JPS6028818B2 - インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法 - Google Patents
インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS6028818B2 JPS6028818B2 JP1434379A JP1434379A JPS6028818B2 JP S6028818 B2 JPS6028818 B2 JP S6028818B2 JP 1434379 A JP1434379 A JP 1434379A JP 1434379 A JP1434379 A JP 1434379A JP S6028818 B2 JPS6028818 B2 JP S6028818B2
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- indole
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- reaction
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、インドールまたはインドール誘導体の製造法
に関するものである。
に関するものである。
さらに詳細には、Ｎ−８ーヒドロキシェチルアニリンま
たはその核置換議導体を還元鋼含有触媒と共に加熱する
ことにより、インドールまたはインドール誘導体を製造
する方法に関するものである。インドールは種々の製法
が古くから提案されており、その誘導体も研究されてい
る。
たはその核置換議導体を還元鋼含有触媒と共に加熱する
ことにより、インドールまたはインドール誘導体を製造
する方法に関するものである。インドールは種々の製法
が古くから提案されており、その誘導体も研究されてい
る。
インドールの２位置に置換基、例えばフェニル基または
メチル基を持つ化合物の場合には、優れた合成法があり
工業的製造も比較的容易である。しかしながら、インド
ールそのもの、あるいはベンゼン環にのみ置換基のある
化合物の工業的に有利な製造法は未だ知られていない。
例えば、オルトーニトロトルェンを還元しオルトートル
ィジンを得、これをＮーホルミル化してから苛性アルカ
リと熔融後、数工程を経てインドールを得る等の方法が
公知である。前記の方法は、出発原料のオルト，パラ異
性体間の数量的バランスの問題、および熔融塩の取扱い
等の繁雑な工程等の種々な欠点がある。オルトーパラ異
性体間の数量的バランスは、工業的大量生産の際に大き
な問題となるし、熔融塩の取扱いも工業的な規模で実施
するのは困難である。本発明の目的は、前記のような欠
点のないインドールまたはインドール誘導体の製法を提
供することにある。
メチル基を持つ化合物の場合には、優れた合成法があり
工業的製造も比較的容易である。しかしながら、インド
ールそのもの、あるいはベンゼン環にのみ置換基のある
化合物の工業的に有利な製造法は未だ知られていない。
例えば、オルトーニトロトルェンを還元しオルトートル
ィジンを得、これをＮーホルミル化してから苛性アルカ
リと熔融後、数工程を経てインドールを得る等の方法が
公知である。前記の方法は、出発原料のオルト，パラ異
性体間の数量的バランスの問題、および熔融塩の取扱い
等の繁雑な工程等の種々な欠点がある。オルトーパラ異
性体間の数量的バランスは、工業的大量生産の際に大き
な問題となるし、熔融塩の取扱いも工業的な規模で実施
するのは困難である。本発明の目的は、前記のような欠
点のないインドールまたはインドール誘導体の製法を提
供することにある。
本発明者らは、インドールまたはインドール譲導体の製
法に関し種々研究した結果、Ｎ−８−ヒドロキシェチル
アニリンまたは核置換誘導体を加熱した還元鋼含有触媒
と接触させると、一段の反応操作で目的物が生成するこ
とを見出し本発明を完成するに至った。
法に関し種々研究した結果、Ｎ−８−ヒドロキシェチル
アニリンまたは核置換誘導体を加熱した還元鋼含有触媒
と接触させると、一段の反応操作で目的物が生成するこ
とを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の方法は、Ｎ−８ーヒドロキシェチル
ァニリンまたはその核置換体を加熱した還元鋼含有触媒
に接触させインドールまたはインドール誘導体を製造す
るものである。
ァニリンまたはその核置換体を加熱した還元鋼含有触媒
に接触させインドールまたはインドール誘導体を製造す
るものである。
したがって、本発明の方法によれば、前述のような欠点
もなく一段の反応操作でインドールまたはインドール譲
導体を製造でき、工業的に非常に有利である。
もなく一段の反応操作でインドールまたはインドール譲
導体を製造でき、工業的に非常に有利である。
すなわち、本発明の方法の出発原料はオルトーパラ異性
体バランスの問題もなく、熔融塩のような取扱いの繁雑
な工程も含まない簡単な方法である。本発明の方法にお
いて、原料物質であるＮ−８ーヒドロキシエチルアニリ
ンは、アニリンとエチレンオキサィドとから容易に高収
率で得られる。
体バランスの問題もなく、熔融塩のような取扱いの繁雑
な工程も含まない簡単な方法である。本発明の方法にお
いて、原料物質であるＮ−８ーヒドロキシエチルアニリ
ンは、アニリンとエチレンオキサィドとから容易に高収
率で得られる。
アニリンとエチレンオキサィドは、工業原料として大量
安価に入手可能であるため、インドールの出発物質とし
て極めて有利である。また核置換誘導体の出発原料も全
く同様にして得られる。本発明の方法において用いられ
る触媒は、還元銅を含有するものである。このような還
元銅含有触媒は単味の触媒でも良いが、通常は、迫体上
に損持するか、第二、第三成分を添加した多元系触媒と
して使用するのが有利である。還元銅触媒を調製するに
際し、銅の形態としては、還元状の鋼または亜酸化鋼も
しくはれるの混合物である。担持鋼触媒は、適当な担体
上に浸涜等の手段で銅塩を付け、熱分解する方法で調製
する。適当な担体は、シリカゲル，軽石，シリコンカー
バイド等であり、熔融アルミナは使用できるが、広表面
積のアルミナは副反応の点で好ましくない。多成分系の
触媒としては、銅クロマィト触媒，銅−クロマィト一酸
化マンガン触媒，またはこれらを桂藻土と共に整形打錠
した触媒等である。上誌の触媒は、通常、反応を実施す
るに先立って、常法により還元処理を行なう。還元処理
の方法は、例えば、水素と窒素等の不活性ガスとの混合
気体を流しながら、温度を少しづつ昇温し、２５０〜３
５０ｑｏで数時間保つことにより行なう。また以上の方
法による還元処理を行なわず、反応系で還元される還元
鋼含有触媒であっても良い。本発明の方法を実施するに
は、通常、原料物質であるＮ−８ーアニリノェタノール
を気化させ、水素ガスあるいは、水素を窒素またはメタ
ン等の不活性ガスで稀釈したキャリャーガスと共に反応
管に導き、熱してある還元鋼含有触媒と接触させること
により行なう。
安価に入手可能であるため、インドールの出発物質とし
て極めて有利である。また核置換誘導体の出発原料も全
く同様にして得られる。本発明の方法において用いられ
る触媒は、還元銅を含有するものである。このような還
元銅含有触媒は単味の触媒でも良いが、通常は、迫体上
に損持するか、第二、第三成分を添加した多元系触媒と
して使用するのが有利である。還元銅触媒を調製するに
際し、銅の形態としては、還元状の鋼または亜酸化鋼も
しくはれるの混合物である。担持鋼触媒は、適当な担体
上に浸涜等の手段で銅塩を付け、熱分解する方法で調製
する。適当な担体は、シリカゲル，軽石，シリコンカー
バイド等であり、熔融アルミナは使用できるが、広表面
積のアルミナは副反応の点で好ましくない。多成分系の
触媒としては、銅クロマィト触媒，銅−クロマィト一酸
化マンガン触媒，またはこれらを桂藻土と共に整形打錠
した触媒等である。上誌の触媒は、通常、反応を実施す
るに先立って、常法により還元処理を行なう。還元処理
の方法は、例えば、水素と窒素等の不活性ガスとの混合
気体を流しながら、温度を少しづつ昇温し、２５０〜３
５０ｑｏで数時間保つことにより行なう。また以上の方
法による還元処理を行なわず、反応系で還元される還元
鋼含有触媒であっても良い。本発明の方法を実施するに
は、通常、原料物質であるＮ−８ーアニリノェタノール
を気化させ、水素ガスあるいは、水素を窒素またはメタ
ン等の不活性ガスで稀釈したキャリャーガスと共に反応
管に導き、熱してある還元鋼含有触媒と接触させること
により行なう。
原料物質の触媒床への供給速度は、通常、液空間速度Ｌ
ＨＳＶで表わすと０．１〜１の範囲が多用される。
ＨＳＶで表わすと０．１〜１の範囲が多用される。
触媒床の温度は、２００〜５００００、特に２５０〜４
００ｑｏの範囲が好ましい。触媒床の形式は、通常の固
定床または流動床である。反応は、通常、常圧で実施す
るが減圧または加圧でもよい。反応器を流出した反応生
成物は、冷却したトラップに補集し、常法、例えば蒸留
等の手段でインドールまたはインドール誘導体を取得す
る。
００ｑｏの範囲が好ましい。触媒床の形式は、通常の固
定床または流動床である。反応は、通常、常圧で実施す
るが減圧または加圧でもよい。反応器を流出した反応生
成物は、冷却したトラップに補集し、常法、例えば蒸留
等の手段でインドールまたはインドール誘導体を取得す
る。
未反応原料は、ふたたび出発物質として反応系にリサイ
クルする。以下、実施例により本発明を説明する。
クルする。以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 １
内軽１２ｈ／ｍのパィレックスガラス製反応器に、０．
５〜１．５ｍ／ｍ粒径の触媒７の‘を充填して反応に供
した。
５〜１．５ｍ／ｍ粒径の触媒７の‘を充填して反応に供
した。
触媒は、銅クロム酸アンモニウム塩と炭酸マンガンとの
混合物を熱分解し、桂藻士を混合後打錠整型したものを
砕し上記粒度範囲のものを反応に用いた。上記触媒の桂
湊士分を除いた組成は、Ｃｕ０５０％，Ｃｒ２Ｑ４５％
，Ｍｍ０２５％であり、ＢＥＴ表面積は３２で／夕であ
る。水素ガス０．１部，窒素ガス０．＄都から成る混合
ガス１００Ｍ／ｍｉｎで反応管に供給し、触媒床温度を
室温から３００ｑｏまで徐々に上げ３００ｑｏで１時間
、３４０℃で１時間保ち触媒を還元した。
混合物を熱分解し、桂藻士を混合後打錠整型したものを
砕し上記粒度範囲のものを反応に用いた。上記触媒の桂
湊士分を除いた組成は、Ｃｕ０５０％，Ｃｒ２Ｑ４５％
，Ｍｍ０２５％であり、ＢＥＴ表面積は３２で／夕であ
る。水素ガス０．１部，窒素ガス０．＄都から成る混合
ガス１００Ｍ／ｍｉｎで反応管に供給し、触媒床温度を
室温から３００ｑｏまで徐々に上げ３００ｑｏで１時間
、３４０℃で１時間保ち触媒を還元した。
還元終了後水素ガス０．５部，窒素ガス０．５部から成
る混合ガス１５０の‘／ｍｉｎで反応器に供給し、Ｎ−
８ーヒドロキシェチルアニリンを３私／Ｈｒで気化器に
供給し反応管に導入し反応させた。触媒床温度は３４０
℃に保った。反応開始後３〜４時間の間に冷却してある
トラップに補集した反応液を分析した所、インドール４
０％，アニリン３５％，未反応原料１０％，インドリン
１０％であった。
る混合ガス１５０の‘／ｍｉｎで反応器に供給し、Ｎ−
８ーヒドロキシェチルアニリンを３私／Ｈｒで気化器に
供給し反応管に導入し反応させた。触媒床温度は３４０
℃に保った。反応開始後３〜４時間の間に冷却してある
トラップに補集した反応液を分析した所、インドール４
０％，アニリン３５％，未反応原料１０％，インドリン
１０％であった。
反応開始後１０〜１１時間の間に補集した反応液の組成
は、インドール４３％，アニリン磯％，未反応原料８％
，インドリン１０％であった。生成液を分取し、ＮＭＲ
スペクトルを測定したところ、目的物は、標品インドー
ルのそれとよく一致した。実施例 ２ 粒径０．６〜１．靴／ｍ範囲のシリカゲル（表面積２０
０のノタ，平均紬孔径９０Ａ）に硝酸鋼水溶液を浸溝後
、１００℃乾燥、５００℃で３時間焼成し触媒を調製し
た。
は、インドール４３％，アニリン磯％，未反応原料８％
，インドリン１０％であった。生成液を分取し、ＮＭＲ
スペクトルを測定したところ、目的物は、標品インドー
ルのそれとよく一致した。実施例 ２ 粒径０．６〜１．靴／ｍ範囲のシリカゲル（表面積２０
０のノタ，平均紬孔径９０Ａ）に硝酸鋼水溶液を浸溝後
、１００℃乾燥、５００℃で３時間焼成し触媒を調製し
た。
シリカゲル上への酸化鋼の担持量は、２５Ｍ％である。
上記触媒７泌を実施例一１と同様の装置に充填し、同様
の方法で還元処理し、用いる原料のみをＮ一８−ヒドロ
キシエチルーオルトートルイジンに変えて反応させた。
上記触媒７泌を実施例一１と同様の装置に充填し、同様
の方法で還元処理し、用いる原料のみをＮ一８−ヒドロ
キシエチルーオルトートルイジンに変えて反応させた。
補集した反応物を分析したところ、７ーメチルーインド
ールの含有量は、斑％、７−メチルーィンドリン１０％
、オルトトルイジン４０％、未反応原料６％であった。
実施例 ３硝酸アルミニウムと硝酸鋼の混合水溶液に苛
性カリ水溶液を滴下しアルミニウムと銅の共沈ゲルを生
成させ、水洗、乾燥（１００午０、田ｒ）後空気雰囲気
下４５０℃で４時間焼成し触媒を調製した。
ールの含有量は、斑％、７−メチルーィンドリン１０％
、オルトトルイジン４０％、未反応原料６％であった。
実施例 ３硝酸アルミニウムと硝酸鋼の混合水溶液に苛
性カリ水溶液を滴下しアルミニウムと銅の共沈ゲルを生
成させ、水洗、乾燥（１００午０、田ｒ）後空気雰囲気
下４５０℃で４時間焼成し触媒を調製した。
触媒中のＣｕ０とＡＩ２０３の割合はＣｕ○が１欧れ％
、Ｎ２０３が８２Ｍ％であった。本触媒を０．８ｈ／ｍ
〜１．仇ｒ／ｍに砕いたもの１０叫を実施例１と同様の
反応装置に充填し、水素ガス０．１部，窒素ガス０．９
部から成る混合ガスを用い２００ｑ○から３５ぴ０まで
２時間を要し、徐々に昇温し、３５０ｑｏで１時間保っ
て触媒を還元し、アルミナに担持した還元鋼触媒を調製
した。水素ガス０．５部，窒素ガス０．５部から成る混
合ガスを２００机／ｍｉｎで反応器に供給し、Ｎ−Ｂー
ヒドロキシェチルアニリンを２泌／Ｈｒで気化器を経て
反応管に導入し反応させた。
、Ｎ２０３が８２Ｍ％であった。本触媒を０．８ｈ／ｍ
〜１．仇ｒ／ｍに砕いたもの１０叫を実施例１と同様の
反応装置に充填し、水素ガス０．１部，窒素ガス０．９
部から成る混合ガスを用い２００ｑ○から３５ぴ０まで
２時間を要し、徐々に昇温し、３５０ｑｏで１時間保っ
て触媒を還元し、アルミナに担持した還元鋼触媒を調製
した。水素ガス０．５部，窒素ガス０．５部から成る混
合ガスを２００机／ｍｉｎで反応器に供給し、Ｎ−Ｂー
ヒドロキシェチルアニリンを２泌／Ｈｒで気化器を経て
反応管に導入し反応させた。
触媒床温度は３２０午０に保った。反応開始後４〜６時
間の間にトラツブに楠集した反応器出口液を分析したと
ころ、インドール４２％，アニリン３０％，インドリン
４％、未反応原料１８％，不明物、６Ｍ％の組成であっ
た。
間の間にトラツブに楠集した反応器出口液を分析したと
ころ、インドール４２％，アニリン３０％，インドリン
４％、未反応原料１８％，不明物、６Ｍ％の組成であっ
た。
実施例 ４
粒状のラネー合金（Ｃｕ／ＡＩ＝５０／５０）を苛性ソ
ーダ水溶液で展開し、金属状のラネー鋼、粒状触媒（１
〜１．８ｈ／ｍ粒径）を調製し、窒素雰囲気中で実施例
１と同様の反応器に充填した。
ーダ水溶液で展開し、金属状のラネー鋼、粒状触媒（１
〜１．８ｈ／ｍ粒径）を調製し、窒素雰囲気中で実施例
１と同様の反応器に充填した。
Claims (1)
- １ Ｎ−β−ヒドロキシエチルアニリンまたはその核置
換体を還元銅を含有する触媒の存在下に加熱することを
特徴とするインドールまたはインドール誘導体の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1434379A JPS6028818B2 (ja) | 1979-02-13 | 1979-02-13 | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1434379A JPS6028818B2 (ja) | 1979-02-13 | 1979-02-13 | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55108850A JPS55108850A (en) | 1980-08-21 |
| JPS6028818B2 true JPS6028818B2 (ja) | 1985-07-06 |
Family
ID=11858416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1434379A Expired JPS6028818B2 (ja) | 1979-02-13 | 1979-02-13 | インド−ルまたはインド−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028818B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4376205A (en) * | 1981-04-15 | 1983-03-08 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for the preparation of indoles from anilines and ethanolamines |
| US4456760A (en) * | 1981-04-15 | 1984-06-26 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Process for the preparation of indoles |
| US4443615A (en) * | 1981-11-10 | 1984-04-17 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Process for preparing indoles |
| JPS5910565A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | インド−ル類化合物の製造方法 |
| CN107445881A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-12-08 | 重庆华歌生物化学有限公司 | 一种吲哚类化合物的制备方法及其应用 |
-
1979
- 1979-02-13 JP JP1434379A patent/JPS6028818B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55108850A (en) | 1980-08-21 |
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