムロール
の真下に配設した電解液給液部λりより供給され、セル
内を満たし電解液排出部３θ、３０′よりセル外に＃ト
出され循環タンク３１を経てポンプ３２等にょシ強制循
環される。又３３は交番波形電源であり出方端子の一方
はコンタクト給電ロール、２７に、他方は電極−２Ｋ
、、２４及びソフトスタートゾーンの電極３グに接続し
電圧印加する。この１１ηソフトスタートゾーン電極３
弘へは抵抗器３Ａｆ経て接続する。このようにしてソフ
トスタートゾーン電極ＪＩＩへの電流制御を行うことが
出来、この部分での反応を電流密度／ ＯＡ ／Ａ２以
下におさえソフトスタートゾーンを形成することが出来
る。第弘図は本発明装置において電解処理開始点Ａ′か
ら、電解処理終了点Ｂ′まアの金属−ウニブ長手方向に
沿った電流分布を示すものである。第３図、第弘図にお
いてンフトスタートゾーンの長さはｊ−λθ儂であり電
解時間に（７て！θ〜−〇ｏｍＳ程度であるが、最初の
反応の相違の影響を解消するには充分である。たとえば
処理速＃ｊＯｍ／Ｍ５電源周波数４０Ｈｚとしたときソ
フトスタートゾーン長が１００ｆｌＷｎであれば００７
２秒間の低電流密度処理が最初に行われる。これは電流
周期（／周期ｏ、ｏ／１８＞で７周期分に相当する。こ
の後Ｊ Ｏ−／ ００Ａ／ｄｍ２ の高電流密度処理を
行っても優れた処理表面の均一性＊ （４）ることか出
来た。
又本発明によれば必挟なソフトスタートゾーンの長さＩ
ｒｉ！〜λθ儂であり反応時間にしてｊθ〜２ｏ’ｏ７
７ＬＳ程度である、全体の反１Ｌ：時間ｊ〜／λＯ秒か
らみれば極めて短いため、このゾーンを設けたからとい
って実質上全体の反応速鹿には影響しない。
ｒｉ！〜λθ儂であり反応時間にしてｊθ〜２ｏ’ｏ７
７ＬＳ程度である、全体の反１Ｌ：時間ｊ〜／λＯ秒か
らみれば極めて短いため、このゾーンを設けたからとい
って実質上全体の反応速鹿には影響しない。
このように本発明による電解槽の特徴は極めてコンパク
トなソフトスタートゾーンをセル入口部分に設けること
により交番波形電流を用いる場合に於ても、市電並密度
処理が可能であり、かつ優れた均一な処理前１ｆｉｉを
得ることが出来ることである。
トなソフトスタートゾーンをセル入口部分に設けること
により交番波形電流を用いる場合に於ても、市電並密度
処理が可能であり、かつ優れた均一な処理前１ｆｉｉを
得ることが出来ることである。
従って第３図では電気回路内に抵抗器３ｚを設けてソフ
トスタートゾーンを形成したが、抵抗器３６を設けなく
−ｒも電極３ｔの位Ｉｔや形状を配慮することによりセ
ル入口部分にソフトスタートゾーンを形成し本発明の目
的を達することも可能である。第１図ではセル入口部分
に位置するソフトスタートゾーン電極３１Ｉ−と全組ウ
ェブ、２／との間隔を電極２Ａと金属ウェブ２／との間
隔よりも広くなるように電極３弘′を設定することによ
ってこの部分での電気抵抗全増加させた実施例を示した
。通常＠解エツチングの場合極間がｊ〜ｓｏ’ｒｍｎで
あるのに対しこの部分の極間はそのｊ、１０倍とするの
が好首しい。又第を図ではソフトスタートゾーン電極３
弘“の一部を切り欠き金属ウェブ２１に対向する長さを
短かくすることによって電気抵抗を増加させた場合の実
施例を示した。この場合切り欠き部分の上面は直接、電
解液に接するようにする。又第７図では電解液ツノｒ出
部に１７＋Ｎ流セキ３７を設け、ソフトスタートゾーン
電極３弘の手前が電解液に満された空間部分となるよう
にしたものであって、かつ電極の」二面も（１接、重１
９’ｆ処理作用を行うようにする。これによりソフトス
タートゾーン電極３１へ給電きれる電流の一部ｒこの空
間部分に拡散させる方法である。第７図において点線は
ソフトスタートゾーン電極３弘にて電解処理作用を行な
う電気力線を示す。仁れＣ）の方法によってもセル入口
部分にソフトスフ−］・ゾーンを形成させることが可能
である。本発明の実施態様の説明としてコンタクト給１
’ｌＴ、ロールによる接触給電方式又セルとしてはラジ
アル型セルを用いたが、本発明の特徴はセル入口部分に
コンパクトなソフトスタートゾーンを設けることであり
、給電方式については液体給電であつ−Ｃも又セルにつ
いては、横型、縦型であっても良い。以下本発明による
実施例を示す。
トスタートゾーンを形成したが、抵抗器３６を設けなく
−ｒも電極３ｔの位Ｉｔや形状を配慮することによりセ
ル入口部分にソフトスタートゾーンを形成し本発明の目
的を達することも可能である。第１図ではセル入口部分
に位置するソフトスタートゾーン電極３１Ｉ−と全組ウ
ェブ、２／との間隔を電極２Ａと金属ウェブ２／との間
隔よりも広くなるように電極３弘′を設定することによ
ってこの部分での電気抵抗全増加させた実施例を示した
。通常＠解エツチングの場合極間がｊ〜ｓｏ’ｒｍｎで
あるのに対しこの部分の極間はそのｊ、１０倍とするの
が好首しい。又第を図ではソフトスタートゾーン電極３
弘“の一部を切り欠き金属ウェブ２１に対向する長さを
短かくすることによって電気抵抗を増加させた場合の実
施例を示した。この場合切り欠き部分の上面は直接、電
解液に接するようにする。又第７図では電解液ツノｒ出
部に１７＋Ｎ流セキ３７を設け、ソフトスタートゾーン
電極３弘の手前が電解液に満された空間部分となるよう
にしたものであって、かつ電極の」二面も（１接、重１
９’ｆ処理作用を行うようにする。これによりソフトス
タートゾーン電極３１へ給電きれる電流の一部ｒこの空
間部分に拡散させる方法である。第７図において点線は
ソフトスタートゾーン電極３弘にて電解処理作用を行な
う電気力線を示す。仁れＣ）の方法によってもセル入口
部分にソフトスフ−］・ゾーンを形成させることが可能
である。本発明の実施態様の説明としてコンタクト給１
’ｌＴ、ロールによる接触給電方式又セルとしてはラジ
アル型セルを用いたが、本発明の特徴はセル入口部分に
コンパクトなソフトスタートゾーンを設けることであり
、給電方式については液体給電であつ−Ｃも又セルにつ
いては、横型、縦型であっても良い。以下本発明による
実施例を示す。
比較例 １゜
第７図に示す装置に於て次の処理条件にて厚みＯ・７Ｈ
〜巾３ｏｏｔａｍのアルミウェブの連続電解エツチング
処理を行った。
〜巾３ｏｏｔａｍのアルミウェブの連続電解エツチング
処理を行った。
処理条件
処理スピード ｊゝ仄〃／−Ｍ
電 解 液 ｌチ硝酸、３ｊ ０Ｃ
電流波形 矩形型交番電流波形、周波
数ｔ ＯＨＺ
電流密度 ざＯＡ／ｄｍ２
反応時間 ｊ秒
極 間 ｉｏ繭
その結果、周波数４０■：ｌｚ、／、Ｊりａピッチの粗
面１６表面の不均一性が発生した。径ｊ〜１０μの円形
ピットが集合した部分と、いびつな形のビットが集合し
た部分とに分かれた。
面１６表面の不均一性が発生した。径ｊ〜１０μの円形
ピットが集合した部分と、いびつな形のビットが集合し
た部分とに分かれた。
実施例１゜
第３図に示す装置を用いて厚み０．／ｒｒａｎ、巾３０
０Ｂのアルミウェブの連続エツチング処理を比較例１．
に示すと同じ処理条件にて実施した。
０Ｂのアルミウェブの連続エツチング処理を比較例１．
に示すと同じ処理条件にて実施した。
この時ソフトスタートゾーン電極３ｖの長さは１００、
とじ又この部分での電流密度は１０ｈ／ｄｍ２ となる
ように抵抗器３ｔを＋ｐ、’ａ整した。
とじ又この部分での電流密度は１０ｈ／ｄｍ２ となる
ように抵抗器３ｔを＋ｐ、’ａ整した。
その結果、オフセット印刷版支持体として均一性に優れ
た粗面比表面が得られた。径ｊ〜１０μの円形ビットが
全面均一に得られた。
た粗面比表面が得られた。径ｊ〜１０μの円形ビットが
全面均一に得られた。
実施例２
第！図に示す装置を用いて厚み０ 、 ／ ｍｍ、巾３
００ＷＭのアルミウェブの連続エツチング処理を比較例
１と同じ処理条件にて実施した。
００ＷＭのアルミウェブの連続エツチング処理を比較例
１と同じ処理条件にて実施した。
この時ソフトスタートゾーン電極３１１’ｌ−Ｊ、１０
ｏｒｒｒｍとし金属ウェブとの極間は７θ戸ｍとした。
ｏｒｒｒｍとし金属ウェブとの極間は７θ戸ｍとした。
その結果、実施例１．と同様の結果がイ（Ｊられ７ξ。
実施例＆
第を図に示す装置を用いて厚み’ 、１ｗ、 １１３０
０間のアルミウェブの連続エツーｆンク処即を比較例り
と同じ処理条件にて実施した。
０間のアルミウェブの連続エツーｆンク処即を比較例り
と同じ処理条件にて実施した。
この時ソフトスタートゾーン電極３弘“は長さ１００咽
のものを斜めに切欠き金属ウェブに対向する面の長さ？
＋１−≠ｏｒａｍとした。又切欠き部上面は直接電解液
に接するようにした。この時ｍｓ液排出部の液面は切欠
いた角より７７７＋ＹＩ＋＋の高さであった。
のものを斜めに切欠き金属ウェブに対向する面の長さ？
＋１−≠ｏｒａｍとした。又切欠き部上面は直接電解液
に接するようにした。この時ｍｓ液排出部の液面は切欠
いた角より７７７＋ＹＩ＋＋の高さであった。
その結果、実施例１．と同様の結果が得られた。
実施倒毛
第７図に示ず装置を用いて厚みｏ、ｉ印、ｒｌＪ３θθ
団のアルミウェブの連続エツチング処理を比較例１．と
同じ処理条件にて実施した。この時溢流セキ３７の高さ
は１０”ｒｍｒｌとしソフトスタートゾーン電極の上面
も直接Ｔｌｉ解処理作用を行うよう圧した。
団のアルミウェブの連続エツチング処理を比較例１．と
同じ処理条件にて実施した。この時溢流セキ３７の高さ
は１０”ｒｍｒｌとしソフトスタートゾーン電極の上面
も直接Ｔｌｉ解処理作用を行うよう圧した。
その結果、実施例１．と同様の結果が得られた。
本発明装置を用いれば上述の如く、ソフトスタートゾー
ンを設けたので仕上り品質の良い連続電解処理が可能と
なり、工程が安定する上、保守点検作業の省略、コスト
ダウン等副次的な効果が期待できる。
ンを設けたので仕上り品質の良い連続電解処理が可能と
なり、工程が安定する上、保守点検作業の省略、コスト
ダウン等副次的な効果が期待できる。
第１図は従来の連続電解処理装置の一例を示す模式的説
明図であシ、第２図はその電流分布を示す図である。第
３図、第５図、第６図、及び第７図はそれぞれ本発明に
係る電解処理装置直の構造を示す模式的説明図であり、
第を図はその’＋１． ＃Ｍ、分布を示す図である。 ／、、２／・・・・・・金属ウェブ Ｊ、、２Ｊ・・・・・・トラムロール ！、＝Ｚｊ、ｌｒ、２ｔ・・・・・・ｉ’ｌ’ｊイへ７
．２７・旧・・コンタクト６ｔ（ｐロール３４ｔ、３≠
′、３μ”・旧・・ソフトスター１ンーン電極 ３！・・・・・・インシュレータ ／３，３！・・・・・・電源 特許出願人 ６（士与真フィルム株式会社第 ２ 図 第 ４ 図 一つ六フ゛’ｌ”：、４４た４駐キ力６Ｔのイガ置第３
図 ７ ｉ！！５ 図 ７ 第 ６ 図 ２７ 第 ７ 図 ７ 自発手続補正書 １、事件の表示 昭和！ｒ年特願第１り３６７≠号２、
発明の名称 電解処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地ζ話（４０６
） ２５３７ 表 補正の対象 図面 ５、補正の内容 （１）図面のうち第７図を添付のものと差し替えます。
明図であシ、第２図はその電流分布を示す図である。第
３図、第５図、第６図、及び第７図はそれぞれ本発明に
係る電解処理装置直の構造を示す模式的説明図であり、
第を図はその’＋１． ＃Ｍ、分布を示す図である。 ／、、２／・・・・・・金属ウェブ Ｊ、、２Ｊ・・・・・・トラムロール ！、＝Ｚｊ、ｌｒ、２ｔ・・・・・・ｉ’ｌ’ｊイへ７
．２７・旧・・コンタクト６ｔ（ｐロール３４ｔ、３≠
′、３μ”・旧・・ソフトスター１ンーン電極 ３！・・・・・・インシュレータ ／３，３！・・・・・・電源 特許出願人 ６（士与真フィルム株式会社第 ２ 図 第 ４ 図 一つ六フ゛’ｌ”：、４４た４駐キ力６Ｔのイガ置第３
図 ７ ｉ！！５ 図 ７ 第 ６ 図 ２７ 第 ７ 図 ７ 自発手続補正書 １、事件の表示 昭和！ｒ年特願第１り３６７≠号２、
発明の名称 電解処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地ζ話（４０６
） ２５３７ 表 補正の対象 図面 ５、補正の内容 （１）図面のうち第７図を添付のものと差し替えます。
Claims (3)
- （１）交番波形電流を用いて金属ウェブに連続的に電解
エツチング処理を行う電解槽に於゛Ｃ金属ウェブの入口
部分に低電流密度処理を行うソフトスタートゾーンｆ：
設けたことを特徴とする電解処理装置。 - （２）該ソフトスタートゾーンは電極と抵抗あるいはサ
イリスターとからなることを特徴とする特許請求範囲第
１項記載の電解処理装置。 - （３）該ソフトスタートゾーンの電極は金属ウェブに対
向する面の長さが短かくなるように斜めに切欠き、かつ
切欠いた面は直接電解液に接するように配置したことを
特徴とする特許請求範囲第１項記載の電解処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17367483A JPS6067700A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17367483A JPS6067700A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電解処理装置 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPS6067700A true JPS6067700A (ja) | 1985-04-18 |
| JPS6316000B2 JPS6316000B2 (ja) | 1988-04-07 |
Family
ID=15964993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17367483A Granted JPS6067700A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電解処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067700A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1983
- 1983-09-20 JP JP17367483A patent/JPS6067700A/ja active Granted
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