JPS6026124B2 - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
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- JPS6026124B2 JPS6026124B2 JP2463177A JP2463177A JPS6026124B2 JP S6026124 B2 JPS6026124 B2 JP S6026124B2 JP 2463177 A JP2463177 A JP 2463177A JP 2463177 A JP2463177 A JP 2463177A JP S6026124 B2 JPS6026124 B2 JP S6026124B2
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- Japan
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- group
- ester
- dimethylamino
- acid
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関するものであり、さらに詳
しくは、光重合開始剤に特徴を有する光重合性組成物に
関するものである。
しくは、光重合開始剤に特徴を有する光重合性組成物に
関するものである。
従来、塗料、印刷インク、接着剤などの組成物の成分と
して放射線照射により硬化しうる不飽和化合物を用い、
かかる組成物に可視光線、紫外線、X線等の電磁波や電
子線、中性子線、Q線等の粒子線を作用させると組成物
中の上記化合物は重合して硬化し、さらにかかる作用を
重合開始剤組成物の存在下に為さしめるとその重合速度
は著しく大きくなることが広く知られている。
して放射線照射により硬化しうる不飽和化合物を用い、
かかる組成物に可視光線、紫外線、X線等の電磁波や電
子線、中性子線、Q線等の粒子線を作用させると組成物
中の上記化合物は重合して硬化し、さらにかかる作用を
重合開始剤組成物の存在下に為さしめるとその重合速度
は著しく大きくなることが広く知られている。
これらの技術についてはたとえば米国特許第3,551
.235号、同第3,551,246号、同第3,55
1,311号および同第3,558 斑7号、ベルギー
国特許第80& 17y烏、特開昭49一110781
号の各公報に記載されているが、かかる技術によって得
られるものは優れたたわみ性、耐イヒ学薬品性、耐摩耗
性、光沢、接着性および色相等の特長を持っているが、
その反面組成物の硬化の感応度が低いので画像形成にお
ける像露光に長時間を要するため、細密な画像の場合に
は操作にわずかな振動があると良好な画質の画像が再現
されず、また露光の光源または粒子線源のエネルギー放
射量を増大しなければならないためにそれに伴なう多大
な発熱の放散を考慮する必要があり、さらに熱による組
成物の皮膜の変形および変質も生じ易い等の問題があっ
た。本発明者らは、光重合性組成物の感度を増大させる
ことにより上記のような諸問題を解決すべき精意研究を
重ねていたが、ある特定の組成の光重合開始剤がエチレ
ン性不飽和二重結合を有する重合可能な化合物の光重合
速度を著しく増大させることを見出し、本発明に到達し
たものである。
.235号、同第3,551,246号、同第3,55
1,311号および同第3,558 斑7号、ベルギー
国特許第80& 17y烏、特開昭49一110781
号の各公報に記載されているが、かかる技術によって得
られるものは優れたたわみ性、耐イヒ学薬品性、耐摩耗
性、光沢、接着性および色相等の特長を持っているが、
その反面組成物の硬化の感応度が低いので画像形成にお
ける像露光に長時間を要するため、細密な画像の場合に
は操作にわずかな振動があると良好な画質の画像が再現
されず、また露光の光源または粒子線源のエネルギー放
射量を増大しなければならないためにそれに伴なう多大
な発熱の放散を考慮する必要があり、さらに熱による組
成物の皮膜の変形および変質も生じ易い等の問題があっ
た。本発明者らは、光重合性組成物の感度を増大させる
ことにより上記のような諸問題を解決すべき精意研究を
重ねていたが、ある特定の組成の光重合開始剤がエチレ
ン性不飽和二重結合を有する重合可能な化合物の光重合
速度を著しく増大させることを見出し、本発明に到達し
たものである。
本発明の目的は光重合性組成物(いわゆる感光性樹脂(
フオトレジスト)の−タイプ)に用いる高感度の光重合
開始剤および光重合開始剤系を提供することである。本
発明のさらに他の目的は広く一般にエチレン性不飽和二
重結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤および光重合開
始剤系を提供することである。
フオトレジスト)の−タイプ)に用いる高感度の光重合
開始剤および光重合開始剤系を提供することである。本
発明のさらに他の目的は広く一般にエチレン性不飽和二
重結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤および光重合開
始剤系を提供することである。
本発明のさらに他の目的は以下の記述から明らかになる
であろう。
であろう。
本発明は、エチレン性不飽和二重結合を1個以上1分子
内に有する重合可能な化合物(以下において単にエチレ
ン性化合物という。
内に有する重合可能な化合物(以下において単にエチレ
ン性化合物という。
エチレン性化合物とは、一般にモノマーと二量体、三量
体等を含めてオリゴマーまでを含む総称である。)およ
び光重合開始剤を必須の構成成分として含有する光重合
性組成物において、前述の光重合開始剤が‘a)下記の
一般式(1)で表わされる化合物からなる群(以下、p
−ジアルキルアミノスチリル化合物という。)から選ば
れた1種または2種以上(以下、成分{aーという。)
である光重合性組成物である。更に、光重合開始剤とし
て上記成分‘a}の他に{b’芳香環に結合したオキソ
酸素原子を1個以上有する化合物および芳香環の炭素原
子に結合した炭素原子に結合したオキソ酸素原子を1個
以上有する化合物からなる群(以下、芳香族系カルボニ
ル化合物という。
体等を含めてオリゴマーまでを含む総称である。)およ
び光重合開始剤を必須の構成成分として含有する光重合
性組成物において、前述の光重合開始剤が‘a)下記の
一般式(1)で表わされる化合物からなる群(以下、p
−ジアルキルアミノスチリル化合物という。)から選ば
れた1種または2種以上(以下、成分{aーという。)
である光重合性組成物である。更に、光重合開始剤とし
て上記成分‘a}の他に{b’芳香環に結合したオキソ
酸素原子を1個以上有する化合物および芳香環の炭素原
子に結合した炭素原子に結合したオキソ酸素原子を1個
以上有する化合物からなる群(以下、芳香族系カルボニ
ル化合物という。
)から選ばれた1種又は2種以上(以下、成分{b)と
いう。)との組合せである光重合性組成物が好ましい。
さらに、本発明は、前述の2種の光重合性組成物の各に
さらに皮膜形成能を有する高分子物質(バインダー)を
あわせて含むことができる。
いう。)との組合せである光重合性組成物が好ましい。
さらに、本発明は、前述の2種の光重合性組成物の各に
さらに皮膜形成能を有する高分子物質(バインダー)を
あわせて含むことができる。
以下本発明について詳細に説明する。本発明の光重合性
組成物におけるエチレン性化合物とは、その化学構造中
に少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合をもつ化
合物であって、モノマー、プレポリマー、すなわち2量
体、3塁体および他のオリゴマー、それらの混合物なら
びにそれらの共重合体などのイb学的形態をもつもので
ある。
組成物におけるエチレン性化合物とは、その化学構造中
に少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合をもつ化
合物であって、モノマー、プレポリマー、すなわち2量
体、3塁体および他のオリゴマー、それらの混合物なら
びにそれらの共重合体などのイb学的形態をもつもので
ある。
それらの例としては不飽和カルボン酸およびその塩、そ
の脂肪族多価ポリオール化合物または多価フェノール類
とのェステル類があげられる。また多価ポリオール化合
物としては、前述の多価アルコール化合物と二塩基酸と
のオリゴェステル、ポリエステル等のオリゴマー、ポリ
マーもあげられる。不飽和カルボン酸の具体例としては
アクリル酸、メタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、
インクロトン酸、マレィン酸がある。
の脂肪族多価ポリオール化合物または多価フェノール類
とのェステル類があげられる。また多価ポリオール化合
物としては、前述の多価アルコール化合物と二塩基酸と
のオリゴェステル、ポリエステル等のオリゴマー、ポリ
マーもあげられる。不飽和カルボン酸の具体例としては
アクリル酸、メタクリル酸、ィタコン酸、クロトン酸、
インクロトン酸、マレィン酸がある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩がある。前述の脂肪族多価ポリオー
ル化合物および多価フェノールとしてはエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオベンチルグリコ
ール、1,10デカンジオール、1,2ープタンジオー
ル、1,3−ブタンジオール、プロピレングリコール等
の二価アルコール類、トリメチロールェタン、トリメチ
。
塩およびカリウム塩がある。前述の脂肪族多価ポリオー
ル化合物および多価フェノールとしてはエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ネオベンチルグリコ
ール、1,10デカンジオール、1,2ープタンジオー
ル、1,3−ブタンジオール、プロピレングリコール等
の二価アルコール類、トリメチロールェタン、トリメチ
。
ールプロパン等の三価アルコール類、およびそれらの多
量体、ベンタェリトリトール、ジベンタエリトリトール
、トリベンタエリトリトール、他の多量体ペンタェリト
リトール、ソルビトール、d−マンニトール等の糖類、
ジヒドロキシマレィン酸等のジヒドロキシカルボン酸、
ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール
等の多価フェノール類などがある。脂肪族多価ポリオー
ル化合物と不飽和カルボン酸とのェステルの具体例とし
てはアクリル酸ェステルとして、ジアクリル酸エチレン
グリコールェステル、トリアクリル酸トリヱチレングリ
コールェステル、ジアクリル酸1,3ーブタンジオール
ェステル、ジアクリル酸テトラメチレングリコールェス
テル、ジアクリル酸プロピレングリコールヱステル、ト
リアクリル酸トリメチロールプロパンヱステル、トリア
クリル酸トリメチロールェタンェステル、トリメタクリ
ル酸トリメチロールプロパンェステル、トリメタクリル
酸トリメチロールヱタンェステル、ジアクリル酸テトラ
エチレングリコールェステル、ジァクリル酸ペンタェリ
トリトールェステル、トリアクリル酸ペンタェリトリト
ールェステル、テトラアクリル酸ペンタェリトリトール
ェステル、ジアクリル酸ジベンタェリトリト−ルェステ
ル、トリアクリル酸ジベンタェリトリトールヱステル、
テトラアクリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ベ
ンタアクリル酸ジベンタヱリトリトールェステル、ヘキ
サアクリル酸ジベンタエリトリトールエステル、オクタ
アクリル酸トリベンタェリトリトールヱステル、テトラ
アクリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ベンタア
クリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ヘキサアク
リル酸ジベンタェリトリトールェステル、オクタアクリ
ル酸トリベンタェリトリトールヱステル、トリアクリル
酸ソルビトールェステル、テトラアクリル酸ソルビトー
ルェステル、ペンタアクリル酸ソルビトールヱステル、
ヘキサアクリル酸ソルビトールェステル、ポリエステル
ァクリレートオリゴマ一等がある。メタクリル酸ェステ
ルとして、ジメタクリル酸テトラメチレングリコールェ
ステル、ジメタクリル酸トリェチレングリコールェステ
ル、ジメタクリル酸ペンタェリトリトールェステル、ト
リメタクリル酸ペンタェリトリトールェステル、ジメタ
クリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ジメタクリ
ル酸ペンタェリトリトールェステル、トリメタクリル酸
ペンタェリトリトールェステル、ジメタクリル酸ジ…ペ
ンタエリトリトールエステル、テトラメタクリル酸ジベ
ンタヱリトリトールェステル、オクタメタクリル酸トリ
ベンタェリトリトールェステル、ジメタクリル酸エチレ
ングリコールヱステル、ジメタクリル酸1,3−ブタン
ジオールェステル・ジメタクリル酸テトラメチレングリ
コールェステル、テトラメタクリル酸ソルビトールェス
テル等がある。ィタコン酸ェステルとしてはジイタコン
酸エチレングリコールェステル、ジィタコン酸プロピレ
ングリコールェステル、ジィタコン酸1,3ーブタンジ
オールエステル、ジィタコン酸1,4ーブタンジオール
ェステル、ジィタコン酸テトラメチレングリコールェス
テル、ジィタコン酸ペンタェリトリトールェステル、ト
リィタコン酸ジベンタエリトリトールヱステル、ベンタ
イタコン酸ジベンタェリトリトールェステル、ヘキサィ
タコン酸ジベンタェリトリトールェステル、テトラィタ
コン酸ソルビトールェステル等がある。クロトン酸ェス
テルとしてはジクロトン酸エチレングリコールェステル
、ジクロトン酸プロピレングリコールェステル、ジクロ
トン酸テトラメチレングリコールェステル、ジクロトン
酸ペンタェリトリトールェステル、テトラクロトン酸ソ
ルビトールェステル等がある。インクロトン酸ェステル
として、ジィソクロトン酸エチレングリコールェステル
、ジィソクロトン酸ペンタェリトリトールェステル、テ
トラインクロトン酸ソルビトールェステル等がある。マ
レィン酸ェステルとして、ジマレィン酸エチレングリコ
ールェステル、ジマレィン酸トリェチレングリコールェ
ステル、ジマレイン酸ペンタェリトリトールヱステル、
テトラマレイン酸ソルビトールェステル等がある。その
他、変性ジアクリル酸テトラメチレングリコールェステ
ル、変性トリアクルレ酸トリメチロールブロパンェステ
ル、変性トリアクリル酸ペンタェリトリトールェステル
、メタクリル化ェポキシ樹脂等もあげることができる。
さらに前述のェステルの混合物もあげることができる。
次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
重合開始剤について説明する。
量体、ベンタェリトリトール、ジベンタエリトリトール
、トリベンタエリトリトール、他の多量体ペンタェリト
リトール、ソルビトール、d−マンニトール等の糖類、
ジヒドロキシマレィン酸等のジヒドロキシカルボン酸、
ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール
等の多価フェノール類などがある。脂肪族多価ポリオー
ル化合物と不飽和カルボン酸とのェステルの具体例とし
てはアクリル酸ェステルとして、ジアクリル酸エチレン
グリコールェステル、トリアクリル酸トリヱチレングリ
コールェステル、ジアクリル酸1,3ーブタンジオール
ェステル、ジアクリル酸テトラメチレングリコールェス
テル、ジアクリル酸プロピレングリコールヱステル、ト
リアクリル酸トリメチロールプロパンヱステル、トリア
クリル酸トリメチロールェタンェステル、トリメタクリ
ル酸トリメチロールプロパンェステル、トリメタクリル
酸トリメチロールヱタンェステル、ジアクリル酸テトラ
エチレングリコールェステル、ジァクリル酸ペンタェリ
トリトールェステル、トリアクリル酸ペンタェリトリト
ールェステル、テトラアクリル酸ペンタェリトリトール
ェステル、ジアクリル酸ジベンタェリトリト−ルェステ
ル、トリアクリル酸ジベンタェリトリトールヱステル、
テトラアクリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ベ
ンタアクリル酸ジベンタヱリトリトールェステル、ヘキ
サアクリル酸ジベンタエリトリトールエステル、オクタ
アクリル酸トリベンタェリトリトールヱステル、テトラ
アクリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ベンタア
クリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ヘキサアク
リル酸ジベンタェリトリトールェステル、オクタアクリ
ル酸トリベンタェリトリトールヱステル、トリアクリル
酸ソルビトールェステル、テトラアクリル酸ソルビトー
ルェステル、ペンタアクリル酸ソルビトールヱステル、
ヘキサアクリル酸ソルビトールェステル、ポリエステル
ァクリレートオリゴマ一等がある。メタクリル酸ェステ
ルとして、ジメタクリル酸テトラメチレングリコールェ
ステル、ジメタクリル酸トリェチレングリコールェステ
ル、ジメタクリル酸ペンタェリトリトールェステル、ト
リメタクリル酸ペンタェリトリトールェステル、ジメタ
クリル酸ジベンタェリトリトールェステル、ジメタクリ
ル酸ペンタェリトリトールェステル、トリメタクリル酸
ペンタェリトリトールェステル、ジメタクリル酸ジ…ペ
ンタエリトリトールエステル、テトラメタクリル酸ジベ
ンタヱリトリトールェステル、オクタメタクリル酸トリ
ベンタェリトリトールェステル、ジメタクリル酸エチレ
ングリコールヱステル、ジメタクリル酸1,3−ブタン
ジオールェステル・ジメタクリル酸テトラメチレングリ
コールェステル、テトラメタクリル酸ソルビトールェス
テル等がある。ィタコン酸ェステルとしてはジイタコン
酸エチレングリコールェステル、ジィタコン酸プロピレ
ングリコールェステル、ジィタコン酸1,3ーブタンジ
オールエステル、ジィタコン酸1,4ーブタンジオール
ェステル、ジィタコン酸テトラメチレングリコールェス
テル、ジィタコン酸ペンタェリトリトールェステル、ト
リィタコン酸ジベンタエリトリトールヱステル、ベンタ
イタコン酸ジベンタェリトリトールェステル、ヘキサィ
タコン酸ジベンタェリトリトールェステル、テトラィタ
コン酸ソルビトールェステル等がある。クロトン酸ェス
テルとしてはジクロトン酸エチレングリコールェステル
、ジクロトン酸プロピレングリコールェステル、ジクロ
トン酸テトラメチレングリコールェステル、ジクロトン
酸ペンタェリトリトールェステル、テトラクロトン酸ソ
ルビトールェステル等がある。インクロトン酸ェステル
として、ジィソクロトン酸エチレングリコールェステル
、ジィソクロトン酸ペンタェリトリトールェステル、テ
トラインクロトン酸ソルビトールェステル等がある。マ
レィン酸ェステルとして、ジマレィン酸エチレングリコ
ールェステル、ジマレィン酸トリェチレングリコールェ
ステル、ジマレイン酸ペンタェリトリトールヱステル、
テトラマレイン酸ソルビトールェステル等がある。その
他、変性ジアクリル酸テトラメチレングリコールェステ
ル、変性トリアクルレ酸トリメチロールブロパンェステ
ル、変性トリアクリル酸ペンタェリトリトールェステル
、メタクリル化ェポキシ樹脂等もあげることができる。
さらに前述のェステルの混合物もあげることができる。
次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
重合開始剤について説明する。
成分{a}の一般式(1)で表わされるp−ジアルキル
アミノスチリル化合物の置換基RIおよびR2はァルキ
ル基、置換ァルキル基またはァラルキル基を表わし、そ
れらは互いに同じでも異なっていてもよい。
アミノスチリル化合物の置換基RIおよびR2はァルキ
ル基、置換ァルキル基またはァラルキル基を表わし、そ
れらは互いに同じでも異なっていてもよい。
アルキル基としては、炭素原子数が1から18までの直
線状、分岐状のアルキル基、および炭素原子数が5から
18はでの環状アルキル基をあげることができる。その
具体例としては、メチル基、エチル基、ブロピル基、ブ
チル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル
基、ィソプロピル基、ィソブチル基、イソベンチル基、
ィソヘキシル基、sec−プチル基、ネオベンチル基、
tertープチル基、teれ−ペンチル基、シクロベン
チル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、2−ノ
ルボニル基、2ーアダマンチル基、Q−デカリル基、8
ーデカリル基をあげることができる。これらのうちでは
炭素原子数1から10までの直線状および分岐状のアル
キル基、ならぴに炭素原子数6から10までの環状アル
キル基が好ましい。置換ァルキル基の置換基としてはハ
ロゲン原子(弗素、塩素、臭素、沃素)およびヒドロキ
シル基をあげることができ、一方アルキル基としては前
述の炭素原子数1から18まで、好ましくは同じく1か
ら10までの直線状、分岐状および環状のアルキル基を
あげることができる。
線状、分岐状のアルキル基、および炭素原子数が5から
18はでの環状アルキル基をあげることができる。その
具体例としては、メチル基、エチル基、ブロピル基、ブ
チル基、ベンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル
基、ィソプロピル基、ィソブチル基、イソベンチル基、
ィソヘキシル基、sec−プチル基、ネオベンチル基、
tertープチル基、teれ−ペンチル基、シクロベン
チル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、2−ノ
ルボニル基、2ーアダマンチル基、Q−デカリル基、8
ーデカリル基をあげることができる。これらのうちでは
炭素原子数1から10までの直線状および分岐状のアル
キル基、ならぴに炭素原子数6から10までの環状アル
キル基が好ましい。置換ァルキル基の置換基としてはハ
ロゲン原子(弗素、塩素、臭素、沃素)およびヒドロキ
シル基をあげることができ、一方アルキル基としては前
述の炭素原子数1から18まで、好ましくは同じく1か
ら10までの直線状、分岐状および環状のアルキル基を
あげることができる。
その具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基
、2−クロロェチル基、2,2,2ートリクロロェチル
基、2−クロ。ペンチル基、1一(クロロメチル)プロ
ピル基、10−プロモデシル基、18ーメチルオタクデ
シル基、クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル基
、2ーヒドロキシメチル基、2ーヒドロキシメチル基、
5ーヒドロキシベンチル基、10−ヒドロキシデシル基
、2−ヒドロキシオクタデシル基、2−(ヒドロキシメ
チル)エチル基、ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒ
ドロキシー2−/ルホニル基をあげることができる。ア
ラルキル基としては、炭素原子数1から10まで、好ま
しくは同じく1から6までの直線状、分岐状または環状
のアルキル基にフェニル基またはナフチル基が置換した
残基をあげることができる。その具体例としては、ベン
ジル基、フヱネチル基、3ーフェニルプロピル基、3ー
フェニルヘキシル基、10ーフェニルデシル基、4−フ
ヱニルシクロヘキシル基、1−ナフチルメチル基、2一
(1−ナフチル)エチル基、2ーナフチルメチル基をあ
げることができる。置換基R3はァリール基、N,Sま
たは0を含む5員または6員の環構造を含む単環性また
は縮合環性の後素芳香環化合物の1価の残基(N,Sま
たは0を含む複素芳香環の1価の残基)、ハメツトの。
、2−クロロェチル基、2,2,2ートリクロロェチル
基、2−クロ。ペンチル基、1一(クロロメチル)プロ
ピル基、10−プロモデシル基、18ーメチルオタクデ
シル基、クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル基
、2ーヒドロキシメチル基、2ーヒドロキシメチル基、
5ーヒドロキシベンチル基、10−ヒドロキシデシル基
、2−ヒドロキシオクタデシル基、2−(ヒドロキシメ
チル)エチル基、ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒ
ドロキシー2−/ルホニル基をあげることができる。ア
ラルキル基としては、炭素原子数1から10まで、好ま
しくは同じく1から6までの直線状、分岐状または環状
のアルキル基にフェニル基またはナフチル基が置換した
残基をあげることができる。その具体例としては、ベン
ジル基、フヱネチル基、3ーフェニルプロピル基、3ー
フェニルヘキシル基、10ーフェニルデシル基、4−フ
ヱニルシクロヘキシル基、1−ナフチルメチル基、2一
(1−ナフチル)エチル基、2ーナフチルメチル基をあ
げることができる。置換基R3はァリール基、N,Sま
たは0を含む5員または6員の環構造を含む単環性また
は縮合環性の後素芳香環化合物の1価の残基(N,Sま
たは0を含む複素芳香環の1価の残基)、ハメツトの。
値が−0.84から十0.7までの範囲の置換基を有す
るアリール基、およびハメットの。値が−0.槌から十
0.7までの範囲の置換基を有するN,Sまたは0を含
む後素芳香環の1価の残基からなる群から選ばれた1種
の残基を表わす。アリール基としては、1個のベンゼン
環の残基、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基、2
個のベンゼン環集合系の残基ならびにベンゼン環と5真
不飽和環との縮合系の残基をあげることができる。これ
らの具体例としては、フヱニル基、ナフチル基、アント
リル基、フェナントリル基、イソデニル基、ビフェニリ
ル基、アセナフテニル基、フルオレニル基をあげること
ができる。N,Sまたは0を含む榎素芳香環の1価の残
基としては、フリル基、ベンゾフラニル基、ピロリル基
、インドリル基、ィソィンドリル基、インドレニル基(
細‐ィンドリル基)、チェニル基、ベンゾチェニル基、
イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、オキサゾリル
基、ベンゾオキサゾリル基、ナフトオキサゾリル基、チ
アゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ナフトチアゾリル基
、ピリジル基、キノリル基、インキノリル基をあげるこ
とができるハメットの。
るアリール基、およびハメットの。値が−0.槌から十
0.7までの範囲の置換基を有するN,Sまたは0を含
む後素芳香環の1価の残基からなる群から選ばれた1種
の残基を表わす。アリール基としては、1個のベンゼン
環の残基、2個および3個の縮合ベンゼン環の残基、2
個のベンゼン環集合系の残基ならびにベンゼン環と5真
不飽和環との縮合系の残基をあげることができる。これ
らの具体例としては、フヱニル基、ナフチル基、アント
リル基、フェナントリル基、イソデニル基、ビフェニリ
ル基、アセナフテニル基、フルオレニル基をあげること
ができる。N,Sまたは0を含む榎素芳香環の1価の残
基としては、フリル基、ベンゾフラニル基、ピロリル基
、インドリル基、ィソィンドリル基、インドレニル基(
細‐ィンドリル基)、チェニル基、ベンゾチェニル基、
イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、オキサゾリル
基、ベンゾオキサゾリル基、ナフトオキサゾリル基、チ
アゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ナフトチアゾリル基
、ピリジル基、キノリル基、インキノリル基をあげるこ
とができるハメットの。
値が−0.84から十0.7までの範囲の置換基を有す
るァリール基およびハメットのひ値が前述の範囲の置換
基を有するN,Sまたは0を含む複素芳香環の1価の残
基としては、それぞれ前述のアリール基およびN,Sま
たは0を含む穣素芳香環の1価の残基にハメットの。値
が前述の範囲の置換基を1個またはそれ以上の個数が置
換した残基をあげることができる。本明細書においては
、ハメットの。値の定義はしフラー(J.E.じffl
er)著、都野雄甫訳「有機反応速度論」(東京、広川
書店、19斑年発行)に従うものである。ハメツトの。
値が−0.84から十0.7までの範囲の置換基の具体
例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ベンチル基、ィソプロピル基、teれ−
ブチル基、ィソアミル基、フェニル基、ナフチル基、ト
リフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、メトキシ
カルポニル基、ェトキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、カルポキシラト基(一COO
e)、アミ/基、メチルアミノ基、ジメチルアミ/基、
エチルアミ/基、ジェチルアミ/基、アセチルアミノ基
、−P03日基、メトキシ基、ェトキシ基、プロポキシ
基、ィソプロポキシ基、ブトキシ基、ベンチルオキシ基
、フヱノキシ基、ヒドロキシル基、アセトキシ基、メチ
ルチオ基、エチルチオ基、ィソプロピルチオ基、メルカ
プト基、アセチルチオ基。チオシアノ基(一SCN)、
メチルスルフィニル基、エチルスルフオニル基、メチル
スルフオニル基、エチルスルフオニル基、アミノスルホ
ニル基、ジメチルスルフオニル基(−雪(CH3)2)
、刈フオナト基(−S。3e)、弗素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子、ョージル基、トリメチルシリル基
(一Si(CH3)3)、トリェチルシリル基、トリム
チルスタニル基(一Sn(C広)3)をあげることがで
きる。
るァリール基およびハメットのひ値が前述の範囲の置換
基を有するN,Sまたは0を含む複素芳香環の1価の残
基としては、それぞれ前述のアリール基およびN,Sま
たは0を含む穣素芳香環の1価の残基にハメットの。値
が前述の範囲の置換基を1個またはそれ以上の個数が置
換した残基をあげることができる。本明細書においては
、ハメットの。値の定義はしフラー(J.E.じffl
er)著、都野雄甫訳「有機反応速度論」(東京、広川
書店、19斑年発行)に従うものである。ハメツトの。
値が−0.84から十0.7までの範囲の置換基の具体
例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ベンチル基、ィソプロピル基、teれ−
ブチル基、ィソアミル基、フェニル基、ナフチル基、ト
リフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、メトキシ
カルポニル基、ェトキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、カルポキシラト基(一COO
e)、アミ/基、メチルアミノ基、ジメチルアミ/基、
エチルアミ/基、ジェチルアミ/基、アセチルアミノ基
、−P03日基、メトキシ基、ェトキシ基、プロポキシ
基、ィソプロポキシ基、ブトキシ基、ベンチルオキシ基
、フヱノキシ基、ヒドロキシル基、アセトキシ基、メチ
ルチオ基、エチルチオ基、ィソプロピルチオ基、メルカ
プト基、アセチルチオ基。チオシアノ基(一SCN)、
メチルスルフィニル基、エチルスルフオニル基、メチル
スルフオニル基、エチルスルフオニル基、アミノスルホ
ニル基、ジメチルスルフオニル基(−雪(CH3)2)
、刈フオナト基(−S。3e)、弗素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子、ョージル基、トリメチルシリル基
(一Si(CH3)3)、トリェチルシリル基、トリム
チルスタニル基(一Sn(C広)3)をあげることがで
きる。
これらの置換基のうちで好ましいものは、水素原子、メ
チル基、エチル基、メトキシ基、ェトキシ基、ジメチル
アミノ基、ジェチルアミノ基、塩素原子、シアノ基であ
る。。ハメットの。
チル基、エチル基、メトキシ基、ェトキシ基、ジメチル
アミノ基、ジェチルアミノ基、塩素原子、シアノ基であ
る。。ハメットの。
値が−0.84から十0.7までの範囲の置換基を有す
るァリール基の具体例としては、トリル基、エチルフェ
ニル基、にrt−ブチルフェニル基、トリフルオロフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセチルフヱニル基、ェト
キシカルポニルフェニル基、カルボキシフェニル基、ア
ミノフヱニル基、(メチルアミノ)フェニル基、(ジメ
チルアミノ)フェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロ
キシフェニル基、(メチルチオ)フェニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、フル
オロフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフ
ェニル基、メトキシスルホニルフェニル基、アミノフェ
ニル基、(ジメチルアミノ)ナフチル基、クロロナフチ
ル基、メチルナフチル基、クロロアントリル基、メチル
アントリル基、ブロモフェナントリル基、エチルフェナ
ントリル基、メチルインデニル基、クロロィンデニル基
をあげることができる。ハメットのり値が一0.桝から
十0.7までの範囲の置換基を有するN,Sまたは0を
有する複素芳香環の1価の残基の具体例としては、メチ
ルピリジル基、クロロピリジル基、メチルキノリル基、
クロロキノリル基、フェニルチアゾリル基、ジフェニル
チアゾリル基、クロロベンゾチアゾIJル基、クロロベ
ンゾオキサゾリル基、フェニルベンゾオキサゾリル基、
メチルベンゾオキサゾリル基、メチルベンゾフラニル基
、クロロベンゾフラニル基、メチルイミダゾリル基、フ
ェニルイミダゾリル基をあげることができる。
るァリール基の具体例としては、トリル基、エチルフェ
ニル基、にrt−ブチルフェニル基、トリフルオロフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセチルフヱニル基、ェト
キシカルポニルフェニル基、カルボキシフェニル基、ア
ミノフヱニル基、(メチルアミノ)フェニル基、(ジメ
チルアミノ)フェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロ
キシフェニル基、(メチルチオ)フェニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、フル
オロフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフ
ェニル基、メトキシスルホニルフェニル基、アミノフェ
ニル基、(ジメチルアミノ)ナフチル基、クロロナフチ
ル基、メチルナフチル基、クロロアントリル基、メチル
アントリル基、ブロモフェナントリル基、エチルフェナ
ントリル基、メチルインデニル基、クロロィンデニル基
をあげることができる。ハメットのり値が一0.桝から
十0.7までの範囲の置換基を有するN,Sまたは0を
有する複素芳香環の1価の残基の具体例としては、メチ
ルピリジル基、クロロピリジル基、メチルキノリル基、
クロロキノリル基、フェニルチアゾリル基、ジフェニル
チアゾリル基、クロロベンゾチアゾIJル基、クロロベ
ンゾオキサゾリル基、フェニルベンゾオキサゾリル基、
メチルベンゾオキサゾリル基、メチルベンゾフラニル基
、クロロベンゾフラニル基、メチルイミダゾリル基、フ
ェニルイミダゾリル基をあげることができる。
pージアルキルアミノスチリル化合物の具体例としては
、まずp−(ジアルキルアミ/)スチルベン類として、
p−(ジメチルアミノ)スチルベン、p一(ジメチルア
ミ/)一p′ークロロスチルベン、p−(ジメチルアミ
ノ)−p′ーメチルスチルベン、p一(ジメチルアミノ
)一p′ーメトキシスチルベン、p一(ジメチルアミノ
)一メーシアノスチルベン、p,p′ービス(ジメチル
アミノ)スチルベン、p一(ジエチルアミノ)スチルベ
ン、p一(ジエチルアミノ)一p′−クロロスチルベン
、p一(ジヱチルアミノ)一p′ーメチルスチルベン、
p一(ジエチルアミノ)一p′−メトキシスチルベン、
p一(ジメチルアミ/)一m′ーメチルスチルベン、p
一(ジメチルアミ/)−m′ーメトキシスチルベンをあ
げることができる。
、まずp−(ジアルキルアミ/)スチルベン類として、
p−(ジメチルアミノ)スチルベン、p一(ジメチルア
ミ/)一p′ークロロスチルベン、p−(ジメチルアミ
ノ)−p′ーメチルスチルベン、p一(ジメチルアミノ
)一p′ーメトキシスチルベン、p一(ジメチルアミノ
)一メーシアノスチルベン、p,p′ービス(ジメチル
アミノ)スチルベン、p一(ジエチルアミノ)スチルベ
ン、p一(ジエチルアミノ)一p′−クロロスチルベン
、p一(ジヱチルアミノ)一p′ーメチルスチルベン、
p一(ジエチルアミノ)一p′−メトキシスチルベン、
p一(ジメチルアミ/)一m′ーメチルスチルベン、p
一(ジメチルアミ/)−m′ーメトキシスチルベンをあ
げることができる。
その他のpージアルキルアミノスチリル化合物の具体例
としては、4−〔p一(ジメチルアミ/)スチリル〕キ
ノリン、2−〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕キノ
リン、2−〔p一(ジメチルアミ/)スチリル)ペンゾ
チアゾール、2−′〔p−(ジメチルアミ/)スチリル
〕ペンゾオキシゾール、2−〔p一(ジメチルアミノ)
スチリル〕インドレニン、2一〔p一(ジメチルアミノ
)スチリル〕−Q−ナフトチアゾール、1一〔p一(ジ
メチルアミノ)スチリル〕−8ーナフトチアゾール、2
一〔pージメチルアミノ)スチリル〕ピリジン、2一〔
p−(ジメチルアミノ)スチリル〕フラン、2−〔p−
(ジメチルアミノ)スチリル〕チアゾール、4一〔p−
(ジメチルアミノ)スチリル〕イミダゾール、4一〔p
一(ジメチルアミノ)スチリル〕−6ークロロキノリン
、2一〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕−6ープロ
モキノリン、2−〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕
一4,5ージフエニルチアゾール、2一〔p一(ジメチ
ルアミノ)スチリル〕−4ーフエニルチアゾール、2−
〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕一5−クロロベン
ゾチアゾール、2一〔p−(ジメチルアミノ)スチリル
〕−5ークロロベンゾオキサゾール、2一〔p−(ジメ
チルアミノ)スチリル〕−5−フエニルベンゾオキサゾ
ール、1−〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕ナフト
ール、2一〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕ナフト
ール、4−〔p一(ジエチルアミノ)スチリル〕キノリ
ン、2−〔p一(ジエチルアミノ)スチリル〕ペンゾチ
アゾールをあげることができる。一般式(1)で表わさ
れるp−ジアルキルアミノスチリル化合物は、一般式日
3C−R3 (0)(上式
においてR3は前述のR3と同じ残基を表わす。
としては、4−〔p一(ジメチルアミ/)スチリル〕キ
ノリン、2−〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕キノ
リン、2−〔p一(ジメチルアミ/)スチリル)ペンゾ
チアゾール、2−′〔p−(ジメチルアミ/)スチリル
〕ペンゾオキシゾール、2−〔p一(ジメチルアミノ)
スチリル〕インドレニン、2一〔p一(ジメチルアミノ
)スチリル〕−Q−ナフトチアゾール、1一〔p一(ジ
メチルアミノ)スチリル〕−8ーナフトチアゾール、2
一〔pージメチルアミノ)スチリル〕ピリジン、2一〔
p−(ジメチルアミノ)スチリル〕フラン、2−〔p−
(ジメチルアミノ)スチリル〕チアゾール、4一〔p−
(ジメチルアミノ)スチリル〕イミダゾール、4一〔p
一(ジメチルアミノ)スチリル〕−6ークロロキノリン
、2一〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕−6ープロ
モキノリン、2−〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕
一4,5ージフエニルチアゾール、2一〔p一(ジメチ
ルアミノ)スチリル〕−4ーフエニルチアゾール、2−
〔p−(ジメチルアミノ)スチリル〕一5−クロロベン
ゾチアゾール、2一〔p−(ジメチルアミノ)スチリル
〕−5ークロロベンゾオキサゾール、2一〔p−(ジメ
チルアミノ)スチリル〕−5−フエニルベンゾオキサゾ
ール、1−〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕ナフト
ール、2一〔p一(ジメチルアミノ)スチリル〕ナフト
ール、4−〔p一(ジエチルアミノ)スチリル〕キノリ
ン、2−〔p一(ジエチルアミノ)スチリル〕ペンゾチ
アゾールをあげることができる。一般式(1)で表わさ
れるp−ジアルキルアミノスチリル化合物は、一般式日
3C−R3 (0)(上式
においてR3は前述のR3と同じ残基を表わす。
)で表わされる化合物と一般式(上式においてRIおよ
びR2はそれぞれ前述のRIおよびR2と同じ残基を表
わす。
びR2はそれぞれ前述のRIおよびR2と同じ残基を表
わす。
)で表わされるp−(ジアルキルアミノ)ペンズアルデ
ヒドとの縮合反応などの方法で得られる化合物である。
合成方法の具体例は後述の合成例およびその記載の中で
引用した文献に記載されている方法をあげることができ
る。合成例 1 p−(ジメチルアミノ)スチルベンの合成Karihe
im FriedrichおよびHans一Georg
Hennigの「ChemischeBerichte
」誌第鰍巻第2944〜2952頁(195乎手発行)
に記載の「Wittig反応による置換スチルベンの合
成法」により合成した。
ヒドとの縮合反応などの方法で得られる化合物である。
合成方法の具体例は後述の合成例およびその記載の中で
引用した文献に記載されている方法をあげることができ
る。合成例 1 p−(ジメチルアミノ)スチルベンの合成Karihe
im FriedrichおよびHans一Georg
Hennigの「ChemischeBerichte
」誌第鰍巻第2944〜2952頁(195乎手発行)
に記載の「Wittig反応による置換スチルベンの合
成法」により合成した。
ペンジルクロリド12.7夕(0.1モル)とトリフエ
ニルホスフイン28.8夕(0.11モル)をベンゼン
50の‘に加え、90分加熱擬元し、析出したトリフェ
ニルベンジルホスホニウムクロリドを炉過し取り出した
。
ニルホスフイン28.8夕(0.11モル)をベンゼン
50の‘に加え、90分加熱擬元し、析出したトリフェ
ニルベンジルホスホニウムクロリドを炉過し取り出した
。
収量288夕、収率46%であった。次にトリフエニル
ベンジルホスホニウムクロリド19.4夕(0.05モ
ル)とp−(ジメチルアミノ)ペンズアルデヒド8.2
夕(0.055モル)を無水エタノール50泌に溶かし
、ナトリウムェトキシド5.4夕(0.1モル)を加え
、室温で2時間反応させた。その後、反応液を冷却する
と結晶が析出した。これを採取し、エタノールで再結晶
した。収量5.0夕、収率45%であった。融点149
qo、赤外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペクト
ルからp−(ジメチルアミノ)スチルベンであることを
確認した。他のp−(ジアルキルアミノ)スチルベン類
も同様にして瞳換基を有するペンジルクロリドを用いて
反応させることにより得られた。p−(ジメチルアミノ
)一p′ーメトキシスチルベンは、FelixBerg
mann、JaeI WeizmanおよびDavjd
、Schapiroの「Joumal of Ch鱗n
ic Chemistひ」誌第9巻第408〜414頁
(1944年発行)に記載のMeerwein反応によ
り合成した。以下、合成したp−(ジアルキルアミノ)
スチルベン類の収率と融点を掲げる。
ベンジルホスホニウムクロリド19.4夕(0.05モ
ル)とp−(ジメチルアミノ)ペンズアルデヒド8.2
夕(0.055モル)を無水エタノール50泌に溶かし
、ナトリウムェトキシド5.4夕(0.1モル)を加え
、室温で2時間反応させた。その後、反応液を冷却する
と結晶が析出した。これを採取し、エタノールで再結晶
した。収量5.0夕、収率45%であった。融点149
qo、赤外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペクト
ルからp−(ジメチルアミノ)スチルベンであることを
確認した。他のp−(ジアルキルアミノ)スチルベン類
も同様にして瞳換基を有するペンジルクロリドを用いて
反応させることにより得られた。p−(ジメチルアミノ
)一p′ーメトキシスチルベンは、FelixBerg
mann、JaeI WeizmanおよびDavjd
、Schapiroの「Joumal of Ch鱗n
ic Chemistひ」誌第9巻第408〜414頁
(1944年発行)に記載のMeerwein反応によ
り合成した。以下、合成したp−(ジアルキルアミノ)
スチルベン類の収率と融点を掲げる。
化 合 物
合成例 2
4一(ジメチルアミノ)スチリルキノリンの合成Car
ITabb協h船rらの「JomM1of0r鰍nlc
Chemistry」誌第22巻第682〜683頁(
1957年発行)に記載の方法に従って合成した。
ITabb協h船rらの「JomM1of0r鰍nlc
Chemistry」誌第22巻第682〜683頁(
1957年発行)に記載の方法に従って合成した。
無水の塩化亜鉛13.6夕(0.1モル)、4ーメチル
キノリン28.6夕(0.2モル)およびp一(ジメチ
ルアミノ)ペンズアルデヒド44.7夕(0.3モル)
を混合し、110qo〜120午○で2少時間加熱し、
生成した水を溜去しながら反応させた。
キノリン28.6夕(0.2モル)およびp一(ジメチ
ルアミノ)ペンズアルデヒド44.7夕(0.3モル)
を混合し、110qo〜120午○で2少時間加熱し、
生成した水を溜去しながら反応させた。
その後クロロホルムを加えて不溶の塩化亜鉛を炉過で除
き、クロロホルムを溜去し、残った固体をエタノールで
再結晶し、目的物を得た。収量は21.9夕、収率は4
0%、融点は141〜1420であった。赤外吸収スペ
クトルおよび核磁気共鳴スペクトルにより4−(ジメチ
ルアミノ)スチリルキ/リンであることを確認した。他
のp−(ジアルキル)アミノスチリル化合物も同様の方
法で合成できた。
き、クロロホルムを溜去し、残った固体をエタノールで
再結晶し、目的物を得た。収量は21.9夕、収率は4
0%、融点は141〜1420であった。赤外吸収スペ
クトルおよび核磁気共鳴スペクトルにより4−(ジメチ
ルアミノ)スチリルキ/リンであることを確認した。他
のp−(ジアルキル)アミノスチリル化合物も同様の方
法で合成できた。
収率はそれぞれ10%から50%の範囲内であった。他
の化合物の融点を以下に掲げる。次に成分‘b)の芳香
族系カルボニル化合物としては、芳香族アシロィン類、
芳香族アシロィンェーテル類、芳香族ケトン類、多環縮
合型キノン類を用いることができる。
の化合物の融点を以下に掲げる。次に成分‘b)の芳香
族系カルボニル化合物としては、芳香族アシロィン類、
芳香族アシロィンェーテル類、芳香族ケトン類、多環縮
合型キノン類を用いることができる。
芳香族アシロィン類の具体例としては、ベンゾィン、o
ートルオイン、P−トルオイン、アニソイン、フロイン
をあげることができる。芳香族アシロィンェーテル類の
具体例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインsecープチルエーテル、oートルオインメ
チルエーテル、p−トルオインメチルェーテルをあげる
ことができる。芳香族ケトン類としては、ベンゾフエノ
ン、フエニルトリルケトン、2−クロロベンゾフエノン
、2一クロロアセトフエノン、アセトフエノン、プロピ
オフエノン、ベンジル、2,2′−ジメチルベンジル、
ミヒラーケトン、ビス(pーアミノフエニル)ケトン、
フエニルBーナフチルケトン、フルオレノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、10,10′ーピァントロンを
あげることができる。多環縮合型キノン類としては、ア
ントラキノン、1ーヒドロキシアントラキノン、1−メ
チルアントラキノソ、2一メチルアントラキノン、2一
エチルアントラキノン、2−tert一ブチルアントラ
キノン、1一クロロアントラキノン、1一ブロモアント
ラキノン、2一クロロアントラキノン、フエナントラキ
ノン、1ーメチルフエナントラキノン、4一エチルフエ
ナントラキノン、2−クロロフエナントラキノン、3ー
ブロモフヱナントラキノン、2,7ージメチルフヱナン
トラキノン、2,7−ジーにてtーブチルフエナントラ
キノン、1,2一ベンズアントラキノンをあげることが
できる。これらの芳香族系カルボニル化合物のうちでは
、感光度の増大、入手のしやすさ、光重合性組成物との
相溶性や経時安定性、形成された画像の強固さ等の観点
から、ベンズアントロン、1,2−ペンズアントラキノ
ンおよびフルオレノンが好ましく、特に好ましい化合物
はペンズアントロンおよび1,2ーベンズアントラキ/
ンである。本発明の光重合性組成中に含有される光重合
開始剤の量は、エチレン性化合物に対する重量パーセン
トで約0.01%から約20%までの広い範囲をとるこ
とが可能であり、好ましくは同じく約0.1%から約1
0%までである。光重合開始剤として成分{aーの他に
成分【b)を用いる場合の光重合開始剤の成分重量の比
‘a}:‘b}‘ま約30:1から約1:30までの範
囲で好ましくは約10:1から1:10までの範囲であ
る。前述のエチレン性化合物と光重合開始剤とを含有す
る本発明の光重合性組成物にはさらに公知の皮膜形成能
を有する高分子物質(バインダー)、熱重合防止剤、可
塑剤、着色剤、表面平滑剤などの添加剤を必要に応じて
含有させることができる特に後述するごとき剥離現像を
行なうための感光材料、あるいは液体による現像を行な
うための感光材料のごとく、感光材料上にレジスト(肉
厚の)画像をつくる目的には皮膜形成高分子物質(バイ
ンダー)を併用することができる。
ートルオイン、P−トルオイン、アニソイン、フロイン
をあげることができる。芳香族アシロィンェーテル類の
具体例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインsecープチルエーテル、oートルオインメ
チルエーテル、p−トルオインメチルェーテルをあげる
ことができる。芳香族ケトン類としては、ベンゾフエノ
ン、フエニルトリルケトン、2−クロロベンゾフエノン
、2一クロロアセトフエノン、アセトフエノン、プロピ
オフエノン、ベンジル、2,2′−ジメチルベンジル、
ミヒラーケトン、ビス(pーアミノフエニル)ケトン、
フエニルBーナフチルケトン、フルオレノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、10,10′ーピァントロンを
あげることができる。多環縮合型キノン類としては、ア
ントラキノン、1ーヒドロキシアントラキノン、1−メ
チルアントラキノソ、2一メチルアントラキノン、2一
エチルアントラキノン、2−tert一ブチルアントラ
キノン、1一クロロアントラキノン、1一ブロモアント
ラキノン、2一クロロアントラキノン、フエナントラキ
ノン、1ーメチルフエナントラキノン、4一エチルフエ
ナントラキノン、2−クロロフエナントラキノン、3ー
ブロモフヱナントラキノン、2,7ージメチルフヱナン
トラキノン、2,7−ジーにてtーブチルフエナントラ
キノン、1,2一ベンズアントラキノンをあげることが
できる。これらの芳香族系カルボニル化合物のうちでは
、感光度の増大、入手のしやすさ、光重合性組成物との
相溶性や経時安定性、形成された画像の強固さ等の観点
から、ベンズアントロン、1,2−ペンズアントラキノ
ンおよびフルオレノンが好ましく、特に好ましい化合物
はペンズアントロンおよび1,2ーベンズアントラキ/
ンである。本発明の光重合性組成中に含有される光重合
開始剤の量は、エチレン性化合物に対する重量パーセン
トで約0.01%から約20%までの広い範囲をとるこ
とが可能であり、好ましくは同じく約0.1%から約1
0%までである。光重合開始剤として成分{aーの他に
成分【b)を用いる場合の光重合開始剤の成分重量の比
‘a}:‘b}‘ま約30:1から約1:30までの範
囲で好ましくは約10:1から1:10までの範囲であ
る。前述のエチレン性化合物と光重合開始剤とを含有す
る本発明の光重合性組成物にはさらに公知の皮膜形成能
を有する高分子物質(バインダー)、熱重合防止剤、可
塑剤、着色剤、表面平滑剤などの添加剤を必要に応じて
含有させることができる特に後述するごとき剥離現像を
行なうための感光材料、あるいは液体による現像を行な
うための感光材料のごとく、感光材料上にレジスト(肉
厚の)画像をつくる目的には皮膜形成高分子物質(バイ
ンダー)を併用することができる。
そして重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と相溶性のある有機高分子重合体である限り、バイ
ンダーとしてどれを使用してもさしつかえないが、望ま
しくは剥離現像、水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする様な高分子重合体を選択すべきである。有機高
分子重合体は単なる該組成物の皮膜形成剤としてだけで
なく現像液として用いられる水、弱アルカリ水、あるい
は有機溶剤の種類に応じてそれに親和性があるものを、
んで使用される。たとえば水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合
体としては側鎖にカルボキシル基を有する付加重合体、
たとえばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、
イタコン酸共重合体、部分ェステル化マレィン酸共重合
体、マレィン酸共重合体、クロトン酸共重合体等があり
、又同様に側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロ−
ス誘導体がある。この他水酸基を有する付加重合体には
環状酸無水性を付加させたもの等が有用である。この他
に水溶性有機高分子重合体としてポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキシド等が有用である。また露光後の
硬化部分の皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性
ナイロンや2,2ービス(4−ヒドロキシフエニル)プ
ロパンとエピクロロヒドリンのポリェーテルなども有用
である。これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な
量を混和させることができるが、9の重且%をえること
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない
。また剥離現像時に用いられる線状有機高分子重合体は
塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素
化ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸アルキル
ェステル(アルキル基としては、メチル基、エチル基、
ブチル基など)、アクリル酸アルキルェステル(アルキ
ル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン、ブタジェン等のモノマーの少くと
も一種との共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとア
クリロニトリルの共重合物、ポリ塩化ビニ1」デン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、ポリ酢酸
ビニル、酢酸ビニルと塩化ビニルの共重合物、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリロニ
トリル、アクリロニトリルとスチレンの共重合物、アク
リロニトリルとブタジェン及びスチレンとの共重合物、
ポリビニルアルキルェーテル(アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、ィソプロピル基、ブチル基等)、ポ
リメチルビニルケトン、ピリヱチルビニルケトン、ポリ
チエレン、ポリプロピレン、ポリプチン、ポリスチレン
、ポリ−Qーメチルスチレン、ポリアミド(6ーナィロ
ン、6,6ーナイロン等)、ポリ−1,3−ブタジエン
、ポリイソプレン、ポリウレタン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンイソフタレート、塩化ゴム、ポ
リクロロプレン、塩化ゴム、エチルセルロース、アセチ
ルセルロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、スチレンーブタジエンゴム、クロロスルホン化
ポリエチレンなどのホモポリマー又は共重合物がある。
共重合物の場合、その成分モ/マ−の含有比は、広範囲
の値をとりうるが、一般には、少量モノマー成分がモル
比で10%以上50%以下の範囲のものが好適である。
またこれら以外の熱可塑性の高分子物質であっても、前
述の条件を満たすものであれば、本発明に用いるこがで
きる。上記のポリマーのうち、本発明の光重合性組成物
とともに好適に用いられるものとしては、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ピニリデン共
重合物(塩化ビニルのモル含量率20〜80%)、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合物(アクリロニト
リルのモル含量率10〜30%)、塩化ビニルーアクリ
ロニトリル共重合物(ァクリロニトリルのモル含量率1
0〜30%)、ポリスチレン、ポリビニルブチラ−ル、
ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、エチル
セルロース、アセチルセルロース、塩化ビニルー酢酸ピ
ニル共重合物、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、塩
化ゴム、クロロスルホン化ポリエチレンなどである。こ
れらのポリマーは、単独で用いてもよいが、塗布液の調
合から、塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さな
い程度に良いポリマーを、適当な比で二種以上混合して
用いることでる。
合物と相溶性のある有機高分子重合体である限り、バイ
ンダーとしてどれを使用してもさしつかえないが、望ま
しくは剥離現像、水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする様な高分子重合体を選択すべきである。有機高
分子重合体は単なる該組成物の皮膜形成剤としてだけで
なく現像液として用いられる水、弱アルカリ水、あるい
は有機溶剤の種類に応じてそれに親和性があるものを、
んで使用される。たとえば水可溶性有機高分子重合体を
用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合
体としては側鎖にカルボキシル基を有する付加重合体、
たとえばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、
イタコン酸共重合体、部分ェステル化マレィン酸共重合
体、マレィン酸共重合体、クロトン酸共重合体等があり
、又同様に側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロ−
ス誘導体がある。この他水酸基を有する付加重合体には
環状酸無水性を付加させたもの等が有用である。この他
に水溶性有機高分子重合体としてポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキシド等が有用である。また露光後の
硬化部分の皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性
ナイロンや2,2ービス(4−ヒドロキシフエニル)プ
ロパンとエピクロロヒドリンのポリェーテルなども有用
である。これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な
量を混和させることができるが、9の重且%をえること
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない
。また剥離現像時に用いられる線状有機高分子重合体は
塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素
化ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸アルキル
ェステル(アルキル基としては、メチル基、エチル基、
ブチル基など)、アクリル酸アルキルェステル(アルキ
ル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン、ブタジェン等のモノマーの少くと
も一種との共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとア
クリロニトリルの共重合物、ポリ塩化ビニ1」デン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、ポリ酢酸
ビニル、酢酸ビニルと塩化ビニルの共重合物、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリロニ
トリル、アクリロニトリルとスチレンの共重合物、アク
リロニトリルとブタジェン及びスチレンとの共重合物、
ポリビニルアルキルェーテル(アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、ィソプロピル基、ブチル基等)、ポ
リメチルビニルケトン、ピリヱチルビニルケトン、ポリ
チエレン、ポリプロピレン、ポリプチン、ポリスチレン
、ポリ−Qーメチルスチレン、ポリアミド(6ーナィロ
ン、6,6ーナイロン等)、ポリ−1,3−ブタジエン
、ポリイソプレン、ポリウレタン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンイソフタレート、塩化ゴム、ポ
リクロロプレン、塩化ゴム、エチルセルロース、アセチ
ルセルロース、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、スチレンーブタジエンゴム、クロロスルホン化
ポリエチレンなどのホモポリマー又は共重合物がある。
共重合物の場合、その成分モ/マ−の含有比は、広範囲
の値をとりうるが、一般には、少量モノマー成分がモル
比で10%以上50%以下の範囲のものが好適である。
またこれら以外の熱可塑性の高分子物質であっても、前
述の条件を満たすものであれば、本発明に用いるこがで
きる。上記のポリマーのうち、本発明の光重合性組成物
とともに好適に用いられるものとしては、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−塩化ピニリデン共
重合物(塩化ビニルのモル含量率20〜80%)、塩化
ビニリデン−アクリロニトリル共重合物(アクリロニト
リルのモル含量率10〜30%)、塩化ビニルーアクリ
ロニトリル共重合物(ァクリロニトリルのモル含量率1
0〜30%)、ポリスチレン、ポリビニルブチラ−ル、
ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、エチル
セルロース、アセチルセルロース、塩化ビニルー酢酸ピ
ニル共重合物、ポリクロロプレン、ポリイソプレン、塩
化ゴム、クロロスルホン化ポリエチレンなどである。こ
れらのポリマーは、単独で用いてもよいが、塗布液の調
合から、塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さな
い程度に良いポリマーを、適当な比で二種以上混合して
用いることでる。
熱重合防止剤の具体例としては、例えばバラメトキシフ
ェノール、ヒドロキノン、アルキル若しくはアリール置
換ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール
、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニール、ナフチ
ルアミン、B−ナフトール、2,6ージ−tーブチル−
pークレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロ
ベンゼン、pートルィジン、メチレンブル−、有機酸鍵
(例えば酢酸鋼など)などがある。
ェノール、ヒドロキノン、アルキル若しくはアリール置
換ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール
、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニール、ナフチ
ルアミン、B−ナフトール、2,6ージ−tーブチル−
pークレゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロ
ベンゼン、pートルィジン、メチレンブル−、有機酸鍵
(例えば酢酸鋼など)などがある。
これらの熱重合防止剤は前述のエチレン性化合物100
重量部に対して0.001重量部から5重量部の範囲で
含有させるのが望ましい。熱重合防止剤は本発明の組成
物の露光前の経時安定性を向上させる目的で含有させる
ことができるのである。着色剤としては、例えば酸化チ
タン、カーボンブラック、酸化鉄、フタロシアニン系顔
料、アゾ系顔料などの顔料や、メチレンブルー、クリス
タルバイオレット、ローダミンB、フクシン、オーラミ
ン、アゾ系染料、アントラキノン系染料などの染料があ
るが、使用される着色剤が光重合開始剤の吸収波長の光
を吸収しないものが好ましい。
重量部に対して0.001重量部から5重量部の範囲で
含有させるのが望ましい。熱重合防止剤は本発明の組成
物の露光前の経時安定性を向上させる目的で含有させる
ことができるのである。着色剤としては、例えば酸化チ
タン、カーボンブラック、酸化鉄、フタロシアニン系顔
料、アゾ系顔料などの顔料や、メチレンブルー、クリス
タルバイオレット、ローダミンB、フクシン、オーラミ
ン、アゾ系染料、アントラキノン系染料などの染料があ
るが、使用される着色剤が光重合開始剤の吸収波長の光
を吸収しないものが好ましい。
かかる着色剤は、バインダーとエチレン性化合物の合計
量10の重量部に対して顔料の場合は0.1重量部から
3の重量部、染料の場合は0.01重量部から10重量
部、好ましくは0.1重量部から3重量部の範囲含有さ
せるのが好ましい。上述の着色剤を含有させる場合には
、着色剤の補助物質としてステアリン酸ジクロロメチル
およびその他の塩素化脂肪酸などを用いることが好まし
く、その量は、着色剤1重量部に対して0.005重量
部から0.5重量部までの範囲で用いることができる。
しかし光重合性組成物中に可塑剤が含有される場合には
着色剤の補助物質は不要である。可塑剤としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート
、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタ
レート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタ
レート、ジイソデ′シルフタレート、ジアリルフタレー
トなどのフタル酸ェステル類、ジメチルゴリコールフタ
レート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフ
タリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリ
コレート、トリェチレングリコールジカプリル酸ヱステ
ルなどのグリコールェステル類、トリクレジルホスフエ
ート、トリフエニルフオスヘートなどの燐酸ェステル類
、ジィソブチルアジベート、ジオクチルアジベート、ジ
メチルセ/ゞケート、ジブチルセバケート、ジオチルア
ゼレート、ジブチルマレェートなどの脂肪族二塩基酸ヱ
ステル類、くえん酸トリェチル、グリセリントリアセチ
ルェステル、ラウリン酸ブチルなどがある。表面平滑剤
としてはラノリン、パラフィンワックスおよび天然ワッ
クス等がある。
量10の重量部に対して顔料の場合は0.1重量部から
3の重量部、染料の場合は0.01重量部から10重量
部、好ましくは0.1重量部から3重量部の範囲含有さ
せるのが好ましい。上述の着色剤を含有させる場合には
、着色剤の補助物質としてステアリン酸ジクロロメチル
およびその他の塩素化脂肪酸などを用いることが好まし
く、その量は、着色剤1重量部に対して0.005重量
部から0.5重量部までの範囲で用いることができる。
しかし光重合性組成物中に可塑剤が含有される場合には
着色剤の補助物質は不要である。可塑剤としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート
、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタ
レート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタ
レート、ジイソデ′シルフタレート、ジアリルフタレー
トなどのフタル酸ェステル類、ジメチルゴリコールフタ
レート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフ
タリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリ
コレート、トリェチレングリコールジカプリル酸ヱステ
ルなどのグリコールェステル類、トリクレジルホスフエ
ート、トリフエニルフオスヘートなどの燐酸ェステル類
、ジィソブチルアジベート、ジオクチルアジベート、ジ
メチルセ/ゞケート、ジブチルセバケート、ジオチルア
ゼレート、ジブチルマレェートなどの脂肪族二塩基酸ヱ
ステル類、くえん酸トリェチル、グリセリントリアセチ
ルェステル、ラウリン酸ブチルなどがある。表面平滑剤
としてはラノリン、パラフィンワックスおよび天然ワッ
クス等がある。
必要に応じて本発明の組成物に含有させることができる
上述の種々の変性剤は光重合性組成物の全軍量に対して
3重量%まで、好ましくは1重量%までの範囲で用いる
ことができる。
上述の種々の変性剤は光重合性組成物の全軍量に対して
3重量%まで、好ましくは1重量%までの範囲で用いる
ことができる。
本発明の光重合性組成物は溶剤に溶解して塗布光重合性
組成物溶液にして、これを支持体上に公知の方法により
塗布し、溶剤を除去して、光重合性感光材料として用い
るのが、最も一般的な本発明の光重合性組成物の用い方
である。
組成物溶液にして、これを支持体上に公知の方法により
塗布し、溶剤を除去して、光重合性感光材料として用い
るのが、最も一般的な本発明の光重合性組成物の用い方
である。
溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジィソブ
チルケトンなどの如きケトン類、例えば酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、蟻酸〆チル、プロピオン酸エチ
ル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどの如きェス
テル類、例えばトルエン、キシレン、ベンゼン、エチル
ベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、例えば四塩化炭素
、トリクロロェチレン、クロロホルム、1,1,1−ト
リクロロエタン、モノクロ。
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジィソブ
チルケトンなどの如きケトン類、例えば酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、蟻酸〆チル、プロピオン酸エチ
ル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどの如きェス
テル類、例えばトルエン、キシレン、ベンゼン、エチル
ベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、例えば四塩化炭素
、トリクロロェチレン、クロロホルム、1,1,1−ト
リクロロエタン、モノクロ。
ベンゼン、クロルナフタリンなどの如きハロゲン化炭化
水素、例えばテトラヒドロフラン、ジェチルェーテル、
エチレングリコールモ/メチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルヱーテルアセテートなどの如きエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドな
どがある。本発明の光重合性組成物を適当な形態(例え
ば前述の溶液)を適用するための支持体としては、著し
い寸法変化を越さない平面状の物質や他の形状の物質が
ある。
水素、例えばテトラヒドロフラン、ジェチルェーテル、
エチレングリコールモ/メチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルヱーテルアセテートなどの如きエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドな
どがある。本発明の光重合性組成物を適当な形態(例え
ば前述の溶液)を適用するための支持体としては、著し
い寸法変化を越さない平面状の物質や他の形状の物質が
ある。
平面状の物質の例としては、ガラス、酸化珪素、セラミ
ックス、紙、金属、例えば、アルミニウム、亜鉛、マグ
ネシウム、鋼、鉄、クロム、ニッケル、銀、金、白金、
パラジウム、アルミニウムを主成分とする合金、亜鉛を
主成分とする合金、マグネシウムを主成分とする合金、
銅−亜鉛金、鉄−ニッケルークロム合金、銅を主成分と
する合金、金属化合金、例えば酸化アルミニウム、酸化
錫(SN02)、酸化インジウム(ln203)、ポリ
マー、例えば、再生セルロース、セルロースニトラート
、セルロースジアセタート、セルローストリアセタート
、セルロースアセタートブチラート、セルロースアセタ
ートプロピオナート、ポリスチレン、ポリエチレンテレ
フタラート、ポリエチレンイソフタラート、ビスフエ/
−ルAのポリカルボナート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン〜ナイロン(6ーナイロン、6,6−ナイロン、6
,10ーナイロン等)、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合物、塩化ビニルーアクリ旧ニトリル共
重合物、塩化ビニルー塩化ビニリデン共重合物、ポリア
クリロニトリル、ポリァクリル酸メチル、ポリメタアク
リル酸メチルをあげることができる。また、上述の物質
の薄板を2つ以上堅固に積層したもの、例えば、サーメ
ット、鉄ーアルミニウム積層板、鉄−銅−アルミニウム
積層板、鉄ークロムー鋼積層板、表面にポリエチレンを
コーティングした紙、表面にセルローストリアセタート
をコーテイングした紙、表面を陽極酸化して表面に酸化
アルミニウム層を形成させたアルミニウム板、公知の方
法で表面に酸化クロム層を形成させたクロム板、酸化錫
の層を表面に設けたガラス板、酸化インジウムの層を表
面に設けた酸化珪素の板を支持体として用いることもで
きる。これらの支持体は感光性画像形成材料の目的に応
じて透明なもの不透明なものの選択をする。
ックス、紙、金属、例えば、アルミニウム、亜鉛、マグ
ネシウム、鋼、鉄、クロム、ニッケル、銀、金、白金、
パラジウム、アルミニウムを主成分とする合金、亜鉛を
主成分とする合金、マグネシウムを主成分とする合金、
銅−亜鉛金、鉄−ニッケルークロム合金、銅を主成分と
する合金、金属化合金、例えば酸化アルミニウム、酸化
錫(SN02)、酸化インジウム(ln203)、ポリ
マー、例えば、再生セルロース、セルロースニトラート
、セルロースジアセタート、セルローストリアセタート
、セルロースアセタートブチラート、セルロースアセタ
ートプロピオナート、ポリスチレン、ポリエチレンテレ
フタラート、ポリエチレンイソフタラート、ビスフエ/
−ルAのポリカルボナート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン〜ナイロン(6ーナイロン、6,6−ナイロン、6
,10ーナイロン等)、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合物、塩化ビニルーアクリ旧ニトリル共
重合物、塩化ビニルー塩化ビニリデン共重合物、ポリア
クリロニトリル、ポリァクリル酸メチル、ポリメタアク
リル酸メチルをあげることができる。また、上述の物質
の薄板を2つ以上堅固に積層したもの、例えば、サーメ
ット、鉄ーアルミニウム積層板、鉄−銅−アルミニウム
積層板、鉄ークロムー鋼積層板、表面にポリエチレンを
コーティングした紙、表面にセルローストリアセタート
をコーテイングした紙、表面を陽極酸化して表面に酸化
アルミニウム層を形成させたアルミニウム板、公知の方
法で表面に酸化クロム層を形成させたクロム板、酸化錫
の層を表面に設けたガラス板、酸化インジウムの層を表
面に設けた酸化珪素の板を支持体として用いることもで
きる。これらの支持体は感光性画像形成材料の目的に応
じて透明なもの不透明なものの選択をする。
透明な場合にも無色透明なものだけでなく、J.SM円
TE、第67巻第296頁(19球年)などに記載され
ているように染料や顔料を添加して着色透明にしたもの
を用いることができる。不透明支持体の場合にも紙や金
属のごとく本来不透明なものの他に、透明な材料に染料
や酸化チタン等の顔料を加えたもの、特公昭47−19
068号に記載されている方法で表面処理したプラスチ
ックフィルムおよびカーボンブラック等を加えて完全に
遮光性とした紙、プラスチックフィルム等を用いること
もできる。また表面に砂目立て、電解エッチング、陽極
酸化、化学エッチング等の処理により微細な凹陥を設け
た支持体、および表面をコロナ放電、紫外線照射、火焔
処理等の予備処理した支持体を用いることもできる。さ
らにまたガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、種々の金
属繊維、金属ウィスカー等の補強剤を混入して強度を増
大させたプラスチック支持体を用いることもできる。支
持体はその表面に必要に応じて結合を容易にする為に必
要な他の塗布層或いはハレーション防止層、紫外線吸収
層、可視光線吸収層を設けても良い。
TE、第67巻第296頁(19球年)などに記載され
ているように染料や顔料を添加して着色透明にしたもの
を用いることができる。不透明支持体の場合にも紙や金
属のごとく本来不透明なものの他に、透明な材料に染料
や酸化チタン等の顔料を加えたもの、特公昭47−19
068号に記載されている方法で表面処理したプラスチ
ックフィルムおよびカーボンブラック等を加えて完全に
遮光性とした紙、プラスチックフィルム等を用いること
もできる。また表面に砂目立て、電解エッチング、陽極
酸化、化学エッチング等の処理により微細な凹陥を設け
た支持体、および表面をコロナ放電、紫外線照射、火焔
処理等の予備処理した支持体を用いることもできる。さ
らにまたガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、種々の金
属繊維、金属ウィスカー等の補強剤を混入して強度を増
大させたプラスチック支持体を用いることもできる。支
持体はその表面に必要に応じて結合を容易にする為に必
要な他の塗布層或いはハレーション防止層、紫外線吸収
層、可視光線吸収層を設けても良い。
又、本発明の組成物は酸素による感度の低下を防止する
意味から、米国特許第3060026号明細書中に記載
されている如き真空嫌枠を用いて露光を行なうか、除去
することのできる透明カバーを設けるか、或いは持公昭
40一17828号公報に記載されているように感光層
の上に酸素の透過性の小さい被覆層を設けることができ
る。
意味から、米国特許第3060026号明細書中に記載
されている如き真空嫌枠を用いて露光を行なうか、除去
することのできる透明カバーを設けるか、或いは持公昭
40一17828号公報に記載されているように感光層
の上に酸素の透過性の小さい被覆層を設けることができ
る。
本発明の光重合性組成物が光重合し硬化・乾燥する速度
を決定する要因には、支持体、とくにその表面の性質、
組成物中の特定成分、光重合開始剤の全光重合性組成物
中の含存量、光重合性組成物の層の厚さ、光源の性質(
照射スペクトルの特性)、強度、酸素の有無ならびに周
囲の気温等が含まれる。
を決定する要因には、支持体、とくにその表面の性質、
組成物中の特定成分、光重合開始剤の全光重合性組成物
中の含存量、光重合性組成物の層の厚さ、光源の性質(
照射スペクトルの特性)、強度、酸素の有無ならびに周
囲の気温等が含まれる。
光の照射は、各種方法の中の任意の一つあるいはそれら
を組合わせて行なってもよい。例えば組成物は、それが
有効な露光量を与える限り、どんな光源と型のものから
得られる活性光線に曝露されてもよい。というのは本発
明の光重合性組成物は一般にその波長が約18皿mから
約60加皿までの範囲の紫外光および可視光の領域にお
いて最大感度を示すからである。しかし本発明の組成物
は真空紫外線、X線、y線の範囲の短波長の電磁波およ
び電子線、中性子線およびQ線等の粒子線にも感度を有
しているので、それらも画像露光に利用することができ
る。紫外線および可視光線領域の適当な光源の例として
は、カーボンアークランプ、水銀蒸発ランプ、キセノン
ランプ、蛍光ランプ、アルゴングロー放電管、写真用フ
ラッドランプおよびヴアン・デ・グラーフ加速器などが
ある。光照射時間は、有効な光量を与えるに充分な程度
でなくてはならない。
を組合わせて行なってもよい。例えば組成物は、それが
有効な露光量を与える限り、どんな光源と型のものから
得られる活性光線に曝露されてもよい。というのは本発
明の光重合性組成物は一般にその波長が約18皿mから
約60加皿までの範囲の紫外光および可視光の領域にお
いて最大感度を示すからである。しかし本発明の組成物
は真空紫外線、X線、y線の範囲の短波長の電磁波およ
び電子線、中性子線およびQ線等の粒子線にも感度を有
しているので、それらも画像露光に利用することができ
る。紫外線および可視光線領域の適当な光源の例として
は、カーボンアークランプ、水銀蒸発ランプ、キセノン
ランプ、蛍光ランプ、アルゴングロー放電管、写真用フ
ラッドランプおよびヴアン・デ・グラーフ加速器などが
ある。光照射時間は、有効な光量を与えるに充分な程度
でなくてはならない。
光照射は任意の有利な温度で行なってもよいが、実用上
の理由から室温すなわち1ぴ0から40q0までの範囲
で行なうのが最適である。光によって硬化された本発明
の組成物は乾燥しており弾力があり、耐摩耗性及び耐化
学薬品性を示し、またすぐれたインク受容性、親水一疎
水平衡、しみ解消性、初期ロールーアツプ性等を有し、
特にあらかじめ感光性を付与した平版印刷用の榊版材料
およびフオトレジスト等の用途に適性を持っている。本
組成物はまた印刷インク:金層箔、フィルム、紙類、織
物類等の接着剤;金属、プラスチツクス、紙、木材、金
層箔、織物、ガラス、厚紙、製函用厚紙等に用いる光硬
化性の塗料ならびに道路、駐車場および空港等の標識そ
の他に用いることができることはいうまでもない。本発
明の組成物を例えば印刷インクのビヒクルとして使用す
る時は、既知量の染料で着色すると同時に各種公知の有
機顔料、例えば、モリブデートオレンジ、チタン白、ク
ロムイエロー、フタロシアニンフルーおよびカーボンブ
ラック等で着色することができる。
の理由から室温すなわち1ぴ0から40q0までの範囲
で行なうのが最適である。光によって硬化された本発明
の組成物は乾燥しており弾力があり、耐摩耗性及び耐化
学薬品性を示し、またすぐれたインク受容性、親水一疎
水平衡、しみ解消性、初期ロールーアツプ性等を有し、
特にあらかじめ感光性を付与した平版印刷用の榊版材料
およびフオトレジスト等の用途に適性を持っている。本
組成物はまた印刷インク:金層箔、フィルム、紙類、織
物類等の接着剤;金属、プラスチツクス、紙、木材、金
層箔、織物、ガラス、厚紙、製函用厚紙等に用いる光硬
化性の塗料ならびに道路、駐車場および空港等の標識そ
の他に用いることができることはいうまでもない。本発
明の組成物を例えば印刷インクのビヒクルとして使用す
る時は、既知量の染料で着色すると同時に各種公知の有
機顔料、例えば、モリブデートオレンジ、チタン白、ク
ロムイエロー、フタロシアニンフルーおよびカーボンブ
ラック等で着色することができる。
またビヒクルの使用可能量は、組成物金重量の約20%
から99.9%までの範囲、着色剤の重量は約0.1%
から80%までの範囲で用いることができる。印刷材料
には、紙、粘土被覆紙および製函用厚紙も含まれる。本
発明の組成物はさらに天然繊維および合成繊維の織物類
の処理に通しており、例えば布地印刷インク用ビーヒク
ル、あるいは防水性、耐油性、耐汚れ性、耐折り目性等
を与えるための織物類の特殊処理に用いるビヒクルの中
に使用することができる。
から99.9%までの範囲、着色剤の重量は約0.1%
から80%までの範囲で用いることができる。印刷材料
には、紙、粘土被覆紙および製函用厚紙も含まれる。本
発明の組成物はさらに天然繊維および合成繊維の織物類
の処理に通しており、例えば布地印刷インク用ビーヒク
ル、あるいは防水性、耐油性、耐汚れ性、耐折り目性等
を与えるための織物類の特殊処理に用いるビヒクルの中
に使用することができる。
本発明の組成物を接着剤として使う場合は、接着される
基質の少なくとも一つは、紫外線光または可視光に対し
て半透明でなくてはならない。
基質の少なくとも一つは、紫外線光または可視光に対し
て半透明でなくてはならない。
本発明の組成物を用いて基質を接着してえられる積層物
の代表的な例としては、重合体を被覆したセロフアソ、
たとえばポリプロピレンを被覆したセロフアンなど、ア
ルミニウムまたは銅などの金属にポリエチレンテレフタ
レートフィルムを被覆したもの、アルミニウムにポリプ
ロピレンを被覆したものなどがある。本発明の光硬化可
能な組成物は金属、ガラスおよびプラスチックスの表面
にローラー方式およびスプレー方式で塗装または印刷す
るための塗料として用いることができる。
の代表的な例としては、重合体を被覆したセロフアソ、
たとえばポリプロピレンを被覆したセロフアンなど、ア
ルミニウムまたは銅などの金属にポリエチレンテレフタ
レートフィルムを被覆したもの、アルミニウムにポリプ
ロピレンを被覆したものなどがある。本発明の光硬化可
能な組成物は金属、ガラスおよびプラスチックスの表面
にローラー方式およびスプレー方式で塗装または印刷す
るための塗料として用いることができる。
またガラス、ポリエステルフイルムおよびビニルポリマ
ーフイルム、合体被覆セロファン、例えば使い捨てのコ
ップやびんに用いた処理または未処理ポリエチレン、理
及び未処理ポリプロピレン等には、着色塗装方式を使用
してもよい。塗装してもよいような金属の例にも、サィ
ジングを施したまたは施さないブリキも含まれる。本発
明の光硬化可能な組成物から調製される光重合性の感光
性画像形成材料は、本発明の組成物からなる層を感光性
要素としてシート状またはプレート状の支持体の表面上
に有する材料である。本発明の組成物を用いた感光性画
像形成材料のひとつの形態として、支持体の表面に本発
明の組成物の層を設け、さらにその上に透明なプラスチ
ックフィルムを設けた構成のものがある。この構成の材
料においては、後述する画像露光の直前に透明プラスチ
ックスフィルムを剥離して用いることができるし、また
透明プラスチックフィルムを存在させたまま透明プラス
チックフィルムを通して、あるいは支持体が透明な場合
には支持体を通して、画像露光し、しかる後に透明プラ
スチックスフィルムを剥離することにより露光されて硬
化した部分の層を支持体の上に残留させ、露光されずに
硬化されなかった部分の層を透明プラスチックフィルム
の上に残留させる(あるいは、露光されて硬化した部分
の層を透明プラスチックフィルムの上に残留させ、露光
されずに硬化されなかった部分の層を支持体上に残留さ
せる。)、いわゆる剥離現像する型の材料として特に有
利に用いることができる。本発明の組成物を用いた感光
性画像形成材料は、光照射された部分における付加重合
反応が所望の厚さに達して完了するまで、その光重合可
能な組成物の層の特定の部分を光に曝露することにより
画像露光が完了する。
ーフイルム、合体被覆セロファン、例えば使い捨てのコ
ップやびんに用いた処理または未処理ポリエチレン、理
及び未処理ポリプロピレン等には、着色塗装方式を使用
してもよい。塗装してもよいような金属の例にも、サィ
ジングを施したまたは施さないブリキも含まれる。本発
明の光硬化可能な組成物から調製される光重合性の感光
性画像形成材料は、本発明の組成物からなる層を感光性
要素としてシート状またはプレート状の支持体の表面上
に有する材料である。本発明の組成物を用いた感光性画
像形成材料のひとつの形態として、支持体の表面に本発
明の組成物の層を設け、さらにその上に透明なプラスチ
ックフィルムを設けた構成のものがある。この構成の材
料においては、後述する画像露光の直前に透明プラスチ
ックスフィルムを剥離して用いることができるし、また
透明プラスチックフィルムを存在させたまま透明プラス
チックフィルムを通して、あるいは支持体が透明な場合
には支持体を通して、画像露光し、しかる後に透明プラ
スチックスフィルムを剥離することにより露光されて硬
化した部分の層を支持体の上に残留させ、露光されずに
硬化されなかった部分の層を透明プラスチックフィルム
の上に残留させる(あるいは、露光されて硬化した部分
の層を透明プラスチックフィルムの上に残留させ、露光
されずに硬化されなかった部分の層を支持体上に残留さ
せる。)、いわゆる剥離現像する型の材料として特に有
利に用いることができる。本発明の組成物を用いた感光
性画像形成材料は、光照射された部分における付加重合
反応が所望の厚さに達して完了するまで、その光重合可
能な組成物の層の特定の部分を光に曝露することにより
画像露光が完了する。
次に組成物の層の露光しなかった部分を、例えば重合体
を溶解せずにエチレン性化合物(モノマーまたはプレポ
リマー)のみを溶解するような溶媒を使用すること、ま
たはいわゆる剥離現像により除去する。感光性画像複製
材料中に用いる場合には、光硬化可能な組成物の溶媒除
去(乾燥)後の厚さは、2仏mから150山mまで、好
ましくは3山mから100仏mまでの範囲である。たわ
み性は層の厚さが厚くなればなるほど減少し、耐摩耗性
は、層の厚さが薄ければ薄いほど減少する。印刷インク
、塗料組成物および接着剤として使用する場合は、本発
明の組成物は揮発性溶剤なしで使用することができる。
を溶解せずにエチレン性化合物(モノマーまたはプレポ
リマー)のみを溶解するような溶媒を使用すること、ま
たはいわゆる剥離現像により除去する。感光性画像複製
材料中に用いる場合には、光硬化可能な組成物の溶媒除
去(乾燥)後の厚さは、2仏mから150山mまで、好
ましくは3山mから100仏mまでの範囲である。たわ
み性は層の厚さが厚くなればなるほど減少し、耐摩耗性
は、層の厚さが薄ければ薄いほど減少する。印刷インク
、塗料組成物および接着剤として使用する場合は、本発
明の組成物は揮発性溶剤なしで使用することができる。
その場合には公知の含油樹脂性および溶剤型のインク又
は塗料よりすぐれや長所を機つか持っている。以下実施
例1〜21及び比較例1〜4に基づいて本発明を詳細か
つ具体的に説明する。
は塗料よりすぐれや長所を機つか持っている。以下実施
例1〜21及び比較例1〜4に基づいて本発明を詳細か
つ具体的に説明する。
なお各例における感光材料の調製は、次の方法及び操作
によつた。【1} 感光材料の調製 光重合性感光材料組成物の成分 エチレン性化合物 0重量部光重合開始剤
(言王) 成分【a’ 0.5重量部成分{b
} 0.5重量部バインダー
49.5重量部1,2−ジクロロェタ
ン 50の重量部上表の成分を容器に入れて3時
間壇拝して溶解させたのち、得られた溶液をスピンナー
(回転塗布機)でアルミニウム坂上に塗布し、これを温
度80ooで10分間乾燥して感光層(光重合性組成物
の層)を形成させた。
によつた。【1} 感光材料の調製 光重合性感光材料組成物の成分 エチレン性化合物 0重量部光重合開始剤
(言王) 成分【a’ 0.5重量部成分{b
} 0.5重量部バインダー
49.5重量部1,2−ジクロロェタ
ン 50の重量部上表の成分を容器に入れて3時
間壇拝して溶解させたのち、得られた溶液をスピンナー
(回転塗布機)でアルミニウム坂上に塗布し、これを温
度80ooで10分間乾燥して感光層(光重合性組成物
の層)を形成させた。
感光層の乾燥後の厚さは約10仏mであった。■ 感光
材料の感度の測定 感光材料の感光層上に光学濃度比ノ2の光学酸(光学濃
度段数は0〜1頚袋である。
材料の感度の測定 感光材料の感光層上に光学濃度比ノ2の光学酸(光学濃
度段数は0〜1頚袋である。
)を減圧して密着させて置き、光源(水銀灯、出力2k
W)から50弧の距離をおいて露光したのち、感光層を
1,1,1ートリクロロェタンで3頂砂間処理して現像
した。
W)から50弧の距離をおいて露光したのち、感光層を
1,1,1ートリクロロェタンで3頂砂間処理して現像
した。
現出した画像の対応する光学酸の最高段数を試料の感度
として表わす。段数が高いほど感度も高いことを意味す
る。なお、感光性組成物のバインダーは次のものを用い
た。
として表わす。段数が高いほど感度も高いことを意味す
る。なお、感光性組成物のバインダーは次のものを用い
た。
塩素化ポリエチレン:4の重量%トルェン溶液の25q
0における粘度が約9比psで、塩素含有量が約6亀重
量%以上の高分子化合物。以下の表で、Eは実施例、C
は比較例を表わす。
0における粘度が約9比psで、塩素含有量が約6亀重
量%以上の高分子化合物。以下の表で、Eは実施例、C
は比較例を表わす。
実施例1〜5ならびに比較例1および2
エチレン性化合物としてペンタェリトリトールメタアク
リレートを、バインダーとして塩素化ポリエチレンを用
い、光重合開始剤(p−(ジメチルアミノ)スチルベン
類)および露光時間は第1表のとおりに実施して、感度
については第1表のととり結果を得た。
リレートを、バインダーとして塩素化ポリエチレンを用
い、光重合開始剤(p−(ジメチルアミノ)スチルベン
類)および露光時間は第1表のとおりに実施して、感度
については第1表のととり結果を得た。
′ ・
価 − 白ュ′ ・K 。
しなかったことをあらわす。実施例6〜12ならびに比
較例3および4エチレン性化合物としてペンタェリトリ
トールメタアクリレートを、バインダーとして塩素化ポ
IJヱチレンを用い、光重合開始剤および露光時間は第
2表のとおり実施して、感度については第2表のとおり
の結果を得た。
較例3および4エチレン性化合物としてペンタェリトリ
トールメタアクリレートを、バインダーとして塩素化ポ
IJヱチレンを用い、光重合開始剤および露光時間は第
2表のとおり実施して、感度については第2表のとおり
の結果を得た。
2 表実施例1〜5から明らかなとおり、p−位にN,
Nージアルキルアミノ基が置換したスチルベン誘導体を
光重合開始剤として含む光重合性組成物は高感度を有す
る。
Nージアルキルアミノ基が置換したスチルベン誘導体を
光重合開始剤として含む光重合性組成物は高感度を有す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する
重合可能な化合物ならびに光重合開始剤を必須の構成成
分とする光重合性組成物において、該光重合開始剤が(
a)下記の一般式(I)で表わされる化合物からなる群
から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする光
重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼上式において、R^
1およびR^2はそれぞれアルキル基、置換アルキル基
またはアラルキル基を表わし、互いに同じでも異なつて
いてもよい。 R^3はアリール基、N,SまたはO原子を含む5員ま
たは6員の環構造を含む単環性または縮合多環性の複素
芳香環化合物の1価の残基ハメツト(Hammett)
のσ(シグマ)値が−0.84から+0.7までの範囲
の置換基を有するアリール基、およびハメツトのσ値が
−0.84から+0.7までの範囲の置換基を有するN
,SまたはOを含む複素芳香環の1価の残基からなる群
から選ばれた1種を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2463177A JPS6026124B2 (ja) | 1977-03-07 | 1977-03-07 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2463177A JPS6026124B2 (ja) | 1977-03-07 | 1977-03-07 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53109585A JPS53109585A (en) | 1978-09-25 |
JPS6026124B2 true JPS6026124B2 (ja) | 1985-06-21 |
Family
ID=12143474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2463177A Expired JPS6026124B2 (ja) | 1977-03-07 | 1977-03-07 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6026124B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5721401A (en) * | 1980-07-14 | 1982-02-04 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS5995245A (ja) * | 1982-11-25 | 1984-06-01 | Ricoh Co Ltd | スチルベン誘導体及びその製造法 |
-
1977
- 1977-03-07 JP JP2463177A patent/JPS6026124B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS53109585A (en) | 1978-09-25 |
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