JPS6028327A - 論理回路 - Google Patents

論理回路

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JPS6028327A
JPS6028327A JP58136973A JP13697383A JPS6028327A JP S6028327 A JPS6028327 A JP S6028327A JP 58136973 A JP58136973 A JP 58136973A JP 13697383 A JP13697383 A JP 13697383A JP S6028327 A JPS6028327 A JP S6028327A
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series
channel
point
logic signal
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JP58136973A
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Genshi Fukada
深田 源士
Kenji Matsuo
松尾 研二
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/01Modifications for accelerating switching
    • H03K19/017Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits
    • H03K19/01707Modifications for accelerating switching in field-effect transistor circuits in asynchronous circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/0944Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors using MOSFET or insulated gate field-effect transistors, i.e. IGFET
    • H03K19/0948Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors using MOSFET or insulated gate field-effect transistors, i.e. IGFET using CMOS or complementary insulated gate field-effect transistors

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はMOSFETを用いた論理回路に関し、特に
電源電圧(接地電圧も含む)印加点と論理信号出力点と
の間に同一チャネルのMOSFETが3個以上直列接続
された構造を持つ論理回路に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
第1図(a) 、 (b)は3人力のNANDグートゲ
ーびNORダートのシンボルを示す図でちシ、この両ダ
ートをCMOSFET構成で実現する場合、従来では第
2図(、) 、 (b)の回路に示すように構成されて
Vr7)。すナワち、従来の3人力CMOS I NA
ND r −トは第2図(、)に示すように、正極性の
電源電圧VDD印加点と論理出力信号OUTを得る論理
信号出力点11との間に3個のPチャネルMOSFET
12、13.14を並列接続し、また論理信号出力点1
1と接地電圧VSII印加点との間に3個のNチャネル
MOSFET l 5 、 1 6 、 1 7を直列
接続して構成される。さらにこのNANDケ゛一トでは
、上記PチャネルMOSFET 1 2のダートとNチ
ャネルMOSFET15のダートとが接続されここに第
1の論理入力信号INIが供給され、同様に上記Pチャ
ネルMOSFET 1 3のダートとNチャネルMOS
FET 1 6のゲートとが接続されここに第2の論理
人力信号IN,9が供給され、同様に上記PチャネルM
OSFET 1 4のダートとNチャネルMOSFET
17のダートとが接続されここに第3の論理入力信号I
NJが供給される。
また、従来の3人力CM08 NORダートは第2図(
b)に示すように、上記NANDグートゲー合とは反対
に、VDD印加点と論理出力信号OUTを得る論理信号
出力点21との間に3個のPチャネルMOSFET 2
 2 、 2 3 、 2 4を直列接続し、上記論理
信号出力点21とVSII印加点との間に3個のNチャ
ネルMOSFET 2 5 、 2 6 、 2 7を
並列接続して構成される。このNORダートではさらに
、上記PチャネルMOSFET 2 2のダートとNチ
ャネルMOSFET 2 5のダートとが接続されここ
に第1の論理入力信号INJが供給され、同様に上記P
チャネルMOSFET 2 3のダートとNチャネルM
OSFET 2 6のゲートとが接続されここに第2の
論理入力信号IN2が供給され、同様に上記Pチャネル
MOSFET 2 4のダートとNチャネルMOSFE
T27のダートとが接続されここに第3の論理入力信号
INJが供給される。
ところで、第1図(a) 、 (b)に示す3人力のN
ANDグー) 、 NORダートでは、3つのうちいず
れか2つの入力信号′として常にvDDレベル(論理″
1″レベル)するいIfiVssレペル(論理″′0”
レベル)を供給し、1つの論理入力信号に対してインバ
ータとして作用するように使われることがある。ところ
が、第2図(a) 、 (b)に示すように構成された
従来のダートをこのようにして使用する場合には次のよ
うな欠点がある。
たとえばNANDグートゲー合、第3図(、)に示すよ
うに前記第2,第3の論理入力信号IN,? 、 IN
,9として1”レベルを常時供給したとき、第3図(b
)に示すように前記第1,第3の論理入力信号IN4 
、 INJとして”1#レベルを常時供給したとき、第
3図(C)に示すように前記y1.2.2の論理入力信
号INI 、 IN2として11ルベルを常時供給した
とき、それぞれのインバータとしての動作を比較する。
第4図(a) 、 (b) 、 (e)は上記第3図(
a) 、 (b) 、 (c)それぞれに対応する前記
第2図(a)の回路の等価回路図である。
第4図(、)の回路の場合、前記第2図(、)の回路内
のPチャネルMO8FET 23 、14が常時オフ、
Nチャネル間O8FET 16 、17が常時オンとな
るため、この回路はPチャネルMO8FET、 12と
Nチャネル間O8FET 15とからなり第1の論理入
力信号INJを入力とするCMOSインバータとみなす
ことができる。なお、第4図(a)において、抵抗R,
,R3は前記NチャネルMO8FET 16 、17の
オン抵抗に押当する値を持つ抵抗であシ、コンデンサC
NI 、 CN2はNチャネル間O8FET 15〜1
7の各直列接続点とVSII印加点との間に寄生的に生
じておシ、MOSFET 15〜17に基づく寄生容量
に相当する値をもつものであシ、さらにコンデンサC3
utは論理信号出力点11とVIi8印加点との間に寄
生的に生じてお、!l) MOSFET 15に基づく
寄生容量を含む容量に相当する値を持つものである。
第4図(b)の回路の場合、前記PチャネルMO8FE
T 12 、14が常時オフ、前記NチャネルMO8F
ET 15 、17が常時オンとなるため、この回路は
PチャネルMO8FET 13とNチャネル間O8FE
T 16とからなり第2の論理入力信号IN2を入力と
するcmosインバータとみなすことができる。
第4図(C)の回路の場合、前記PチャネルMO8FE
T J 2 、13が常時オフ、前記NチャネルMO3
FET 15 、 J 6が常時オンとなるため、この
 0”回路はPチャネルMO8FET 14とNチャネ
ルMO8FET17とからなシ第3の論理入力信号IN
、9を入力とするCMOSインバータとみなすことがで
きる。
なお、この第4図(C)および上記第4図(b)におい
て、抵抗R1*R2la3は前記NチャネルMO8FE
T 15〜17のオン抵抗に相当する値を持つ抵抗でア
シ、CNI 、 CN2およびC6utけそれぞれ第4
図(a)内のものと対応したコンデンサである。
ここで前記第2図(、)の回路において、3個のNチャ
ネル間O8FET 25〜17が同一チャネル長および
チャネル幅で設計されていれば、上記3個の抵抗R1、
R2、R3の値はすべて等し、いものとなり、また第4
図(a)〜(C)の各回路内のコンデンサCNJ 、 
CN2 、 CHtそれぞれの値も互いに等しいものと
なる。そしていま、論理信号出力点1ノを゛1#レベル
に設定するような論理入力信号INJ 、 IN2 、
 INSが与えられるときの第4図(、)〜(c)の等
価回路の動作について考える。
第4図(、)の回路において、論理入力信号INJが゛
0#レベルに設定され、これによってPチャネルMO8
FET J 2がオンされ、論理信号出力点11を“1
”レベルに設定する場合には、論理信号出力点11に接
続されている容量C3utのみをMOSFET 12を
介して充電するだけでよい。これに対して第4図(C)
の場合には、上記容量C3utを充電する他にさらに2
つの容量CNI 、 CN2も同時に充電する必要があ
シ、また第4図(b)の場合には容量C3utの他にC
NIも同時に充電する必要がちる。このため、論理信号
出力点11とVBS印加点との間のインピーダンスは第
4図(、)のものが最も小さくまた第4図(C)のもの
が最も大きくかつ第4図(b)のものはその間の値とな
る。
このように上記インピーダンスが異なるということは、
スイッチング速度が異なるということを意味し、この゛
結果、前記第2図(、)の従来回路をインバータとして
動作させる場合に、どの入力信号を用いるかによってス
イッチング速1stに差が生じてしまうという欠点があ
る。
・ところでCMOSインバータの回路しきい値電圧V 
theは一般に次式で与えられる (ただしVtM 、VthpはNチャネルおよびPチャ
ネルMO8FETのしきい値電圧であり、■DDは電源
電圧、KP、 KNはPチャネルおよびNチャネル間O
8FETのチャネル長、チャネル幅等によって定まる電
流駆動能力を示す定数である。)ここで第4図(a)〜
(c)の各等価回路のインバータとしての回路しきい値
電圧を比較する場合、”MOSFET 15〜17それ
ぞれの電流駆動能力が単独で3KNであるとする。第4
図(−)の回路の場合、MOSFET 15と抵抗R2
との接続点はは?YVssとなるために、MOSFET
 15の電流駆動能力はほぼ3KNに近い値となる。と
ころが第4図(b)の回路ノ場合K u MOSFET
 7 eよシもVDD側に抵抗R1があシ、さらに第4
図(c)の回路の場合にはMOSFET 17よシもV
DD側に2個の抵抗R1+R2があり、それぞれの回路
に組込まれているMOSFET l 6 、17の電流
駆動能力は抵抗R1もしくはR1とR2の存在によシ単
独の場合よシも低下する。このため、インバータとして
の回路しきい値電圧は第4図(、)のものが最も小さく
次に第4図(b)のものがこれよシも大きくさらに第4
図(c)のものが最も大きくなる。一般にCMOSイン
バータにおけるノイズマージンは回路しきい値電圧に左
右される。したがって、前記第2図(a)の従来回路を
インバータとして動作させる場合に、どの入力信号を用
いるかによってノイズマージンに差が生じてしまうとい
う欠点もある。
また、上記した欠点はNANDゲートばかシではなく、
前記第2図(b)に示す従来の3人力CMO8NAND
ダートについても同様に生じる。
〔発明の目的〕
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
アシ、その目的とするところはn個(nは3以上の整数
)の論理信号入力点を有し、いずれの論理信号入力点を
用いてインバータ動作情ぜる場合であっても、スイッチ
ング速度および回路しきい値電圧に差が生じないかもし
くは生じてもその差が小さな論理回路を提供することに
ある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するためこの発明にあっては、3人力の
CMO8NANDダートに卦いて、それぞれ3個のNチ
ャネルMO8FETを直列接続してなる直列回路を2個
接地電圧印加点と論理信号出力点との間に並列的に挿入
し、上記2個の直列回路内で直列接続されている各3個
のMOSFETのケ゛−トをn個の論理信号入力点の互
いに異なる論理信号入力点に接続し、かつ上記一方の直
列回路内で直列接続されている3個のMOSFETのう
ち特定の2個の各ダートが接続されている2個の各論理
信号入力点に、上記他方の直列回路内で直列接続されて
いる3個のMOSFETのうち上記特定の2個の各MO
8FET 、1: Dも上記論理信号出力点に相対的に
近い位置あるいは相対的に遠い位置に配置されている2
個のMOSFETの各ダートを接続するようにしている
〔発明の実施例〕
以下図面を参照してこの発明の詳細な説明する。第5図
はこの発明の一実施例の構成を示す回路図であシ、前記
第1図(、)のシンがルで示される3人力のNANDゲ
ートにこの発明を実施した場合のものである。
この回路は、正極性の電源電圧VDD印加点と論理出力
信号OUT′f:得る論理信号出力点3ノとの間に3個
のPチャネルMO8FET 32 、33 。
34を並列接続し、さらに上記論理信号出力点31と接
地電圧VSS印加点との間に2個の直列回路40.50
を並列挿入して構成される。上記一方の直列回路40は
さらに3個のNチャネルMO8FET 41 、42 
、43を直列接続して構成され、同様に上記他方の直列
回路5oは3個のNチャネルMO8FET 51 、5
2 、53を直列接続して構成される。さらにこの実施
例回路では、上記PチャネルMO8FET 32のダー
トとNチャネルMO8FET 41のダートおよびNチ
ャネルMO8FET53のダートが共通に接続され、さ
らにこの共通ダートは第1の論理入力信号INIが与え
られる論理信号入力点35に接続される。同様に上記P
チャネルMO8FET 33のダートとNチャネルMO
8FET 42 (DI”−トおよびN f−yネ# 
M08FET52のダートが共通に接続され、さらにこ
の共通ダートは第2の論理入力信号IN2が与えられる
論理信号入力点36に接続される。同様に上記Pチャネ
ルMO8FET 34のダートとNチャネルMO8FE
T 43 )ff −)およびNチャネルMO8FET
51のダートが共通に接続され、さらにこの共通ダート
は第3の論理入力信号IN3が与えられる論理信号入力
点37に接続される。
すなわち、この実施例回路において、論理信号出力点3
1と接地電圧vBIl印加点との間には、それぞれ3個
のNチャネルMO8FET 41〜43゜51〜53を
直列接続して構成されている2個の直列回路40.50
が並列挿入されている。
しかも2個の直列回路40.50内の各3個のMOSF
ET 41〜43.51〜53のダートは、3つの論理
信号入力点35〜37の互いに異なるものに接続されて
おシ、かつ一方の直列回路40内の1個のMOSFET
 41のダートが接続されている論理信号入力点35に
は、他方の直列回路50内の3個のMOSFET 51
〜53のうち上記MO8FET 41よシも論理信号出
力点31に相対的に遠い位置に配置されているMOSF
ET 53のダートが接続されている。さらに一方の直
列回路40内の1個のMOSFET 43のダートが接
続されている論理信号入力点37には、他方の直列回路
50内の3個のMOSFET 51〜53のうちMOS
FET 43よシも論理信号出力点31に相対的に近い
位置に配置されているMOSFET 51のダートが接
続されている。
次に上記のよりな構成でなる3人力のCMO8NAND
ダートを、前記と同様にいずれか2つの入力信号として
常−に″′1″レベルを供給してイ/パータとして使用
する場合を説明する。
まず、前記第3図(、)に示すように論理入力信号IN
、? 、 INJを常に1”レベルにする場合には1、
PチャネルMO8FET 33 、34が常時オフ、N
チャネルMO8FET 42 、43 、51 、52
が常時オンとなる。したがって、このときの等価回路は
第6図(、)のようになる。すなわち、VDD印加点と
論理信号出力点31との間にはダートが論理信号入力点
35に接続されているPチャネルMO8FET 32が
挿入され、論理信号出力点31とV88印加点との間に
は、MOSFET 41 、前記MO8FET 42の
オン抵抗に相当する値を持つ抵抗R12および前記MO
8FET 43のオン抵抗に相当する値を持つ抵抗R1
3が直列接続され、同様に論理信号出力点31とV81
1印加点との間には、前記MO8FET 51のオン抵
抗に相当する値を持つ抵抗R14,前記MO8FET 
52のオン抵抗に相当する値を持つ抵抗R’15および
MOSFET 53が直列接続されている。また、MO
SFET 41と抵抗R12との直列接続点44とV8
B印加点との間には、MO8FET41.42の寸法(
たとえばソース、ドレイン領域の面積等)に応じた値の
寄生的なコンデンサC1lが接続されている。同様に抵
抗R12とR13との直列、接続点45とVSS印加点
との間には、MOSFET 42 、43の寸法に応じ
た値の寄生的なコンデンサC12が接続されている。同
様に抵抗R14,とR15との直列接続点54とVSS
印加点との間には、MOSFET 5 f 、 52の
寸法に応じた値の寄生的なコンデンサC13が接続され
ている。
同様に抵抗R15とMOSFET 53との直列接続点
55とvss印加点との間には、MO8F’ET 52
 、53の寸法に応じた値の寄生的なコンデンサC14
が接続されている。さらに論理信号出力点31とV88
印加点との間には、MOSFET 41 、51の寸法
に応じた値を含む寄生的なコンデンサCOUTが接続さ
れている。なお、上記以外にも寄生的な容量は生じるが
、これ以降の説明とは無関係となるので省略した。
また、前記第3図(b)に示すように論理入力信号IN
I 、 IN、? ’?常に″′1#レベルにする場合
には、PチャネルMO8IT 32 、3 Jが常時オ
フ、NチャネルMO8FET 41 、43 、51 
、53が常時オンとなる。したがって、このときの等価
回路は第6図(b)のようになる。すなわち、VDD印
加点と論理信号出力点31との間にはPチャネルMO8
FET 33が挿入され、論理信号出力点31とV88
印加点との間には、MOSFET 41のオン抵抗に相
当する値を持つ抵抗R11+ MOSFET 42およ
びMOSFET 43のオン抵抗に相当する値を持つ抵
抗R13が直列接続され、同様に論理信号出力点31と
V88印加点との間には、MOSFET 510オン抵
抗に相当する値を持つ抵抗R14,MO8FET52お
よびMOSFET 53のオン抵抗に相当する値を持つ
抵抗R16が直列接続されている。また、第6図(、)
と同様に直列接続点44,45,54゜55それぞれと
V8g印加点との間には寄生的なコンデンサCtt・C
12・C1s・CI4が接続され)さらに論理信号出力
点3ノとVI18印加点との間には第6図(a)と同様
のコンデンサCOUTが接続されている。
さらにまた第5図の実施例回路において、前記第3図(
c)に示すように論理入力信号INJ 、 IN2を常
に“1#レベルにする場合には、PチャネルMO8FE
T 32.34が常時オフ、NチャネルMO8FET 
41 。
42.52.53が常時オンとなる。したがって、この
ときの等価回路は第6図(c)のようになる。す々わち
、vDD印加点と論理Gf’号出力点3ノとの間にはP
チャネルMO8FET 34が挿入され、論理信号出力
点3ノとVSS印加点との間にはMOSFET 41 
、42のオン抵抗に相当する値を持つ抵抗R11z R
12およびMO8FET43が直列接続され、同様に出
力点31とVH8印加点との間にはMOSFET 51
と、MO8F’ET 52 。
53のオン抵抗に相当する値を持つ抵抗R15゜R16
が直列接続されている。また、この第6図(c)の場合
にも前記第6図(、)と同様に、直列接続点44.45
,54.55それぞれとV8S印加点との間には寄生的
なコンデンサC11r C12r C13C14が接続
され、さらに論理信号出力点31とVli8印加点との
間にはコンデ/すC0tlTが接続されている。
ところで、いま第5図の実施例回路において、6個のN
チャネルMO8FET 4’ 1〜43.51〜53が
同一チャネル長およびチャネル幅で設計されていれば、
第6図(、)〜(C)の等何回路内の抵抗R11””R
16の値はすべて等しいものとなる。
しかも各等価回路内のコンデンサCIl〜C14それぞ
れおよびC0UTそれぞれの値も互いに等しいものとな
る。
そして次に、上記第6図(8)〜(C)の各等価回路に
おいて、論理信号出力点3ノを゛1#レベルに設定する
ように各論理入力信号INJ 、 IN2゜IN、lが
与えられるときの動作について考える。
第6図(、)の回路において、論理入力信号INJが″
0#レベルに設定され、これによってPチャネルMO8
FET 32がオンされ、論理信号出力点31を″′1
#レベルに設定する場合には、論理信号出力点31に接
続されているコンデンサCOUTをオンしているMOS
FET 32を介して充電する他に、抵抗R14を介し
てコンデンサC13を、抵抗R141R15を直列に介
してコンデンサC14をそれぞれ充電する必要がある。
これに対し、第6図(c)の回路において、論理信号出
力点3ノを″1″ルベルに設定する場合には、論理信号
出力点3ノに接続されているコンデンサC0fJTをオ
ンしているMOSFET s 4を介して充電する他に
、抵抗R11を介してコンデンサC11を、抵抗R11
1R12を直列に介してコンデンサ012をそれぞれ充
電する必要がある。さらに第6図(b)の回路において
、論理信号出力点31をパ1#レベルに設定する場合は
、論理信号出力点3ノに接続されているコンデンサ00
0丁をオンしているMO8FET33を介して充電する
他に、抵抗R11を介してコンデンサCt1を、抵抗R
14を介してコンデンサC13をそれぞれ充電する必要
がある。
ここで、論理信号出力点31からみたV8B印加点側へ
のインピーダンスが、第6図(、)と(C)の等価回路
は同一であるため、この両等価回路では同じ速度で論理
信号出力点31を”1”レベルにスイッチングすること
ができる。一方、第6図(b)の等節回−路で論理信号
出力点3ノを”1”レベルに設定する場合、第6図(、
) 、 (c)の等価回路のときと同様にC0UTの他
に2個のコンデンサC11+C13も充電する必要があ
るため、この第6・図(b)の回路において論理(,4
号出力点31からみ7’mVas印加点側へのインピー
ダンスは第6図(a) 、 (c)のものとほとんど差
がない。したがって、この第6図(b)の等価回路でも
第6図(、) 、 (c)の回路とほとんど同じ速度で
論理信号出力点31を11#レベルにスイッチングする
ことができる。
すなわち、第5図に示す実施例回路では、3個の論理信
号入力点35,36.37のいずれの入力点を用いてイ
ンパーメ動作させる場合でも、スイッチング速度に差を
生じないようにすることができるか、もしくは差が生じ
たとしてもそれを小さくすることができる。
ところで、縞5図の実施例回路において、Nチャネル側
の電流駆動能力を第2図(、)に示す従来回路のものと
等しく設定する場合、6個のNチャネルMO8FET 
41〜43.51〜53それぞれの単独の電流駆動能力
は第2図(、)内の3個のNチャネルMO8FET 2
5〜17それぞれの単独のそれのAにすることができる
。このため、第5図内の6個のNチャネルIV![08
FET 41〜43゜51〜53の各素子寸法は、第2
図(、)内の3個のNチャネルMO8FET 15〜1
7のものの独にすることができ、これによって第6図(
、)〜(c)内のコンデンサC11+ C12r C1
3r C14の値は第4図(a)〜(C)内のコンデン
サCN1 r CN2よシも/J%さくなる。そこで、
スイッチング速度が最も遅くなる前記第4図(c)に示
す従来回路の等価回路にくらべて、第6図(、)〜(c
)の各等価回路におけるスイッチング速度を早くするこ
とができる。
さらに第6図(a)〜(c)の各等価回路のインバータ
としての回路しきい値電圧を比較する場合、第6図(、
)と(C)とは同一である。また第6図(b)について
みれば、MOSFET 4−2よシもVDD側に抵抗R
rtカありカッMO8FE’l’ 52 LりもVDD
側に抵抗R14がおるため、Nチャネル側の電流駆動能
力は第6図(、) 、 (c)のものとほとんど差はな
く、この等価回路の回路しきい値電圧も第6図(a) 
、 (c)のものとほとんど差は生じない。したがって
、第6図(、)〜(c)の各等価回路のノイズマージン
にも差が生じないかもしくは差が生じても小さくするこ
とができる。これをいいかえれば、2a5図の実施例回
路において、3個の論理信号入力点35,36.37の
いずれの入力点を用いてインパーク動作させる場合でも
、ノイズマージンに差を生じないようにすることができ
るかもしくは差が生じたとしてもそれを小さくすること
ができる。
第7図はこの発明の他の実施例の構成を示す回路図であ
る。この実施例回路は上記第5図の実施例回路と同様に
この発明を3人力のCMO8NANDゲートに実施した
場合であシ、2個の直列回路40.50内に設けられて
いるそれぞれ3個のNチャネルMO8FET41〜43
.51〜53のダート接続を第5図のものとは異ならせ
る↓うにしたものである。この実施例回路のNチャネル
側では、MOSFET 41のダートとMOSFET 
52のダートとが前記論理信号入力点35に接続され、
MOSFET 42のダートとMOSFET 51のダ
ートとが前記論理信号入力点37に接続され、さらにM
OSFET 43のダートとMOSFET 53のダー
トとが前記論理信号入力点36に接続されている。
すなわち、この実施例回路において、2個の直列回路4
0.50内の各3個のMOSFET 41〜43゜51
〜saの)y”−)は、3つの論理信号入力点35〜3
7の互いに異なるものに接続されておシ、かつ一方の直
列回路40内のMOSFET 41のダートが接続され
ている論理信号入力点35には、他方の直列回路50内
の3個のMOSFET 51〜53のうち上記MO8F
ET 4Jよシも論理信号出力点31に相対的に遠い位
置に配置されているMOSFET 52のダートが接続
され、同様に一方の直列回路40内のMOSFET 4
2のダートが接続されている論理信号出力点夛7には、
他方の直列回路50内の3個のMOSFET 5 J〜
53のうち上記MO8FET 42よりも論理信号出力
点31に相対的に近い位置に配置されているMOSFE
T 51のダートが接続され゛ている。
この実施例回路でも前記と同様の理由によって、3個の
論理信号入力点35,36.37のいずれの入力点を用
いてインパーク動作させる場′合でも、スイッチング速
度および回路しきい値電圧に差を生じないようにするこ
とができるか、もしくは差が生じたとしてもそれを小さ
くすることができる。
第8図はこの発明のさらに他の実施例の構成を示す回路
図である。この実施例回路は、前記第1図(b)のシン
ボルで示される3人力のNORケ゛−トにこの発明を実
施したものである。
この回路は、正極性の電源電圧VDD印加点と論理出力
信号OUTを得る論理信号出力点61との間に2個の直
列回路7o、goを並列接続し、さらに上記論理信号出
力点61と接地電圧Vlill印加点との間に3個のN
チャネルMO8FET 62 。
63 、64を並列接続して構成される。上記一方の直
列回路70はさらに3個のチャネルMO8FET7J 
、 72 、73を直列接続して構成され、同様に他方
の直列回路80は3個のPチャネルMO8FET81 
、82 、83を直列接続して構成される。さらにこの
実施例回路では、PチャネルMO8FET 71のダー
トとPチャネルMO8FET83のダートおよびNチャ
ネルMO8FET 62のr−トが共通接続され、さら
にこの共通ダートは第1の論理入力信号INZが与えら
れる論理信号入力点65に接続される。同様にPチャネ
ルMO8FET 72のダートとPチャネルMO8FE
T 82のダートおよびNチャネルMO8FET e 
aのダートが共通接続され、さらにこの共通ダートは第
2の論理入力信号IN2が与えられる論理信号入力点6
6に接続される。同様にPチャネルMO8FET73の
ダートとPチャネルMO8FET 81のダートおよび
NチャネルMO8FET 64のダートが共通接続され
、さらにこの共通ダートは第3の論理入力信号INJが
与えられる論理信号入力点67に接続される。
すなわち、この実施例回路は前記第5図の実施例回路と
くらべて、PチャネルのMOSFETがNチャネルのも
めに、かつNチャネルのMOSFETがPチャネルのも
のにそれぞれ置き換えられたものである。なお、この実
施例回路でも、Pチャネル側のMOSFET 71〜7
3.81〜83のケ9−′ト接続を前記第7図と同様に
変えることができる。
第9図ないし第13図はこの発明の種々の実施例の構成
を示す回路図である。これら谷実施例回路は、この発明
を4人力のNANDゲートにそれぞれ実施した場合のも
のである。
第9図の実施例回路は、正極性の電源電圧VDD印加点
と論理信号出力点91との間に4個のPチャネルMO8
FET 92〜95を並列接続し、さらに上記論理信号
出力点91と接地電圧V811印加点との間に2個の直
列回路100,110を並列挿入して構成される。上記
一方の直列回路100はさらに4個のNチャネルMO8
FET 101〜104を直列接続して構成され、同様
に上記他方の直列回路110は4個のNチャネルMO8
FET 11 f〜114を直列接続して構成される。
さらにこめ実施例回路では、PチャネルMO8FET 
92、NチャネルMO8FET201 、114の各ダ
ートが共通に接続され、さらにこの共通ダートは第1の
論理入力信号IN2が与えられる論理信号入力点9″6
に接続される。同様に、PチャネルMO8FET 、9
3、NチャネルMO8FET J O、? 。
113の各ダートが共通に接続され、さらにこの共通ダ
ートは第2の論理入力信号IN2が与えられる論理信号
入力点97に接続される。同様に、PチャネルMO8F
ET 94 、 NチャネルMO8FET103.11
2の各ダートが共通に接続され、さらにこの共通ダート
は第3の論理入力信号INJが与えられる論理信号入力
点98に接続される。同様に、PチャネルMO6FET
 95 、 NチャネルMO8FET204 、211
の各ダートが共通に接続され、さらにこの共通ダートは
第4の論理入力信号IN4が与えられる論理信号入力点
99に接続される。
すなわち、この実施例回路に卦いて、論理信号出力点9
1と接地電圧VSS印加点との間には、それぞれ4個の
゛NチャネルMO8FET 101〜104゜111〜
114を直列接続して構成される2個の直列回路100
,110が並列挿入されている。しかも2個の直列回路
100,110内の各′4個のMOSFET 101〜
104,111〜1140ケ゛−トは、4つの論理信号
入力点96〜99の互いに異なるものに接続されている
。さらに一方の直列回路100内のMOSFET 10
1のダートが接続されている論理信号入力点96には、
他方の直列回路110内の4個のMOSFET J 2
1〜114のうち上記MO8FET 101よシも論理
信号出力点91に相対的に遠い位置に配置されているM
OSFET J J 4のダートが接続されている。同
様に、一方の直列回路100内のMOSFET 102
のダートが接続されている論理信号入力点97には、他
方の直列回路110内の4個のMO8FET111〜1
14のうち上記MO8FET 102よシも論理信号出
力点91に相対的に遠い位置に配置されているMOSF
ET 113のダートが接続されている。同様に、一方
の直列回路100内のMOSFET 103のダートが
接続されている論理信号入力点98には、他方の直列回
路110内の4個のMOSFET 111〜114のう
ち上記MO8FET103よシも論理信号出力点91に
相対的に近い位置に配置されているMOSFET J 
12のダートが接続されている。同様に、一方の直列回
路100内のMOSFET 104のダートが接続され
ている論理信号入力点99には、他方の直列回路110
内(04個(7)MOSFET111〜114のうち上
記MO8FET lθ4よρも論理信号出力点91に相
対的に近い位置に配置されているMOSFETI 11
のダートが接続されている。
この実施例回路でも前記と同様の理由によって、4個の
論理信号入力点96〜99のいずれの入力点を用いてイ
ンバータ動作させる場合でも、スイッチング速度および
回路しきい値電圧に差を生じないようにすることができ
るか、もしくは差が生じてもそれを小さくすることがで
きる。
第10図の実施例回路は、上記2個の直列回路100.
11’0内に設けられているそれぞれ4個のNチャネル
MOSFET 101〜104,111〜114のダー
ト接続を第9図のものとは異ならせるようにしたもので
ある。この実施例回路のNチャネル側では、MOSFE
T 101と112の各ダートが前記論理信号入力点9
6に、MOSFET102と111の各ゲートが前記論
理信号入力点97に、MOSFET 103と114の
各ケゝ−トが前記論理信号入力点98に、MOSFET
 104と113の各ダートが前記論理信号入力点99
にそれぞれ接続されている。
第11図の実施例回路では、上記2個の直列回路100
,110内に設けられているそれぞれ4個のNチャネル
MOSFET 101〜104゜111〜114のダー
ト接続を、上記第9図および第10図それぞれのものと
さらに異ならせるようにしたものである。この実施例回
路のNチャネル側では、MOSFET 101と113
の各グーートが前記論理信号入力点96に、MOSFE
T102と112の各ダートが前記論理信号入力点97
に、MOSFETI03と111の各ダートが前記論理
信号入力点98に、MOSFET、104と114の各
ダートが前、記論理信号入力点99にそれぞれ接続され
ている。
第12図および第13図に示す実施例回路では、4人力
のNANDゲートにおいて、論理信号出力点9ノとVS
S印加点との間にもう1個の直列回路12θをさらに並
列挿入するようにしたものであシ、この直列回路120
は直列接続された4個のNチャネルMOSFET 12
1〜124で構成されている。さらに第13図の実施例
回路では、Nチャネル側のMOSFET 101〜10
4゜111〜114.121〜124のダート接続を第
12図のものと異ならせるようにしたものである。
ところで、前記第2図(a)に示すような回路構成の、
従来の3人力CMO8,NANI)ダートを1積化する
場合、MOSFET 15〜17それぞれは素子寸法の
小さなものをいくつか集合して構成されている。これは
MOSFET ヲシリコンダートフ0ロセスを用いて形
成す゛る場合に、素子寸法が大きくなるとダート配線層
の長さが長くなシ、その抵抗成分が大きくなってしまい
、この結果、この抵抗成分がMOSFETに与える影響
が無視できなくなる′からである。したがって従来では
、前記第2図(、)の回路内の直列接続された3個のN
チャネルMOSFET 25〜17は、たとえば第14
図に示すように、論理信号出力点11とVSS印加点と
の間に直列接続されそれぞれMOSFET 15の差の
チャネル幅を持つ2個の各MOSFETJ 5A、 1
5Bと、それぞれMOSFET 16のy2のチャネル
幅を持つ2個の各MO8FETJ 6 A 、 16 
Bと、それぞれMOSFET 17の汐のチャネル幅を
持つ2個の各MO8FETf 7 A 、 17 Bと
からなる2個の直列回路18A、18Bによって構成さ
れている。なおMOSFETI5 +、25A+ 15
B 、16 、J6A。
16B、17.17に、17Bの各チャネル長はすべて
等しいとする。
第15図は上記第14図回路を実際に集積化した場合の
パターン平面図である。図において200はN型の半導
体基板上に形成されたP型のウェル領域である。このウ
ェル領域200上には、所定の間隔を保って複数のN+
+半導体領域201に、201B、・・・201Gが一
列に配列形成されている。このうち、図中の最も上方に
配置されている1箇所のN++半導体領域20IAは、
第14図中のMOSFET 17 Aのソース領域とな
っている。上記領域201人に隣接して配置されている
1箇所のN++半導体領域201Bは、第14図中のM
OSFET 17 AのドレインおよびMOSFET 
f 6 Aのソース領域となっている。上記領域201
BK隣接して配置されている1箇所のN+型型温導体領
域201C、第14図中のMOSFET 16 Aのド
レインおよびMOSFET 15 Aのソース領域とな
っている。上記領域201Cに隣接旨て配置されている
1箇所のN+ m半導体領域201Dは、第14図中の
MOSFET 15 Aおよび15Bのドレイン領域と
なっている。上記領域201DK隣接して配置されてい
る1筒所のN++半導体領域201Eは、第14図中の
MOSFET 15 B OソースおよびMOSFET
 16 Bのドレイン領域となっている。上記領域2θ
IEに瞬接して配置されている1箇所の耐型半導体領域
201Fは、第14図中のMOSFET 16 Bのソ
ースおよびMOSFET 17 Bのドレイン領域とな
っている。さらに上記領域201Fと牌接して配置され
、図中の最も下方に位置している1 i、?i所のN+
+半導体領域201Gは、第14図中のMOSFET 
17 Bのソース領域となっている。
また上記7筒所のN++半導体領域201A〜201G
のうち各2箇所のものの相互間の低面上には、多結晶シ
リコンによって構成されるケ。
−ト配線層202A〜202Fそれぞれが形成されてい
る。
さらに上記ウェル領域200表面上には、図示しない絶
縁膜を介し、上記N+型型厚導体領域201の配列方向
に沿って、アルミニウムによって構成される5本の配線
層203A〜203Eが並行に配列形成されている。こ
のうち1本の配線層203.1には前記第3の論理入力
信号IN3が伝達され、この配線層203Aにはコンタ
クトホール204に、204Bを介して前記2本のダー
ト配線層202A、202Fが接続されている。上記1
本の配線層203Bには前記第2の論理入力信号IN’
が伝達され、この配線層203Bにはコンタクトホール
205k。
205Bを介して前記2本のダート配線層202B 。
202Eが接続されている。上記1本の配線層203C
には前記第1の論理入力信号INJが伝達され、この配
線層2θ3Cにはコンタクトホール206に、206B
を介して前記2本のダート配線層2o2C,2o2Dが
接続されている。さらに上記1本の配線層203Dには
前記接地電圧VS8が供給され、この配線層203Dに
はコンタクトホール207に、207Bを介して前記2
箇所のN++半導体領域201k。
201Gが接続されている。また上記1本の配線層20
3Eは論理出力信号OUTを前記論理信号出力点11に
導びくためのものであシ、この配線層203Eにはコン
タクトホール208を介して前記N++半導体領域20
1Dが接続されている。
第16図は第15図中のx −x’線に沿った拡大断面
図でちる。第16図に赴いて209はMOSFETのf
−ト絶縁膜も兼ねたシリコン酸化膜である。
第15図あるいは第16図に示すようにN++半導体領
域20ノの配列のうち、配線f3203.Dに接続され
ている1箇所の領域201Dを中心にして、この領域2
01Dとこれの両側に位置している2箇所の領域201
に、201Gそれぞれとの間に存在している各3本のダ
ート配線層2021〜202C,202D〜202Fの
うち、領域201Dを中心にして互いに対応する位置に
配置されている2本のダート配線層202Aと202F
には配線層203Aで伝達される信号INJが供給され
、同様に領域201Dを中心にして互いに対応する位置
に配置されている2本のダート配線)?i202 Bと
202Eには配線層203Bで伝達される信号IN2が
供給され、同様に領域203Dを中心にして互いに対応
する位置に配置されている2本のダート配線層202C
と202Dには配線層203Cで伝達される信号INI
が供給される。
このような前提において、前記第5図に示すこの発明の
一実施例回路を構成するには、第14図の回路において
一方の直列回路18にでは図示の通シにMO8FETJ
5A’、 26A 、 17Aのダートに信号IN1.
 IN2. INJをそれぞれ供給し、他方の直列回路
18BではMOSFET 15 Bと17Bとのダート
接続を逆にすれば実現できる。そしてこの上うにして第
5図の実施例回路を実現した場合の、第15図に対応す
るノぐター/平面図が第17図である。すなわち、この
第17図が第15図と異なるところは、ダート配線層2
02Dが前記配線層203Cに接続される代)にコンタ
クトホール204Cを介して配線層203Aに接続され
、かっケ゛−ト配線層202Fが前記配線層203kに
接続される代シにコンタクトホール206Cを介して配
線層203Cに接続・されていることである。すなわち
、この第17図のものでは、配線層203F。
に接続されているN+型半導体領域201Dと領域20
1にとの間に存在する3本のダート配線層・202A〜
202Cを、論理入力信号IN3 。
IN2 、 INlが伝達される3本の配線層203A
〜203Cのうち互いに異なるものに接hv′とシ、か
つ上記領域201Dと領域201Czとの間に存在する
3本のダート配線層202D−202Fを同じく3本の
配線層203に〜203Cのうち互いに異なるものに接
続するようにしている。
しかも上記領域201Dと201にとの間に存在する3
本のケ9−ト配線層202に〜202Cのうち1本のダ
ート配線層202kが接続されている1本の配線層20
3A、に、上記領域201Dと201Gとの間に存在す
る3本のダート配線層202D〜202Fのうち上記ダ
ート配線胎202人よυも領域201Dに相対的に近い
位置に配置されているダート配線層202Dをコンタク
トホール204Cを介して接続するようにしている。さ
らに同様に、領域201Dと201人との間に存在する
3本のダート配線層202A〜202Cのうち1本のダ
ート配線層202Cが接続されている1本の配線層20
3Cに、上記領域201Dと2θIGとの間に存在する
3本のダート配線層202D〜202Fのうち上記ダー
ト配線層202Cよシも領域201Dに相対的に遠い位
置に配置されているダート配線層202Fをコンタクト
ホール206Cを介して接続するようにしている。
このように、従来のパターンに対して配線をわずかに変
更するだけで前記第5図に示す実施例回路を実現するこ
とができ、面積増加もほとんど伴わない。
第18図はこの発明をn入力の0MO8NANDダート
に拡張した場合に、その回路を集積化した際のNチャネ
ル側のノぐターン平面図でちる。なお、この場合に論理
信号出力点とVSS印加点との間には、それぞれn個の
NチャネルMO8FETを直列接続して構成される直列
回路が2個並列挿入されている。第18図において30
0はP壓のウェル領域、301,301.・・・は−列
に配列形成されているN+型半導体領域、302゜30
2、・・・は上記各2箇所のN+型半導体領域301の
相互間それぞれに形成され多結晶シリコ/によって構成
されるダート配線層でるシ、さらに303,303.・
・・は入力信号INI〜INn 、電圧VSBを伝達し
たりあるいは論理信号OUTを伝達するアルミニウムか
ら構成される配線層である。そしてこれら各配線層30
3゜303、・・・にはコンタクトホール304を介し
て上記ダート配線層302あるいはN+型半導体領域3
01と選択的に接続されている。そしてこの第18図の
ツリー/の場合にも、論理入力信号OUTを得る1本の
配線層303にコンタクトホール304を介して接続さ
れている1筒所のN+型半導体領域301と、この領域
301の両側に配置され、それぞれ前記電圧V8Bが伝
達される1本の配線層303に接続されている2箇所の
N+型半導体領域301.301それぞれとの間に存在
するそれぞれn本のダート配線層302は、n個の論理
入力信号INJ〜INnが伝達されるn本の配線層のう
ち互いに異なるものにそれぞれ接続されている。しかも
上記各n本のダート配mfeso2のうち一方のn本の
少なくとも2本が接続されている配線層303には、他
方のn本のゲート配線層302のうち上記一方の2本よ
シも前記信号OUTが伝達される配線層303に接続さ
れた1箇所のN+型半導体領域301に相対的に近い位
置あるいは相対的に遠い位置に配置されている2本のゲ
ート配線層302がそれぞれ接続されている。この第1
8図に示すようなパターンによってn入力の論理回路を
構成すれば、従来のパターンに対して配線をわずかに変
更するだけで実現することができ、面積増加も伴わない
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、n個(nは3以
上の整数)の論理入力点を有し、いずれの論理人力点を
用いてインバータ動作させる場合であっても、スイッチ
ング速度および回路しきい値電圧に差が生じないかもし
くは生じてもその差が小さな論理回路を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、 (b)は3人力のNANDダートお
よびNORケ9−トのシンボル図、第2図(a) 、 
(b)は第1図(a) 、 (b)の各ダートの回路図
、第3図(a) 、 (b) 。 (C)は第1図(、)に示す3人力NANDケ9−トの
異なる使用例を示すシンプル図、第4図(a) 、 (
b) 、 (e)は第3図(a) 、 (b) 、 (
C)に対応した等価回路図、第5図はこの発明の一実施
例を示す回路図、第6図(a) 、 (b)’ 、 (
C)は第5図回路の等価回路図、第7図ないし第13図
はそれぞれこの発明の他の実施例を示す回路図、第14
図は前記第2図(−)の従来回路を集積化する場合の回
路図、第15図は第14図回路のパターン平面図、第1
6図は第15図中のx −x’線に沿った拡大断面図、
第17図は前記第5図に示すこの発明の一実施例回路を
集積化する場合のNチャネル側の、+ターン平面図、第
18図はこの発明をn入力のものに拡張した場合のパタ
ーン平面図である。 31.61.91・・・論理信号出力点、35〜37.
65〜67.96〜99・・・論理信号入力点、40,
50,70,80,100,110゜120・・・直列
回路、32〜J4.71〜73゜81〜83.92〜9
5・・・PチャネルMO8FET 。 41〜43.51〜53.62〜64,102〜104
.111〜114,121〜124・・・NチャネルM
O8FET 0 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1 (a) 第2 (a) 5S (b) ■DD ss ←  p −th> ぢ 、9 −N 閂ぐ ZZZZ z 44 t− −d 09 派 zzzz z 4 L 「 寸 絨 第17図 IN3 1N2 INI Vss ou’r 200第
18図 30υ 125 )−

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) それぞれn個(nは3以上の整数)のMOSF
    ETを直列接続して構成され、論理信号出力点と所定電
    位印加点との間に並列挿入される2ないしくn−1)個
    の直列回路と、n個の入力信号が与えられるn個の論理
    信号入力点と、上記2ないしくn−1)個の直列回路内
    で直列接続されている各n個のMOSFETのダートを
    上記n個の論理信号入力点の互いに異なる論理信号入力
    点に接続するとともに、上記2ないしくn−1)個の、
    特定の1個の直列回路内で直列接続されているn個のM
    OSFETのうち少なくとも特定の2個の各ダートが接
    続されている上記2個の論理信号入力点に、上記2ない
    しくn−1)個の上記とは異なる特定の1個の直列回路
    内で直列接続されているn個のMOSFETの、上記特
    定の2個の各MO8FETよりも上記論理信号出力点に
    相対的に近い位置あるいは相対的に遠い位置に配置され
    ている2個のMOSFETの各ケ“−トを接続する手段
    とを具備したことを特徴とする論理回路。
  2. (2)一方導電型の半導体基体と、互いに分離しかつ所
    定方向に直列的に配列されるように上記基体上に形成さ
    れMOSFETのソース領域もしくはドレイン領域とな
    る複数箇所の他方導電塑の半導体領域と、上記複数箇所
    の半導体領域の互いに隣接して配置される各2箇所の半
    導体領域相互間の上記基体表面上に延在するように形成
    されその一部がMOSFETのr−)電極となる複数の
    第1の配線層と、上記複数箇所の半導体領域の特定の1
    箇所に配置される第1の半導体領域に接続されこの第1
    の半導体領域で得られる論理出力信号を伝達する第2の
    配線層と、上記第1の半導体領域を中心にしてこの両側
    に配置1(され上記複数箇所の半導体領域の1記とは異
    なる特定の2箇所の第2.第3の半導体領域に共通に接
    続されこの第2.第3の半導体領域に所定電位を供給す
    る第3の配線層と、n個の論理入力信号を伝達するn本
    の第4の配線層と、上記第1.第2の半導体領域相互間
    に存在するn本の上記第1の配線層および第1.第3の
    半導体領域相互間に存在するn本の上記第1の配線層を
    上記n本の第4の配線層の互いに異なる配線層に接続す
    るとともに、上記第1.第2の半導体領域相互間に存在
    するn本の第1の配線層のうち少なくとも特定の2つが
    接続されている2つの各第4の配線層に、上記第1.第
    3の半導体領域相互間に存在するn本の第1の配線層の
    、上記特定の2つの各第1の配線層よシも上記第1の半
    導体領域に相対的に近い位置あるいは相対的に遠い位置
    に配置されている2つの各第1の配線層を接続する接続
    部とを具備したことを特徴とする論理回路。
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