JPS6034552B2 - ３−オキソ−４−オキサ−シス−ビシクロ〔４．３．０〕ノナン誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は一般式 （１） を有する新規な３−オキソー４−オキサーシス−ビシク
ロ〔４．３．０〕ノナン誘導体に関するものである。 上記式中、Ａは水酸基、保護された水酸基、カルボキシ
ル基または保護されたカルボキシル基を示し、×は水素
原子を示し、Ｙは水酸基または保護された水酸基を示し
、さらにＸとＹが一緒になって形成する保護されたカル
ボニル基を示す。 前記一般式（１）において、好適にはＡは水酸基、２−
テトラヒドロピラニルオキシ基、２ーテトラヒドロフリ
ル基、１−メトキシヱトキシ、１−ェトキシェトキシの
ようなＱ位に低級アルコキシ基を有するェトキシ基、カ
ルボキシル基、メトキシカルボニル、ヱトキシカルボニ
ル、ｎープｏポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ｎーブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ルのような低級アルコキシカルボニル基、２，２，２ー
トリクロロエトキシカルボニル、２，２ージブロモエト
キシカルボニルのようなハロゲノェトキシカルボニル基
またはペンジルオキシカルボニル基若しくは塩基、臭素
のようなハロゲン原子、ニトロ基を置換分として有する
ペンジルオキシカルボニル基を示し、Ｘは水素原子を示
し、Ｙは水酸基またはアセトキシ、ｎ−ブロピオニルオ
キシ，ｎーブチリルオキシ，イソブチリルオキシのよう
な低級アルカノィルオキシ基を示し、さらにＸとＹが一
緒になって形成するエチレンジオキシ基またはエチレン
ジチオ基を示し、特に好適な化合物としてはＡが２ーテ
トラヒドロピラニルオキシ基を示し、ＸおよびＹが一緒
になって形成するエチレンジチオキシ基を示す化合物お
よびＡがカルボキシル基を示し、Ｘが水素原子を示し、
Ｙが水酸基またはアセトキシ基を示す化合物があげられ
る。前記一般式（１）を有する化合物においては、五員
環部分の置換基に基くシン，アンチ−立体異性体並びに
不斎炭素原子に基く光学異性体が存在する。 従って、目的化合物の製造に際して、適当な工程におい
て立体選択的に合成を行なうかまたは常法により光学分
割を行なってそれぞれの異性体を得ることができる。前
記一般式（１）を有する化合物においては、立体異性体
並びに光学異性体および光学異性体の混合物すべて単一
の式で示されているが、これにより本発明の記載の範囲
は限定されるものではない。従来、プロスタグランディ
ン（以下、ＰＧと略記する）類が各種の強力な生理作用
を有することは知られているが、その化学構造における
８位と１２位の側鎖がシス型となった８ーィソＰＧ類は
、より選択的な生理作用を示す。 例えば、オール−シスー８，１１，１４ーアイコサトリ
ェン酸より生合成によって得られる８−ィソＰＧＥ，は
、ＰＧＥ，に鮫べて平滑筋収縮作用および血圧降下作用
は弱いが、抗脂質遊離作用（ａｎｔｉｌｉｐｏｌ×ｉｃ
ｅ船ｃｔｓ）および血小板凝集阻止作用では同一の強い
水準を示すことが知られている。〔Ｅ．○．いｎｉｅｌ
ｓｅＰｌ．；Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９０
，５８９４（１９６８）〕また、同文敵において８−ィ
ソＰＣＥ，，Ｅ２はそれぞれＰＧＥ，，Ｅ２をエタノー
ル中で炭酸カリウムで処理すると生成するが、原料のＰ
ＧＥ．，Ｅ２が９に対して８−ィソ型ＰＧが１２平衡混
合物となるので、８−ィソＰＧ類の合成法としては能率
が悪く分離も困難である。さらにまた、８ーィソ型ＰＣ
Ｅ，の全合成も２件報告されているが、いずれも夫燃型
ＰＧ類合成の際の副生物として得られる中間体より出発
しており、有利な方法ではない。〔Ｗ．Ｐ．Ｓｃｈｎｅ
ｉｄｅｒ ｅね１．；Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ
．，９１，５３７２（１９６９）およびＭ．Ｍｉ泌ｎｏ
，Ｍ．Ａ．Ｓ企ａｌｅｙ；Ｊ．○ｒｇ．，Ｃｈｅｍ．４
０、１７４８（１９７５）〕．本発明者等は立体選択的
に８−ィソＰＧ類を得る方法について研究を重ねた結果
、前記一般式（１）で表わされる新規な３−オキソー４
−オキサ−シスービシクロ〔４３．０〕ノナン譲導体が
その合成中間体として重要な化合物であることを見出し
て本発明を完成した。本発明によって得られる前記一般
式（１）を有する化合物としては例えば以下に記載する
化合物をあげずことができる。 ‘１｝ ３−オキソ−４ーオキサー７−シン−力ルボキ
シ−９−シンーアセトキシーシスービシクロ〔４．３．
０〕ノナン（２） ３ーオキソー４ーオキサ−７−シン
ーメトキシカルボニルー９ーシンーアセトキシーシス−
ビシクロ〔４．３．０〕ノナン‘３’ ３ーオキソ−４
−オキサ−７−シン−ペンジルオキシカルボニル一９−
シンーヒドロキシ−シスービシクロ〔４．３．０〕ノナ
ン（４’ ３ーオキソー４ーオキサー７−シンーベンジ
ルオキシカルボニル−９，９−エチレンジオキシーシス
ービシクロ〔４．３．０〕ノナン

【５）３ーオキソー４
−オキサ−７ーシン−力ルボキシ−９，９−エチレンジ
オキシーシスービシクロ〔４．３．０〕ノナン（６１
３ーオキソー４−オキサ−７ーシンーヒドロキシ−９，
９−エチレンジオキシーシスービシク。 〔４．３．０〕ノナン【７） ３−オキソ−４ーオキサ
−７ーシン−（テトラヒドロピランー２ーイル）オキシ
ー９，９ーエチレンジオキシーシスービシクロ「４．３
．０〕ノナン｛８） ３ーオキソー４ーオキサ−７ーシ
ン−（２，２，２−トリクロロ）ヱトキシカルボニル−
９，９−エチレンジチオーシスービシクロ〔４，３．０
〕ノナン 側 ３−オキソー４ーオキサー７−シンーカルボキシ−
９，９ーエチレンジチオーシスービシクロ〔４．３．０
〕ノナンＱ０ ３ーオキソ−４ーオキサ−７ーシンー（
１ーエトキシ）エトキシ−９，９ーエチレンジオキシビ
シクロ〔４．３．０〕ノナン本発明による前記一般式（
１）を有する新規化合物は以下に示す方法によって製造
することができる。 （Ｄ） （ｍ） （Ｗ） （Ｖ） （Ｗ） （肌） （肌） （Ｒ） （Ｘ） （幻） 上記式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はメチル、エチル、ｎ
ーフ。 ロピル、イソプ。ピル、ｎーブチル、ィソブチルのよう
な低級アルキル基を示し、Ｒ４はこれらの低級アルキル
基、２，２，２ートリクロロエチル、２，２．ジブロモ
エチルのようなハロゲノェチル基または芳香環に塩素、
臭素のようなハロゲン原子、ニトロ基を置換分として有
するか有していないペンジル基を示し、Ｒ５は２一テト
ラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフリル基または
１−メトキシエトキシ、１ーエトキシエトキシのような
Ｑ位に低級アルコキシ基を有するェトキシ基を示し、Ｚ
は酸素原子または硫黄原子を示し、ｎは２あるいは３の
整数の示す。また上記式においてはシスービシクロ〔４
．３．０〕／ナン環の７位の置換分はシン配置の化合物
を示しているが、その立体異性体であるアンチ配置の化
合物も同様に反応させることができる。第１工程は前記
一般式（ｍ）を有する化合物、すなわち前記一般式（１
）におけるＡがカルボキシル基を示し、Ｘが水素原子を
示し、Ｙが低級アルカノィルオキシ基を示す化合物を製
造する工程で、一般式（０）を有する化合物を鉱酸の存
在下で一般式Ｒ３ＣＯＯ日 （刈） （式中、Ｒ３は前述したものと同意義を示す。 ）を有する低級脂肪酸と加熱反応させることによって行
なわれる。使用される鍵酸としては特に限定はないが、
硫酸、硝酸が好適である。 反応温度は５０乃至１５０℃で行なわれ＼好適には８５
乃至１１０ｏｏで行なうのが望ましい。反応時間は反応
温度などによって異なるが、通常２乃至６時間である。
第２工程は前記一般式（Ｗ）を有する化合物、すなわち
前記一般式（１）におけるＡが低級アルコキシカルボニ
ル基、ハロゲノェトキシカルボニル基または芳香環にハ
ロゲン原子若しくはニトロ基を置換分として有するか有
していないペンジル基を示し、Ｘが水素原子を示し、Ｙ
が水酸基を示す化合物を製造する工程で、一般式（ｍ）
を有する化合物のカルボキシル基をェステル化し、アル
カノィルオキシ基を加溶媒分解することによって行なわ
れる。 本工程の反応は前記一般式（ｍ）を有する化合物に常法
に従ってジアゾメタンを反応させてメチルェステル謙導
体となし、次いで得られたメチルェステルを炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどの炭酸アルカリの存在下で例え
ば２，２，２一トリクロロエタノールまたはペンジルア
ルコールのような各種のアルコールと室温付近において
処理することによって、あるいは前記一般式（ｍ）を有
する化合物を常法に従って塩酸、硫酸、Ｐ−トルェンス
ルホン酸などの酸の存在下で上記の各種のアルコールと
８０乃至２００００付近に加熱することによって実施す
ることができる。 反応時間は使用するアルコールの種類、反応温度などに
よって異なるが、通常８時間乃至６日間である。第３工
程は前記一般式（Ｖ）を有する化合物を製造する工程で
、一般式（Ｗ）を有する化合物を酸化するとによって行
なわれる。 使用される酸化剤としてはラクトン環の開裂などの副反
応を伴なわないものであれば特に限定はないが、クロム
酸−ピリジン鍔体が好適に用いられる。 反応は溶剤の存在下で好適に行なわれるが、使用される
溶剤としては不活性有機溶剤例えばメチレンクロリド、
エチレンジクロリドのようなハロゲン化炭化水素をあげ
ることができる。反応温度は副反応を抑制するために比
較的低温が望ましく、０℃付近において好適に行なわれ
る。反応時間は通常、５乃至３び分間である。第４工程
は前記一般式（Ｗ）を有する化合物、すなわち前記一般
式（１）におけるＡが低級アルコキシカルボニル基、ハ
ロゲノェトキシカルポニル基または芳香環にハロゲン原
子若しくはニトロ基を有するか有していないペンジル基
を示し、ＸとＹとが一緒になって形成する低級アルキレ
ンジオキシ基または低級アルキレンジチオ基を示す化合
物を製造する工程で、一般式（Ｖ）を有する化合物のカ
ルボニル基をケタール化またはチオケタール化すること
によって行なわれる。 本工程の反応は前記一般式（Ｖ）を有する化合物を酸性
触媒の存在下で一般式（Ｘｍ） （式中、Ｚおよびｎは前述したものと同意義を示す。 ）を有するアルキレンジオールまたはアルキレンジチオ
ールと反応させることによって実施することができる。
使用される酸性触媒としては通常のケタール化反応に用
いられるものであれば特に限定はないが、三発化ホウ素
ーェーテレート、Ｐートルェンスルホン酸などが好適に
用いられる。 反応温度としては三弗化ホウ素ーェーテラートを用いる
場合には室温付近において、Ｐートルェンスルホン酸を
用いる場合にはベンゼン、トルェンなどの不活性有機溶
剤の存在下で加熱還流下で好適に行なわれる。反応時間
は反応温度、使用される酸性触媒の種類によって異なる
が、通常１乃至４時間である。第５工程は前記一般式（
Ｗ）を有する化合物、すなわち前記一般式（１）におけ
るＡがカルボキシル基を示し、ＸとＹが一緒になって形
成する低級アルキレンジオキシ基または低級アルキレン
ジチオ基を示す化合物を製造する工程で、一般式（Ｗ）
のカルボキシル基の保護基を除去することによって行な
われる。 本工程の反応は前記一般式（Ｗ）を有する化合物のカル
ボキシル基の保護基が芳香環にハロゲン原子若しくはニ
トロ基を有するか有していないペンジル基である場合に
はパラジウム一炭素のような接触還元触媒を使用してメ
タノール、ェタ／−ルのようなアルコール類中で室温付
近において常圧で水素と反応させて実施することができ
、カルボキシル基の保護基が２，２，２ートリクロロェ
チルのようなハロゲノェチル基であり、Ｚが硫黄原子を
示すチオケタール化合物である場合には室温付近におい
て亜鉛−酢酸のような還元剤で処理して実施することが
でき、さらにカルボキシル基の保護基が低級アルキル基
である場合には水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよ
うなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩などの塩基を用いて室
温付近の緩和な条件で加水分解して実施することができ
る。 反応時間は反応試剤の種類によって異なるが通常０．５
乃至２独時間である。 第６工程は前記一般式（風）を有する化合物を製造する
工程で、一般式（肌）を有する化合物を酸クロリド誘導
体となし、次いでこれをメチル化することによって行な
われる。 本工程の反応は前記一般式（Ｗ）を有する化合物または
重炭酸カリウムで処理した相当するカリウム塩を常法に
従ってベンゼン中でシュウ酸クロリドあるいは四塩化炭
素中でチオニルクロリドと室温付近において反応させて
酸クロリド譲導体となし、得られた酸クロリド誘導体を
エーテルーメチレンクロリドのような不活性有機溶剤中
でジメチル鋼リチウム、ジメチルカドミウム、ジメチル
亜鉛、メチルマグネシウムブロミド−沃化第１銅などの
メチル化試剤と−５０こ○付近において反応させて実施
することができる。 メチル化反応の反応時間は通常１８分間乃至１時間であ
る。第７工程は前記一般式（Ｋ）を有する化合物を製造
する工程で、一般式（他）を有する化合物を酸化するこ
とによって行なわれる。 本工程の反応はいわゆるバイヤー・ビリガー（母ｅｙｅ
ｒ−Ｖｍｉ袋ｒ）反応であり、使用される酸化剤として
は有機過酸、特に過トリフルオロ酢酸が好適に用いられ
る。 反応は溶剤の存在下で第２リン酸ナトリウムのようなア
ルカリ金属第２リン酸塩を加えて好適に行なわれるが、
使用される溶剤としては不活性有機溶剤例えばメチレン
クロリド、エチレンジクロリドのようなハロゲン化炭化
水素をあげずことができる。反応温度は副反応を抑制す
るためには０℃乃至室温付近が好適である。反応時間は
通常、６乃至２蝿時間である。第８工程は前記一般式（
Ｘ）を有する化合物、すなわち前記一般式（１）におけ
るＡが水酸基を示し、ＸとＹが一緒になって形成する低
級アルキレンジオキシ基または低級アルキレンジチオ基
を示す化合物を製造する工程で、一般式（Ｋ）を有する
化合物のアセトキシ基を加溶媒分解することによって行
なわれる。本工程の反応は前記一般式（Ｋ）を有する化
合物を常法に従って室温付近においてメタノール、エタ
ノールのようなアルコール中で炭酸カリウム、炭酸ナト
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩と処理して実施する
ことができる。 反応時間は通常、１乃至２時間である。第９工程は前記
一般式（幻）を有する化合物、すなわち前記一般式（１
）におけるＡが２ーテトラヒドロピラニルオキシ基、２
ーテトラヒドロフリルオキシ基またはＱ位に低級アルコ
キシ基を有するェトキシ基を示し、ＸとＹが一緒になっ
て形成する低級アルキレンジオキシ基または低級アルキ
レンジチオ基を示す化合物を製造する工程で、一般式（
Ｘ）を有する化合物の水酸基をエーテル化することによ
って行なわれる。 本工程の反応は前記一般式（Ｘ）を有する化合物を常法
に従って室温付近において塩酸、硫酸、Ｐートルェンス
ルホン酸などの酸触媒の存在下でジヒドロピラン、ジヒ
ドロフラン、メチルビニルエーテル、エチルピニルエー
テルなどのＱ，８−不飽和エーテル化合物と反応させて
実施することができる。 反応時間は通常約１乃至２時間である。以上の各工程に
おいてそれぞれの目的化合物は常法に従って反応混合物
から採取される。 例えば反応終了後、反応混合物を適当な有機溶剤を用い
て抽出し、得られた有機溶剤層を洗浄し乾燥した後、抽
出液より溶剤を留去することによって得ることができる
。得られた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶
法、カラムクロマトグラフィーなどによってさらに精製
することができるが、精製操作を行なわずに次に工程の
原料として使用することもできる。この方法を実施する
に当って、原料として用いた前記一般式（ロ）を有する
化合物は新規化合物であり、例えば以下の反応経路に示
す方法によって製造することができる。 （ＸＷ） （ＸＶ） （Ｘの） （ＸＷ） （Ｘ脚） く。 ）上記式中、ＲＩおよびＲ２は前述したものと同意義を
示す。 第１工程は前記一般式（ＸＶ）を有するェステル誘導体
を製造する工程で、式（ＸＮ）を有する７，７−ジブロ
モーシスービシクロ〔３．２．０〕オクトー２ーエンー
６ーオン〔Ｗ．Ｔ．Ｂｒａｄｙ；Ｊ．Ｃｈｇ．Ｃｈｅｍ
．，３１，２６７６（１９６６）〕を一般式ＲＩＯＭ
（ＸＫ）（式中、ＲＩは前述したものと同意義を
示し、Ｍはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属
原子を示す。 ）を有するアルカリ金属アルコキシドおよび一般式ＲＩ
ＯＨ （ＸＸ） （式中、ＲＩは前述したものと同意義を示す。 ）を有するアルコール類と反応させ、次いで得られたェ
ステルのシス体をトランス体へ異性化させることによっ
て行なわれる。本工程の開環反応は好適にはナトリウム
メトキシドのメタノール溶液を用いて実施することがで
き、反応温度は副反応を抑制するために比較的低温が望
ましく、一２０乃至−１００Ｃ付近の低温が好適である
。 反応時間は約０．５乃至１時間が好適である。次いでシ
スーェステル誘導体をトランスーェステル誘導体に異性
化するには反応温度を−５乃至０℃付近に１乃至３時間
保つことによって実施することができる。 なお、シスーェステルが所望の場合には反応温度を−１
０００以下に保持することによってその目的を達成する
ことができる。第２工程は前記一般式（ＸＷ）を有する
モノプロモェステル誘導体を製造する工程で、一般式（
ＸＶ）を有するェステル誘導体を１当量の水素化トリブ
チル錫と反応させることによって行なわれる。 本工程の反応は副反応を抑制するために比較的低温が望
ましく、０乃至２０ｑｏの反応温度において好適に実施
することができる。 反応時間は通常、４乃至１畑時間である。第３工程は前
記一般式（Ｘ肌）を有するトリェステル誘導体を製造す
る工程で、一般式（ＸＷ）を有するモノブロモェステル
誘導体を一般式（ＸＭ）（式中、Ｒ２は前述したものと
同意義を示す。 ）を有するマロン酸モノ銀塩低級アルキルェステルと反
応させることによって行なわれる。本工程の反応は溶剤
の存在下で好適に行なわれるが、使用される溶剤として
はアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、へキサメチルホスフオルアミドなどの極性
有機溶剤があげられる。 反応温度としては７０乃至１００℃加熱下で好適下で好
適に実施することができる。反応時間は反応温度などに
よって異なるが、通常２乃至１錨時間でである。第４工
程は前記一般式（Ｘ脚）を予するジアゾェステル誘導体
を製造する工程で、一般式（Ｘ血）を有するトリェステ
ル譲導体をＰートルェンスルフオニルアジドと反応させ
ることによって行なわれる。 本工程の反応は溶剤の存在下で好適に行なわれるが、使
用される溶剤としてはアセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドなどの極性有機溶剤があ
げられ、さらにトリエチルアミン、トリプチルァミソの
ような有機ァミン類の存在下で好適に実施することがで
きる。 反応温度は副反応を抑制するために比較的低温が望まし
く、室温付近が好適である。反応時間は通常約８乃至１
筋時間である。第５工程は前記一般式（０）を有するト
リシクロ〔４．３．０．ぴ，９〕ノナン謙導体を製造す
る工程で、一般式（Ｘ脚）を有するジアゾェステル誘導
体を金属触媒の存在下で加熱反応させることによって行
なわれる。 本工程の反応に使用される金属触媒としては鋼粉、塩化
第１鋼、塩化第２銅、硫酸第２鋼、亜リン酸トリメチル
−沃化第１銅などの銅触媒および塩化パラジウム、酢酸
パラジウムなどのパラジウム触媒があげられ、銅粉が特
に好適である。 使用される溶剤としてはベンゼン、トルェン、キシレン
、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素、ｎ−へフ。
タン、ｎ−オクタン、テトラクロロエタンのような８０
午０以上の沸点を有する脂肪族炭化水素などが好適であ
る。加熱反応温度は通常８０乃至１４０午Ｃで行なわれ
る。反応時間は使用される金属触媒、反応温度などによ
って異なるが、通常１乃至４時間である。以上の各工程
においてそれぞれの目的化合物は反応終了後、反応混合
物を常法により処理することによって得られる。 得られた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶法
、真空蒸留法、カラムクロマトグラフィーなどを用いて
さらに精製することができる。本発明によって得られる
前記一般式（１）で表わされる化合物は、前述したよう
に８ーィソＰＧの類の合成中間体として有用な化合物で
ある。 例えば８ーィソＰＧＥ，およびＥ２を以下に記載する方
法によって好収率で合成することができる。（Ｘ刈）（
ＸＸｍ） （ＸＸＷ） （ＸＸＶ） （ＸＸＷ） （ＸＸ肌） （ＸＸＫ） （ＸＸＸ） （ＸＸ幻） （ＸＸ狐） すなわち、前記一般式（１）における置換基Ａが２ーテ
トラヒドロピラニルオキシ基であり、ＸとＹが一緒にな
って形成するエチレンジオキシ基である本発明で得られ
る化合物（Ｘ池）を出発原料として、これを−６０００
付近で水素化ジィソブチルアルミニウムで還元すると（
第１工程）、定量的に対応するラクトール（ＸＸｍ）が
得られる。 化合物（ＸＸｍ）をトリフェニルホスホニオ吉草酸プロ
ミドより調製したィリド（ＸＸＷ）のジメチルスルホキ
シド溶液と反応させ、生成物をジアゾメタンでェステル
化すると（第２工程）、化合物（ＸＸＶ）が得られる。
化合物（ＸＸＶ）を１０％パラジウム−炭素の存在下で
メタノール中で水素ガスを通じて接触還元して（第３工
程）、飽和体（ＸＸＷ）とする。化合物（ＸＸの）をク
ロム酸−ピリジソ錨体を用いてメチレンクロリド中で酸
化すると（第４工程）、アルデヒド体（ＸＸ肌）が得ら
れる。化合物（ＸＸＷ）を２ーオキソヘプチリデントリ
ブチルホスホラン（ＸＸ風）と縮合させると（第５工程
）、ェノン体（ＸＸＫ）が得られる。化合物（ＸＸ瓜）
を無水メタノール中で水素化ホウ素ナトリウムで還元し
、生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで分取すると
（第６工程）、１５Ｑ−アルコール体（ＸＸＸ）が得ら
れる。化合物（ＸＸＸ）を水酸化ナトリウムの水性メタ
ノール溶液中で加水分解して遊離の酸とし、さらに酢酸
水溶液で処理して９位および１１位の保護基を除去する
と（第７工程）、目的の８−ィソＰＧＥ，、（ＸＸ幻）
が得られる。また、化合物（ＸＸＶ）を環元することな
く、第４工程以下と同様の反応を実施すると、目的の８
ーィソＰＧＥ２（ＸＸ刈）が得られる。 さらにまた、本発明で得られる化合物を中間体として１
１位にカルポキシル基あるいはヒドロキシメチル基を有
する８ーィソＰＧ類並びに８−ィソＰＧＦ類なども合成
することができる。 次に製造例および参考例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。 （製造例 １） ３８ージプロモメチルー４Ｑーメトキシカルボニルシク
ロベンテン７，７ージブロモ−シスービシクロ〔３．２
．０〕オクト−２ーェン−６−オン（１８６．２夕）を
無水メタノール３５０の【中に溶かし、一３０ｑｏに冷
却する。 ナトリウム（２３夕）を無水メタノール（３５０の【）
に溶かして作ったナトリウムメトキシド溶液を４５分間
で滴下する。内温を−１ｏｏ０以下に保つ。−５〜０℃
で１．５時間樫拝した後酢酸４２の‘を加え、氷水１５
００必中に注ぎエーテルで２回抽出する。抽出液を水洗
、乾燥後濃縮し、残総を減圧蒸留すると、所望のェステ
ルが沸点８７〜９０午０／２肋日夕の無色液体として得
られる。収量１７３．０夕。 元素分析：Ｃ８日，ｏＢｒ２０２として 計算値；Ｃ，３２．２４：日，３．紙 ；Ｂｒ，５３．６３ 実測値；Ｃ，３２．３３；日，３．６０ ；Ｂｒ，５３．１９． （製造例 ２） ３８ーフロモメチル−４Ｑ−メトキシカルボニルシクロ
ベンテン３８ージブロモメチル−４Ｑーメトキシシクロ
ベンテン４２９．５夕を氷水洛中で５〜７℃に冷却し、
トリブチル錫ヒドリド４３０夕を氷冷した後一挙に加え
る。 ５〜７００で４時間澄拝した後、２０午○で１幼時間燈
枠する。 シリカゲル３ｋｇを入れたカラムに通じ「ヘキサン８そ
で洗った後、酢酸エチル４そで熔出を行なう。溶出液を
濃縮し、機燈を蒸留すると、沸点１０３〜１０６ｏｏ／
８肋日夕の微黄色液体として所望のモノブロムェステル
２８０．８夕が得られる。元素分析：Ｃ８日，．Ｂｒ０
２として 計算値：Ｃ，４３．８６：日，５．０６ ：Ｂｒ，３６．４８ 実測値；Ｃ，４３．６３：日，５．２８ ：Ｂｒ，３６．４３． （製造例 ３） ３８一〔（エトキシカルボニルアセトキシ）メチル〕一
４Ｑーメトキシカルボニルシクロベンテンマロン酸モノ
カリウム塩エチルェステル６１８．４夕を水１〆中に溶
かし、硝酸銀６１７．２夕の水（１そ）溶液を加える。 生じた銭塩を減圧炉過して集め、水２そで洗い乾燥する
。かくして得た銀塩６９０夕をアセトニトリル６．０そ
中に懸濁し、加熱して還流させる。３６−ブロモメチル
ー４Ｑ−メトキシカルボニルシクロベンテン２８６．１
６夕をアセトニトリル５００机に溶かし、４０分間で滴
下する。 更に６時間還流し、放冷後炉過して炉液を蟹去し、残澄
にエーテル２そを加え、不落物を炉去する。エーテルを
留去し、残漣３００夕をシリカゲル３ｋ９を用いたカラ
ムクロマトグラフイーにかける。１５〜２５％酢酸エチ
ル−へキサンで熔出される分画より１６０．５夕の所望
のェステルが微黄色の液体として得られる。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：５．６３ｐ
ｐｍ， ｍ．，が（‐ＣＨ＝ＣＨ‐）４．１８Ｐ
Ｐｍ’ｑ．，Ｊ＝７ＨＺ，が，（−ＣＯよりＣＨ３）４
．１８ＰＰｍ’ｄ．，Ｊ＝７ＨＺ，斑，（−Ｃ比ＯＣＯ
ＣＨ２Ｃ０２Ｅｔ）３．６７ｐｐｍ， ｓ．，
知日，（一Ｃ０２ＣＨ３）３．３３ｐｐｍ，ｓ．，が，
（一ＯＣＯ−ＣＱＣ０２Ｅｔ）１．２５ＰＰｍ’ｔ．，
Ｊ＝７ＨＺ，３日，（一Ｃ０２ＣＱＣ日３）（製造例
４）３８一〔（エトキシカルボニルジアゾアセトキシ）
メチル〕一４Ｑーメトキシカルボニルシクロベンテンア
セトニトリル７０泌中に３８−〔（ェトキシカルボニル
アセトキシ）メチル〕−４Ｑーメトキシカルボニルシク
ロベンテン１４２．９夕とＰートルエンスルホニルアジ
ドＩ０４−３夕を溶かし、トリェチルアミン８０．３夕
を加えて室温で１６時間燈梓する。 溶媒を留去し、残澄にエーテル１そを加え、３％水酸化
カリ溶液８００の‘で２回、食塩水で２回洗い、エーテ
ル溶液を乾燥後濃縮すると所望のジアゾェステル１５４
．８夕が得られる。このものは精製せずに次の工程に使
用できる。ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：
５．６３ｐｐｍ， ｍ．，２日，（一ＣＨ＝ＣＨ−
）４．２８ＰＰｍ’ｑ．，２日，Ｊ＝７ＨＺ，（一Ｃ０
２ＣＨ２ＣＨ。 ）４．２５ｐｐｍ， ｄ．，２日，Ｊ＝６
Ｈｚ，（−ＣＨ２０−Ｃ ＣＮ２−Ｃ。２Ｅｔ） ）Ａ ３．６７ｐｐｍ， ｓ．，３日（一Ｃ０２Ｃ
Ｈ３）３．３５ｐｐｍ，
ｍ．，ＩＨ〈＞ＣＨ−ＣＨ２−Ｃ。 一１，３岬Ｐｍ’ ｔ．，Ｊ＝７日２、（一Ｃ０２Ｃ日２ＣＨ３）（製造例
５）２ーエトキシカルポニル一３−オキソ−４ーオキ
サ−７−シンーメトキシカルボニルートリシク。 〔４．３．０．ぴ’９ 〕ノナン３８−〔（エトキシカ
ルポニルジアゾアセトキシ）メチル〕−４Ｑ−メトキシ
カルボニルシクロベンテン１５．０６夕、銅粉０．７５
夕とキシレン６００の上の混合物を１２０〜１２５ｑＣ
の油浴上で２．５時間加熱する。 放冷後溶媒を蟹去し、半結晶性の残澄を酢酸エチルーヘ
キサンより再結晶すると、融点１１８．５００〜１１９
．５００のプリズム晶として所望の三遠性ラクトンが得
られる。収量４．７鰍。元素分析：Ｃ，３日，６０６と
して 計算値；Ｃ，５８．２０；日６．０１ 実測値；Ｃ，５８．４７：日６．０９． （製造例 ６） ３ーオキソー４ーオキサ−７−シンーカルボキシ−９ー
シンーアセトキシーシスービシクロ〔４．３．０〕ノナ
ン酢酸３０の‘と濃硫酸０．７５の【の混合液中に２−
ェトキシカルボニルー３ーオキソー４−オキサー７ーシ
ンーメトキシカルボニルートリシクロ〔４．３．０．ぴ
，９〕ノナン２．７５夕を溶かし、１１５ｑｏで２時間
又は８５００で６時間加熱する。 放冷後２００私の水で稀釈し、酢酸エチルで５回抽出す
る。抽出液を飽和食塩水で洗い乾燥後溶媒を留去すると
、微黄色の粘鋼な油状物として所望のカルボン酸が得ら
れる。この酸は精製することなく次の工程に使用する。
ＩＲスペクトル（液膜）： ３０００〜２５００ｃｍ‐１（一ＣＯＯＨ）１７４０ｃ
の‐１（一ＯＡＣ，六員ラクトン）Ｉ７ＩＯＣの‐１（
−ＣＯＯＨ）（製造例 ７） ３−オキソー４ーオキサー７ーシン−メトキシカルボニ
ル−９−シンーアセトキシーシスーピシクロ〔４．３．
０〕ノナン製造例６に示した粗カルボン酸７．９５夕を
酢酸エチルに溶かし、氷冷下でジアゾメタンのエーテル
溶液を窒素ガスが発生しなくなる迄加える。 溶媒を留去し、残鷹をシリカゲル１００夕を用いたカラ
ムクロマトグラフイーにかける。酢酸エチルで溶出され
る分画より７．１０夕の所望のェステルが無色の油状物
として得られる。ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶
液）：４・８倣ｐｍ’ ｍ．，ＩＨ〈＞操りＡｃ）４．
２７ｐｐｍ， ｍ．，犯，（‐ＣＨ２‐０‐ＣＯ−）３
．７１ｐｐｍ， ｓ．，が，（−Ｃ０２ＣＨ３
）２．０３ｐｐｍ， ｓ．，３日，（一ＯＣＯ
ＣＨ３）（製造例 ８）３ーオキソー４ーオキサ−７−
シンーベンジルオキシカルボニルー９−シン−ヒドロキ
シーシスービシクロ〔４．３．０〕ノナン製造例７のよ
うにして製造した粗〆チルェステル２５夕をペンジルア
ルコール２００の‘に溶かし、炭酸カリＩ０夕を加えて
室温で６日間燈梓する。 酢酸９．６の‘を含む水２００の‘を加え、酢酸エチル
３００の‘で抽出する。抽出液を５％重曹水と飽和食塩
水で洗い、乾燥後溶媒を留去する。残澄２６夕をシリカ
ゲル２５０夕用いるカラムクロマトグラフイーにかける
。酢酸エチルーヘキサン（３：１）で溶出される分画よ
り所望のペンジルェステル２０．４夕が得られる。ＮＭ
Ｒスペクトル（星クロロホルム溶液）：７．３３ｐｐｍ
，Ｓ●，母日（Ｃ６日５一）５．１５ｐｐｍ，ｓ．，２
日（Ｐｈ−ＣＨ２−）４．２岬ｐｍ， ｄ．
，Ｊ＝３ｐｐｍ，２日、く〉ＣＨ℃日２「ｎ〔Ｃ。 一（製造例 ９） ３ーオキソ−４−オキサー７−シンーベンジルオキシカ
ルボニルー９，９−エチレンジオキシーシスービシクロ
〔４．３．０〕ノナンピリジン８３．３叫を含むメチレ
ンクロリド１．３〆中に無水クロム酸５１．５３夕を溶
かした液を氷冷し、３−オキソー４−オキサー７−シソ
ーベンジルオキシカルボニルー９−シンーヒドロキシー
シスービシクロ〔４．３．０〕ノナン１８．７０夕をメ
チレンクロリド５０の【に溶かした液を一挙に加える。 ２０分間氷冷下で燈拝した後、エーテル２．５夕と水１
そを加えて分液する。 有機層を冷３％炭酸カリ溶液、冷３％塩酸、５％重曹水
及び飽和食塩水で順次洗い、乾燥後溶媒を蟹去する。残
ったケトン１６．３３夕をメチレンクロリド１００叫と
エチレングリコール５０舷の混合物中に溶かし、５〜６
℃でトリフルオロホウ素ェーテラート１５の上を加える
。室温で２時間燈拝した後５％重曹水２５０地中に反応
液を注ぐ。酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗乾燥し、
溶媒を蟹去すると所望の環状アセタール１８．９４夕が
結晶性固体して得られる。酢酸エチル−へキサンより再
結晶すると、融点７４〜７５０○の白色針状晶となる。
元素分析：Ｃ，８日２。 ０６として 計算値；Ｃ，６５．０５；日，６．０７ 実測値；Ｃ，６５．０５：日，６．０８ （製造例 １０） ３−オキソ−４ーオキサー７−シンーカルボキシー９．
９−エチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．０〕
／ナン製造例９に示した粗生成物１８．９４夕をメタノ
−ル３５０私中に溶かし、予めメタノール１００泌中で
還元しておいた１０％パラジウム炭素３．２夕と混合す
る。 常圧で水素ガスを導入し、１時間振麹する。ベンゼン５
００叫を加えて、セラィト層を通じて触媒を炉去する。
溶媒を留去すると所望のカルボン酸１３夕が白色の固体
として得られる。アセトンより再結晶すると、融点１８
２〜１８４ｏｏの白色板状晶となる。元素分析：Ｃ，．
日，４０６として 計算値；Ｃ，５４．５４：日，５．８３ 実測値；Ｃ，５４．６０；日，５．８０ （製造列 １１） ３ーオキソー４−オキサ−７−シンーアセチルー９，９
ーエチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．０〕ノ
ナン３ーオキソー４ーオキサー７ーシン−力ルボキシー
９，９ーエチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．
０〕ノナン９．４６５夕、重炭酸カリ３．９０７夕とメ
タノール１２物上の混合物に水２５の‘を加えて均一の
溶液とする。 溶媒を乾固し、熱水ベンゼン２００地中に残値を懸濁し
、シュウ酸ジクロリド２８の‘を加えて２．５時間縄拝
する。澄明となった反応液を乾団し、４００の‘のメチ
レンクロリドに残澄を溶かす。文献〔Ｅ．Ｐｉｅ岱，Ｒ
．Ｊ．Ｋｅｚｉｅｒｅ，ＣａｎａｄｉａｎＪｏｕｒ船ｌ
ｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，４７，１３７（１９６９）〕
に従ってョウ化鋼３８．１夕，エーテル６００の【及び
メチルリチウムエーテル溶液２００の【（０．５モルの
メチルリチウムを含む）より製造したジメチル鋼リチウ
ムの溶液を−７８ごＣに冷却し、上記のメチレンクロリ
ド溶液を一挙に加える。１粉ご間燈伴後酢酸エチル１２
０Ｍを加え、２５泌の酢酸を含む水８００の‘中に反応
液を織洋下に加える。 不落物をセラィト層を通じて炉去し、水層に１夕のチオ
硫酸ソーダを加えて分液する。水層を更に３回クロロホ
ルムで抽出する。有機層を合わせて乾燥後溶媒を留去す
ると所望のケトン９．３４夕白色固体として得られる。
アセトソーヘキサンより再結晶すると、融点１３９〜１
４０℃の白色針状晶となる。元素分析：Ｃ，２日，６０
５として 計算値；Ｃ，５９．９９：日，６．７１ 実測値：Ｃ，６０．雌：日，６．７２ （製造例 １２） ３ーオキソー４ーオキサー７−シンーアセトキシー９，
９ーエチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．０〕
ノナン３ーオキソ−４−オキサー７−シンーアセチルー
９，９ーエチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．
０〕ノナン７．９７２夕、第２リン酸ソーダ７１夕及び
メチレンクロリドの混合物を０℃に冷却し、文献〔Ｍ．
Ｆ．Ｈａｍｈｏｍｅ，Ｗ．○．Ｅｍｍｏｎｓ ａｎｄ
Ｋ．Ｓ．ＭＣ Ｃａｎ山ｍ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．ＳＭ
．’８０，６３９６（１９５８）〕に従って製した過ト
リフルオロ酢酸のメチレンクロリド溶液７０凧【を加え
る。 ５時間澄梓後、更に同量の過酸溶液を加え、３即時間室
温（１５〜２０ｑｏ）で麓拝する。 酢酸エチル４００の上を加えて吸引炉過し、炉液を５％
重曹水、３％ヨードカリ溶液、２％チオ硫酸ソーダ溶液
及び食塩水で順次洗う。乾燥後溶媒を留去すると所望の
アセチル体８．０夕が白色固体として得られる。アセト
ン−へキサンより再結晶すると、融点１５２〜１５３ｏ
ｏの白色針状晶となる。元素分析：Ｃ．２日，６０６と
して 計算値；Ｃ，５６．２４：日，６．２９ 実測値；Ｃ，５６．２６：日，６．３２ （製造例 １３） ３ーオキソー４ーオキサ−７−シンーヒドロキシ−９，
９ーエチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３．０〕
ノナン３−オキソー４ーオキサー７ーシンーアセトキシ
−９，９−エチレンジオキシーシスービシクロ〔４．３
．０〕ノナン６．９６５夕、炭酸カリ７．０夕及び無水
メタノール４００の【の混合物を２０℃で１．即時間鷹
拝する。 酢酸３．４舷を加えて縄拝し、次いで重曹５．０夕を加
える。メタノールを蟹去し、残澄を酢酸エチルで抽出す
る。溶媒を蟹去すると所望のアルコール５．６３夕が白
色固体として得られる。アセトンーヘキサンより再結晶
すると、融点１１６〜１１７０の白色の長い針状晶とな
る。元素分析：Ｃ．山，４０５として 計算値；Ｃ，５６．０７Ｈ；６．５９ 実測値；Ｃ，５６．２１；日，６．５３ （製造例 １４） ３ーオキソー４−オキサ−７−シンー（テトラヒドロピ
ランー２−イル）オキシー９，９ーエチレンジオキシー
シスービシクロ〔４．３．０〕ノナン３−オキソ−４−
オキサー７−シンーヒドロキシー９，９−エチレンジオ
キシーシスービシクロ〔４，３．０）ノナン４．７３夕
とジヒドロピランをメチレンクロリド１００机上中に溶
かし、ｐートルェンスルホン酸０．１夕を加えて室温で
２時間燈梓する。 酢酸エチル２００の【を加え、５％重曹水と食塩水で洗
い、乾燥後溶媒を留去すると所望のピラニル体６．１７
５夕が白色固体として得られる。酢酸エチルーヘキサン
より再結晶すると白色針状晶となるが、融点１０５〜１
１ｙｏを示し、２種のジアステレオマーの混合物と推定
される。ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：４
．６３ｐｐｍ，ｍ．，ＩＨ４．２５ｐｐｍ，ｄ．，Ｊ＝
５Ｈｚ，２日（）ＣＨ−．ＣＨ２比０ ） ３．９７ｐｐｍ，ｓ．，４日，（一ＯＣＨ２ＣＨ２０一
）（参考例 １）７一〔（２８−ヒドロキシメチルー３
Ｑ一（テトラヒドロピラン−２−イル）オキシー５，５
ーヱチレンジオキシシクロベンタンーＩＢーイル〕−シ
スー５−へプテン酸メチル水素化ナトリウム（５０％）
５．機夕をジメチルスルホキシド１００の【中で加熱溶
解して製したアニオン溶液に、トリフェニルホスホニオ
バレリアン酸ブロミド２８．４夕をジメチスルホキシド
１００泌に溶かした液をアルゴン気流中で滴下する。 かくして赤色のィリド溶液が得られる。一方、３ーオキ
ソー４ーオキサー７−シン（テトラヒドロピラン−２ー
イル）オキシー９，９ーエチレンジオキシーシスーピシ
クロ〔４．３．０〕ノナン２．３９夕をトルエソ５０の
‘中に溶かし−６０００に冷却する。水素化ジィソブチ
ルアルミニウムのへキサン溶液（２５夕／１００のと）
６．９の‘を加えて２０分間擬梓する。テトラヒドロフ
ラソ４０叫と水２０の【の混合液を加え、反応液を室温
に戻す。酢酸エチル２０の【を加えて不落物を炉去し、
水洗後溶媒を留去すると２．５７夕の油状物が得られる
。この粗生成物２．３９夕を上記のィＩＪド溶液中に加
え、２２〜２５ｏｏで１斑時間雛拝する。１その氷水中
に反応液を注ぎ、酢酸エチルで抽出する。 水曹に４泌の酢酸を加え、酢酸エチルで３回抽出する。
この二度目の抽出液中に窒素ガスの気泡が発生しなくな
る迄氷袷下でジアゾメタンのエーテル溶液を加える。乾
燥後溶媒を留去し、残澄１３．４夕をシリカゲル１５０
夕を用いたカラムクロマトグラフィーにかける。１０％
エーテルーベンゼンで溶出される分画より所望のヒドロ
キシェステル２．６４夕が無色の油状物として得られる
。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：５．４５Ｐ
ｐｍ， ｍ．，２日，（一ＣＨ＝ＣＨ−）４．７加
ｐｍ， ｍ．，ＩＨ，４．３岬ｐｍ， ｍ．，ＩＨ（
＞ＣＡｒＯＴＨｐ）３．９かｐｍ， ｓ．，４日，（
一ＯＣＨ２Ｃ日２０一）３．７仮ｐｍ， ｓ
．，が（‐Ｃ０２ＣＨ３）（参考例 ２）７−〔２８−
ヒドロキシメチルー３Ｑ一（テトラヒドロピラン一２−
イル）オキシ−５，５−エチレンジオキシシクロベント
一１８ーイル〕へブタン酸メチル１０％パラジウム炭素
をメタノール４の‘と混じ水素を通じて振糧する。 水素の吸収が終ってから７−〔２８−ヒドロキシメチル
−３Ｑ−（テトラヒドロピランー２ーイル）オキシー５
，５ーエチレンジオキシシクロベント−１８−イル〕ー
シスー５ーヘプテン酸メチル２２４雌をメタノール６叫
に溶かして加え、水素を通じて３０分間振擁する。１３
の上の水素が吸収された後、触媒を炉去し、溶媒を留去
すると、所望の飽和ェステル１８０の【が無色の油状物
として得られる。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：４．５３Ｐ
Ｐｍ’４．１３ＰＰｍ’ ３．８０ｐｐｍ， ｓ．，４日（一ＯＣＨより○
−）３．斑ｐｐｍ， ｓ．，母日（一Ｃ０
２ＣＨ３）（参考例 ３）９，９−エチレンジオキシー
１１Ｑ−（テトラヒドロピランー２−イル）オキシ−１
５ーオキソー８ーィソープロストー１３ートランスーェ
ン酸メチルピリジン６３２ｍｇを含むメチレンクロリド
３０地中に無水クロム酸４００のｏを溶かした液を氷冷
し、７一〔２８−ヒドロキシメチル−３Ｑ一（テトラヒ
ドロピランー２−イル）オキシ−５，５−エチレンジオ
キシシクロベント一１８ーイル〕へブタン酸メチル１８
０の夕をメチレンク。 リド２泌に溶かして加える。氷冷下で３び分間婿拝した
後、エーテル及び酢酸エチル各４０机を加え、水、冷１
．５％炭酸ナトリウム溶液、袷１．５％塩酸、５％重曹
水及び再び水で順次洗う。乾燥後溶媒を留去し、残造を
無水エーテル１０肌に溶かし、２−オキソヘブチリデン
トリフエニルホスホラン２５０の９を加えて２２〜２４
ｑｏで２４時間燈枠する。溶媒を留去し、残澄をシリカ
ゲル５夕を用いるカラムクロマトグラフイーにかける。
４％酢酸エチル−ベンゼンで溶出される分画より所望の
ェノン１９４雌が無色の油状物として得られる。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：６．７５ｐ
ｐｍ，ｄｄ，Ｊ，＝１６，Ｊ２＝９ＨＺ，ＩＨ（Ｃ，３
−Ｈ）６．０３ｐｐｍ，ｄｄ，Ｊ，＝１６，Ｊ２＝３Ｈ
Ｚ，ＩＨ（Ｃ，４−Ｈ）４．５７ｐｐｍ，ｍ， ＩＨ，
３．９０ｐｐｍ，ｓ， ４日，（一ＯＣＨ２Ｃ日２０
一）３．６３ｐｐｍ，ｓ， ３日，（一Ｃ０２
ＣＨ３）０．９３ｐｐｍ，ｍ， ９日，（一Ｃ４鴇
−ＣＨ３）（参考例 ４）９，９−エチレンジオキシ−
１１Ｑ−（テトラヒドロピラン−２ーイル）オキシー１
５Ｑーヒドロキシー８ーイソーブロストー１３ートラン
スーエン酸メチル無水メタノール８の【中に９，９−エ
チレンジオキシ−１１Ｑ−（テトラヒドロピラン−２−
イル）オキシー１５ーオキソー８ーイソーブロスト−１
３−トランスーェン酸メチル１９１柵を溶かし、一２０
ｏＣに冷却する。 水素化ホウ素ナトリウム５０の９を加えて２時間鷹拝し
、０．４の上の酢酸を含む水２０の【を加える。次いで
５％重遭水１０私を加え、酢酸エチルで２回抽出する。
抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残澄１８７雌をシリカゲ
ル６夕を用いたカラムクロマトグラフィーにかける。８
％酢酸エチル−ベンゼンにより１５８ーヒドロキシ体７
８の９が溶出された後、１０〜１２％酢酸エチル−ベン
ゼンにより熔出される分画より７１の夕の所望の１５Ｑ
−アルコールが寒色の油状物として得られる。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：５．５３ｐ
ｐｍ，ｍ， ２日，（一ＣＨ＝ＣＨ−）４．５６Ｐ
Ｐｍ’ｍ’３．８３ｐｐｍ，ｓ， ４日（一ＯＣＨ
２ＣＨ２０−）３．６岬ｐｍ，ｓ， 汎（−Ｃ
０２ＣＨ３）０．８７ｐｐｍ，ｍ， 粕（一Ｃ４瓜
−ＣＨ３）（参考例 ５）ｄ１一８ーイソープロスタグ
ランデインＥ，メタノール２の上中に９，９ーエチレン
ジオキシ−１１Ｑ−テトラヒドロピラニルオキシ−１５
−オキソー８−イソーブロストー１３−トランスーェン
酸メチル５物９を溶かして氷冷し、５％水酸化ソーダ溶
液１の上を加える。 室温で４時間燈梓後食塩水４の‘を加え、酢酸を滴下し
てｐＨ３〜４とする。酢酸エチルで２回抽出し、水洗乾
燥溶媒を留去する。残澄５１のｏを酢酸２の‘、水１の
‘及びテトラヒドロフラン０．３地の混合物中に溶かし
、室温で２岬時間櫨辞する。食塩水６の‘を加え、酢酸
エチルで２回抽出する。乾燥後溶媒を留去し、結晶性の
残澄をエーテル−へキサンより再結晶すると、融点８８
〜８９℃の白色針状晶としてｄｌ−８−ィソＰＧＥ，が
得られる。収量２１雌。このものの融点は文献値（融点
１０１〜１０２０〕と異なるが、ここに得られた８−ィ
ソＰＧＥ，は３種の溶媒系を用いた薄層クロマトグラフ
ィーにおいて単一のスポットを示す。又、酢酸カリーェ
タノールで処理することにより、融点１１２．５〜１１
３．５℃のｄｌ−ＰＯＥ，を与え、このものは既知のｄ
ｌ−ＰＧＥ．と融点、各種スペクトルが同一である。（
参考例 ６） ｄｌ−８，１５ビスィソ−ＰＧＥ，参考例４で示したよ
うにして得られる９，９ーェチレンジオキシ−１１Ｑ−
テトラヒドロピラニルオキシ−１５８ーヒドロキシー８
−イソ．プ。 スト１３−トランスーェン酸メチル７１の９を参考例５
に記したと同様に操作するとｄｌ−８，１５−ビスィソ
−ＰＧＥ，３９の９力ミ無色の油状物として得られる。
酢酸カリーェ夕／ールで処理することにより油状のｄｌ
−１５ーィソＰＧＥ，を与え、このものは既知の標品と
各種スペクトルが完全に同一である。（参考例 ７） ９，９−エチレンジオキシー１１Ｑ一（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）オキシ−１５ーオキソ−８ーイソープ
ロスト−５−シスー１３ートランスージェン酸メチル７
一〔２８−ヒドロキシメチル−３Ｑ一（テトラヒド。 ピランー２ーイル）オキシー５，５ーエチレンジオキシ
シクロベンタンー１８ーイル〕ーシス−５−へプテン酸
１．３３２夕を参考例３と同様に操作すると所望のェノ
ン１．４７２夕が無色の油状物として得られる。ＮＭＲ
スペクトル（重クロロホルム溶液）：６．９３ｐｐｍ，
ｄｄ，（Ｊ】＝１６，Ｊ２＝９Ｈｚ），ＩＨ，（Ｃ，３
一Ｈ）６．２蛇ｐｍ，ｄｄ，（Ｊ，＝１６，Ｊ２＝３Ｈ
Ｚ），ＩＨ，（Ｃ，４−Ｈ）５．４３ｐｐｍ，ｍ，
２日，（Ｃ５−日，Ｃ６−Ｈ）４．６６ｐｐｍ，ｍ，
ＩＨ，４．０蛇ｐｍ，ｓ， ４日，（一ＯＣＨより○
−）３．７３ｐｐｍ，ｓ， ３日（一Ｃ０２
ＣＨ３）０．９３ｐｐｍ，ｍ， が（Ｃ４は‐
ＣＨ３）（参考例 ８）９，９ーエチレンジオキシー１
１Ｑ一（テトラヒドロピランー２−イル）オキシー１５
Ｑ−ヒドロキシー８ーイソープロストー５ーシスー１３
−トランスージェン酸メチル９，９−エチレンジオキシ
ー１１Ｑ一（テトラヒドロピラン−２−イル）オキシー
１５−オキソ−８ーイソーブロストー５ーシスー１３−
トランスージェン酸メチル１．４７２夕を参考例４の如
く操作してられる粗生成物をシリカゲル７５夕を用いた
カラムクロマトグラフイーし、かける。 ２５〜３５％ベンゼン−酢酸エチルで溶出される分画よ
り所望の１５Ｑーアルコール５７６の９が無色の油状物
として得られる。 ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶液）：５．１〜６
．血ｐｍ，ｍ， ４日（一ＣＨ＝ＣＨ一）４．７３ｐ
ｐｍ，ｍ， ＩＨ３．９５ｐｐｍ，ｓ， 岬（−Ｏ
ＣＨ２Ｃ比０‐）４．７３ｐｐｍ，ｓ， 虫
日（一Ｃ０２ＣＨ３）０．９蛇ｐｍ，ｍ， ３日
（一Ｃ４戊−ＣＨ３）（参考例 ９）８ーイソープロス
タグランデインＥ４ ９，９−エチレンジオキシ−１１Ｑ−（テトラヒドロピ
ランー２−イル）オキシー１５Ｑ−ヒドロキシ−８ーイ
ソープロスト−５−シスー１３ートランスージェン酸メ
チルを参考例５の如く操作して加水分解すると、所望の
８−ィソＰＧＥ２が融点９０〜９２０の白色羽毛状晶と
して得られる。 収量１４３の０ｏ元素分析値：Ｃ２舷３２０５として 計算値；Ｃ，６８．１５：日，９．１５ 実測値：Ｃ，斑．４１：日，９．１１ このものは参考例５中に記したと同様に酢酸カリウムと
処理すると全ての点で標品と一致するＰＧＥ２を与える
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａは水酸基、保護された水酸基、カルボキシル
   基または保護されたカルボキシル基を示し、Ｘは水素原
   子を示し、Ｙは水酸基または保護された水酸基を示し、
   さらにＸとＹが一緒になつて形成する保護されたカルボ
   ニル基を示す。 ）を有する３−オキソ−４−オキサ−シス−ビシクロ〔
   ４．３．０〕ノナン誘導体。２ 一般式（I）において
   、Ａが水酸基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基、２
   −テトラヒドロフリルオキシ基、α位に低級アルコキシ
   基を有するエトキシ基、カルボキシル基、低級アルコキ
   シカルボニル基、ハロゲノエトキシカルボニル基または
   非置換若しくはハロゲン原子、ニトロ基を置換分として
   有するベンジルオキシカルボニル基であり、Ｘが水酸原
   子であり、Ｙが水酸基または低級アルカノイルオキシ基
   であり、さらにＸとＹが一緒になつて形成するエチレン
   ジオキシ基またはエチレンジチオ基である特許請求の範
   囲第１項記載の３−オキソ−４−オキサ−シス−ビシク
   ロ〔４．３．０〕ノナン誘導体。