JPS6050129A - テルミット法による金属合金の製造方法 - Google Patents
テルミット法による金属合金の製造方法Info
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- JPS6050129A JPS6050129A JP15760983A JP15760983A JPS6050129A JP S6050129 A JPS6050129 A JP S6050129A JP 15760983 A JP15760983 A JP 15760983A JP 15760983 A JP15760983 A JP 15760983A JP S6050129 A JPS6050129 A JP S6050129A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、テルミット法による金属合金の製造方法に
関し、特に成分偏析が軽微であり酸素含有量及び音素含
有量が低い人品を筒生差性で製造することができる製造
方法を提案するものである。
関し、特に成分偏析が軽微であり酸素含有量及び音素含
有量が低い人品を筒生差性で製造することができる製造
方法を提案するものである。
テルミット法により、金属クロム(Cr)又はアルミニ
ウム(Atルバナジウム(V)合金等の金属合金を製造
する場合に、従来は、反応終了後反応炉内に溶融メタル
及びスラグを静置して両者を比重分離し、そのまま反応
炉内で凝固させていた。そして、頭部にスラグが固化し
ている鋳塊を反応炉から取り出し、このスラグを金属合
金部分から分離し、更に鋳塊表面に伺着しているスラグ
及びライニング材を除去した後、サイ゛ジングして製品
を得ていた。
ウム(Atルバナジウム(V)合金等の金属合金を製造
する場合に、従来は、反応終了後反応炉内に溶融メタル
及びスラグを静置して両者を比重分離し、そのまま反応
炉内で凝固させていた。そして、頭部にスラグが固化し
ている鋳塊を反応炉から取り出し、このスラグを金属合
金部分から分離し、更に鋳塊表面に伺着しているスラグ
及びライニング材を除去した後、サイ゛ジングして製品
を得ていた。
然るに、n@後の溶湯を反応炉内で冷却して凝固させる
ため、冷却速度が極めて遅いので成分偏析が生じ、金属
合金製品の成分均一性及び清浄度が低いという難点があ
る。−1:1ヒ、反応炉は一般的にマグネシアクリンカ
−でライニングしであるが、鋳塊を取り出す際に、ライ
ニングが破壊されてし貰うので、−バッチ毎にライニン
グを施す必要があり、生産性が極めて低い。
ため、冷却速度が極めて遅いので成分偏析が生じ、金属
合金製品の成分均一性及び清浄度が低いという難点があ
る。−1:1ヒ、反応炉は一般的にマグネシアクリンカ
−でライニングしであるが、鋳塊を取り出す際に、ライ
ニングが破壊されてし貰うので、−バッチ毎にライニン
グを施す必要があり、生産性が極めて低い。
更に、ライニング材費及び施行処理費が生産コストを上
昇させる侠因となっている。
昇させる侠因となっている。
なお、反応終了後、溶湯を反応炉から取り出して、鋳型
に鋳造することにより、冷却速肚を高めることができる
。しかし、反応炉から鋳型に注入することにより、苗偕
が大気中のば素及び窒素ガスと接触する機会を与えるこ
とになり、従って、鋳塊の酸素含有量及び窒素含有量が
著しく高くなるという問題点がある。これらの理由から
、酸素及び窒素の含有量が低く成分偏析が軽微である金
)ff4cr又はAt −V合金等の金属合金製品は得
られていない。
に鋳造することにより、冷却速肚を高めることができる
。しかし、反応炉から鋳型に注入することにより、苗偕
が大気中のば素及び窒素ガスと接触する機会を与えるこ
とになり、従って、鋳塊の酸素含有量及び窒素含有量が
著しく高くなるという問題点がある。これらの理由から
、酸素及び窒素の含有量が低く成分偏析が軽微である金
)ff4cr又はAt −V合金等の金属合金製品は得
られていない。
この発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであって、
成分偏析が軽微であり酸素含有量及び鯖素含突量か低い
製品を高生産性で製造することができるテルミット法に
よる金属合金の製造方法を提供することを目的とする。
成分偏析が軽微であり酸素含有量及び鯖素含突量か低い
製品を高生産性で製造することができるテルミット法に
よる金属合金の製造方法を提供することを目的とする。
この発明に係るテルミット法による金属合金の製造方法
は、酸化物及び還元剤を含む原料を反応炉に装入してテ
ルミット反工6により精錬し、精錬後の金り合金の浴湯
を不活性ガ゛ス雰囲気下で鋳造容器に鋳造することを!
+!f徴とする。
は、酸化物及び還元剤を含む原料を反応炉に装入してテ
ルミット反工6により精錬し、精錬後の金り合金の浴湯
を不活性ガ゛ス雰囲気下で鋳造容器に鋳造することを!
+!f徴とする。
以下、この発明の実施例について、その実施状態を示す
図面を参照して具体的に説明する。
図面を参照して具体的に説明する。
テルミット反応炉lは耐火物製の炉壁の内面に、MgO
(マグネシア)がライニングされている〇反応炉lの側
壁には、高さ位置を異にする2個のタップ口2及び3が
設けられている。下方のタップ口2及び上方のタップ口
3は夫々溶融金属合金及び溶融スラグを注出するための
ものであジ、いずれも通常は閉塞されている。タップ口
2の配設位置には、反応炉lの外側に耐火物製のifi
M4が設置され−Cいる。樋4にはタップ口2を介して
浴融金属合金等の溶湯が供給され、この溶湯は樋4を通
流して樋4の下方に設置された鋳型6に注入される。鋳
型6の上端開口には蓋7が装着されている。蓋7には溶
湯注入用の開ロアaが穿設されている。樋4の前方には
溶湯の飛散を防止するための耐火物製の規制板5が蓋z
上に両足されて配設されている。蓋7には、適宜のAr
ガス供給源に連結されたArガスの供給パイプ8が数句
けられており、Arガスが鋳型6の内部に供給されるよ
うになっている。
(マグネシア)がライニングされている〇反応炉lの側
壁には、高さ位置を異にする2個のタップ口2及び3が
設けられている。下方のタップ口2及び上方のタップ口
3は夫々溶融金属合金及び溶融スラグを注出するための
ものであジ、いずれも通常は閉塞されている。タップ口
2の配設位置には、反応炉lの外側に耐火物製のifi
M4が設置され−Cいる。樋4にはタップ口2を介して
浴融金属合金等の溶湯が供給され、この溶湯は樋4を通
流して樋4の下方に設置された鋳型6に注入される。鋳
型6の上端開口には蓋7が装着されている。蓋7には溶
湯注入用の開ロアaが穿設されている。樋4の前方には
溶湯の飛散を防止するための耐火物製の規制板5が蓋z
上に両足されて配設されている。蓋7には、適宜のAr
ガス供給源に連結されたArガスの供給パイプ8が数句
けられており、Arガスが鋳型6の内部に供給されるよ
うになっている。
鋳造容器としての鋳型6は、通常の金型インゴットケー
ス、水冷の銅製容器又は内面を耐火物でライニングされ
た容器等が使用可能であシ、溶湯に対し耐久性があり汚
染させないものであれは鋳造容器として使用できる。而
して、タップ口2の近傍の反応炉l側面と、開ロアa近
傍の蓋7ヒ面との間には、1Iai4を覆うようにして
ハウジング9が設けられている。ハウジング9は樋4の
前方の側面に、作業及び注入視認用の窓10を弔−する
。窓ioを閉じた状態では、ハウジング9により価4及
び鋳型6の内部が外界〃)ら遮断される。このハウジン
グ9は、内偵」空間を5〜lO市水柱程度の圧力の正圧
に保持できる構造とずれはよい。
ス、水冷の銅製容器又は内面を耐火物でライニングされ
た容器等が使用可能であシ、溶湯に対し耐久性があり汚
染させないものであれは鋳造容器として使用できる。而
して、タップ口2の近傍の反応炉l側面と、開ロアa近
傍の蓋7ヒ面との間には、1Iai4を覆うようにして
ハウジング9が設けられている。ハウジング9は樋4の
前方の側面に、作業及び注入視認用の窓10を弔−する
。窓ioを閉じた状態では、ハウジング9により価4及
び鋳型6の内部が外界〃)ら遮断される。このハウジン
グ9は、内偵」空間を5〜lO市水柱程度の圧力の正圧
に保持できる構造とずれはよい。
このようなM迫の装置により、本発明方法を実施する場
合は、先ず、例えはCr酸化物又は■酸化物等の酸化物
に、還元剤としてAtを所足量配合して混合した原料を
反応炉lに装入する。
合は、先ず、例えはCr酸化物又は■酸化物等の酸化物
に、還元剤としてAtを所足量配合して混合した原料を
反応炉lに装入する。
この原料装入後、又は原料装入作業と四時に、供給パイ
プ8を介してArガスを餉呈6内に供給する。なお、A
rガスの替りに他の不活性ガスを使用してもよい。ハウ
ジング9及び鋳型6の内部空間がArガスで置換され、
この内部空間の残存酸素濃度が、例えは、3容量饅以下
に低下した場合に、原料に着火させてテルミット反応を
開始させる。以後、ハウジング9及び鋳型6内を5乃至
1(Jan水柱程度の圧力の正圧に保持できる蓋のA1
−ガスを継続してハウジング9及び鋳型6内に供給する
。
プ8を介してArガスを餉呈6内に供給する。なお、A
rガスの替りに他の不活性ガスを使用してもよい。ハウ
ジング9及び鋳型6の内部空間がArガスで置換され、
この内部空間の残存酸素濃度が、例えは、3容量饅以下
に低下した場合に、原料に着火させてテルミット反応を
開始させる。以後、ハウジング9及び鋳型6内を5乃至
1(Jan水柱程度の圧力の正圧に保持できる蓋のA1
−ガスを継続してハウジング9及び鋳型6内に供給する
。
反応が開始されると、Atの酸化熱で原料が溶融し、反
応終了後1乃至2分間静置して溶融物を沈静化すると、
溶融金属合金の溶illと、溶融スラグI2とに分離す
る。仄いで、浴湯trと#融スラグ12との境界の若干
上刃に位置するタップ口3を開口させて、溶融スラグ1
2を流出させる。精錬により生成した沓−スラグ12の
約80%が流出した後、クツゾロ2を開口させて溶湯1
1を鋳造する。タップ口2の開口作業は、例えは、窓1
0を開けて棒材をハウジング9内に挿入し、この棒材の
先端でクツゾロ2を突き破れはよい。この開口作業後、
直ちに窓10を閉塞させてハウジング9内への大気の流
入を防止することは勿論である0慨4を介して鋳型6に
注入された溶湯11は鋳型6内で冷却され又凝固する。
応終了後1乃至2分間静置して溶融物を沈静化すると、
溶融金属合金の溶illと、溶融スラグI2とに分離す
る。仄いで、浴湯trと#融スラグ12との境界の若干
上刃に位置するタップ口3を開口させて、溶融スラグ1
2を流出させる。精錬により生成した沓−スラグ12の
約80%が流出した後、クツゾロ2を開口させて溶湯1
1を鋳造する。タップ口2の開口作業は、例えは、窓1
0を開けて棒材をハウジング9内に挿入し、この棒材の
先端でクツゾロ2を突き破れはよい。この開口作業後、
直ちに窓10を閉塞させてハウジング9内への大気の流
入を防止することは勿論である0慨4を介して鋳型6に
注入された溶湯11は鋳型6内で冷却され又凝固する。
そして、潤製6内の鋳塊の温度が所定の温度lで低下し
た後、@型6内へのArガスの供給を停止する。このA
rガスの供給を停止する温度は、鋳塊表面が大気中の酸
系ガ゛ス又は窒素ガスによって酸イし又は窒化を実質的
に受けなくなる温度でhり、例えば会合は約500℃で
ある。その後N ’it塊を鋳型6から取り出す。
た後、@型6内へのArガスの供給を停止する。このA
rガスの供給を停止する温度は、鋳塊表面が大気中の酸
系ガ゛ス又は窒素ガスによって酸イし又は窒化を実質的
に受けなくなる温度でhり、例えば会合は約500℃で
ある。その後N ’it塊を鋳型6から取り出す。
ところで、この実施例では、溶湯11のψJ造に先立ち
溶融スラグ12を排出するか、反応炉1内の浴湯11(
7)表面か大気との接触により汚染されることを防ぐた
め、浴湯11上に若干の溶融スラグ層を残しておく必要
かある。そして、反応炉Iを繰り返し使用するためにQ
ユ、鋳造後反応炉l内を空にする必要があるので、残留
スラグもfr湯tiと共に鋳激6内に注入せざるを得な
い。従って製品処理の段階で冷却後の鋳塊の頭部((固
化しているスラグを除去する必要かわる。
溶融スラグ12を排出するか、反応炉1内の浴湯11(
7)表面か大気との接触により汚染されることを防ぐた
め、浴湯11上に若干の溶融スラグ層を残しておく必要
かある。そして、反応炉Iを繰り返し使用するためにQ
ユ、鋳造後反応炉l内を空にする必要があるので、残留
スラグもfr湯tiと共に鋳激6内に注入せざるを得な
い。従って製品処理の段階で冷却後の鋳塊の頭部((固
化しているスラグを除去する必要かわる。
このような問題点は、炉底にスライディングノズル全設
置した反応炉を使用することにより解消することができ
る。つまり、反応終了後1乃至2分間溶融スラグZ2及
び浴湯IIを沈静化させ、次いでスライディングノズル
を開けてArガス雰囲気下に保持された鋳型内に浴湯1
1を注入する。そして、溶湯Itの注入後、一旦スライ
ディングノズルを閉じ、直ちに反応炉をスラグタラf場
に移動させ、再度スライディングノズルを開けて溶融ス
ラグ12を反応炉からり[出する。これによジ、溶融ス
ラグI2が鋳型6内に注入されてし貰うことがなく、ス
ラグ除去のための鋳塊の後処理作業を省くことができる
。
置した反応炉を使用することにより解消することができ
る。つまり、反応終了後1乃至2分間溶融スラグZ2及
び浴湯IIを沈静化させ、次いでスライディングノズル
を開けてArガス雰囲気下に保持された鋳型内に浴湯1
1を注入する。そして、溶湯Itの注入後、一旦スライ
ディングノズルを閉じ、直ちに反応炉をスラグタラf場
に移動させ、再度スライディングノズルを開けて溶融ス
ラグ12を反応炉からり[出する。これによジ、溶融ス
ラグI2が鋳型6内に注入されてし貰うことがなく、ス
ラグ除去のための鋳塊の後処理作業を省くことができる
。
なお、スライディングノズルを介して浴湯11を注入し
ている間は、スライディングノズルの上ノズル又は下ノ
ズルにArガスを吹き込んでArガスを溶湯中に吹き込
むようにすることが、溶湯の汚染防止及びノズル詰りの
防止上好ましい。
ている間は、スライディングノズルの上ノズル又は下ノ
ズルにArガスを吹き込んでArガスを溶湯中に吹き込
むようにすることが、溶湯の汚染防止及びノズル詰りの
防止上好ましい。
次に、この発明方法の実施例により得られた鋳塊品質を
、従来方法の比較例により得られた鋳塊品質と比較して
説明する。
、従来方法の比較例により得られた鋳塊品質と比較して
説明する。
実施例1及び2並びに比較例1においては、原料として
Cr205f 100 kg、At′#Lを38.9
klil 、塩素酸ソーダを8.6に9、生石灰を2
kg配合して金属Crを製造した。実施例1においては
、反応終了後1分間溶融物を沈静化させ、図面に示すよ
うな装置にて、スラグタップ口3よジ、約80係の溶融
スラグ12を排出した後、クツゾロ2を開けて浴湯11
を出湯した。t7j型6は内面をMgOクリンカーで円
の9が30 t7nX 30 cnr X40crnK
なるようにライニングしたものを使用し、溶湯11の鋳
造はArガ゛ス雰囲気下で行った。
Cr205f 100 kg、At′#Lを38.9
klil 、塩素酸ソーダを8.6に9、生石灰を2
kg配合して金属Crを製造した。実施例1においては
、反応終了後1分間溶融物を沈静化させ、図面に示すよ
うな装置にて、スラグタップ口3よジ、約80係の溶融
スラグ12を排出した後、クツゾロ2を開けて浴湯11
を出湯した。t7j型6は内面をMgOクリンカーで円
の9が30 t7nX 30 cnr X40crnK
なるようにライニングしたものを使用し、溶湯11の鋳
造はArガ゛ス雰囲気下で行った。
鋳型6内で凝固した鋳塊表面の温度が約800℃に低下
した後、この鋳塊を鋳型6から取り出した。この金F4
Crfa塊の組成は第1表に示すとおりであり、葦だ、
鋳塊中のAJaの偏析は第2表に示すとおりである。A
t偏析は極めて軽微であり、第 1 表 第 2 表 鋳塊中の酸素及び窒素含有量も低い。一方、実施例2に
おいては、スライディングノズルを装着した反応炉を使
用し、実施例1と同様の鋳型を使用した。この場合の鋳
塊の組成は第3衣に示すとおりであり、酸素及び窒素含
有量は低い。
した後、この鋳塊を鋳型6から取り出した。この金F4
Crfa塊の組成は第1表に示すとおりであり、葦だ、
鋳塊中のAJaの偏析は第2表に示すとおりである。A
t偏析は極めて軽微であり、第 1 表 第 2 表 鋳塊中の酸素及び窒素含有量も低い。一方、実施例2に
おいては、スライディングノズルを装着した反応炉を使
用し、実施例1と同様の鋳型を使用した。この場合の鋳
塊の組成は第3衣に示すとおりであり、酸素及び窒素含
有量は低い。
第 3 表
また、鋳塊中のAtの偏析も極めて軽微であった。
これらの各実施例に対し、比較例1においては、反応後
、浴湯を反応炉内で凝固させ、@造を行わなかりた。こ
の鋳塊の組成は第4表に示すとおりであり、また、鋳塊
中のAtの偏析は第5表に示すとおりである。実施例1
.2に比して、比較例1は酸素及び窒素含有量が尚い。
、浴湯を反応炉内で凝固させ、@造を行わなかりた。こ
の鋳塊の組成は第4表に示すとおりであり、また、鋳塊
中のAtの偏析は第5表に示すとおりである。実施例1
.2に比して、比較例1は酸素及び窒素含有量が尚い。
1だ、鋳塊下部のAtの@夏が高く、Atの偏析が著し
いことがわかる。
いことがわかる。
第4表
第 5 表
実施例3及び比較例2においては、原料としてV2O5
を50kg、At粒を52.5kg、生石灰を8kg配
合してAt−V母合金を製造した。スライディングノズ
ルを装着した反応炉でテルミット反応を起こさせ、反応
終了後2分間溶融物を沈静化させ、Arガス雰囲気下で
溶湯を金型のインゴットケースに鋳造した後、反応炉を
移動して溶融スラグを排出した。鋳塊赤面が約500℃
以下に低下した後、鋳塊を取ジ出した。このAt−■母
合金鋳塊の組成は第6表に示すとおりであり、なた、鋳
塊中のAtの偏析は第7表に示すとおりである。
を50kg、At粒を52.5kg、生石灰を8kg配
合してAt−V母合金を製造した。スライディングノズ
ルを装着した反応炉でテルミット反応を起こさせ、反応
終了後2分間溶融物を沈静化させ、Arガス雰囲気下で
溶湯を金型のインゴットケースに鋳造した後、反応炉を
移動して溶融スラグを排出した。鋳塊赤面が約500℃
以下に低下した後、鋳塊を取ジ出した。このAt−■母
合金鋳塊の組成は第6表に示すとおりであり、なた、鋳
塊中のAtの偏析は第7表に示すとおりである。
第 6 弄
単位、重量楚
第 7 表
単位、重量係
At偏析は極めて軽微であり、鋳塊中の酸素及び窒素含
有量も低い。また鋳塊弐面の酸化皮膜の生成も極めて僅
かであり、均−性及び清浄度が優れた高品質の鋳塊が得
られた。これに対し、比較例2においては、実施例3と
同〒配合量の原料を反応させた後、反応IF内で冷却し
て凝固させた。この場合の、鋳塊組成及びAt偏析は夫
夫第8表及び第9表に示すとおりでるる。
有量も低い。また鋳塊弐面の酸化皮膜の生成も極めて僅
かであり、均−性及び清浄度が優れた高品質の鋳塊が得
られた。これに対し、比較例2においては、実施例3と
同〒配合量の原料を反応させた後、反応IF内で冷却し
て凝固させた。この場合の、鋳塊組成及びAt偏析は夫
夫第8表及び第9表に示すとおりでるる。
第 8 表
単位、重量饅
第 9 表
単位、重量%
比較例2においては、実施例3に比して、鋳塊の酸素及
び窒素含有量は尚く、またAt含有蓋のばらつきも大き
く偏析が太きい。
び窒素含有量は尚く、またAt含有蓋のばらつきも大き
く偏析が太きい。
一方、実施例4においては、フェロバナジウム合金を製
造した。v205ヲ200k17、At粒を110kl
iJ、小鉄板を85kg、生石灰を5kg配合した原料
を実施例3と同様にして精錬し、金型インゴットケース
に鋳造した。このフェロバナジウム合金鋳塊の組成及び
AA偏析は夫々第10表及び第11表に示すとおりであ
る。
造した。v205ヲ200k17、At粒を110kl
iJ、小鉄板を85kg、生石灰を5kg配合した原料
を実施例3と同様にして精錬し、金型インゴットケース
に鋳造した。このフェロバナジウム合金鋳塊の組成及び
AA偏析は夫々第10表及び第11表に示すとおりであ
る。
第 10 表
単位、重量ヴ
第11表
表から明らかな如く、Atの偏析は極めて軽微である。
以上、詳細に説明した如く、この九明によれは、テルミ
ット反応による精錬後の溶融金厩舎金を、不活性ガス雰
囲気下で鋳造容器に鋳造することにより、鋳塊をイむる
から、冷却速度が迷いので偏析が軽微である均質の鋳塊
を得ることができる。しかも、大気による汚染の影響は
受けず、鋳塊の酸素含有値及び蟹累含有紫は従来と同水
準にあるか、又は従来よりも低値となっている。そして
、反応終了後は反応炉内が空になっているので、炉体を
解体する必戟はなく、必要に応じて炉体のライニングの
一部を補修するだけで反応炉を次項の精錬に繰り返し使
用することができるから、反応炉の構築及び鋳塊表面の
伺涜ライニング除去等の作業が不要となり、生産性を著
しく高めることができる。このように、この発明はテル
ミット法による金属合金の製造に極めて優れた効果を奏
する。
ット反応による精錬後の溶融金厩舎金を、不活性ガス雰
囲気下で鋳造容器に鋳造することにより、鋳塊をイむる
から、冷却速度が迷いので偏析が軽微である均質の鋳塊
を得ることができる。しかも、大気による汚染の影響は
受けず、鋳塊の酸素含有値及び蟹累含有紫は従来と同水
準にあるか、又は従来よりも低値となっている。そして
、反応終了後は反応炉内が空になっているので、炉体を
解体する必戟はなく、必要に応じて炉体のライニングの
一部を補修するだけで反応炉を次項の精錬に繰り返し使
用することができるから、反応炉の構築及び鋳塊表面の
伺涜ライニング除去等の作業が不要となり、生産性を著
しく高めることができる。このように、この発明はテル
ミット法による金属合金の製造に極めて優れた効果を奏
する。
図面はこの発明の一実施例の実施状態を説明する模式図
である。 l・・・反応炉、2,3・・・タップ口、4・・・樋、
6・・・鋳型、8・・・供給・そイブ。
である。 l・・・反応炉、2,3・・・タップ口、4・・・樋、
6・・・鋳型、8・・・供給・そイブ。
Claims (3)
- (1)酸化物及び還元剤を含む原料を反応炉に装入して
テルミット反応により精錬し、精錬後の金椙合金の溶湯
を不活性ガ゛ス雰囲気下で鋳造容器に鋳造することを特
徴とするテルミット法による金属合金の製造方法。 - (2)反応炉に設けた溶湯注出口から、樋を通流させて
鋳造容器に溶湯を送給し、溶湯注出口から樋を経て鋳造
容器に至る溶湯の通過域をハウジングで覆い、このハウ
ジング内に不活性ガスを供給することを特徴とする特許
請求の範囲第1項に記載のテルミット法による金属合金
の製造方法。 - (3)反応炉に設けたスライディングノズルから鋳造容
器に溶湯を注入し、スライディングノズルから鋳造容器
に至る溶湯の通過域をハウジングで覆い、このハウジン
グ内に不活性ガスを供給することを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載のテルミット法による金属合金の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15760983A JPS6050129A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | テルミット法による金属合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15760983A JPS6050129A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | テルミット法による金属合金の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6050129A true JPS6050129A (ja) | 1985-03-19 |
Family
ID=15653464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15760983A Pending JPS6050129A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | テルミット法による金属合金の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6050129A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6289805A (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-24 | Shinko Kagaku Kogyo Kk | テルミツト法による粒状合金の製造法 |
JP2003013153A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Taiyo Koko Co Ltd | バナジウム材料の製造方法 |
JP4870906B2 (ja) * | 2002-01-21 | 2012-02-08 | ドゥラショー エス.アー. | 穿孔された側壁のある坩堝を用いてクロムのような金属要素を還元する製造方法 |
CN103484676A (zh) * | 2013-08-23 | 2014-01-01 | 大连融德特种材料有限公司 | 一种中间合金铝热还原反应后的处理方法 |
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JPS5610453U (ja) * | 1979-07-03 | 1981-01-29 |
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1983
- 1983-08-29 JP JP15760983A patent/JPS6050129A/ja active Pending
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