JPS6044025A - ドライエッチング排ガスの処理方法 - Google Patents
ドライエッチング排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPS6044025A JPS6044025A JP58151076A JP15107683A JPS6044025A JP S6044025 A JPS6044025 A JP S6044025A JP 58151076 A JP58151076 A JP 58151076A JP 15107683 A JP15107683 A JP 15107683A JP S6044025 A JPS6044025 A JP S6044025A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry etching
- pump
- bcl3
- exhaust gas
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主としてアルミニウムのドライエツチングに使
用される三塩化はう素のドライエツチング、排ガスの処
理方法に関する。
用される三塩化はう素のドライエツチング、排ガスの処
理方法に関する。
近年、集積回路の微細化の要求は高まるばかりで、その
エツチング工程はドライエツチング化の方向にある。半
導体素子の配線として用いられるアルミニウムのエツチ
ングも、燐酸、硝酸、酢酸屹４“ 混合液等によるウェットエツチングから１・１Ｌ：塩化
はう素（Ｂ（Ｊ３）を主体とし九ガスのプラズマによる
ドライエツチングが用いられるようになった。
エツチング工程はドライエツチング化の方向にある。半
導体素子の配線として用いられるアルミニウムのエツチ
ングも、燐酸、硝酸、酢酸屹４“ 混合液等によるウェットエツチングから１・１Ｌ：塩化
はう素（Ｂ（Ｊ３）を主体とし九ガスのプラズマによる
ドライエツチングが用いられるようになった。
上記ＢＣ鳥を塩素の供給源として用いると、ハロゲン化
カーボンガスを用いた場合に起る重合膜のような膜の発
生は認められず、またＢ（Ｊ３１．よエツチングを妨害
するＭ酸化物の還元剤としても有効で、さらに微量の水
分を除去する等優れた性質を有すが、一方エッチング速
度が遅い欠点があった。しかし、ＢＣ，８３とＣ（Ｊ
４ または０石２との混合ガスを用いてドライエツチン
グする方法が開発され、上記欠点が解消された。
カーボンガスを用いた場合に起る重合膜のような膜の発
生は認められず、またＢ（Ｊ３１．よエツチングを妨害
するＭ酸化物の還元剤としても有効で、さらに微量の水
分を除去する等優れた性質を有すが、一方エッチング速
度が遅い欠点があった。しかし、ＢＣ，８３とＣ（Ｊ
４ または０石２との混合ガスを用いてドライエツチン
グする方法が開発され、上記欠点が解消された。
ところで、Ｂ（Ｊ３を用いてドライエツチングを行なう
と、在住にしてドライエツチング室に接続された、拡散
ポンプ或はメカニカルブースタポンプとロータリポンプ
とを直列に配置した排気系、特にロータリポンプの出口
ラインが詰り、真空度の安定性が阻害される事故が発生
した。
と、在住にしてドライエツチング室に接続された、拡散
ポンプ或はメカニカルブースタポンプとロータリポンプ
とを直列に配置した排気系、特にロータリポンプの出口
ラインが詰り、真空度の安定性が阻害される事故が発生
した。
本発明者等は、上記の問題を解決すベズ、鋭意研究した
結果、ガス中のＢ（Ｊ、は水分が存在すると、 ＢＣｌ３＋３Ｈ２０→Ｈ３ＢＯ３＋３ＨＣ，ｔ３の化学
式に示すように加水分解して、Ｈ２ＳＯ４のフユームを
生じ、このフユームは付着し易く、容易には水、アルカ
リ等の液体によって捕集されないことを知見するととも
に、微量の外気が吸引されて系内に洩れ込み、その含有
する水分によってＨ２ＳＯ４が発生し、詰りを生ずるも
のと推定した。
結果、ガス中のＢ（Ｊ、は水分が存在すると、 ＢＣｌ３＋３Ｈ２０→Ｈ３ＢＯ３＋３ＨＣ，ｔ３の化学
式に示すように加水分解して、Ｈ２ＳＯ４のフユームを
生じ、このフユームは付着し易く、容易には水、アルカ
リ等の液体によって捕集されないことを知見するととも
に、微量の外気が吸引されて系内に洩れ込み、その含有
する水分によってＨ２ＳＯ４が発生し、詰りを生ずるも
のと推定した。
この推定に基づいて外気洩れの発生しそうな場所を探索
した結果、上記ロータリポンプの回転軸シール部が微量
の外気を吸込む可能のあることが判明した。
した結果、上記ロータリポンプの回転軸シール部が微量
の外気を吸込む可能のあることが判明した。
そのため、この部分の洩れを完全に防止すべく、種々な
方法を検討、実施したが排気系の詰りを防止することは
出来なかった。そこで、ａ−タリボンプに近接した出口
ラインに並列にフィルタを設置し、交互に使用して発生
する■■３Ｂ０３ フユームの除去をこころみ、排気系
の詰りを防止することが出来た。しかし、この方法はフ
ィルタの圧損失が大きく、大きな動力を必要とするので
経済性に劣り、さらにフィルタの交換頻度が多く、実用
的な方法でなかった。
方法を検討、実施したが排気系の詰りを防止することは
出来なかった。そこで、ａ−タリボンプに近接した出口
ラインに並列にフィルタを設置し、交互に使用して発生
する■■３Ｂ０３ フユームの除去をこころみ、排気系
の詰りを防止することが出来た。しかし、この方法はフ
ィルタの圧損失が大きく、大きな動力を必要とするので
経済性に劣り、さらにフィルタの交換頻度が多く、実用
的な方法でなかった。
本発明は上記の事情に鑑み、容易に水分の洩れ込みが防
止され、ト°ライエツチング室の真空度の安定性を保ち
、かつＢ（Ｊ、が外部に排出されない方法を提供するこ
とを目的とするもので、その要旨は、ＢＣ，７３３を用
いるドライエツチング排ガスの処理方法において、排気
系の、回転軸を有する真空ポンプを乾燥ガス雰囲気中に
保持し、かつ上記ポンプの排気ガスをＢ（Ｊ、の吸着剤
を通して排出するドライエツチング排ガスの処理方法に
ある。
止され、ト°ライエツチング室の真空度の安定性を保ち
、かつＢ（Ｊ、が外部に排出されない方法を提供するこ
とを目的とするもので、その要旨は、ＢＣ，７３３を用
いるドライエツチング排ガスの処理方法において、排気
系の、回転軸を有する真空ポンプを乾燥ガス雰囲気中に
保持し、かつ上記ポンプの排気ガスをＢ（Ｊ、の吸着剤
を通して排出するドライエツチング排ガスの処理方法に
ある。
以下本発明の方法を図面を参照して説明する。
図面は、本発明の方法を実施する装置の一例を示すもの
で、図中符号１はト°ライエツチング室である。ドライ
エツチング室１は、拡散ポンプまたはメカニカルブース
タポンプ２と、ロータリポンプ３とが直列に配置された
排気系４によって高真空に保持されている。このロータ
リポンプ３の出口ライン３ａにはＢ（Ｊ３ の吸着剤が
充填されている吸着塔５が並列に設けられ交互に切換え
使用出来るようになっている。上記吸着剤としては、通
常、活性炭、モレキュラシーブ４Ａ、５Ａ。
で、図中符号１はト°ライエツチング室である。ドライ
エツチング室１は、拡散ポンプまたはメカニカルブース
タポンプ２と、ロータリポンプ３とが直列に配置された
排気系４によって高真空に保持されている。このロータ
リポンプ３の出口ライン３ａにはＢ（Ｊ３ の吸着剤が
充填されている吸着塔５が並列に設けられ交互に切換え
使用出来るようになっている。上記吸着剤としては、通
常、活性炭、モレキュラシーブ４Ａ、５Ａ。
１３Ｘ１天然ゼオライト等が用いられる。
また、上記ロータリポンプ３のケーシング３ｂには、完
全に乾燥され、油、 ＢＣ，６３，ＣＣＪ、またはＣ１
□ に対して不活性な不燃性ガス（例えばＮ２ ガス）
６の導入ライン６ａが接続され、ａ−タリボンプ３の回
転軸受は部分が上記ガス雰囲気中に保持されるように小
量連続導入され、排気管６ｂより放出されている。
全に乾燥され、油、 ＢＣ，６３，ＣＣＪ、またはＣ１
□ に対して不活性な不燃性ガス（例えばＮ２ ガス）
６の導入ライン６ａが接続され、ａ−タリボンプ３の回
転軸受は部分が上記ガス雰囲気中に保持されるように小
量連続導入され、排気管６ｂより放出されている。
本発明に係るト°ライエツチング装置は、上記のように
構成されているので、ドライエツチング室１に導入され
た、Ｂ（Ｊ３ 、Ｃ（Ｊ４ または０石２は排気系４よ
り吸引排出されるが、ａ−タリボンプ３より洩れ込む外
気は、完全に乾燥されており、かっＢＣＪ 、 Ｃ（Ｊ
またはＣ１゜等に対して不４ 活性であるため、Ｂ（Ｊ３は、Ｈ２ＳＯ４になることな
く、そのまま排出され、常圧に保持されている吸着塔５
において除去される。また上記吸着塔５内の吸着剤はｃ
ｃｉ、、 ｃｉ□ も吸着するので、これらの薬剤が外
部に放出されることがない。
構成されているので、ドライエツチング室１に導入され
た、Ｂ（Ｊ３ 、Ｃ（Ｊ４ または０石２は排気系４よ
り吸引排出されるが、ａ−タリボンプ３より洩れ込む外
気は、完全に乾燥されており、かっＢＣＪ 、 Ｃ（Ｊ
またはＣ１゜等に対して不４ 活性であるため、Ｂ（Ｊ３は、Ｈ２ＳＯ４になることな
く、そのまま排出され、常圧に保持されている吸着塔５
において除去される。また上記吸着塔５内の吸着剤はｃ
ｃｉ、、 ｃｉ□ も吸着するので、これらの薬剤が外
部に放出されることがない。
なお、メカニカルシールブースタポンプは外気の洩れ込
みは認められなかったが、回転軸を有するので、このポ
ンプも乾燥ガス雰囲気に保持してもよい。
みは認められなかったが、回転軸を有するので、このポ
ンプも乾燥ガス雰囲気に保持してもよい。
次に実施例および比較例を示して本発明の方法を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例１
日型アネルバ製１ｔ、ｎ−４ｏｏｚｐライエツチング装
置を用い、ドライエツチング室にＢ（Ｊ３ 。
置を用い、ドライエツチング室にＢ（Ｊ３ 。
ＣＣ，８４を標準状態（以下ガス量は標準状態で示す）
でそれぞれ１００ ＣＡ ／ ｒｎｉ ｎで流し、圧力
ニ１０ノ（スカル（Ｐ ）、ＲＦ電源電カニ７ＱＯＷと
し、またロータリポンプのケーシングにＮ２ を２０勇
／ｈｒ流し、１ｓｏＢφ、の吸着塔にヤシガラ炭５００
＋ｕＩＨ充填して幻のＶライエツチングの連続運転を行
なった。その結果ロータリーポンプの出口の空気混合量
は、０．１ ｖｏｌ ４以下で、吸着塔出口ニオけるＢ
Ｃ−Ｃ３，ＣＣ−０４ノ濃ｉは、１２時間にわたってＯ
を示し、その後Ｂ（Ｊ ３がＩ ＰＰｍ 検出されたが
、排気系のつまりは全くな゛かった。さらに３ｈｒ運転
した後、ａ−タリーポンプ出口ラインの内面を調べたが
Ｈ２ＰＯ４の付着は殆ど認められなかった。
でそれぞれ１００ ＣＡ ／ ｒｎｉ ｎで流し、圧力
ニ１０ノ（スカル（Ｐ ）、ＲＦ電源電カニ７ＱＯＷと
し、またロータリポンプのケーシングにＮ２ を２０勇
／ｈｒ流し、１ｓｏＢφ、の吸着塔にヤシガラ炭５００
＋ｕＩＨ充填して幻のＶライエツチングの連続運転を行
なった。その結果ロータリーポンプの出口の空気混合量
は、０．１ ｖｏｌ ４以下で、吸着塔出口ニオけるＢ
Ｃ−Ｃ３，ＣＣ−０４ノ濃ｉは、１２時間にわたってＯ
を示し、その後Ｂ（Ｊ ３がＩ ＰＰｍ 検出されたが
、排気系のつまりは全くな゛かった。さらに３ｈｒ運転
した後、ａ−タリーポンプ出口ラインの内面を調べたが
Ｈ２ＰＯ４の付着は殆ど認められなかった。
実施例２
ドライエツチング室にＢＣＪ３３． （Ｊ。ガスをそれ
ぞれ、１５０ ＱＣ／ ｍｌｎ 、 ３０ ＱＱ／ ｍ
ｉｎ 導入し、吸着塔にモレキュラシーブ１３Ｘを７５
０ｍＨ充填した外は、実施例１と同じにして）Ｊ３のド
ライエツチングを行なった。その結果、ロータリポンプ
出口における空気混入量はＯ−１ｖｏｌ ％以下であり
、また、吸着塔出口におけるＢＣＪ３８．Ｃ−ｅ２の濃
度は２０ ｈｒ にわたって０で、その後ＢＣＪ３がｉ
ｐｐｍ 検出されたが、排気系の詰りはなかった。さら
に３ｈｒ運転した後、ロータリポンプ出口ラインの内面
を調べたがＨ２ＰＯ４の付着は殆ど認められなかった。
ぞれ、１５０ ＱＣ／ ｍｌｎ 、 ３０ ＱＱ／ ｍ
ｉｎ 導入し、吸着塔にモレキュラシーブ１３Ｘを７５
０ｍＨ充填した外は、実施例１と同じにして）Ｊ３のド
ライエツチングを行なった。その結果、ロータリポンプ
出口における空気混入量はＯ−１ｖｏｌ ％以下であり
、また、吸着塔出口におけるＢＣＪ３８．Ｃ−ｅ２の濃
度は２０ ｈｒ にわたって０で、その後ＢＣＪ３がｉ
ｐｐｍ 検出されたが、排気系の詰りはなかった。さら
に３ｈｒ運転した後、ロータリポンプ出口ラインの内面
を調べたがＨ２ＰＯ４の付着は殆ど認められなかった。
比較例１
実施例１と同じドライエツチング装置を用い、Ｂ（Ｊ３
： １７０ＱＱ／ｍｉｎ 、 ＣＣ−ｅ４：ｌ １０
１ｊｌ−／ｍｉｎ流し、圧力ニ １１．５Ｐａ、 ＲＦ
ｌ源電カニ７００ＷでＭのドライエツチングを行ない、
排ガスをスプレィ方式の水洗塔に導き６００−ｇ／ｈｒ
のスプレィ水によって洗浄した。運転開始後２ｈｒで排
気系に詰りの発生が認められた。ただちに運転を中止し
、ロータリポンプ出口ラインを調べたところ相当量のＨ
２ＰＯ４の付着が認められた。また、この間上記洗浄塔
により捕集されたＢ（Ｊ、（Ｈ２ＰＯ４）は約５係、Ｃ
Ｃ，，６４の除去率は１係であった。
： １７０ＱＱ／ｍｉｎ 、 ＣＣ−ｅ４：ｌ １０
１ｊｌ−／ｍｉｎ流し、圧力ニ １１．５Ｐａ、 ＲＦ
ｌ源電カニ７００ＷでＭのドライエツチングを行ない、
排ガスをスプレィ方式の水洗塔に導き６００−ｇ／ｈｒ
のスプレィ水によって洗浄した。運転開始後２ｈｒで排
気系に詰りの発生が認められた。ただちに運転を中止し
、ロータリポンプ出口ラインを調べたところ相当量のＨ
２ＰＯ４の付着が認められた。また、この間上記洗浄塔
により捕集されたＢ（Ｊ、（Ｈ２ＰＯ４）は約５係、Ｃ
Ｃ，，６４の除去率は１係であった。
以上述べたように、本発明の方法は、容易に排気系ノツ
マリオヨびＢ（Ｊ３． ｃｃ、６４ｔりはＣ，ｅ２の外
気放出を完全に防止することが出来るので、これら薬剤
を使用するドライエツチングに、極めて有効に使用出来
る。
マリオヨびＢ（Ｊ３． ｃｃ、６４ｔりはＣ，ｅ２の外
気放出を完全に防止することが出来るので、これら薬剤
を使用するドライエツチングに、極めて有効に使用出来
る。
図面は本発明の方法を実施する装置）ａ−の−例を示す
図である。 １・・・・・・ドライエツチング室、２・・・・・・拡
散ポンプまたはメカニカルブースタポンプ、３・・・・
・・ロータリポンプ、３ａ・・・・・・出口ライン、３
ｂ・・・・・・ケーシング、４・・・・・・排気系、５
・・・・・・吸着塔、６・・・・・・Ｎ２ ガス、６ａ
・・・・・・導入ライン、６ｂ・・・・・・排出管。
図である。 １・・・・・・ドライエツチング室、２・・・・・・拡
散ポンプまたはメカニカルブースタポンプ、３・・・・
・・ロータリポンプ、３ａ・・・・・・出口ライン、３
ｂ・・・・・・ケーシング、４・・・・・・排気系、５
・・・・・・吸着塔、６・・・・・・Ｎ２ ガス、６ａ
・・・・・・導入ライン、６ｂ・・・・・・排出管。
Claims (1)
- 三塩化はう素を用いるドライエツチング排ガスの処理方
法において排気系の１回転軸を有する真空ポンプを乾燥
ガス雰囲気中に保持し、かつ上記ポンプの排気ガスを三
塩化はう素の吸着剤を通して排出することを特徴とする
ドライエツチング排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151076A JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58151076A JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6044025A true JPS6044025A (ja) | 1985-03-08 |
| JPS6116492B2 JPS6116492B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=15510783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58151076A Granted JPS6044025A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | ドライエッチング排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6044025A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0314299A2 (en) * | 1987-09-25 | 1989-05-03 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for treating waste gas from semiconductor manufacturing process |
| CN104619401A (zh) * | 2013-06-25 | 2015-05-13 | 帕恩泰株式会社 | 全氟化合的分离及回收*** |
| CN109695891A (zh) * | 2018-05-30 | 2019-04-30 | 中电华创(苏州)电力技术研究有限公司 | 一种分仓回转式净化器及烟气净化*** |
-
1983
- 1983-08-19 JP JP58151076A patent/JPS6044025A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0314299A2 (en) * | 1987-09-25 | 1989-05-03 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for treating waste gas from semiconductor manufacturing process |
| CN104619401A (zh) * | 2013-06-25 | 2015-05-13 | 帕恩泰株式会社 | 全氟化合的分离及回收*** |
| CN109695891A (zh) * | 2018-05-30 | 2019-04-30 | 中电华创(苏州)电力技术研究有限公司 | 一种分仓回转式净化器及烟气净化*** |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6116492B2 (ja) | 1986-04-30 |
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