JPS6047214B2 - 光フアイバ用母材の製造装置 - Google Patents
光フアイバ用母材の製造装置Info
- Publication number
- JPS6047214B2 JPS6047214B2 JP50778A JP50778A JPS6047214B2 JP S6047214 B2 JPS6047214 B2 JP S6047214B2 JP 50778 A JP50778 A JP 50778A JP 50778 A JP50778 A JP 50778A JP S6047214 B2 JPS6047214 B2 JP S6047214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction vessel
- optical fiber
- heating furnace
- base material
- dehydration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイバ用母材を連続的に製造する装置に
おいて、製造される光ファイバ母材中に残留する水分の
量を低減する光ファイバ用母材の製造装置の改良に関す
るものてある。
おいて、製造される光ファイバ母材中に残留する水分の
量を低減する光ファイバ用母材の製造装置の改良に関す
るものてある。
従来のこの種の装置は第１図に示すように、回転しな
がら上方に移動する石英ガラスなどの耐火物て作られた
出発棒１１の先端に、四塩化シリコン、四塩化ゲルマニ
ューム、Ξ塩化リン、三塩化ホウ素などのガラス原料を
気体状態で、水素、メタン、プロパン、一酸化炭素など
の可燃性ガスを燃焼させるバーナ１２の火炎中に吹き込
み、加水分解反応または酸化反応により生成されるガラ
ス微粒子を吹き付け、多孔質ガラス母材１３を棒状に成
長させた後、上方に設けられた加熱炉１４へ順次連続的
に挿入し、１４００〜１７００℃に該多孔質ガラス母材
を加熱脱泡することにより、透明な光ファイバ用母材を
作るものである（特願昭５１−６０４７４号）。
がら上方に移動する石英ガラスなどの耐火物て作られた
出発棒１１の先端に、四塩化シリコン、四塩化ゲルマニ
ューム、Ξ塩化リン、三塩化ホウ素などのガラス原料を
気体状態で、水素、メタン、プロパン、一酸化炭素など
の可燃性ガスを燃焼させるバーナ１２の火炎中に吹き込
み、加水分解反応または酸化反応により生成されるガラ
ス微粒子を吹き付け、多孔質ガラス母材１３を棒状に成
長させた後、上方に設けられた加熱炉１４へ順次連続的
に挿入し、１４００〜１７００℃に該多孔質ガラス母材
を加熱脱泡することにより、透明な光ファイバ用母材を
作るものである（特願昭５１−６０４７４号）。
この製法では可燃性ガス、ガラス原料中に含まれる水
素が燃焼してできる水が多孔質ガラス中に入り、透明な
光ファイバ用母材にした後にも、その水分の一部がガラ
ス中に残留し、光ファイバの伝送損失を増加させる。
素が燃焼してできる水が多孔質ガラス中に入り、透明な
光ファイバ用母材にした後にも、その水分の一部がガラ
ス中に残留し、光ファイバの伝送損失を増加させる。
第２図はこのような製法による光ファイバ用母材から作
られた光ファイバの分光伝送損失特性図で、矢印て示し
たところは水による吸収損失を示しており、水によつて
波長が０．９５ミクンに大きな吸収があることがわかる
。
られた光ファイバの分光伝送損失特性図で、矢印て示し
たところは水による吸収損失を示しており、水によつて
波長が０．９５ミクンに大きな吸収があることがわかる
。
本発明は多孔質母材からの脱水の処理を行うには、透明
ガラス化と同時ではなく、多孔質母材の状態で行うこと
が有利であり、またこの段階での脱水処理によれば、塩
素等の脱水剤を用いなくとも、比較的低損失な光ファイ
バが得られることの認識から生まれたものである。
ガラス化と同時ではなく、多孔質母材の状態で行うこと
が有利であり、またこの段階での脱水処理によれば、塩
素等の脱水剤を用いなくとも、比較的低損失な光ファイ
バが得られることの認識から生まれたものである。
本発明は前述の欠点を解決するため、多孔質母材を透明
ガラス化する前の処理として、乾燥または減圧の雰囲気
の加熱領域を通過させることにより、水分の含まれる多
孔質母材から水分を除去するようにしたものである。
ガラス化する前の処理として、乾燥または減圧の雰囲気
の加熱領域を通過させることにより、水分の含まれる多
孔質母材から水分を除去するようにしたものである。
以下図面により本発明の詳細な説明する。第３図は本発
明の一実施例図てあつて、多孔質ガラス３３を成長させ
る反応容器３５と、これを加熱溶融し、脱泡させる加熱
炉３４との間に、脱水用加熱炉３６を設けてある。
明の一実施例図てあつて、多孔質ガラス３３を成長させ
る反応容器３５と、これを加熱溶融し、脱泡させる加熱
炉３４との間に、脱水用加熱炉３６を設けてある。
加熱炉３６の設定温度は、多孔質母材が透明化する温度
以下であり、通常６００〜１２００℃に設定される。
以下であり、通常６００〜１２００℃に設定される。
加熱と同時にガス流入口３７より、液体チッ素から蒸発
させて作られるような乾燥したガスを流入し、反応容器
３５と加熱炉３６の間にある３容器３８内に多孔質母材
３３から蒸発した水蒸気、塩素、塩化水素などと共に、
前記乾燥したガスを排気口３９より流出させる。通常、
乾燥ガスの流量は５ｅ／分〜３０ｅ／分て著しい効果が
あつた。
３．たとえば第３図の実施例において、多孔質ガラス
３３を毎分１ｗｍの割合で軸方向に形成し、これを加熱
された該脱水用加熱炉３６中へ順次送り込み脱水処理を
行う。該加熱炉中へは乾燥ガス流入口３７から毎分５４
Ｃ１のチッ素ガスを流入し、該多孔質ガラス３３を該チ
ッ素ガスにさらした。
させて作られるような乾燥したガスを流入し、反応容器
３５と加熱炉３６の間にある３容器３８内に多孔質母材
３３から蒸発した水蒸気、塩素、塩化水素などと共に、
前記乾燥したガスを排気口３９より流出させる。通常、
乾燥ガスの流量は５ｅ／分〜３０ｅ／分て著しい効果が
あつた。
３．たとえば第３図の実施例において、多孔質ガラス
３３を毎分１ｗｍの割合で軸方向に形成し、これを加熱
された該脱水用加熱炉３６中へ順次送り込み脱水処理を
行う。該加熱炉中へは乾燥ガス流入口３７から毎分５４
Ｃ１のチッ素ガスを流入し、該多孔質ガラス３３を該チ
ッ素ガスにさらした。
この場合、該加熱炉の長さを３００ＷｒＩｎとすると、
該多孔質ガラス３３は約５時間、乾燥ガスにさらされる
こととなる。この後、上部に設置された加熱炉３４内に
おいて、透−明ガラス化した。透明ガラス化した後、得
られたガラス体中の０Ｈ基含有量を計測した結果、表１
のような関係が得られた。第２の実施例は、第３図と同
一の装置で乾燥ガス流入口３７を密閉し、排気口３９よ
り真空ポンプで容器３８内を減圧したが、同様の効果が
あつた。
該多孔質ガラス３３は約５時間、乾燥ガスにさらされる
こととなる。この後、上部に設置された加熱炉３４内に
おいて、透−明ガラス化した。透明ガラス化した後、得
られたガラス体中の０Ｈ基含有量を計測した結果、表１
のような関係が得られた。第２の実施例は、第３図と同
一の装置で乾燥ガス流入口３７を密閉し、排気口３９よ
り真空ポンプで容器３８内を減圧したが、同様の効果が
あつた。
第４図はこのような処理をした母材から作られた光ファ
イバの分光損失特性図であり、水による吸収ピークが低
減していることがわかる。
イバの分光損失特性図であり、水による吸収ピークが低
減していることがわかる。
また脱水剤を用いないので、残留する塩素の影響による
光ファイバの機械的な強度の劣化もなかつた。
光ファイバの機械的な強度の劣化もなかつた。
なお本発明による光ファイバ用母材の製造装置は光ファ
イバ用母材の製造に限らず、高純度合成ガラスの製造装
置としても有効であることは明らかである。
イバ用母材の製造に限らず、高純度合成ガラスの製造装
置としても有効であることは明らかである。
第１図は従来の光ファイバ用母材の製造装置の断面図、
第２図は従来の光ファイバの分光伝送損失特性図、第３
図は本発明の一実施例図、第４図は本発明装置により製
造した光ファイバ用母材から作製した光ファイバの分光
伝送損失特性図である。 ３１・・・・・・出発棒、３２・・・・・・バーナ、３
３・・・・・・多化質ガラス、３４・・・・・・加熱炉
、３５・・・・・・反応容召、３６・・・・・・脱水用
加熱炉、３７・・・・・・乾燥ガス流人口、３８・・・
・・・容器、３９・・・・・・排気口。
第２図は従来の光ファイバの分光伝送損失特性図、第３
図は本発明の一実施例図、第４図は本発明装置により製
造した光ファイバ用母材から作製した光ファイバの分光
伝送損失特性図である。 ３１・・・・・・出発棒、３２・・・・・・バーナ、３
３・・・・・・多化質ガラス、３４・・・・・・加熱炉
、３５・・・・・・反応容召、３６・・・・・・脱水用
加熱炉、３７・・・・・・乾燥ガス流人口、３８・・・
・・・容器、３９・・・・・・排気口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 反応容器と、該反応容器内に回転・引上げ可能に保
持された出発棒と、該出発棒の先端にガラス微粒子を堆
積させるためのガラス微粒子合成用バーナと、該バーナ
へガラス原料および可燃性ガスを供給する供給系と、前
記反応容器に備えられ、反応容器内で生ずるガスを排出
する排気系とを備えた光ファイバ用母材の製造装置にお
いて、成長する多孔質母材の引上げ軸方向に沿つて脱水
用加熱炉、透明ガラス化用加熱炉を設け、脱水用加熱炉
の加熱領域に、乾燥ガスを送り込む乾燥ガス流入口と、
該乾燥ガスを排出する排気口を備えたことを特徴とする
光ファイバ用母材の製造装置。 ２ 反応容器と、該反応容器内に回転・引上げ可能に保
持された出発棒と、該出発棒の先端にガラス微粒子を堆
積させるためのガラス微粒子合成用バーナと、該バーナ
へガラス原料および可燃性ガスを供給する供給系と、前
記反応容器に備えられ、反応容器内で生ずるガスを排出
する排気系とを備えた光ファイバ用母材の製造装置にお
いて、成長する多孔質母材の引上げ軸方向に沿つて脱水
用加熱炉、透明ガラス化用加熱炉を設け、脱水用加熱炉
の加熱領域を減圧するための排気口と真空ポンプを備え
たことを特徴とする光ファイバ用母材の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50778A JPS6047214B2 (ja) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | 光フアイバ用母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50778A JPS6047214B2 (ja) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | 光フアイバ用母材の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5494050A JPS5494050A (en) | 1979-07-25 |
| JPS6047214B2 true JPS6047214B2 (ja) | 1985-10-21 |
Family
ID=11475672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50778A Expired JPS6047214B2 (ja) | 1978-01-09 | 1978-01-09 | 光フアイバ用母材の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6047214B2 (ja) |
-
1978
- 1978-01-09 JP JP50778A patent/JPS6047214B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5494050A (en) | 1979-07-25 |
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