JPS6063936U - 半導体ウエハ−の水洗装置 - Google Patents
半導体ウエハ−の水洗装置Info
- Publication number
- JPS6063936U JPS6063936U JP15551283U JP15551283U JPS6063936U JP S6063936 U JPS6063936 U JP S6063936U JP 15551283 U JP15551283 U JP 15551283U JP 15551283 U JP15551283 U JP 15551283U JP S6063936 U JPS6063936 U JP S6063936U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- bellows
- washing
- washing equipment
- wafer washing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来の半導体ウェハーの水洗装置を示す断面図
、第２図はこの考案の半導体ウェハーの水洗装置の一実
施例を示す断面図である。 なお、図中、１はカセット２は収納された半導体ウェハ
ー、３は水洗槽、８はこの槽内に設けたベローズ、１２
はこのベローズに連通された電動給排気ポンプを示すも
のであ、る。
、第２図はこの考案の半導体ウェハーの水洗装置の一実
施例を示す断面図である。 なお、図中、１はカセット２は収納された半導体ウェハ
ー、３は水洗槽、８はこの槽内に設けたベローズ、１２
はこのベローズに連通された電動給排気ポンプを示すも
のであ、る。
Claims (2)
- （１）水洗槽内に、その内部洗浄水中に浸漬させた内装
ウェハーの繰返し上下用伸縮ベローズを設けたことを特
徴とする半導体ウェハーの水洗装置。 - （２）水洗槽内に設けたベローズを、これに連通させた
電動給排気ポンプで伸縮させるようにした実用新案登録
請求の範囲第（１）項記載の半導体ウェハーの水洗装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15551283U JPS6063936U (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 半導体ウエハ−の水洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15551283U JPS6063936U (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 半導体ウエハ−の水洗装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6063936U true JPS6063936U (ja) | 1985-05-07 |
Family
ID=30343443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15551283U Pending JPS6063936U (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 半導体ウエハ−の水洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6063936U (ja) |
-
1983
- 1983-10-06 JP JP15551283U patent/JPS6063936U/ja active Pending
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