JPS60257399A - 電子加速装置 - Google Patents
電子加速装置Info
- Publication number
- JPS60257399A JPS60257399A JP11509984A JP11509984A JPS60257399A JP S60257399 A JPS60257399 A JP S60257399A JP 11509984 A JP11509984 A JP 11509984A JP 11509984 A JP11509984 A JP 11509984A JP S60257399 A JPS60257399 A JP S60257399A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- axis
- accelerator
- electron
- field generating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明け、電子加速装置、特に、広範囲にわたり均一に
放射線を分布させることができる′電子加速装置に関す
る。
放射線を分布させることができる′電子加速装置に関す
る。
(従来の技術)
従来、加速電子ビームあるいは加速電子ビームを重金属
ターゲットに衝突させて得たX線を広範囲にわたり均一
に分布させるためにはフィルタを使用していた。例えば
、電子ビームを広範囲にわたり均一に分布させる場合、
電子ビームをスキャツタリングフィルタと呼ばれる金属
箔に入射させて、金属箔の原子によって電磁散乱を生じ
させて電子ビームを拡散させることが行彦われでbた。
ターゲットに衝突させて得たX線を広範囲にわたり均一
に分布させるためにはフィルタを使用していた。例えば
、電子ビームを広範囲にわたり均一に分布させる場合、
電子ビームをスキャツタリングフィルタと呼ばれる金属
箔に入射させて、金属箔の原子によって電磁散乱を生じ
させて電子ビームを拡散させることが行彦われでbた。
また、電子ビームの重金属ターゲットへの照射により生
じたX線を広範囲にわたり均一に分布させる場合、フラ
ットニングフィルタと呼ばれる円錐形の金属吸収体をX
線線錐中に置くことが行なわれていた。
じたX線を広範囲にわたり均一に分布させる場合、フラ
ットニングフィルタと呼ばれる円錐形の金属吸収体をX
線線錐中に置くことが行なわれていた。
しかしながら、電子加速器からの電子ビーム、あるbは
電子ビームから変換されたX線を広範囲にわたり均一に
分布させるためにフィルタを用しると以下のような問題
が生じた。
電子ビームから変換されたX線を広範囲にわたり均一に
分布させるためにフィルタを用しると以下のような問題
が生じた。
電子ビームの場合、スキャツタリングフィルタにより照
射面に到達する電子ビームの実効的平均エネルギが低下
し、またスキャツタリングフィルタで発生する制動放射
線のために電子ビーム中のX線混在比が増大するとAう
欠点がある。
射面に到達する電子ビームの実効的平均エネルギが低下
し、またスキャツタリングフィルタで発生する制動放射
線のために電子ビーム中のX線混在比が増大するとAう
欠点がある。
X線の場合、フラットニングフィルタによる吸収のため
照射面に〉ける線量率が低下し、またフラットニングフ
ィルタによる散乱のため利用線錐外の周囲の放射線遮蔽
を一層強化しなければならなりとbう欠点がある。
照射面に〉ける線量率が低下し、またフラットニングフ
ィルタによる散乱のため利用線錐外の周囲の放射線遮蔽
を一層強化しなければならなりとbう欠点がある。
さらに、電子ビーム照射の場合、X線照射の場合のいず
れにあっても、電子加速器による加速電子ビームのエネ
ルギを変化させるとき、または均一分布を要する照射範
囲を変化させるときけ、フィルタの形状も変えなければ
ならなりという欠点がある。
れにあっても、電子加速器による加速電子ビームのエネ
ルギを変化させるとき、または均一分布を要する照射範
囲を変化させるときけ、フィルタの形状も変えなければ
ならなりという欠点がある。
(発明の目的)
本発明の目的は、上記従来技術の欠点にかんがみ、フィ
ルタを用することなく、加速電子ビームの所定の定点へ
の入射軸を定点を通る所定の中心軸の捷わりに回転させ
ることにより広範囲にわたり均一な分布を持つ放射線を
照射できるようにした電子加速装置を提供することにあ
る。
ルタを用することなく、加速電子ビームの所定の定点へ
の入射軸を定点を通る所定の中心軸の捷わりに回転させ
ることにより広範囲にわたり均一な分布を持つ放射線を
照射できるようにした電子加速装置を提供することにあ
る。
(発明の構成)
上記目的を達成するため、本発明の′電子加速装置は、
電子加速器から出力される加速電子ビームを加速器出力
ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向された電
子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定点に入
射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射する電子
ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸の1わりに回
転する手段とを備えたことを特徴としてしる。
電子加速器から出力される加速電子ビームを加速器出力
ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向された電
子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定点に入
射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射する電子
ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸の1わりに回
転する手段とを備えたことを特徴としてしる。
上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および上記電
子ビームを集束する電磁界発生手段は各々電磁石をもっ
て構成することができ、上記′電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
電磁石を上記出力ビーム軸のまわりに回転する手段によ
り構成することができる。
子ビームを集束する電磁界発生手段は各々電磁石をもっ
て構成することができ、上記′電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
電磁石を上記出力ビーム軸のまわりに回転する手段によ
り構成することができる。
また、上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段は各々2対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルをも
って構成することができ、上記電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
2対のステアリングコイルの電流を制御する手段により
構成することがで^る。
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段は各々2対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルをも
って構成することができ、上記電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
2対のステアリングコイルの電流を制御する手段により
構成することがで^る。
さらに、上記の電磁界発生手段は電界発生手段をもって
構成することができる。
構成することができる。
(実 施例)
次に、本発明の実施例につ論て図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明による電子加速装置の一実施例の主要部
の構成を示す図である。図にお(Aで、1は電子加速器
の出力ビーム軸、2は加速電子ビーム、3il−を偏向
用の第1の電磁石、4は集束用の第2の電磁石、5は出
力ビーム軸上の所定の定点、6は上記定点への入射電子
ビーム軸を示す。
の構成を示す図である。図にお(Aで、1は電子加速器
の出力ビーム軸、2は加速電子ビーム、3il−を偏向
用の第1の電磁石、4は集束用の第2の電磁石、5は出
力ビーム軸上の所定の定点、6は上記定点への入射電子
ビーム軸を示す。
加速器の出力ビーム軸1に沿って出力された加速電子ビ
ーム2は、第1の電磁石3によって偏向され、次に第2
の電磁石4によって加速器出力ビーム軸1上の定点5へ
の入射電子ビーム軸6に沿って定点5に集束される。電
磁石3および電磁石4け、加速器出力ビーム軸1のまわ
りに回転−トるように構成されている。このようにして
、加速器からの加速電子ビームは一珪偏向された後に再
度所足の定点に集束させられ、かつ集束する定点への入
射電子ビーム軸が回転されるので、広範囲にわたり均一
な強度分布を持つ放射線を照射することができる。
ーム2は、第1の電磁石3によって偏向され、次に第2
の電磁石4によって加速器出力ビーム軸1上の定点5へ
の入射電子ビーム軸6に沿って定点5に集束される。電
磁石3および電磁石4け、加速器出力ビーム軸1のまわ
りに回転−トるように構成されている。このようにして
、加速器からの加速電子ビームは一珪偏向された後に再
度所足の定点に集束させられ、かつ集束する定点への入
射電子ビーム軸が回転されるので、広範囲にわたり均一
な強度分布を持つ放射線を照射することができる。
第2図は電子線をX線に変換した場合のX線の分布を示
寸図である。図におAて、1は加速滲出力ビーム軸、5
け出力ビーム軸上の所定の定点、6および6′は定点5
への入射電子ビーム軸、7け定点5に置かれた金属ター
ゲット、8け入射電子ビーム軸6の場合の等強度線、8
′は入射電子ビーム軸6′の場合の等強度線、9は合成
した等強度線を示す。
寸図である。図におAて、1は加速滲出力ビーム軸、5
け出力ビーム軸上の所定の定点、6および6′は定点5
への入射電子ビーム軸、7け定点5に置かれた金属ター
ゲット、8け入射電子ビーム軸6の場合の等強度線、8
′は入射電子ビーム軸6′の場合の等強度線、9は合成
した等強度線を示す。
加速器出力ビーム軸1上の所定の定点5にターゲット7
を配置し、加速電子ビームを偏向、集束シてターゲット
7にあてX線に変換する。
を配置し、加速電子ビームを偏向、集束シてターゲット
7にあてX線に変換する。
電子ビームが出力ビーム軸1に対して角度θをもつ入射
電子ビーム軸6に沿ってターゲット7にあたる場合、X
線の強度分布は等強度線8に示すようになる。入射電子
ビーム1III11が出力ビーム軸に対して角度θをも
って出力ビーム軸のまわりを回転し、入射1子ビーム軸
6と対称な入射α子ビーム軸6′にきたときけ等強度線
8′のような強度分布となる。等強度線8および8′は
、bずれもそれぞれの入射′成子ビーム軸6卦よび6′
の方向に強し強度分布を有してbる。
電子ビーム軸6に沿ってターゲット7にあたる場合、X
線の強度分布は等強度線8に示すようになる。入射電子
ビーム1III11が出力ビーム軸に対して角度θをも
って出力ビーム軸のまわりを回転し、入射1子ビーム軸
6と対称な入射α子ビーム軸6′にきたときけ等強度線
8′のような強度分布となる。等強度線8および8′は
、bずれもそれぞれの入射′成子ビーム軸6卦よび6′
の方向に強し強度分布を有してbる。
これらを合成すると等強度線9に示すような合成等強度
線が得られ、出力ビーム軸1に垂直な照射平面で考える
と広範囲にわたり均一な強度分布が得られることがわか
る。
線が得られ、出力ビーム軸1に垂直な照射平面で考える
と広範囲にわたり均一な強度分布が得られることがわか
る。
次に、第3図は本発明による電子加速装置の他の実施例
の主要部の構成を示す図である。
の主要部の構成を示す図である。
図におりて、lは加速器出力ビーム軸、2け加速電子ビ
ーム、5は出力ビーム軸上の所定の定点、6は定点5へ
の入射電子ビーム軸、10 、10’は加速器出力ビー
ム軸に対して互いに対称に配置された一対の偏向用ステ
アリングコイル、 11゜11’iiステアリングフイ
ル10,1.0’と直角な位置関係に配置され、た他の
一対の偏向用ステアリングコイル、12.12’は互A
に対称配置された一対の集束用ステアリングコイル、1
3.13’はステアリングコイル12.12’と直角な
位置関係に配置された他の一対の集束用ステアリングコ
イルを示す。
ーム、5は出力ビーム軸上の所定の定点、6は定点5へ
の入射電子ビーム軸、10 、10’は加速器出力ビー
ム軸に対して互いに対称に配置された一対の偏向用ステ
アリングコイル、 11゜11’iiステアリングフイ
ル10,1.0’と直角な位置関係に配置され、た他の
一対の偏向用ステアリングコイル、12.12’は互A
に対称配置された一対の集束用ステアリングコイル、1
3.13’はステアリングコイル12.12’と直角な
位置関係に配置された他の一対の集束用ステアリングコ
イルを示す。
加速電子ビーム2は、2対のステアリングコイル1.0
、10’ 、 11 、11’のつくる磁界により偏
向され、2対のステアリングコイル12 、12’、1
3゜13’のつくる磁界により所定の定点5に集束され
る。例えば、ステアリングコイル10 、10’に供給
する電流をA sinωt、ステアリングコイル1.1
、11’に供給する電流fA′CO5ωt、ステアリ
ングコイル12.12’に供給する゛鑞流1Bsin(
ωt+α)、ステアリングコイル13 、13’に供給
する電流をB’cos(ωt+α′)とすると、定点5
への入射α子ビーム軸6を加速器出力ビーム軸1の寸わ
りに回転させることができ、第1図の実施例と同様に広
範囲にわたり均一な強度分布が得られる。なお、上記の
A 、 A’、B、B’、α、α′ は電子加速装置の
構成、配置、加速電子のエネルギなどで決められるパラ
メータである。
、10’ 、 11 、11’のつくる磁界により偏
向され、2対のステアリングコイル12 、12’、1
3゜13’のつくる磁界により所定の定点5に集束され
る。例えば、ステアリングコイル10 、10’に供給
する電流をA sinωt、ステアリングコイル1.1
、11’に供給する電流fA′CO5ωt、ステアリ
ングコイル12.12’に供給する゛鑞流1Bsin(
ωt+α)、ステアリングコイル13 、13’に供給
する電流をB’cos(ωt+α′)とすると、定点5
への入射α子ビーム軸6を加速器出力ビーム軸1の寸わ
りに回転させることができ、第1図の実施例と同様に広
範囲にわたり均一な強度分布が得られる。なお、上記の
A 、 A’、B、B’、α、α′ は電子加速装置の
構成、配置、加速電子のエネルギなどで決められるパラ
メータである。
以上の実施例では、電子ビームの偏向、集束に磁界を用
いて(bるが、磁界の代わりに電界を用(bても同様の
効果が得られる。
いて(bるが、磁界の代わりに電界を用(bても同様の
効果が得られる。
(発明の効果)
本発明は以上説明したように、加速電子ビームを加速器
出力ビーム軸から偏向する手段と、偏向された電子ビー
ムを出力ビーム軸上の所定の定点に集束する手段と、上
記定点に入射する′電子ビームの入射軸を出力ビーム軸
のまわりに回転する手段とを備えてしるので、広範囲に
わたり均一な強度分布を持つ放射線を照射することが可
能になる。
出力ビーム軸から偏向する手段と、偏向された電子ビー
ムを出力ビーム軸上の所定の定点に集束する手段と、上
記定点に入射する′電子ビームの入射軸を出力ビーム軸
のまわりに回転する手段とを備えてしるので、広範囲に
わたり均一な強度分布を持つ放射線を照射することが可
能になる。
第1図は本発明による′成子加速装置の一実施例の主要
部の構成を示す図、第2図は本発明による電子加速装置
におして電子線をX線に変換した場合のX線の強度分布
を示す図、第3図は本発明による電子加速装置の他の実
施例の主要部の構成を示す図である。 1・・・加速器出力ビーム軸、 2・・・加速電子ビーム、 3・・・電子ビームを偏向する電磁石、本・・・電子ビ
ームを集束する電磁石、5・・・出力ビーム軸上の所定
の定点、6.6′・・・入射電子ビーム軸、 ]、0.10’、11.11’・・・電子ビームを偏向
するステアリングコイル、 12.12’、13.13’・・・電子ビームを集束す
るステアリングコイル 特許出願人 日本電気株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第1図 第3図
部の構成を示す図、第2図は本発明による電子加速装置
におして電子線をX線に変換した場合のX線の強度分布
を示す図、第3図は本発明による電子加速装置の他の実
施例の主要部の構成を示す図である。 1・・・加速器出力ビーム軸、 2・・・加速電子ビーム、 3・・・電子ビームを偏向する電磁石、本・・・電子ビ
ームを集束する電磁石、5・・・出力ビーム軸上の所定
の定点、6.6′・・・入射電子ビーム軸、 ]、0.10’、11.11’・・・電子ビームを偏向
するステアリングコイル、 12.12’、13.13’・・・電子ビームを集束す
るステアリングコイル 特許出願人 日本電気株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第1図 第3図
Claims (3)
- (1)電子加速器から出力される加速電子ビームを加速
器出力ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向さ
れた電子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定
点に入射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射す
る電子ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸のまわ
りに回転する手段とを具備したことを特徴とする電子加
速装置。 - (2)上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段が各々電磁石
であり、上記電子ビームの入射軸を加速器出力ビーム軸
のまわシに回転する手段が上記各々の電磁石を上記出力
ビーム軸のまわりに回転する手段であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の電子加速装置。 - (3)上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段が各々2対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルであ
り、上記電子ビームの入射軸を一加速器出力ビーム軸の
まわりに回転する手段が上記各々の2対のステアリング
コイルの電流を制御する手段であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の電子加速装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11509984A JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11509984A JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60257399A true JPS60257399A (ja) | 1985-12-19 |
Family
ID=14654188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11509984A Pending JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60257399A (ja) |
-
1984
- 1984-06-05 JP JP11509984A patent/JPS60257399A/ja active Pending
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