JPS6044025A - ドライエッチング排ガスの処理方法 - Google Patents
ドライエッチング排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPS6044025A JPS6044025A JP58151076A JP15107683A JPS6044025A JP S6044025 A JPS6044025 A JP S6044025A JP 58151076 A JP58151076 A JP 58151076A JP 15107683 A JP15107683 A JP 15107683A JP S6044025 A JPS6044025 A JP S6044025A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry etching
- pump
- bcl3
- exhaust gas
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主としてアルミニウムのドライエツチングに使
用される三塩化はう素のドライエツチング、排ガスの処
理方法に関する。
用される三塩化はう素のドライエツチング、排ガスの処
理方法に関する。
近年、集積回路の微細化の要求は高まるばかりで、その
エツチング工程はドライエツチング化の方向にある。半
導体素子の配線として用いられるアルミニウムのエツチ
ングも、燐酸、硝酸、酢酸屹4“ 混合液等によるウェットエツチングから1・1L:塩化
はう素(B(J3)を主体とし九ガスのプラズマによる
ドライエツチングが用いられるようになった。
エツチング工程はドライエツチング化の方向にある。半
導体素子の配線として用いられるアルミニウムのエツチ
ングも、燐酸、硝酸、酢酸屹4“ 混合液等によるウェットエツチングから1・1L:塩化
はう素(B(J3)を主体とし九ガスのプラズマによる
ドライエツチングが用いられるようになった。
上記BC鳥を塩素の供給源として用いると、ハロゲン化
カーボンガスを用いた場合に起る重合膜のような膜の発
生は認められず、またB(J31.よエツチングを妨害
するM酸化物の還元剤としても有効で、さらに微量の水
分を除去する等優れた性質を有すが、一方エッチング速
度が遅い欠点があった。しかし、BC,83とC(J
4 または0石2との混合ガスを用いてドライエツチン
グする方法が開発され、上記欠点が解消された。
カーボンガスを用いた場合に起る重合膜のような膜の発
生は認められず、またB(J31.よエツチングを妨害
するM酸化物の還元剤としても有効で、さらに微量の水
分を除去する等優れた性質を有すが、一方エッチング速
度が遅い欠点があった。しかし、BC,83とC(J
4 または0石2との混合ガスを用いてドライエツチン
グする方法が開発され、上記欠点が解消された。
ところで、B(J3を用いてドライエツチングを行なう
と、在住にしてドライエツチング室に接続された、拡散
ポンプ或はメカニカルブースタポンプとロータリポンプ
とを直列に配置した排気系、特にロータリポンプの出口
ラインが詰り、真空度の安定性が阻害される事故が発生
した。
と、在住にしてドライエツチング室に接続された、拡散
ポンプ或はメカニカルブースタポンプとロータリポンプ
とを直列に配置した排気系、特にロータリポンプの出口
ラインが詰り、真空度の安定性が阻害される事故が発生
した。
本発明者等は、上記の問題を解決すベズ、鋭意研究した
結果、ガス中のB(J、は水分が存在すると、 BCl3+3H20→H3BO3+3HC,t3の化学
式に示すように加水分解して、H2SO4のフユームを
生じ、このフユームは付着し易く、容易には水、アルカ
リ等の液体によって捕集されないことを知見するととも
に、微量の外気が吸引されて系内に洩れ込み、その含有
する水分によってH2SO4が発生し、詰りを生ずるも
のと推定した。
結果、ガス中のB(J、は水分が存在すると、 BCl3+3H20→H3BO3+3HC,t3の化学
式に示すように加水分解して、H2SO4のフユームを
生じ、このフユームは付着し易く、容易には水、アルカ
リ等の液体によって捕集されないことを知見するととも
に、微量の外気が吸引されて系内に洩れ込み、その含有
する水分によってH2SO4が発生し、詰りを生ずるも
のと推定した。
この推定に基づいて外気洩れの発生しそうな場所を探索
した結果、上記ロータリポンプの回転軸シール部が微量
の外気を吸込む可能のあることが判明した。
した結果、上記ロータリポンプの回転軸シール部が微量
の外気を吸込む可能のあることが判明した。
そのため、この部分の洩れを完全に防止すべく、種々な
方法を検討、実施したが排気系の詰りを防止することは
出来なかった。そこで、a−タリボンプに近接した出口
ラインに並列にフィルタを設置し、交互に使用して発生
する■■3B03 フユームの除去をこころみ、排気系
の詰りを防止することが出来た。しかし、この方法はフ
ィルタの圧損失が大きく、大きな動力を必要とするので
経済性に劣り、さらにフィルタの交換頻度が多く、実用
的な方法でなかった。
方法を検討、実施したが排気系の詰りを防止することは
出来なかった。そこで、a−タリボンプに近接した出口
ラインに並列にフィルタを設置し、交互に使用して発生
する■■3B03 フユームの除去をこころみ、排気系
の詰りを防止することが出来た。しかし、この方法はフ
ィルタの圧損失が大きく、大きな動力を必要とするので
経済性に劣り、さらにフィルタの交換頻度が多く、実用
的な方法でなかった。
本発明は上記の事情に鑑み、容易に水分の洩れ込みが防
止され、ト°ライエツチング室の真空度の安定性を保ち
、かつB(J、が外部に排出されない方法を提供するこ
とを目的とするもので、その要旨は、BC,733を用
いるドライエツチング排ガスの処理方法において、排気
系の、回転軸を有する真空ポンプを乾燥ガス雰囲気中に
保持し、かつ上記ポンプの排気ガスをB(J、の吸着剤
を通して排出するドライエツチング排ガスの処理方法に
ある。
止され、ト°ライエツチング室の真空度の安定性を保ち
、かつB(J、が外部に排出されない方法を提供するこ
とを目的とするもので、その要旨は、BC,733を用
いるドライエツチング排ガスの処理方法において、排気
系の、回転軸を有する真空ポンプを乾燥ガス雰囲気中に
保持し、かつ上記ポンプの排気ガスをB(J、の吸着剤
を通して排出するドライエツチング排ガスの処理方法に
ある。
以下本発明の方法を図面を参照して説明する。
図面は、本発明の方法を実施する装置の一例を示すもの
で、図中符号1はト°ライエツチング室である。ドライ
エツチング室1は、拡散ポンプまたはメカニカルブース
タポンプ2と、ロータリポンプ3とが直列に配置された
排気系4によって高真空に保持されている。このロータ
リポンプ3の出口ライン3aにはB(J3 の吸着剤が
充填されている吸着塔5が並列に設けられ交互に切換え
使用出来るようになっている。上記吸着剤としては、通
常、活性炭、モレキュラシーブ4A、5A。
で、図中符号1はト°ライエツチング室である。ドライ
エツチング室1は、拡散ポンプまたはメカニカルブース
タポンプ2と、ロータリポンプ3とが直列に配置された
排気系4によって高真空に保持されている。このロータ
リポンプ3の出口ライン3aにはB(J3 の吸着剤が
充填されている吸着塔5が並列に設けられ交互に切換え
使用出来るようになっている。上記吸着剤としては、通
常、活性炭、モレキュラシーブ4A、5A。
13X1天然ゼオライト等が用いられる。
また、上記ロータリポンプ3のケーシング3bには、完
全に乾燥され、油、 BC,63,CCJ、またはC1
□ に対して不活性な不燃性ガス(例えばN2 ガス)
6の導入ライン6aが接続され、a−タリボンプ3の回
転軸受は部分が上記ガス雰囲気中に保持されるように小
量連続導入され、排気管6bより放出されている。
全に乾燥され、油、 BC,63,CCJ、またはC1
□ に対して不活性な不燃性ガス(例えばN2 ガス)
6の導入ライン6aが接続され、a−タリボンプ3の回
転軸受は部分が上記ガス雰囲気中に保持されるように小
量連続導入され、排気管6bより放出されている。
本発明に係るト°ライエツチング装置は、上記のように
構成されているので、ドライエツチング室1に導入され
た、B(J3 、C(J4 または0石2は排気系4よ
り吸引排出されるが、a−タリボンプ3より洩れ込む外
気は、完全に乾燥されており、かっBCJ 、 C(J
またはC1゜等に対して不4 活性であるため、B(J3は、H2SO4になることな
く、そのまま排出され、常圧に保持されている吸着塔5
において除去される。また上記吸着塔5内の吸着剤はc
ci、、 ci□ も吸着するので、これらの薬剤が外
部に放出されることがない。
構成されているので、ドライエツチング室1に導入され
た、B(J3 、C(J4 または0石2は排気系4よ
り吸引排出されるが、a−タリボンプ3より洩れ込む外
気は、完全に乾燥されており、かっBCJ 、 C(J
またはC1゜等に対して不4 活性であるため、B(J3は、H2SO4になることな
く、そのまま排出され、常圧に保持されている吸着塔5
において除去される。また上記吸着塔5内の吸着剤はc
ci、、 ci□ も吸着するので、これらの薬剤が外
部に放出されることがない。
なお、メカニカルシールブースタポンプは外気の洩れ込
みは認められなかったが、回転軸を有するので、このポ
ンプも乾燥ガス雰囲気に保持してもよい。
みは認められなかったが、回転軸を有するので、このポ
ンプも乾燥ガス雰囲気に保持してもよい。
次に実施例および比較例を示して本発明の方法を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例1
日型アネルバ製1t、n−4oozpライエツチング装
置を用い、ドライエツチング室にB(J3 。
置を用い、ドライエツチング室にB(J3 。
CC,84を標準状態(以下ガス量は標準状態で示す)
でそれぞれ100 CA / rni nで流し、圧力
ニ10ノ(スカル(P )、RF電源電カニ7QOWと
し、またロータリポンプのケーシングにN2 を20勇
/hr流し、1soBφ、の吸着塔にヤシガラ炭500
+uIH充填して幻のVライエツチングの連続運転を行
なった。その結果ロータリーポンプの出口の空気混合量
は、0.1 vol 4以下で、吸着塔出口ニオけるB
C−C3,CC−04ノ濃iは、12時間にわたってO
を示し、その後B(J 3がI PPm 検出されたが
、排気系のつまりは全くな゛かった。さらに3hr運転
した後、a−タリーポンプ出口ラインの内面を調べたが
H2PO4の付着は殆ど認められなかった。
でそれぞれ100 CA / rni nで流し、圧力
ニ10ノ(スカル(P )、RF電源電カニ7QOWと
し、またロータリポンプのケーシングにN2 を20勇
/hr流し、1soBφ、の吸着塔にヤシガラ炭500
+uIH充填して幻のVライエツチングの連続運転を行
なった。その結果ロータリーポンプの出口の空気混合量
は、0.1 vol 4以下で、吸着塔出口ニオけるB
C−C3,CC−04ノ濃iは、12時間にわたってO
を示し、その後B(J 3がI PPm 検出されたが
、排気系のつまりは全くな゛かった。さらに3hr運転
した後、a−タリーポンプ出口ラインの内面を調べたが
H2PO4の付着は殆ど認められなかった。
実施例2
ドライエツチング室にBCJ33. (J。ガスをそれ
ぞれ、150 QC/ mln 、 30 QQ/ m
in 導入し、吸着塔にモレキュラシーブ13Xを75
0mH充填した外は、実施例1と同じにして)J3のド
ライエツチングを行なった。その結果、ロータリポンプ
出口における空気混入量はO−1vol %以下であり
、また、吸着塔出口におけるBCJ38.C−e2の濃
度は20 hr にわたって0で、その後BCJ3がi
ppm 検出されたが、排気系の詰りはなかった。さら
に3hr運転した後、ロータリポンプ出口ラインの内面
を調べたがH2PO4の付着は殆ど認められなかった。
ぞれ、150 QC/ mln 、 30 QQ/ m
in 導入し、吸着塔にモレキュラシーブ13Xを75
0mH充填した外は、実施例1と同じにして)J3のド
ライエツチングを行なった。その結果、ロータリポンプ
出口における空気混入量はO−1vol %以下であり
、また、吸着塔出口におけるBCJ38.C−e2の濃
度は20 hr にわたって0で、その後BCJ3がi
ppm 検出されたが、排気系の詰りはなかった。さら
に3hr運転した後、ロータリポンプ出口ラインの内面
を調べたがH2PO4の付着は殆ど認められなかった。
比較例1
実施例1と同じドライエツチング装置を用い、B(J3
: 170QQ/min 、 CC−e4:l 10
1jl−/min流し、圧力ニ 11.5Pa、 RF
l源電カニ700WでMのドライエツチングを行ない、
排ガスをスプレィ方式の水洗塔に導き600−g/hr
のスプレィ水によって洗浄した。運転開始後2hrで排
気系に詰りの発生が認められた。ただちに運転を中止し
、ロータリポンプ出口ラインを調べたところ相当量のH
2PO4の付着が認められた。また、この間上記洗浄塔
により捕集されたB(J、(H2PO4)は約5係、C
C,,64の除去率は1係であった。
: 170QQ/min 、 CC−e4:l 10
1jl−/min流し、圧力ニ 11.5Pa、 RF
l源電カニ700WでMのドライエツチングを行ない、
排ガスをスプレィ方式の水洗塔に導き600−g/hr
のスプレィ水によって洗浄した。運転開始後2hrで排
気系に詰りの発生が認められた。ただちに運転を中止し
、ロータリポンプ出口ラインを調べたところ相当量のH
2PO4の付着が認められた。また、この間上記洗浄塔
により捕集されたB(J、(H2PO4)は約5係、C
C,,64の除去率は1係であった。
以上述べたように、本発明の方法は、容易に排気系ノツ
マリオヨびB(J3. cc、64tりはC,e2の外
気放出を完全に防止することが出来るので、これら薬剤
を使用するドライエツチングに、極めて有効に使用出来
る。
マリオヨびB(J3. cc、64tりはC,e2の外
気放出を完全に防止することが出来るので、これら薬剤
を使用するドライエツチングに、極めて有効に使用出来
る。
図面は本発明の方法を実施する装置)a−の−例を示す
図である。 1・・・・・・ドライエツチング室、2・・・・・・拡
散ポンプまたはメカニカルブースタポンプ、3・・・・
・・ロータリポンプ、3a・・・・・・出口ライン、3
b・・・・・・ケーシング、4・・・・・・排気系、5
・・・・・・吸着塔、6・・・・・・N2 ガス、6a
・・・・・・導入ライン、6b・・・・・・排出管。
図である。 1・・・・・・ドライエツチング室、2・・・・・・拡
散ポンプまたはメカニカルブースタポンプ、3・・・・
・・ロータリポンプ、3a・・・・・・出口ライン、3
b・・・・・・ケーシング、4・・・・・・排気系、5
・・・・・・吸着塔、6・・・・・・N2 ガス、6a
・・・・・・導入ライン、6b・・・・・・排出管。
Claims (1)
- 三塩化はう素を用いるドライエツチング排ガスの処理方
法において排気系の1回転軸を有する真空ポンプを乾燥
ガス雰囲気中に保持し、かつ上記ポンプの排気ガスを三
塩化はう素の吸着剤を通して排出することを特徴とする
ドライエツチング排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58151076A JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58151076A JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6044025A true JPS6044025A (ja) | 1985-03-08 |
JPS6116492B2 JPS6116492B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=15510783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58151076A Granted JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6044025A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0314299A2 (en) * | 1987-09-25 | 1989-05-03 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for treating waste gas from semiconductor manufacturing process |
CN104619401A (zh) * | 2013-06-25 | 2015-05-13 | 帕恩泰株式会社 | 全氟化合的分离及回收*** |
CN109695891A (zh) * | 2018-05-30 | 2019-04-30 | 中电华创(苏州)电力技术研究有限公司 | 一种分仓回转式净化器及烟气净化*** |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP58151076A patent/JPS6044025A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0314299A2 (en) * | 1987-09-25 | 1989-05-03 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for treating waste gas from semiconductor manufacturing process |
CN104619401A (zh) * | 2013-06-25 | 2015-05-13 | 帕恩泰株式会社 | 全氟化合的分离及回收*** |
CN109695891A (zh) * | 2018-05-30 | 2019-04-30 | 中电华创(苏州)电力技术研究有限公司 | 一种分仓回转式净化器及烟气净化*** |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6116492B2 (ja) | 1986-04-30 |
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