JPS606504A - ウエハ−移送システム及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、４４１！々のウェハーキャリア、例えば５０
−ウェハー石英拡散ボート（母型の入れもの）と２５−
ウェハープラスチックキャリア等の如き異なるキャリア
とであってウェハー間隔が異なっているウェハーキャリ
アの間で半導体ウエノ・−を移送する装置及び方法に関
する。更に詳細に述べると、本発明は、ウェハー移送行
程中において、半導体ウェハーの端縁が欠けて作られる
”シリコンダスト°゛の生成を最小に′４−るウェハー
移送装置及び方法に関する。

（従来の技術） 従来より、半導体の製造には何回もの清浄行程、コーテ
ィング行程及び拡散行程が必要であることが知られてい
る。この拡散行程に対しては、ウェハーの中心間距離が
２．５８ｍ＋πの５０−ウェハー石英ボートが使用され
、一方、他のほとんどの清浄行程に対してはｌ＋ｌＪえ
はミネソタ州ジャスカのフラワー社（１！’ｌｏｗｅｒ
　Ｌｕｃ、）か１ニー）販売されティるウェハーの中心
間距離が４．７７ｍｍのプラスチック２５−ウェハーキ
ャリアが使用されろ。プラスチックウェハーキャリアは
、長い垂直側面溝、すなわちウェハーガイドを有してい
る。その底部は、約２．５４ｍｍの幅を有しており、ま
たその側面は約２°だけ外側に傾斜している。石英拡散
ボートからプラスチックキャリアへウェハーを移送する
多（の装置及び方法が従来周知である。最も基本的な方
法は、ウェハーの端縁乞ピンセットで挾んで手作業によ
り移送する方法である。この方法は、多（のシリコンウ
ェハーが破損する結果を伴ない且つシリコン半導体材料
からなる微細な断片７作り出す結果となっていた。他の
従来装置としては、本出願人の米国特許第３，９４９，
８９１号に記載のものがある。いくつかの他の自動ウェ
ハー移送システムが、本出願人及び他の競業会社によっ
て販売されている。しかしなから従来の全てのウェハー
移送システムは、好ましくない゛°シリコンダスト°°
か大量に発生する欠点ケ有していた。最も効率的な且つ
縦も生産性の商い半導体製造設備は画側な装置を含むと
ともに、ウェハー製造環境をできうるかぎり純粋（無埃
）状態に維持するため作業者に対しても広範囲な注意が
払われている。、例えば、高価な薄膜状の全気流システ
ム及び高価なダストフィルターか、しばしば使用されて
いた。最新の設備では、発生するシリコンダストの量を
減らすため、ビンセットの使用や人手眞よる処理は完全
に排除されていると共に、作業者は全て清浄された上衣
、髪ネット、そしである場合てはマスクを着衣する。し
かしながら、棟々のウェハー処理装置における静電気の
発生により、小量のシリコンダストではあるが、ウェハ
ーの表面あるいはウエノ・−が接触する表面に付着して
いた。例えば、シリコンダストは上述したプラスチック
ウエノ・−キャリアの溝の側面にも付着する。そして、
ウエノ・−がかかるキャリアに移送せしめられた時、ウ
エノ・−のアクティブ表面の周縁部はかかるシリコンダ
スト上ン滑ることてなり、その結果、ウエノ１−の１又
はいくつかの周縁回路が破壊される原因となっていた。

これは、もちろん生腫性乞低下させると共に、製造され
る回路び〕ユニットあたりの全コストヲ上昇させること
となる。

従来の自動ウェハー移送システムのもう１つの問題点は
、従来システムがあまりにも大きな床面積を必要とする
ことであった。ウエノ）−製造設備中の使用可ｂヒなス
ペースは、超無埃環境ン維持するための単位面積あたり
のコストが極めて商いために限られたものであった。従
来のウエノ・−移送装置の作業速度は遅（、それらのあ
るものの移送サイクル時間は、５０個のウエノ・−をあ
る型式のキャリアから他のものに移送する場合で２０分
もかかっていた。

従って、シリコンダストの発生乞激減、又はな（すよう
にするため、ウェハーとウェハー移送システムとの物理
的な接触量乞減少した高速運転の且つ低価格のウェハー
移送システムの開発に対する要望か存在していたのであ
る。

従来のウェハー移送システムのあるものは、ウェハー移
送プロセス中、ウェハーの端縁が種々の保持装置と接触
する時多量のシリコンダストｖ発生させると共に、他の
シリコンウェハーが現に存在している領域にダストが活
ちてくるような位置においてもダストｖ発生させろ。こ
のダストのいくつかは、必然的にウェハーのいくつかの
表面と滑り接触することになり、生産性を低減する欠陥
品を生じさせる原因となっていた。

（発明が解決しようとする問題点） 従って、本発明の目的は、ウェハーのアクティブ表面と
の滑り接触を激減又はな（し、且つ他の半導体ウェハー
の上方位置でのいかなるシリコンダストの発生Ｚもなく
す改善されたウェハー移送装置及び方法乞提供１″ろこ
とである。

本発明の他の目的は、シリコンダストの発生をな（すと
共に小さなスペースで設置可能な改善されたウェハー移
送システムケ提供することである。

（問題点を解決するための手段及びその作用）簡単に述
べると、本発明は、内部に第１の多数のウェハー支持ス
ロット馨南する第１のキャリアと、ウェハーと装置及び
キャリアとがいかなる部分でも滑り接触しないようにな
された第２の異なる数のスロットＹ有する１又は２以上
の第２のキャリアとの間で半導体ウエノ・−χ移送させ
るウェハー移送装置及び方法を提供１−る。本発明の開
示した実施例に４６いて、第１のキャリアは５０個のウ
ェハー７含む石英拡散ボートから構成され、第２のキャ
リアは内部［２５個のウエノ・−位置を有するプラスチ
ックキャリアから構成されている。

石英ボートから第１及び第２の２５ウエノ・−プラスチ
ックキャリアに５０個のウエノ・−を移送するため、５
０個のウエノ・−を含む石英ボートをウェハー移送装置
のスタンドの上に載置する。石英ボ−トがスタンド上に
載置せしめられた時に石英ホードの開口を貫通して上方
に坤張可能な２つの昇―装置ケ含む昇降装置は、第１及
び第２の昇降装置内に５０組の間隔をあけたウニノ・−
支持スロット２有している。各対の第１のウニノ１−支
持スロットは、特定のウニノ・−が載置せしめられる急
傾斜の表面を崩している。これにより、そのウニノ・−
の第１の表面の小さな周縁部分は第１のスロットの垂直
平坦表面に対して抑圧せしめられる。第１のウェハー支
持スロットの各は、対応する第２のウェハー支持スロッ
トと整合しており、第２のウェハー支持スロットはその
ウニノー−の第２の端縁が載置せしめられろ急傾斜表面
を有している。これにより、そのウェハーの反対表面の
小さな周縁部分は第２のウェハー支持スロットの垂直平
坦表面に押圧せしめられる。全てのウニノ・−支持スロ
ットの垂直平坦表面は正確に平行となるようにされ、従
って、５０個のウニノ・−は全て相互に正確に平行とな
るように堅固に保持されると共に、それらが昇降装置に
よって持ち上げられ石英ボートからウェハー保持領域内
に人λ′シられた時、傾むかないように効果的に保持さ
れている。すなわち、昇降装置に支持された各ウニノ・
−は、そのウニノ・−ヶ支持するウニノ・−支持スロッ
トの正確に垂直な表面に対して抑圧せしめられた対向す
る２面に小さな２つの周縁部分を有しており、従って、
いずれの方向にも垂直から１頃むくことはできない。

漸定的な保持領域は、内部に２５の垂ＭＶ溝を有する第
１の保持ブロックと、内部に２５の垂直■溝を有し第１
の壁と平行な第２の保持ブロックとによって部分的に境
界づけられている。第１のセットの■溝は第２のセット
のＶ溝に対してオフセット、すなわちズラされている。

初め、第１の保持ブロックの■溝は、ウニノ・−支持ス
ロットの奇数番目の対と至合し社つ第２の保持ブロック
の■溝はウニノ・−支持スロットの偶数番目の対と整合
している。

第１の保持装置は、引込位置から５０個のウェハーの第
２の保持ブロックとは反対側の端縁部分の部分的に下側
の位置まで移動される。第１の保持装置は、２５のＶ溝
とこの■溝の間に設けられた２５の深いスロットとを有
している。これら２５のＶ溝は、第２の保持ブロックの
Ｖ溝と整合している。

第２の保持装置は、また第１の保持ブロックとは反対側
の引込位置から５０個のウニノ・−の部分的に下側の位
置に移動される。第２の保持装置は、２５０間崗ヲあけ
たＶ溝と、それらの間に設けられた２５の深いスロット
と２有している。これら■溝は、第１の保持ブロックの
■溝と整合している。

昇降装置は、ウェハー移送プロセスの次の行程において
下降せしめられる。“奇数番目°゛のウェハーの端縁は
、第２の保持装置の各深いスロットを貫通して第１の保
持装置のＶ溝内に載置されるようになる。これにより、
−ｂｙ数番目のウェハーは回転するようになると共に、
それらの端縁が第２の保持ブロックの各■溝内に載置さ
れろようになる。その時、奇数番目のウェハーは、市電
的な保持領域内に保持されている。同様に、偶数着目の
ウェハーは、第１の保持板の深いスロットを通って第２
の保持装置のＶ溝上に載置されるようになる。これによ
り、偶数着目のウニノ・−の端縁は回転するようになる
と共に、第２の保持ブロックの各■溝内に載置されるよ
うになる。従って、５０個のウェハーは全てウェハー保
持領域内に支持されることとなる。昇降装置は、しかる
後さらに下降せしめられる。石英ボートはスタンドから
取り除かれろ。次に、第１のプラスチックキャリアが、
スタンド上に位置決めされる。昇降装置は、その５０の
ウニ・・−支持スロットがウニノ・−保持領域内の５０
個のウニノ・−と接触し且つそれらを種々の保持装置の
Ｖ溝及び保持板のＶ溝から持ち上げて出すようになるま
で自−動的に第１のプラスチックキャリアビ通って上昇
せしめられる。しかる後、第１の保持装置はウェハー保
持領域から引き抜かれる。

次に、昇降装置は下降せしめられる。奇数番目のウェハ
ーは、再び第２の保持装置のＶ溝及び第２の保持ブロッ
クのＶ溝に載置されるようになり、且つウェハー保持領
域内に支持されｆこままとなる。

奇数着目のウェハーは第２の保持装置の深いスロット内
ン通って、第１のプラスチックキャリアのウェハー支持
溝内まで下降する。昇降装置の溝は、奇数番目のウェハ
ーを十分正確に垂直に保持する。

従って、ウェハーの端縁表面部分は、これらウェハーが
下降した時に第１のキャリアのウェハー支持溝の側面と
は全く接触又は滑り係合乞しないようになっている。昇
降装置が完全に引込んだ後、第１のキャリア及びその内
都の奇数着目のウェハーはスタンドから取り除かれる。

この除去を検知し、第１及び第２の保持装置、第１及び
第２の保持ブロックそしてそれらに支持された２５個の
偶数番目のウニノ・−は、全て隣接するウェハー支持ス
ロットの中心間距離に等しい長さだけシフト１−る。従
って、奇数着目のウェハーは奇数着目のウェハー支持ス
ロットと整合する。

第２のプラスチックキャリアが、スタンド上に載置され
る。昇降装置は、奇数着目のウェハー支持スロットがウ
ェハー保持領域内に残っている２５個の奇数番目のウニ
ノ・−ヶわずかに上昇させるまで自動的に上昇される。

第２の保持装置は、しかる後引き抜かれる。昇降装置か
下降せしめられ、それによって奇数宅ｆ目のウニノ・−
を第２０プラスチックキャリアのウニノ・−ガイドスロ
ット内て下降させろ。奇数着目のウニ・・−か第２のキ
ャリア上に載置されるようになった時、第２のキャリア
はスタンドから取り除かれる。これで、石英ボートから
２５−ウニノ・−プラスチックキャリアへの５０個のウ
ニノ・−の移送が光子する。本発明の開示された実施例
において、そのプロセスは約２分間で完了する。ウニノ
・−と移送装置の種々の表面及びプラスチックキャリア
との間の物理的な接触は、最小限ておさえられている。

第１のプラスチックキャリアから石英ボートの奇数番目
のスロットへの２５個のウニノ・−の移送及び第２のプ
ラスチックキャリアから石英ホードの偶数番目のスロッ
トへの２５個のウニ・・−の移送手順は、基本的に上述
した手順の逆である。１つの型式の２５−ウェハーキャ
リアから他の型式の２５−ウニノ・−キャリアへのウェ
ハーの移送は、２つのキャリアのウェハー支持溝又はス
ロットの間隔が共存し得るものであるかぎり同様にして
行なうことができる。

（実　７ｆＩ　例） 本発明に係るウェハー移送装置及び方法の構成を記載す
る前に、ウニバーンその間で移送する上述したプラスチ
ックキャリアと上述した石英拡散ボートの構成について
詳細に述べることと１−る。

第１図を参照すると、典型的なプラスチックウェハーキ
ャリア１が図示されている。本発明のウェハー移送装置
及び方法の操作及び利点馨埋Ｍ’ｌｉするためには、プ
ラスチックキャリア１と第６図に図示された石英拡散ボ
ート５との間で本発明に係るウェハー移送装置を使って
シリコン半４体ウェハーを交換するものであるため、こ
れら２つの構成の詳、Ｉ（ｉｌ　’ａ？理解することは
必豊なことである。シリコンウェハーは、典型的には、
厚さ約０．２５４〜０．７６２ｍｍ、　＠径約１２．７
〜１５．２４ｃＴＬである。第１図及び第２図を参照す
ると、プラスチックキャリア１は、２つの端部部分で連
結された第１及び第２の垂直側Ｕｋｉｓ　、　６ｗ有す
る開放フレーム７含んでいる。側面５は、各々***部１
１で分離せしめられた２５本の内溝１０を有している。

各垂直溝相の側面は、わずかに、すなわち約７だけ傾斜
ケつけられている。谷溝の幅は約６．１８ｍｍ″′Ｃあ
る。谷型直溝１０の底部には、急傾斜の底面表面１４が
設けられている。１頃斜表−１４は、ウニノ・−１５の
端縁と係合しそれら乞支持すると共に、それらがプラス
チックキャリア１の内側開口７通って落ちないようにし
ている。２５本の溝１０が、プラスチックキャリア１の
１則面６の内壁に形成されている。１ｌｌＩ而６に形成
されたこれら２５本の溝１０の各々は、側聞５の内壁に
形成された対応する溝１０と正確に対向している。

第５図及び第４図を参照すると、典型的な５〇−ウェハ
ー石英拡散ボート５が図示されている。石英ボートろは
、４本の石英レール２０，２１．２２及び２ろによって
一体的圧連結された２個の平行な端ｓ　’ｆｉＶ＝材１
７．１８’ａ’ｆんでいる。レールの両端は、端部部材
１７．１８の側面部分及び底面部分に浴接されている。

端郡部月１７．１８は、石英棒部材から構成されている
。第５図の詳細図である第４図に図示されている如（、
谷石英レール２０．２１゜２２及び２５は、その内部に
５０本の溝乞有している。各レールの５０本の溝の谷は
、他の６本のレールの各に形成された対応する溝と正確
に整合しており、その結果、各円形ウニノ・−はこれら
４本の正確に整合した溝内に載置される。

プラスチックキャリア１の溝１０の中心間距離は、４．
７６　ｍｍである。石英ボート５の溝２６の中心間距離
は、２，３８ｍｍである。プラスチックキャリア１の長
さは、石英ボートろの長さにほぼ等しい。

上述した事項を参照しつつ、本発明のウニノ・−移送シ
ステム６０の一郡の構造を第７図ケ用いて説明する。ウ
ェハー移送システム５０は、テーブル頂部（図示されて
いない）に載置される基部５１を有している。石英ボー
ト５又はプラスチックキャリア１を支持するためのスタ
ンド６４は、Ｌ１方形のフレーム５２ン備えている。フ
レーム３２は、内部に細長い長方形の孔５６．６７乞有
する床表面５５の周囲を取り囲む垂直の内側壁５ろ乞備
えている。フレームろ２の内１則寸法及び外形は、ウェ
ハーキャリア１０基部、拡散ボート３の底部レール２１
．２２が正確に嵌まり合うように選択せしめられる。

２つのウェハー昇降部材５８．５９は、それぞれ長方形
の開口ろ６，５７から上方に伸張することもその内部に
引込むこともできる。２つの昇降部材５８．５９は、そ
れぞれ矢印４１．４２の方向に同時に上昇又は下降する
。昇降部材６Ｂ、ろ９の谷（以下単に「昇降装置５８　
、５９Ｊという）は、その内部に５０本のウニノ・−支
持溝７有している。更に詳細に述べろと、参照甫号４ろ
は昇降装置５８のウニ・・−支持溝を堀わし、４照査号
４４は昇、篩装置ろ９の５０本のウニノ・−支持溝２表
わしている。

上述したウニノ・・−支持溝の構成は本発明の重要な特
徴乞構成する。そこで、第８図〜第１０図を参照して、
これら溝の構ｌ戊について詳細に説明する。

第８図７参照すると、特定の半導体ウニノ・−１５かど
のように昇降装置５８の特定のウェハー支持溝４６及び
対向する昇降装置５９のウェハー支持溝４４に支持され
るかが図示されている。第８図において、ウェハー１５
は、２つのウェハー支持溝４５．４４によって垂直に保
持されている。本発明によれば、ウェハー支持溝の構成
は、ウェハー１５の全てが正確に垂直に且つ相互に平行
となるような構成となっている。第１図に図示された如
きプラスチックキャリア１及びその内部のウェハー１５
がウェハー移送システム６０の床部（第７図）上に正１
１゛Ｃに位置決めされる前は、２つの昇降装置５８．５
９は初期的には床部の開口５６．５７内に引込められて
いるという事実により、このことは本発明の利点である
ことが理解されるであろう。床５２（図示されていない
）のフレームろ２の特徴は、床部５５上のプラスチック
キャリア１の正（１−且つ正しい位置決めを保証１−る
ものである。従って、交互のウェハー支持溝４ろ、４４
は、プラスチックキャリア１の溝１０に支持された２５
個のウェハーと正確に整合する。ウェハー移送操作中、
昇降装置３Ｂ、ろ９は上昇せしめられプラスチックキャ
リア１の高部に入れられる。従って、交互のウェハー支
持溝４５．４４は各ウェハーの下側端縁部分と保合し、
そオしらン上昇させてフレーム４７によって取り囲まれ
たウニノ・−保持領域内に入れる。このフレーム４７は
、？つの垂直側面部材４７によってスタンド５４の上方
に支持されている。

前述した叩く、ウニ・・−処理環境内に存在するシリコ
ンダストは、ウェハーの表面又はプラスチックキャリア
１のウェハー支持溝１０の側面に付着する。ウェハー１
５がプラスチックキャリア１の外部に持ち上げられてお
り、ウニノ・−の端縁が溝１０の側面に対して滑り接触
ケしないようにされていることは極めて望ましいことで
ある。かかる滑り接触は、刺着したシリコンダストによ
りウェハー表面に擦り湯を付ける原因となり、ひいては
その上〇集積回路内に欠陥？生じさせることとなってい
た。

第９図を参照すると、各ウニノ・−支持溝４ろは、側面
５０及び側面５１を備えている。ウェハー１５は、表面
１５Ａと対向１−る表面１５１３とを備えている。ウェ
ハー支持溝４５の側面５０は、傾斜表面５０と、垂１１
表面５１と、そして線５５（第８図赫照）から溝４５の
底部５４まで延びろ下１１ｉ１１顛斜表面５２と欠備え
ている。ウェハー支持溝４５のｌ１ｌｌＩ…ｉ５１ば、
垂直壁５８まで下側に向がって延在する上１則傾斜壁５
７を有している。垂直壁５８は、完全に平坦であり且つ
ウェハー１５の主表面１５Ｂの周縁部分と直接接触する
ウェハー支持溝の一部分を構１′Ｊｙ、する。本実施例
においては、垂直壁５８の部分の簡さは約２．５４朋し
がない。傾斜表面５２の傾斜は、垂１αから約２０°で
ある。

ウェハー１５の幅は壁５１及び５８の間の距離よりも短
いが底部５４の幅よりも広（、従って、ウェハー１５は
その外側端縁６ｏが溝４ろの急傾斜表面５２土に載置せ
しめられることとなる。矢印６０は、表面５２上のウェ
ハー１５の重量による下側方向への力を表わしている。

表面５２の急。

傾斜により、ウェハー１５は溝４ろ内ン右側に滑って行
＜ＩＬ１１１ｏｌ’￥１４し、それによって、第９図に
おいて参照番号６２で示した水平分力を発生する。

この水平分力は、ウェハーの表面１５Ｂを溝４ろの垂直
表面５Ｂに対して緊密に維持する機能暑もっている。第
９図より明らかなように、ウェハー１５の矢印６ろ方間
への回１匣は、垂直表面５８によって強固に防止せしめ
られている。すなわち、ウェハー１５の上四部分乞右側
に押圧し、それにより、その下側端縁が傾斜表面５２及
び垂直表面５８上のｌ擦抵抗に拐ち勝ち傾斜表面に清っ
て上方に滑るには、漠犬な力が必要となるのである。

第１０図を参照すると、同じウェハー１５の他端部が支
持されている対向するウェハー支持溝４４の構成か詳細
に開示されている。溝４４は、側面６５と一面６６とを
備えている。側面６５は、急傾斜表面６７と、表面６７
との接点から溝４４の底部７０まで延びる第９図の表面
５８と同様の正確に垂直な下・＋＋ｌｌＩ　Ａ面５９と
を備えている。溝４４の１則［ｌｌ１６６は、垂直表面
７５まで下側に向かって延びろ上Ｉｔ＋ＩＩ傾斜表面７
２を有している。垂直表面７５は、第９図の表面５２と
同様に、下側の急傾斜表面７５まで下側に向かって延び
ていると共に、溝７０の底部まで延びている。溝４ろに
ついて前述した如く、ウニノ・−１５の重量は、傾斜表
面７５上に下側への分カフ７を発生する。これにより、
ウェハー１５の表面ｊ５Ａは、溝４４の垂１１側面６９
に対して緊密且つ正確に押圧されろ。その結果中じる水
平分力は、第１１図において参照番号７８によって示さ
れている。

ウェハー１５の表面１５Ａのｌ＋＃４４の垂直表面６９
への当接により、ウニノ・−１５は第１０図において矢
印７９で示された方向への回転が厳密に防止されている
。

２つの直面１−るウェハー支持溝４５．４４は、ウェハ
ー１５欠所定の垂直位置に正確に保持すると共に、ウェ
ハーが溝のいずれかの側面方向へ１頃む（の馨生じさせ
るいかなる力に対しても抵抗力となることは理解される
であろう。１−なわち、正確に平坦な表面６８はウェハ
ー１５の表面１５Ｂと当接し且つもう一方の正確に平坦
な表面６９は同じウェハーの反対側の表面１５Ａに正確
に当接するからである。

上述したウェハー移送システム５０の部分は、スタンド
ろ４上に正確に位置決めされたプラスチックキャリア１
（第１図参照）から２５個のウェハーを持ち１げてそれ
がら出す能力を有すると共に、スタンドろ４上に正確に
位置決めされた石英ボート５（第５図参照）から５０個
のウェハーを持ち上げそれより出１−能力馨有している
。

プラスチックキャリア１の溝１０の幅は、その内部に通
常保持されたウェハーよりもがなり広いため、昇降装置
ｉｎ：５８，５９上の交互のウェハー支持溝は、奇数管
口のウニ・・−支持溝よりも広い上側寸法（図示さｔ’
していない）をイｊしている。これにより、プラスチッ
クキャリア１から持ち上げられたウェハーが、誤って、
奇数管口のウェハー支持溝上に載１ｔｆｌｔされること
のないように保証している。

この技術は、石英ボート５の各レール内の５０本の溝が
０．８１ｍｍだけプラスチックキャリア１の溝１０より
も狭（且つその内により正確に位置決めされるものであ
るため、うま（作動する。

第５図ヲ参照すると、フレーム４７に支持されたウェハ
ー保持領域４６に関係する機構の構成が図示されている
（第７図にも記載されている）。

水平方向にシフト可能なヘッド機構８２は長方形フレー
ム４７内に支持されていると共に、石英ボート３の溝の
中心間距離に等しい２．５８朋だけ矢印８５で示した方
向に横方向にシフト可能である。

ヘッド８２の支持及び横方向へのシフトは全気圧シリン
ダ慎４′＃８５及び機械的連結機構によって行なわれろ
。ここでは、それらの詳細な説明は省略するが、当業者
においては容易にそれら乞想致し得るものである。

ヘッド機構８うは、第１の保持ブロック８８と、第２の
保持ブロック８９と、そして２つの端部板９０．９１と
乞備えており、それにより、ウェハー保持領域４６を取
り囲む長方形フレームを形成する。第５図は、ウェハー
保持領域４６からウェハー移送システム５０内を見たと
きの平面図である。

昇降装置５８．５９は、ウェハー保持領域４６内に上昇
可能であることが分るであろう。第１及び第２の保持ブ
ロック８８　、８９の簡さは約５．０８ｃｍである。第
１の保持ブロック８Ｂは、各々約５．０８ｃｒｒＬの長
さの２５本の垂直なＶ溝８８Ａを備えている。

保持ブロックの溝８８Ａの中心間距離は、４．７６ｍｍ
である。同様に、第２の保持ブロック８９は、各々約５
．０８ｍの長さを有する２５本の垂直なＶ溝８９ＡＹ有
している。第１の保持ブロック８Ｂ及び第２の保持ブロ
ック８９は、ヘッド機構８２内の同じ旨さの位置に配置
されろ。第１の保持ブロックの溝８８Ａは、第２の保持
ブロックの溝８９Ａに対して２．’ｒ８ｔｒ＋７πだけ
オフセット、すなわち横方向にズラされている。

ヘッド機構８２は、第１の保持装置９５及び第２の保持
装置９４を備えている。第１の保持装置９３は第１の保
持ブロック８Ｂの下側に配置されると共に矢印９５の方
向に保持ブロック８８とは独立して、しかし矢印８５で
示された方向への運動に関しては第１の保持ブロック８
８と固定関係ンもって運動可能である。同様に、第２の
保持装置、９４は矢印９６の方向に独立して運動可能で
あるが、全ウェハー株持ヘッド８２かこれら方向に運動
する場合を除いて、矢印８５の方向には運動しない。

保持ブロック８１：１．ＥＬ９．保持装置’７’５，９
４、スタンド５４、そして昇降装置５８．５９の垂直方
向の相対位置は、第１１Ａ図及び第１１Ｂ図に図示され
ている。これら図面χ用いて、ウニノ・−移送システム
６０の操作について説明する。

第１の保持装置９５の矢印９５方向への独立運動シま、
全気圧機構９８及び空気圧機構と巣１の保持装置９５と
の機械的連結装置９９によって行なわれる。これら操作
の詳細な機構には、空気圧シリンダ及び第１の保持装置
９５が滑動するようにされた経路ガイドが含まれている
が、それらは当業者が容易に想牧し得るものであるため
、ここではその説明を省略１−る。同僚に、第２の保持
装置９４の運動は空気圧機構１００及び依械的連結装置
１０１によって行なわれる。

第１の保持装置９５は、２５本の傾斜した■溝９ろ−１
，９５−２，９５−ろｒ””・′ｌＸ′１１ｉｉ　；Ｌ
　ティ６゜ｖ溝９５−１．９５−２．・・・・・・の谷
対の間には、■溝９５−１゜９５−２．・・・・・・に
よっては支持されていない交互のウェハーを昇降させる
ことができる比較的深いスｏｙ）　９５ＡＯ１，９ろＡ
Ｏ２，９５ＡＯ’５．曲・・が設けられている。

同様に、第２の保持装置直９４は、傾斜した２５本のＶ
溝９４−１．９４−２．９４−５．・・・・・・等と、
それらの間に形成されたスロット９４Ａ−１，９４Ａ−
２゜・・・・・・等を備えている。

２５本のＶ溝’ｙ”ｓ−１，，９５−２，・・・・・・
等の各は、後方の保持ブロック８９の対応するＶ溝８９
Ａと整合している。すなわち、ウェハー保持領域４６、
■溝９６−１及び８９Ａ−１内に沖張可能な第１の保持
装置９５及び第２の保持装置９４は、シリコンウェハー
１５−ＩＹ支持１−ろことかできる。■溝９４−１，８
８Ａ−１は、ウェハー１５−２乞支持することができ、
スロット９５Ａ−１はそのウェハーの前方部分と１系合
１−る。（１°ｑ９５−２及び８９Ａ−２はウェハー１
５−５Ｙ支持することができ、スロット９４Ａ−１はそ
のウェハーの後方部分と係合する。

ウェハー１５−４は溝９４−２と８８Ａ−２によって支
持され、ウェハー１５−５は溝９ろ−ろと８９Ａ−５に
よって支持され、そしてウェハー１５−６は溝９４−６
と８８−３によって支持される。

第５図の拡大詳細図である第６図は、保持装置９ろ、９
４のＶ溝がウェハーの端縁と接触する点の断面図である
。第１１Ｇ図には、どのようにして保持装置９ＦＳ、９
４．及び保持ブロック８８．８９がウェハーをウェハー
保持領域内に支持するかが最も良（図示されている。

前述した構成の説明欠考慮しつつ第１１Ａ図〜第１１Ｇ
図及び第１２Ａ図、第１２１３図について説明１−る。

これら図面は、どのようにして、最初第１のプラスチッ
クキャリア１に載置さＡじ〔いた２５個のウェハーと、
最初同様の第２のプラスチックキャリアに載置されてい
た２５個のウェハーが、これら２つのプラスチックキャ
リアからウェハー保持領域４６に移送さｆ’Ｌるがを説
明するための図である。第２のプラスチックキャリアが
スタンドろ４から取り除かれ石英ホード３と取り替えは
下降せしめられ、それにより石英拡散ボートジ内の５０
対のスロットの谷に入れる。これにより、ウェハーの移
送操作は完了する。

前述シたプロセスの４１の段階は、第１のプラスチック
キャリア１とその中の２５個のウニノ・−を第１１Ａ図
に示されている如（スタンド５４の上に載せる行程であ
る。この時、昇降装置５８゜ろ９は、第１のプラスチッ
クキャリア１内に支持されたウニノ・−１５の下１１１
１１に位置している。第１及び第２の保持装置シロ、９
４は最初ウニノ・−保持饋域から引込められていること
て注意が必要である。第１１１３図に示されているａ＜
、次の段階は昇降装置ろ８，５９ン矢印１ｔ）５の方向
にゆつ（り上昇させる行程である。昇降装置５８．５９
の奇数着目のウェハー支持溝４３．４４は、前述した如
（広い上側部分を有しており、傾斜した端縁（第９図の
５０．５７Ｙ参照）は、プラスチックキャリア１内のウ
ェハー乞案内して命数管口のウニノ・−支持溝の下側部
分内に入れる。操作のこの時点において、２５個のウェ
ハーは正確に垂直に位置決めされるようになり且つプラ
スチックキャリア１内の***部１１（第１図参照）に全
く接触することな（矢印１０４（第１１Ｂ図参照）の方
向に上昇せしめられる。

第１１０図を参照すると、昇降装置ジ８，６９は最尚位
置に到達しており、第１の保持装置９５は矢印１０６の
方向に移動されウニノ・−保持筒域内に入る。昇降装置
ろ８，５９は、ウェハー１５の各の２つの端縁１０７が
対応するＶ溝９３Ａ−１等と係合するように下降し始め
る。

第１１Ｄ図ケ参照すると、昇降装置６Ｂ、ろ９は矢印１
０９の方向に下降乞続けるため、ウェハー１５は矢印１
１０の方向に回転する。従って、それらの右側端縁（第
１１１）図において）は保持ブロック８９の適当な■溝
８９Ａ−１、８９Ａ−２、・・・・・・等円に回転し又
ゆき、それに載置される。それによって、第１のグラス
チックキャリア１内のウェハー１５は全てウェハー保持
領域内で支持される。

昇降装置５８．．３？がそれらの最下位置まで下降した
後、第１のウェハーキャリア１はスタンド５４から取り
除かれる。本発明の好ましい実施例においては、光セン
サ−１１２（第７図参照）がプラスチックキャリア１の
脚の１本の除去ン検知し、それにより、前方及び後方保
持ブロック８８．８９と前方及び後方保持装置９５．９
４ｆｆ：有するヘッド機構８２を全体として２．５８ｍ
ｍだけ横方向にシフトせしめる。もちろん、このシフト
は、ウェハー保持頭載４６内に保持されている２５個の
ウェハー乞もシフトさせることとなる。

定義を明確にするため、°”奇数管口″゛のウェハー支
持溝４５．４４とは、最初（上述したシフト以前）Ｋ第
１の保持装置９３及び第２の保持ブロック８９のＶ溝と
づｆ会していたものを冨い、且つ“°偶数番目°°のウ
ェハー支持溝４５．４４とは最初に第２の保持装置９４
及び第１の保持ブロック８８−のＶ（ｔｆｔと賢台して
いたものン百うものとする。この結果、記１のプラスチ
ックキャリアからの偶数管口のウェハー１５−２．１５
−４は、第１の保持装置９５の■溝と第２の保持ブロッ
ク８９の■溝とによって支持されることとなる（第１２
Ａ図参照）。

ヘッド（幾構８２の矢印８５方向への上述したシフトに
よって（第５図及び第１２Ｂ図）、奇数着目のウェハー
支持スロッ）４５，４４は第２の保持装置９４と第１の
保持ブロック８８のＶ溝と整合する。第１２Ａ図及び第
１２Ｂ図において、参照番号４５−Ｅ、４４−Ｅは、そ
れぞれ昇降装置区５Ｂ。

５９内の偶数番目のウェハー支持スロットＹ示し、且つ
参照番号４５−（Ｊ、４４−Ｕは奇数着目のウェハー支
持スロットを示１−ものと１−る。

第２のプラスチックキャリア及び第２のクループの２５
個のウェハーは、前述した操作サイクルを繰り返すべ（
使用される。命数管口のウェハー支持スロットａｓ−ｖ
、ａａ−ｏは、第６図に図示されている如（ウェハー保
持領域４６内の第１のグループのウェハーの間に位１６
°決めされる。

第１１Ｅ図ヲ参照すると、第２のプラスチックキャリア
がスタンドろ４上に位置決めされた後、昇降装置５８％
＋９は矢印１１４の方向にゆっ（り上昇１−る。−机！
のＪ持装置べ９４は引込んだままであるが、第１の保持
装置９′５は一群のウェハー１５を支持し続けるためウ
ェハー保持領域４６内に伸張したままとなっている。参
照番号１５Ａは、第２のプラスチックギヤリアから今昇
降装置６８゜ろ９によって持ち上げられた第２のグルー
プの２５個のウェハーを示ｆ、２５個のウェハー１５Ａ
は、ウェハー１５の間であってウェハー保持領域内の第
１の保持装置９ろの各スロッ）Ｙ通る。

第１１Ｆ図を参照すると、昇降装置５８．５９がその最
上位置に到達した後、第２の保持装置９４は矢印１１６
の方向に移動し、ウェハー保持領域４６内に入る。第１
１Ｇ図を参照すると、昇降装置白：ｓｂ、ｓ９は矢印１
１７によって示された方向に下降する。こｆ”Ｌにより
、２５個のウェハーは、その右側部分が保持装置９４の
各■溝９４−１．９４−２内に載置されるため、矢印１
１８の方向に回転する。しかる後、ウェハーの左側端縁
は前方保持プｏ　ツク８８ノソレソ；ｈ整合ＬりＶ溝８
８Ａ−１，８８Ａ−２・・・・・・等に載置されるよう
になる。これにより、５０個全てのウェハーはウェハー
保持領域内に吊り下げられることとなる。

プロセスの次の段階は、昇降装置３８．５９’ａ’その
最下位置まで下降させ、第２のプラスチックキャリアを
取り除（行程である。

しかる後、石英ボート５がスタンド５４上に載せられる
。第２の光学的検知装置（図示されていない）は、レー
ル２１又は２２の一方の端部の存在ケ検知し、ヘッド８
２をその最初の位置に戻′１−信号を発生する。従って
、第１の保持装置９５及び第２の保持ブロック８９のＶ
溝は、１述した奇数番目のウェハー支持スロットと整合
する。昇降装置５８．５９は、５０本全てのウェハー支
持スロット４５．４４が、その時ウェハー保持領域４６
内に吊架された５０個のウニノ・−１５，１５Ａと係合
と、それら乞わずかに上昇させる。操作プロセスのこの
部分は図面馨用いな（ても極めて明確であり、従って、
それら図面は省略した。次に、第１及び第２の保持装置
９）、９４はウェハー保持−゛域４６から引込められ、
且つ昇降装置５８　、５９及び５０個のウェハーはゆつ
（つと下降される。５０本のウェハー支持スロット４６
．４４は石英ボート５０４本の水平なレールの５０本の
溝のセットと整合しているため、５０個のウェハーは石
英ボート６内に正確に位置決めされると共に、所望のウ
ェハー移送プロセスは光子せしめられる。

本発明の好ましい実施例において、当業者において容易
に想致し肖る電子制御回路によって、あるいはオペレー
タによる制御によって、前述した昇降装置５８．５９の
下降、ヘッド機構８２の横方向へのシフト、第１及び第
２の保持装置９ろ、９４及びウェハー保持領域４６の伸
縮乞行なう。全操作には、約２分間が必要である。ウェ
ハー表面とプラスチックキャリア１の案内溝、保持装置
９５゜９４又は保持ブロック８８．８９のＶ溝との間で
は全く摩擦接触が存在しない。従って、シリコンダスト
の発生は最小にすることができる。ウェハーの端縁がＶ
溝に接触１−る時発生する全てのシリコンダストは、直
ぐにウェハーの高さよりも下方に落とされる。このシリ
コンダストは、ウェハーの次面、ウェハー支持スロット
４５．４４の表面、あるいは全てのＶ溝に付層しに（い
ようになっている。これら表面は、アルミニウム等の畳
重性の材料から作られており且つ静電気が発生しないよ
うにテフロン（商品名）で被覆される。この静′亀気は
、シリコンダストに影響を及ぼすこととなる。

上述の手順と通のウェハー移送操作、すなわち石英ボー
）３からプラスチックキャリアへの５０個のウェハーの
移送は、上述の手順と同様である。

この場合の基本的な行程を列挙する。プロセスの最初に
、内部に５０個のウェハーを有する石英ボートがスタン
ド５４上に載せられる。スタンド上の石英ボートの存在
を光学的に検知することてより、必要なヘッド機構８２
のシフトが行なわれる。

コレにより、奇数番目のウェハー支持スロット４５゜４
４は第２の保持装置９４及び第１の保持ブロック８８の
Ｖ溝と整合することＫなる。昇降装置３８゜５９が上昇
し、５０個のウェハー乞持ち上げて石英ボート５からウ
ェハー保持領域４６内に入れる。

次に、第１及び第２の保持装置９５．９４が、共如つヱ
ハー保持碩域４６内に伸張する。昇降装置５８゜５９が
下降されると、それぞれ２５個つつの交互に位置せしめ
られたウェハーは、第６図及び第１１Ｇ図に図示された
如き形態に回転１−る。しかる後、昇降装置５Ｂ、ろ９
はその最下位置まで下降され。

石英ボート５は第１のプラスチックキャリアと取り替え
られる。昇（ヰ装置’）８，５９が第１のプラスチック
キャリアの内部を貫通して上昇せしめられ。

それによって、５０個のウニノ・−がわずかに持ち上げ
られる。第？の保持装置９ろがウニノ・−保持領域４６
から引込められる。昇降装置５８．ろ９が下降せしめら
れろと、奇数番目のウェハー支持スロット４ろ、４４に
よって支持された２５個の奇数番目のウェハーは、第１
の保持装置９４のＶ溝の間に形成された深いスロット９
ろＡｌ、９５Ａ２・・・・・・等を貫通して通ってゆき
、第１のプラスチックキャリア内に下降せしめられろ。

第１のプラスチックキャリアが取り除かれると、ヘッド
機構８２は。

第１の保持装置９ろ及び第２の保持ブロック８９０Ｖ溝
とその内部の残りの２５個のウェハーとが整合１−るよ
うに横方向Ｋ　２．’ｒ８ｍｍだけシフトされる。

第２のプラスチックキャリアがスタンド５４上に載せら
れる。昇降装置ろ８，５９が上昇される。第１の保持装
置９ろが引込められ、それにより、第２のグループのウ
ェハーが第２のプラスチックキャリア内に下降される。

これにより、第２回目の移送が光子する。

上述した本発明の実施例は、従来のシステムに比較して
小さな面積のテーブル頂部ヶ備えたウェハー移送システ
ムを提供する。１２．７ｃｍ　（５インチ）のウェハー
に対しては１本発明装置は、商さ６０．９６ｃｍ　、長
さ５８．１ｃｒｒＬ、そして幅５８．１ｃｍとなってい
る。１５．２４ＣｒＩＬ（６インチ）Ｋ対しては、その
高さかい（分篩（なる。

本発明は、特定の実施例に基づいて説明されているが、
その技術的範囲を逸脱することなく棟々の修正、変更が
可能である。例えば、他の移送操作１例えば２５−ウェ
ハープラスチックキャリアから２５−ウェハー石英ボー
トへのウェハーの移送は、２．”Ｓ８朋だけヘッド機構
をシフトさせる行程を省略することにより行シ工うこと
ができる。また、同時に、５０−ウェハーキャリアから
他のものに移送１−ることか可能である。さらに、ウェ
ハーン第２のプラスチックキャリアからウェハー保持領
域に持ち上げる目１１に、　４．７７　ｍｍだけヘッド
９２を横方向にシフトさせる方法が他にも存在１−る。

例えば、スタンド５４又は昇降装置５８　、５９の位置
を。

４．７７ｍｒｌだけ横方向にシフトさぜる方法である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明装６１及び方法に関連して使用′１−
る２５−ウェハープラスチックキャリアの部分斜視図で
ある。 第２図は、第１図り）ウェハーキャリアに形成されたウ
ェハー案内溝の断面図である。 ＦＡ３図は１本発明装置及び方法に関連して使用１−ろ
５０−ウェハー石英ボートの斜視図である。 第４図は、第５図の拡大図である。 第５図は、ウェハー移送装置のウェハー保持領域の平面
図である。 第６図は、第５図のシフト可能なヘッド機構内にウェハ
ーを保持する方法を説明するため第５図にいく分イし正
を加えた砿太図である。 第７図は、第１及び第６図のキャリアを載せろスタンド
と、ウェハー昇降機構ヶ図示する部分斜視図である。 第８図は、半導体ウェハーを保持する第７図の昇降部材
の部分測面図である。 第９図は、第８図の９−９梅１ｃＧってとった部分断面
図であり、半導体ウェハー乞保持１−る第８図の昇降部
ＡＡの一方のウニノ・−支持溝Ｆ図示１−ろためのもの
である。 第１０図は、第８図の１Ｏ−１０）ｌＪＫ？６ってとっ
た部分断面図であり、第９図の溝の同じウニノ・−を保
持するだめの第８図と反対側の昇降部材のウェハー支持
溝を図示したものである。 第１１Ａ図〜第１１Ｇ図は１本発明のウェハー移送装置
の操作手順馨説明するための概略図である。そして。 第１２Ａ図と第１２Ｂ図は、ウェハー移送プロセス中、
第５図のヘッド機構をシフトした状態を説明するための
概略図である。 １・・・・・・・・・キャリア　５・・・・・・・・・
ボ　−　ト５．６・・・側　而　１０・・・・・・溝１
５・・・・・・ウェハー ２０．２１，２２．２ろ・・・・・・し　−　ル６０・
・・・・・ウェハー移送システム３４・・・・・・スタ
ンド　５Ｂ、ろ９・・・・・・昇降装置４ろ、４４・・
・・・・ウェハー支持溝図面の浄書（内容に変更なし） ＴＩ５．　ｉＥＥ、Ａ 、ｆうＬ−４εＢ 手続補正書 昭和づ年　１月！ρ日 １、事件の表示 昭和ｉ年特許願第　／、：、０３λン　号２、発明の名
称 ウェハーｑ′す１　〕７７丁１１　β）・　ｌ〕ｔ、６
、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所 名　れ　マイク１２　ツラス　４−７〕−寸０ｔ−−テ
、ドパ４、代理人 ２８

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｍ　ｍｌ及び第２のウェハーキャリアの間で半導体ウェ
   ハーを移送するためのウェハー移送システ　”ムにおい
   て、 上記第１及び第２のウェハーキャリアのいずれかを受け
   止め且つ支持１−るキャリア支持装置；上記キャリア支
   持装置上の上記第１及び第２のウェハーキャリアの一万
   の中に位置するウェハーの下端縁部分と係合し、ウェハ
   ーを上記ウェハーキャリアの一万の上方に位置せしめら
   れたウェハー保持領域まで持ち上げる昇降装置であって
   、上記ウェハー保持領域内のウェハーの下端縁部分と係
   合し、それら乞、その時、上記キャリア支持装置上に位
   置する上記第１及び第２のウェハーキャリ　（アの一万
   の中に位置せしめられた各セットの溝の中に下降させる
   昇降装置； 上記昇降装置内に形成されたウェハー支持溝の間隔をあ
   けた第１及び第２のグループであって、上記第１のグル
   ープのウニノ・−支持溝の各は、上“記載２のグループ
   の対応するウニノ・−支持溝と整合し、それと協働して
   ウニノ・−の下端縁部分と係合し、それによってそのウ
   ニノ・−を支持するウェハー支持溝の第１及び第２のグ
   ループ；そして、第１のグループのウェハーが上記ウェ
   ハー保持領域内に保持されている間、該ウニ・・−保持
   領域内に伸長可能な多数の溝を有する第１の保持装置で
   あって、上記昇降装置が下降した後、上記ウェハー保持
   領域内に位置する第１のグループのウェハーを保持する
   と共に、上記ウニノ・−保持領域から引込んで、上記第
   １のグループ％が上記昇降装置により上記ウニノ・−保
   持領域から下降し得るようにされてなる第１の保持装置
   ； 乞備えて構成されてなるウニノ・−移送システム。 〔２）特許請求の軛四第１項に記載のウニノー−移送シ
   ステムにおいて、 上記第１の保持装置の上記多数の溝は、上記ウェハー支
   持装置に保合した上記端縁部分とは間隔ｔあけた共つそ
   れらに隣接した上記第１のグループのウェハーの端縁と
   係合し、それによって、上記第１のグループのウェハー
   が回転する°傾向を持つようにしてなり； 上記ウェハー移送システムは、さらに 上記ウェハー保持領域の上記第１の保持装置とは反対の
   側に配置された第２の保持装置、でルノって、上記第１
   の保持装置の上記多数の溝と整合する多数の溝乞有する
   第２の保持装置を有しており；上記第１のグループのウ
   ェハーは、その側端縁が上記第２の保持装置の多数の溝
   の各に載置ぜしめられるようになるまで回転するように
   されてなるウェハー移送システム。 （３）特許請求の範囲第２項に記載のウェハー移送シス
   テムにおいて、 上記第１の保持装置が、上記第１の保持装置ノ溝の連続
   する溝間に多数のスロットヲ有しており、それにより、
   第２のグループのウェハーは、上記第１のグループのウ
   ェハーが上記第１の保持装置によってウェハー保持領域
   内に保持されている間、上記昇降装置によって持ち上げ
   られ上記ウェハー保持領域内に入ることができるように
   されてなるウェハー移送システム。 ４）特許請求の範囲第５項に記載のウェハー移送システ
   ムにおいて、さらに、 上記第２のグループのウェハーか上記ウェハー保持領域
   内に保持されている間、該ウェハー保持領域の上記第１
   の保持装置とは反対の側から該ウェハー保持領域内に伸
   長可能な第５の保持装置であって、多数の溝と、これら
   溝の連続する溝の間に配置された多数の溝とを有し、そ
   れにより、上記ゲ１１イ装置が下降した後、上記第２の
   グループのウニ・・−を上記ウェハー保持領域に保持す
   る第５の保持装置を含んでおり； 上記第６の保持装置は上記ウェハー保持領域から引込む
   ことができ、それにより、上記第２のグループのウェハ
   ーは上記昇降装置によって上記ウェハー保持制酸から下
   降することができるようにされてなり； 上記第６の保持装置のスロットにより、上記第１のウェ
   ハーは、上記第２のグループのウェハーが上記第２の保
   持装置によって上記ウェハー保持領域内に保持されてい
   る間、該ウェハー保持領域内に上昇して入り又は下降し
   て出されるようにされてなるウェハー移送システム。 （５）特許請求の範囲第４Ｊ１４に記載のウェハー移送
   システムにおいて、さらに 上記ウェハー保持領域の上記第５の保持装置とは反対側
   に配置せしめられた第４の保持装置であって、上記第５
   の保持装置の多数の溝とそれぞれ整合する多数の溝を有
   する第４の保持装置馨含んでおり； 上記第２のグループのウェハーは、そ六らの端縁が上記
   第４の保持装置の各対応する溝内“に載置せしめられろ
   ようになるまで、上記第６の保持装置の各溝ン中心とし
   て回転−４−るようにされてなるウェハー移送システム
   。 （６）特許請求の範囲第５項に記載のウェハー移送シス
   テムにおいて、 上記昇降装置の第１及び第２のグループの上記ウェハー
   支持溝の中心間の間隔が、上記第１゜第２．第３及び第
   ４の保持装置の溝の中心間の間隔の半分とされており； 上記第１及び第２の保持装置の溝は、初め、上記第１及
   び第２ぴ〕グループのウェハー支持溝の連続する奇数番
   目の溝とそれぞれ整合しており；そして、 上記第６及び第４の保持装置の溝は、初め、上記第１及
   び第２のグループのウェハー支持溝の連続する偶数密目
   の溝とそれぞれ敲合してなるウェハー移送システム。 （７）特許請求の範囲第６項に記載のウェハー移送シス
   テムにおいて、さらに、 上記第１．第２．第５及び第４の保持装置をシフトし、
   上記第１及び第２のグループの奇数番目のウェハー支持
   溝が選択的に、上記第１及び第２の保持装置の溝又は上
   記第６及び第４の保持装置の溝と整合させるシフト装置
   を含んでおり；それにより、 上記第１のグループのウェハーは、上記ウェバー支持溝
   の交互のもののうちの一方のセットによって上記ウェハ
   ー保持領域内に持ち上げられると共に、上記第１及び第
   ２の保持装置によりその中に保持されており；そして、
   上記第２のグループのウェハーをシフトした後、上記第
   ２のグループのウェハーは、上記第１のグループのウェ
   ハーが上記第６及び第４の保持装置により保持された状
   態で、上記ウニ・・−支持溝の上記セットの溝によって
   上記ウニ・・−保持領域内に持ち上げることができ、且
   つそこに保持されるようにされてなるウェハー移送シス
   テム。 （８）特許請求の範囲第７項に記載のウニ・・−移送シ
   ステムにおいて、 上記ｍ１．ｍ２．第６及び第４の保持装置がほぼ■字形
   馨なしているウェハー移送システム。 （９）特許請求の範囲第７ＪＪｊに記載のウェハー移送
   システムにおいて、 上記第１の保持装置が上記第４の保持装置の下方に位１
   ６１シ且つ上記第６の保持装置が上記第２の保持装置の
   下方に位置するようにされてなるつ（１０）特許請求の
   範囲第８項に記載のウェハー移送システムにおいて、 上記第１の支持又め１は、ウェハー溝の中心間距離が４
   ．７７ｍｍである２５ウエハープラスチツク支持装置で
   あり、葺つ上記第２の支持装置はウェハー溝の中心間距
   離が２．６Ｅｈ＋＋ｍである５０ウ工ハー石英拡散ボー
   トであるようにさｉ”してなるウエノ・−移送システム
   。 （１１）特許請求の範囲第１項に記載のウエノ・−移送
   システムにおいて、 上記第１のグループの第１のウェハー支持溝は、第１の
   ウェハーの第１の表面の第１の周縁部分と係合する第１
   の平坦な垂直表面と、上記第１の平坦な垂直表面に対向
   する第１の急傾斜の表面であって上記第１のウェハーの
   端縁点ヶ支持し水平力Ｚ付与すると共に、上記第１のウ
   エノ・−の重量により上記第１の周縁部分をそのウエノ
   １−の上記第１の平坦な垂直表面に緊密に付勢する急傾
   斜表面と乞有しており；そして、 上記第２のグループの第１のウエノ・−支持溝は、上記
   第１のウェハーの反対側の第２の六回の第２の周縁部分
   と係合する第２の平坦な垂直表面と、上記第２の平坦な
   垂直表面と対向する第２の急傾斜表面であって上記第１
   のウェハーの他端縁点を支持し水平カケ伺与すると共に
   、上記第１のウェハーの重量により上記第２の周縁部分
   を上記第２の平坦な垂直表面に緊密に付勢する：＠、傾
   斜表面とを有しており；それにより、 上記第１のウェハーは、それぞれ上記第１及び第２のグ
   ループの上記第１のウェハー支持溝眞よって、正確な垂
   直位置に１面実に保持されてなるウェハー移送システム
   。 （１２）第１及び第２のウェハーキャリアの間で半導体
   ウェー・−乞移送するためのウニ・・−移送システムに
   おいて、 上記第１及び第２のウェハーキャリアのいずれかを受け
   止め且つ支持するキャリア支持装置；上記キャリア支持
   装置上の上記第１及び第２のウェハーキャリアの一方の
   中に位置するウェハーの端縁部分と１糸合し、ウェハー
   を上記ウェハーキャリアの一方の上方に位置せしめられ
   たウェハー保持領域まで持ち上げる昇降装置であって、
   上記ウェハー保持領域内のウェハーの端縁部分と保合し
   、それらを、その時、上記キャリア支持装置上に位置す
   る上記第１及び第２のウェハーキャリアの一方の中に位
   置せしめられた各セットの溝の中に下降させる昇降装置
   ； 上記昇降装置内に形成されたウェハー支持溝領域の間隔
   ぞあけた第１及び第２のグループであって、上記第１の
   グループのウェハー支持溝領域の各は、上記第２のグル
   ープの対応するウェハー支持溝領域と整合し、それと協
   働してウェハーの端縁部分と係合し、それによってその
   ウェハーを支持するウェハー支持溝領域の第１及び第２
   のグループ；そして、　″ 第１のグループのウェハーが上記ウェハー保持領域内に
   保持されている間、該ウェハー保持領域内に伸長可能な
   多数の溝を有する第１の保持装置であって、上記昇降装
   置が下降した後、上記つエバー保持領域内に位置する第
   １のグループのウェハー欠保持すると共に、上記ウェハ
   ー保持連載から引込んで、上記第１のグループ磁が上記
   昇降装置により上記ウェハー保持領域から下降し得るよ
   うにされてなる第１の保持装置； を備えて構成されてなるウェハー移送システム。 （１ろ）第１のキャリアから第２のキャリアに半導体ウ
   ェハーを移送する方法であって、 ｉａｌ　上記第１のキャリアの開放した中央領域を貫通
   して伸張可能な昇降装置によって、第１のグループの半
   導体ウェハー乞上昇させて上記第１のキャリアから出し
   且つウェハー保持領域内に入れる行程； （ｂｌ　上記ウェハー保持領域内に第１の保持装置ン伸
   張して上記第１のグループのウェハーの端縁と係合し、
   それにより、上記昇降装置が下降した時、上記第１のグ
   ループのウェハーを上記ウェハー保持領域内に保持する
   行程； ｌｃｌ　上記第１のキャリアの開放した中央領域を貫通
   して上記昇降装置乞上記ウェハー保持領域から下１挿さ
   せろ行程； ｌｄ）　上記昇降装置が下降せしめられた領域の上方位
   （ろ°−から上記第１のキャリアな取り除く行程；（ｅ
   ｌ　上記昇降装置が下降せしめられた領域Ｑ上方に第２
   のキャリアを載置する行程； ｆｆｌ　上記第２のキャリアの開放した中央領域乞貫通
   して上記昇降装置ケ上昇させ、それによって上記第１の
   グループのウエノ・−７持り上げる行程； ｆｇ＋　上記保持装置乞上記つエノ・−保持領域から引
   き抜（行程；そして、 （１１）　上記第２のキャリアの開放した中央領域乞貫
   通して上記昇１＃−装置乞下降させ、それによって、上
   記第１のグループのウエノ・−７上記載２のキャリア上
   に配置させる行程； を含んで（１′ｑ成されてなろウエノ・−の移送方法。 （１４）特許請求の範囲第１６項に記載の方法において
   、 上記（ａｌの行程が、 上記各ウエノ・−の第１の表面の下端縁を第１のグルー
   プの谷急傾斜弐面と接触させることにより上記第１のグ
   ループのウェハーを正確に並列関係を維持しつつ支持し
   、その結果、各ウェハーの重量により、そのウェハーの
   反対側の第２９表面の下側周縁平坦部分が堅い各平坦垂
   直溝壁に押圧され、それにより、上記ウェハーの各が上
   記第１のグループの各傾斜表面に対して傾むかないよう
   にする行程と； 上記各ウェハーの第２の表面の下端縁を第２のグループ
   の各急傾斜表面と接触させ、その結果、各ウニ°バーの
   重量により、そのウェハーの上記第１の表面の下側周縁
   平坦部分が堅い平坦垂直溝壁に押圧され、それにより、
   上記ウェハーの各が上記第２のグループの各傾斜表面に
   対して傾むかないようにする行程； を含んで構成されてなる方法。 （１５）特許請求の範囲第１５項に記載の方法において
   、 上記（（１１の行程の後に、 内部に第２のグループのウニバーン有する第ろのキャリ
   アを上記昇師装置６１の上方に載置する行程； 上記昇降装置により、上記第２のグループの半導体ウェ
   ハーを持ち士げ上記第６のキャリアから出して上記ウェ
   ハー保１ｆ領域に入れる行程；そして、 第２の保持装置乞上記つエノ・−保持領域に伸張させ上
   記第２のグループのウエノ・−の端縁と係合し、それに
   より、上記昇降装置が下降した時、上記第２のグループ
   のウェハー欠上記つエノ・−保持領域内に保持する行程
   ； 乞含んで構成されてなる方法。 （１６）特許請求の範囲第１５項に記載の方法において
   、 上記第１の保持装置は上記第２のグループのウェハーが
   入る多数の深いスロツ）Ｙ有しており、且つ上記第２の
   保持装置は上記第１のグループのウェハーが入る多数の
   深いスロットＶ有してなる方法。 （１７）特許請求の範囲第１６項に記載の方法において
   、 上記ウェハー保持領域内に上記第２のグループのウエハ
   ーヲ」＝昇させろため、該ウェハー保持領域内の上記第
   １のグループのウェハーの位置を上記第１のグループの
   ウェハーの中心間距離の半分の長さだけシフトさせ、そ
   の結果、上記第２のグループのウェハーが上記ウェハー
   保持領域内の上記第１のグループのウェハーに対し交互
   に間隔をあけるようにする行程； を含んで構成されてなる方法。 （１Ｂ）特許請求の範囲第１６項に記載の方法において
   、 上記１ａｌの行程が、第２のグループのウェハーを同時
   に持ち上げて上記第１のキャリアから出し上記ウェハー
   保持領域内に入れる行程７含んでおり；そして、 上記（ｂｌの行程が、第２の保持装置？上記ウェハー保
   持領域内に伸張させて上記第２のグループのウェハーの
   端縁と係合し、それによって、上記昇降装置が下降した
   時、上記第１のグループのウェハーが上記ウェハー保持
   領域内で上記第２のグループのウェハーと父互に配置さ
   れるようにして、上記第２のグループのウェハーを上記
   ウェハー保持領域内に保持ずろ行程を含んでおり；上記
   方法は、さらに上記（１１）の行程の後に、上記昇降装
   置が下降せしめられる領域の上方位置から上記第２のキ
   ャリア７取り除き且つ上記昇降装置が下降せしめられた
   領域の上方に第３のキャリアケ配置する行程； 上記第５のキャリアの開放した中央領域を貫通して持ち
   上げ上記昇降装置？上記ウェハー保持領域内に入れ、そ
   れによって、上記第２のグループのウェハーと１糸合さ
   せる行程； 上記第２の保持装置を上記ウェハー保持領域から引抜く
   行程；そして、 上記昇降装置乞上記第ろのキャリアの開放した中央領域
   乞貫通して上記ウェハー保持領域から下降させ、上記第
   ５のグループのウェハーを上記第６のキャリア上に載置
   する行程； を含んで構成されてなる方法。 （１９）特許請求の範囲第１８項に記載の方法において
   、 上ｈピ第１及び第２のグループのウェハーが全て上記ウ
   エノ・−保持領域内に存在する時、上記昇降装置ン」二
   昇させ上記第２のグループのウエノ・−と係合する前に
   、上記ウエノ・−保持領域内の上記グループのウェハー
   を第１及び第２のグループのウェハーの中心間距離だけ
   シフトさせる行程；を上記（１１）の次に含んで構成さ
   れてなる方法。