JPS6028908B2 - クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法 - Google Patents

クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法

Info

Publication number
JPS6028908B2
JPS6028908B2 JP54081052A JP8105279A JPS6028908B2 JP S6028908 B2 JPS6028908 B2 JP S6028908B2 JP 54081052 A JP54081052 A JP 54081052A JP 8105279 A JP8105279 A JP 8105279A JP S6028908 B2 JPS6028908 B2 JP S6028908B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
cleaning
container
liquid
treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54081052A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS565983A (en
Inventor
忠 桐沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON ENBAIRO KOGYO KK
Original Assignee
NIPPON ENBAIRO KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON ENBAIRO KOGYO KK filed Critical NIPPON ENBAIRO KOGYO KK
Priority to JP54081052A priority Critical patent/JPS6028908B2/ja
Publication of JPS565983A publication Critical patent/JPS565983A/ja
Publication of JPS6028908B2 publication Critical patent/JPS6028908B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はクロメート処理装置および該処理装置を用いる
クロメート処理方法に関するものである。
従来、この種のクロメート処理を行うには硝酸処理液、
クロメート処理液もしくは洗浄水を夫夫充填した処理槽
に所定の順序で被処理物を浸潰していくものであった。
例えばクロメート処理の場合は、メッキ→水洗→硝酸処
理→水洗→クロメート処理→水洗→脱水→乾燥という工
程があり、被処理物はメッキ槽→水洗槽→硝酸処理槽→
水洗槽→クロメート処理槽→水洗槽→脱水機→乾燥機と
順次搬送、浸潰されていた。このような方法によれば一
工程に対して一つの処理槽ないいま処理機が必要であり
、これら処理槽ないいま処理機を収納する広い空間を必
要とすること、処理槽ないいま処理機の間を被処理物が
搬送されることが必要であり、搬送に人手もしくは装置
が必要であり、かつ搬送中に被処理物が損傷する恐れが
あること、処理槽ないいま処理機間で処理液相互の混合
もしくは処理液と洗浄水との混合が起ること一特にクロ
メート処理の場合は洗浄水に6価クロムがかなりの量混
合するから、これを除去してから排水しなければならな
いが、この方法では6価クロム除去処理量が大きなもの
となる一等の欠点がある。
本発明は上記従釆技術の欠点を改良し、空間効率を高め
、かつ被処理物の搬送を最少限にとどめるとともに液切
りをよくして処理液相互の混合もしくは処理液と洗浄水
との混合を防止し、かつ洗浄廃水を有効に再利用して排
出量を最少限にとどめることを目的とするものであり、
処理槽を多孔とし、かつ回転自在とすることを特徴とす
るものである。
本発明を図に示す一実施例によって説明すれば、Aは表
面処理装置であり、Bは硝酸タンクであり、Cはクロメ
ート液タンクであり、Dは洗浄貯槽装置であり、Eは洗
浄液撒布装置であり、Fは熱風乾燥装置である。
クロメート液タンクCはクロメート液の種類、例えば有
色クロメート液、光沢クロメート液、黒クロメート液等
に対応して2個以上設けてもよい。また、洗浄液貯槽D
も各洗浄工程の洗浄廃水が混合しないように各洗浄工程
に対応して2個以上設けることが望ましい。表面処理装
置Aにおいて1は基礎11から脚12およびスプリング
13を介して支持せられる容体であり、容体1の上部に
は菱30が蝶番31で枢着され、更に容体1の外周には
容体1内部と連絡孔10によって連絡する配液槽9が設
けられ、底部には自動弁MV,が介在する排液管28A
、自動弁MN2が介在する排液管28B、自動弁MV4
が介在する排出管29が夫々連絡し、排液管28Aは硝
酸タンクBに、排液管28Bはクロメート液タンクCに
、排出管29Aは洗浄液貯槽Dに夫々連絡する。ここに
自動弁とは、電磁弁・電動弁等をいう。容体1の底部中
心からは回転軸受2が垂下せられ、回転軸受2内部には
ベアリング4で支持され、かつメカニカルシール5にて
シールせられる垂直方向の回転軸3が貫通し、回転軸3
の上端には多数の細孔23を有する処理槽6が固定ナッ
ト8によって固定せられている。回転軸3の下端部には
プーリ−16,17が鼓着せられ、プーリー16,17
はベルト16A,17Aを介してブレーキモーターM,
,M2のプーリ−14,15に連絡する。処理槽6の回
転を低速・高速の二段に切換えるには、本実施例のよう
に二個のブレーキモーターM,,M2を備える他、一個
の駆動源でギァ−による切換え、プーリーによる切換え
等の公知の切換え方法が適用せられる。硝酸タンクB、
クロメート液タンクC、洗浄液貯槽Dからは夫々ポンプ
P,,P2,P3が介在する配液管24,25,26が
差出され、配液槽9に連絡する。配液槽9には、レベル
ゲージLが配置せられる。洗浄液噴射装置Eは容体1内
の処理槽6直上に配置せられ、孔20を多数設けたノズ
ル管21からなり、該ノズル管21は自動弁MV3が介
在する洗浄液供給管22に連絡する。熱風乾燥装置Fは
表面処理装置Aの容体1の上部に配され、先端に噴出管
27Aを設け、内部に熱線27Bを設け、後部に送風機
27Cを取付けた筒体27からなり、熱線27Bと送風
機27Cは作動装置日によって制御せられる。上記表面
処理装置系によってクロメート処理を施すには、亜鉛メ
ッキされたボルト等の彼処理物18は一対の把手19を
上縁両側に設けた金網のカゴ7に充填され、該カゴ7は
容体1の蓋30を開いて処理槽6に挿填される。
かくしてから容体1の蓋30を閉じ、ブレーキモーター
M,を駆動して処理槽6を低速回転あるいは断続もしく
は反転回転せしめつつ自動弁MV4を閉じ、ポンプP3
を作動して洗浄液貯槽から洗浄水を容体1内に充填する
。洗浄水は、処理槽6内の被処理物18が完全に浸債す
るまで供給せられ、その時の水位はしベルゲージLによ
って検出され、レベルゲージLからの信号によってポン
プP3が停止して洗浄水の供給を断つ。断続回転とは例
えば正回転もしくは逆回転を0.5〜3秒間行ってのち
0.5〜3秒間停止するサイクルを繰返すものであり、
反転回転とは例えば正回転を0.5〜3秒間行ってのち
0.5〜3秒間停止し、次いで逆回転を0.5〜3秒間
行ってのち0.5〜3秒間停止する断続反転回転、正回
転と逆回転を停止期間を設けずして例えば0.5〜3秒
間ずつ繰返す連続反転回転のいずれも意味するものであ
る。上記低速回転および反転回転の間、被処理物18は
遠心力によって処理槽6の外壁方向に押圧され、殆んど
固定状態となり被処理物18相互の衝突は殆んと起らず
、被処理物が損傷することなく、只洗浄水のみが遠心力
により処理槽内に放射状に移動し、かくして被処理物に
洗浄水が充分行きわたるのである。反転回転では処理槽
内の洗浄水より騒乱されるが故に洗浄効果は一層向上す
る。ポンプP3が停止すると処理槽6が断続もしくは反
転回転せしめられている場合は低速回転に切換えられ「
かつ自動弁MV,が開き容体1内の洗浄廃水は排出管
29を介して洗浄液貯槽Dに回収する洗浄法1、および
/または自動弁MN3が開いて洗浄液供給管22からノ
ズル管21に洗浄水を供給し、ノズル管21から処理槽
6に挿填されたカゴ7内の被処理物18に対して洗浄水
が撒布される洗浄法2が適用される。かくして被処理物
18は効果的に洗浄され、洗浄廃水は排出管29から洗
浄液貯槽Dに回収せられる。洗浄が終了したら自動弁M
V3を閉じて洗浄液の供給を停止し、所望なればいまら
くそのままの状態を続けることによって洗浄廃水を振り
切る。この際、洗浄廃水の量はノズル管21から供給さ
れた洗浄水の量だけ増加することになるが、洗浄廃水の
上記増加分相当量は洗浄液貯槽Dからオーバーフローさ
れる。上記ノズル管21から供給された洗浄水は洗浄廃
水を希釈し、一定の清浄度に保つものである。以上が第
1洗浄工程である。次いで、処理槽6の低速回転をその
まま維持するかあるいは断続もしくは反転回転に切換え
、ポンプP,を作動して硝酸液を配液管24および配液
槽9を介して容体1内に充填する。
硝酸液は処理槽6内の彼処理物18が完全に浸債するま
で供給せられ、その時の液位はしベルゲージLによって
検出され、レベルゲージLからの信号によってポンプP
,が停止して硝酸液の供給を断つ。約3〜5秒そのまま
の状態を維持したのち処理槽6が断続もしくは反転回転
せしめられている場合は低速回転に切換えてから自動弁
MN,を開いて容体1内の硝酸液を排液管28Aから硝
酸タンクBに回収する。容体1内の硝酸液が殆ど排出さ
れてから約5秒間そのままの状態を維持して被処理物に
付着した硝酸を振り切る。この場合、第1洗浄工程後の
被処理物18が硝酸液に浸潰するまでの間処理槽6が高
速回転していないから表面は完全に乾いておらず単分子
膜程度の水は残着しており、したがってこの状態で硝酸
処理が行われることになり、処理が円滑に進む。以上が
硝酸処理工程である。次いで、処理槽6の低速回転を維
持するかあるいは断続もしくは反転回転せしめ、前述の
洗浄法1および/または洗浄法2を適用する。この際は
、第1洗浄工程によって回収せられた洗浄廃水と混合し
ないように別の洗浄液貯槽Dに洗浄廃水を回収すること
が望ましい。かくして前回と同様に被処理物18は効果
的に洗浄され、洗浄廃水は排出管29から洗浄液貯槽D
に回収せられる。
洗浄が終了したら自動弁MV3を閉じて洗浄液の供給を
停止し、所望なればいまらくそのままの状態を続けるこ
とによって洗浄廃水を振り切ったのち自動弁MV4を閉
じる。この場合、硝酸処理工程後の被処理物18が洗浄
水と接触するまでの間処理槽6は高速回転していないか
ら被処理物18の表面に残着している硝酸液は乾燥濃縮
されず、したがって硝酸液による被処理物18の腐蝕は
起らないのである。以上が第2洗浄工程である。自動弁
MN5が閉じるとともにポンプP2が作動するように設
定すれば、ポンプP2によってクロメート液タンクC中
のクロメート液は配液管25を介して配液槽9、更に容
体1に充填せられ、液位はポンプP2と連動するレベル
ゲージLIこよって調節せられる。
容体1内のクロメート液が所定の液位L、即ち被処理物
が完全に浸潰するに至るとポンプP2が停止する。この
間処理槽6は低速回転をそのまま維持するか、あるいは
断続もしくは反転回転に切換える。そのままの状態をい
まらく維持したのち、処理槽6が断続もしくは反転回転
せしめられている場合には低速回転に切換え、自動弁M
N2を開いて容体1から排液管288を介してクロメー
ト液をクロメート液タンクCに回収する。容体1内のク
ロメート液が殆ど排出されてからそのままの状態を続け
、被処理物に付着したクロメート液を振切る。クロメー
ト処理に際して被処理物18の表面には単分子膜程度の
洗浄水が残着しており、クロメート処理はこのような状
態では円滑に進む。以上がクロメート処理工程である。
次いで、処理槽6の低速回転を維持するかあるいは断続
もしくは反転回転せしめ、前述の洗浄法1および/また
は洗浄法2を適用する。この際もまた第1洗浄工程およ
び第2洗浄工程によって回収せられた洗浄廃水と夫々混
合しないように別の洗浄液貯槽Dに洗浄廃水を回収する
ことが望ましい。洗浄が終了したら自動弁My3を閉じ
て洗浄法の供給を停止し、所望なればいまらくそのまま
の状態を続けることによって洗浄廃水を振り切ったのち
自動弁hW4を閉じる。
第3洗浄工程の際には被処理物に残着しているクロメー
ト液は乾燥濃縮されず、したがって被処理物はクロメー
ト液に腐蝕されない。以上が第3洗浄工程である。以上
、第1洗浄工程・第2洗浄工程‘第3洗浄工程から選ば
れた1つの工程、または2つ以上の工程に必ず洗浄法1
を適用して洗浄廃液の回収を図るべきである。
次いで、ブレーキモーターによって高速回転を行い、脱
水を完全に図ると同時に容体1の蓋30を開き作動装置
日を作動させて熱風乾燥機Fから熱風を3〜5分間被処
理物に吹付けて乾燥を完全にする。ブレーキモーター地
および熱風乾燥機Fの作動装置日を停止する。以上が乾
燥工程である。以上に述べた6つの工程によってクロメ
ート処理が完了するから、金網のカゴ7を処理槽6から
取出すことにより作業は完了する。
本発明は上記実施例以外電解メッキ、無電解〆ッキ、亜
鉛−クロム処理その他如何なる表面処理にも適用されて
も有用である。
上記6つの工程はシーケンス制御され得、かくして入手
が全く必要でなくなる。
本発明は上記の構成を有するから、被処理物の移動に要
する装置、人手等が省略される上に多孔処理槽中の被処
理物は処理液に浸潰されつつ多孔処理槽とともに遠心力
によって束縛されることにより殆んどお互いに衝突し、
損傷し合うことなく回転するから被処理物の細部にまで
被処理液が速かにいきわたり、処理効率が向上するとと
もに処理が均一に施される。
また、被処理物に付着した処理液も遠心脱液されるから
残存量も少なくなり、処理液の回収率は向上し、かつ処
理液相互の混合も少なくなる。そして洗浄工程、硝酸工
程、クロメート処理工程の後は処理槽は高速回転されず
低速回転もしくは反転回転されて、その後につづく処理
を行うまで被処理物が完全に乾燥することを防止し、も
って処理の円滑化、処理液による腐蝕防止を図るもので
ある。更にまた洗浄廃水を洗浄液貯槽に回収し有効利用
するから、洗浄の際の洗浄水も極めて僅かですむから、
洗浄廃水量も少なくなり、処理が簡単かつ容易であり、
処理費用も低減される。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示すものであり、第1図は正断
面図、第2図は表面処理装置本体の斜視図、第3図は多
孔処理槽の斜視図、第4図はカゴの斜視図である。 図中 1…・・・容体、3・・・・・・回転軸、6・・
・・・・多孔処理槽、18・・・・・・被処理物、21
・・・・・・ノズル管、22……洗浄液供給管、MV.
,MV2,MV3,MV4,MV5・・・…自動弁、L
……レベルゲージ、M,,M2・・・・・・ブレーキモ
ーター、日・・・・・・熱風乾燥機の作動装置。 才4図 才1賊 才2図 才3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 容体と、該容体内に取付けられた多孔処理槽と、該
    容体に連通する配液槽と、該多孔処理槽内の内容物を洗
    浄する洗浄液撒布装置と、該多孔処理槽内の内容物を乾
    燥する熱風乾燥装置と、硝酸タンクと、クロメート液タ
    ンクと、洗浄排液貯槽とからなり、しかして多孔処理槽
    は垂直方向に回転軸を有し駆動装置Mによつて正逆両方
    向に高速および低速回転せしめられ、硝酸タンク、クロ
    メート液タンクおよび洗浄排液貯槽はポンプP_1,P
    _2,P_3が介在する配液管により夫々配液槽に連絡
    せられ、かつまた自動弁MV_1,MV_2,MV_4
    が介在する排液管によつて容体と夫々連絡せられ、配液
    槽にはレベルゲージLが配置せられ、洗浄液撒布装置は
    自動弁MV_3が介在する供液管が連絡せられ、熱風乾
    燥装置には作動装置Hが取付けられたことを特徴とする
    クロメート処理装置。 2 容体と、該容体内に取付けられた多孔処理槽と、該
    容体に連通する配液槽と、該多孔処理槽内の内容物を洗
    浄する洗浄液撒布装置と、該多孔処理槽内の内容物を乾
    燥する熱風乾燥装置と、硝酸タンクと、クロメート液タ
    ンクと洗浄排液貯槽とからなり、しかして多孔処理槽は
    垂直方向に回転軸を有し駆動装置Mによつて正逆両方向
    に高速および低速回転せしめられ、硝酸タンク、クロメ
    ート液タンクおよび洗浄排液貯槽はポンプP_1,P_
    2,P_3が介在する配液管により夫々配液槽に連絡せ
    られ、かつまた自動弁MV_1,MV_2,MV_4が
    介在する排液管によつて容体と夫々連絡せられ、配液槽
    にはレベルゲージLが配置せられ、洗浄液撒布装置は自
    動弁MV_3が介在する供液管が連絡せられ、熱風乾燥
    装置には作動装置Hが取付けられたクロメート処理装置
    において、被処理物を多孔処理槽に収容し、該処理槽を
    駆動装置Mによつて低速回転させつつ洗浄水を容体内に
    充填し、更にMV_4を開いて洗浄排水を排出管から洗
    浄液貯槽に回収する第1洗浄工程、MV_3を閉じてか
    ら処理槽の低速回転を維持しつつMV_4を閉じP_1
    を作動して硝酸液を配液槽を介して容体内に充填し、処
    理槽内の被処理物が完全に浸漬する液位LでP_1を停
    止し、しかるのちMV_1を開いて容体から硝酸タンク
    に硝酸液を回収し、かつ振切る硝酸処理工程、MV_1
    を閉じ処理槽の低速回転を維持させつつ洗浄水を容体内
    に充填し、更にMV_4を開いて洗浄排水を排出管から
    洗浄排液貯槽に回収する第2洗浄工程、Mを閉じてから
    Mを停止して処理槽の低速回転を中断し、MV_4を閉
    じP_2を作動してクロメート液を配液槽を介して容体
    に充填し、処理槽内の被処理物が完全に浸漬する液位L
    でP_2を停止し、しかるのち多孔処理槽をMによつて
    断続もしくは反転回転せしめた後、処理槽を低速回転せ
    しめつつMN_3を開いて容体からクロメート液タンク
    にクロメート液を回収し、かつ振切るクロメート処理工
    程、MV_2を閉じ処理槽の低速回転を維持しつつ洗浄
    水を容体内に充填し、更にMV_4を開いて洗浄廃水を
    排出管から洗浄液貯槽に回収する第3洗浄工程、MV_
    3を閉じ処理槽をMによつて高速回転せしめつつHを作
    動して残存洗浄水の振切りおよび乾燥を行う乾燥工程。 以上の工程からなり、しかして第1洗浄工程、第2洗
    浄工程、第3洗浄工程は処理槽を駆動装置Mによつて低
    速回転させつつP_3を作動して洗浄液貯槽から洗浄水
    を容体内に充填し、処理槽内の被処理物が完全に浸漬す
    る水位でP_3を停止しMV_4を開いて洗浄廃水を排
    出管から洗浄液貯槽に回収する洗浄法1、および/また
    はMV_3を開いて洗浄水を洗浄液撒布装置から被処理
    物に噴射する洗浄法2によつて行なうが、第1洗浄工程
    、第2洗浄工程、第3洗浄工程から選ばれた1つの工程
    、または2つ以上の工程に必ず洗浄法1を適用すること
    を特徴とするクロメート処理方法。3 容体と、該容体
    内に取付けられた多孔処理槽と、該容体に連通する配液
    槽と、該多孔処理槽内の内容物を洗浄する洗浄液撒布装
    置と、該多孔処理槽内の内容物を乾燥する熱風乾燥装置
    と、硝酸タンクと、クロメート液タンクと、洗浄排液貯
    槽とからなり、しかして多孔処理槽は垂直方向に回転軸
    を有し駆動装置Mによつて正逆両方向に高速および低速
    回転せしめられ、硝酸タンク、クロメート液タンクおよ
    び洗浄排液貯槽はポンプP_1,P_2,P_3が介在
    する配液管により夫々配液槽に連絡せられ、かつまた自
    動弁MV_1,MV_2,MV_4が介在する排液管に
    よつて容体と夫々連絡せられ、配液槽にはレベルゲージ
    Lが配置せられ、洗浄液撒布装置は自動弁MV_3が介
    在する供液管が連絡せられ、熱風乾燥装置には作動装置
    Hが取付けられたクロメート処理装置において、被処理
    物を多孔処理槽に収容し、該処理槽を駆動装置Mによつ
    て低速回転させつつ洗浄水を容体内に充填し、更にMV
    _4を開いて洗浄排水を排出管から洗浄液貯槽に回収す
    る第1洗浄工程、MV_3を閉じてからMによつて処理
    槽を断続もしくは反転回転せしめつつMV_4を閉じP
    _1を作動して硝酸液を配液槽を介して容体内に充填し
    、処理槽内の被処理物が完全に浸漬する液位LでP_1
    を停止し、しかるのちMによつて処理槽を低速回転させ
    つつMV_1を開いて容体から硝酸タンクに硝酸液を回
    収し、かつ振切る硝酸処理工程、MV_1を閉じ処理槽
    を断続もしくは反転回転せしめつつ洗浄水を容体内に充
    填し、更にMによつて処理槽を低速回転させMV_4を
    開いて洗浄排水を排出管から洗浄液貯槽に回収する第2
    洗浄工程、MV_3を閉じてからMを停止して所望なれ
    ば処理槽の低速回転を中断し、あるいは処理槽の低速回
    転を維持しつつMV_4を閉じP_2を作動してクロメ
    ート液を配液槽を介して容体に充填し処理槽内の被処理
    物が完全に浸漬する液位LでP_2を停止し、しかるの
    ち多孔処理槽をMによつて断続もしくは反転回転せしめ
    た後、処理槽を低速回転せしめつつMV_2を開いて容
    体からクロメート液タンクにクロメート液を回収し、か
    つ振切るクロメート処理工程、MV_2を閉じ処理槽を
    断続もしくは反転回転せしめつつ洗浄水を容体内に充填
    し、更にMによつて処理槽を低速回転させMV_4を開
    いて洗浄排水を排出管から洗浄液貯槽に回収する第3洗
    浄工程、MV_3を閉じ処理槽をMによつて高速回転せ
    しめつつHを作動して残存洗浄水の振切りおよび乾燥を
    行う乾燥工程。 以上の工程からなり、しかして第1洗浄工程、第2洗
    浄工程、第3洗浄工程は処理槽を駆動装置Mによつて低
    速回転させつつP_3を作動して洗浄液貯槽から洗浄水
    を容体内に充填し、処理槽内の被処理物が完全に浸漬す
    る水位でP_3を停止しMV_4を開いて洗浄排水を排
    出管から洗浄液貯槽に回収する洗浄法1、および/また
    はMV_3を開いて洗浄水を洗浄液撒布装置から被処理
    物に噴射する洗浄法2によつて行なうが、第1洗浄工程
    、第2洗浄工程、第3洗浄工程から選ばれた1つの工程
    、または2つ以上の工程に必ず洗浄法1を適用すること
    を特徴とするクロメート処理方法。
JP54081052A 1979-06-26 1979-06-26 クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法 Expired JPS6028908B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP54081052A JPS6028908B2 (ja) 1979-06-26 1979-06-26 クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP54081052A JPS6028908B2 (ja) 1979-06-26 1979-06-26 クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS565983A JPS565983A (en) 1981-01-22
JPS6028908B2 true JPS6028908B2 (ja) 1985-07-08

Family

ID=13735634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP54081052A Expired JPS6028908B2 (ja) 1979-06-26 1979-06-26 クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6028908B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105506664A (zh) * 2015-12-08 2016-04-20 松阳上上德盛不锈钢有限公司 一种酸液自循环冲洗水重复利用的不锈钢管酸洗工艺

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4221694Y1 (ja) * 1966-02-12 1967-12-13
JPS5235723A (en) * 1975-08-21 1977-03-18 Siemens Ag Electrodeposition process of aluminum and its apparatus
JPS5340172A (en) * 1976-09-27 1978-04-12 Ebara Corp Synchronizing circuit for hydraulic actuators
JPS5421927A (en) * 1977-07-20 1979-02-19 Neiman Sa Method and apparatus for elctrolytic treatment

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4221694Y1 (ja) * 1966-02-12 1967-12-13
JPS5235723A (en) * 1975-08-21 1977-03-18 Siemens Ag Electrodeposition process of aluminum and its apparatus
JPS5340172A (en) * 1976-09-27 1978-04-12 Ebara Corp Synchronizing circuit for hydraulic actuators
JPS5421927A (en) * 1977-07-20 1979-02-19 Neiman Sa Method and apparatus for elctrolytic treatment

Also Published As

Publication number Publication date
JPS565983A (en) 1981-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4197000A (en) Positive developing method and apparatus
CN107790453A (zh) 一种进样瓶自动清洗装置
CN210280104U (zh) 化工桶清洗装置
US4325320A (en) Apparatus employed in surface treatment
US3945388A (en) Apparatus for counterflow rinsing of workpieces
US6302123B1 (en) Rotary liquid diverter for industrial parts washer
US20110277795A1 (en) Apparatus for washing material
JP2520850B2 (ja) 横転式遠心洗浄乾燥装置
JPS6028907B2 (ja) クロメ−ト処理方法
JPS6028908B2 (ja) クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法
US5366584A (en) Removing uncured emulsion from stencils during photomask production
CN206624919U (zh) 原材料清洗机
JPS6028905B2 (ja) クロメ−ト処理装置および該処理装置を用いるクロメ−ト処理方法
JPS6028906B2 (ja) クロメ−ト処理方法
CN106967989A (zh) 一种原材料清洗机及清洗方法
JP2767684B2 (ja) 洗浄脱液装置
JPH07284737A (ja) 部品洗浄方法及びその洗浄装置
CN106475346A (zh) 旋转式高压喷淋清洗机
US4294626A (en) Method for the treatment of surfaces and apparatus employed in said method
JPS598769Y2 (ja) 表面処理装置
JP2000288284A (ja) 連続式水洗方法及び水洗機
JPH07331471A (ja) 洗浄脱液装置
JP2942919B2 (ja) 水中の固形物の分離回収装置
JPH0957223A (ja) 部品洗浄装置
JPH0733889Y2 (ja) 油清浄機の洗浄装置