JPS60257399A - 電子加速装置 - Google Patents
電子加速装置Info
- Publication number
- JPS60257399A JPS60257399A JP11509984A JP11509984A JPS60257399A JP S60257399 A JPS60257399 A JP S60257399A JP 11509984 A JP11509984 A JP 11509984A JP 11509984 A JP11509984 A JP 11509984A JP S60257399 A JPS60257399 A JP S60257399A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- axis
- accelerator
- electron
- field generating
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明け、電子加速装置、特に、広範囲にわたり均一に
放射線を分布させることができる′電子加速装置に関す
る。
放射線を分布させることができる′電子加速装置に関す
る。
（従来の技術）
従来、加速電子ビームあるいは加速電子ビームを重金属
ターゲットに衝突させて得たＸ線を広範囲にわたり均一
に分布させるためにはフィルタを使用していた。例えば
、電子ビームを広範囲にわたり均一に分布させる場合、
電子ビームをスキャツタリングフィルタと呼ばれる金属
箔に入射させて、金属箔の原子によって電磁散乱を生じ
させて電子ビームを拡散させることが行彦われでｂた。
ターゲットに衝突させて得たＸ線を広範囲にわたり均一
に分布させるためにはフィルタを使用していた。例えば
、電子ビームを広範囲にわたり均一に分布させる場合、
電子ビームをスキャツタリングフィルタと呼ばれる金属
箔に入射させて、金属箔の原子によって電磁散乱を生じ
させて電子ビームを拡散させることが行彦われでｂた。
また、電子ビームの重金属ターゲットへの照射により生
じたＸ線を広範囲にわたり均一に分布させる場合、フラ
ットニングフィルタと呼ばれる円錐形の金属吸収体をＸ
線線錐中に置くことが行なわれていた。
じたＸ線を広範囲にわたり均一に分布させる場合、フラ
ットニングフィルタと呼ばれる円錐形の金属吸収体をＸ
線線錐中に置くことが行なわれていた。
しかしながら、電子加速器からの電子ビーム、あるｂは
電子ビームから変換されたＸ線を広範囲にわたり均一に
分布させるためにフィルタを用しると以下のような問題
が生じた。
電子ビームから変換されたＸ線を広範囲にわたり均一に
分布させるためにフィルタを用しると以下のような問題
が生じた。
電子ビームの場合、スキャツタリングフィルタにより照
射面に到達する電子ビームの実効的平均エネルギが低下
し、またスキャツタリングフィルタで発生する制動放射
線のために電子ビーム中のＸ線混在比が増大するとＡう
欠点がある。
射面に到達する電子ビームの実効的平均エネルギが低下
し、またスキャツタリングフィルタで発生する制動放射
線のために電子ビーム中のＸ線混在比が増大するとＡう
欠点がある。
Ｘ線の場合、フラットニングフィルタによる吸収のため
照射面に〉ける線量率が低下し、またフラットニングフ
ィルタによる散乱のため利用線錐外の周囲の放射線遮蔽
を一層強化しなければならなりとｂう欠点がある。
照射面に〉ける線量率が低下し、またフラットニングフ
ィルタによる散乱のため利用線錐外の周囲の放射線遮蔽
を一層強化しなければならなりとｂう欠点がある。
さらに、電子ビーム照射の場合、Ｘ線照射の場合のいず
れにあっても、電子加速器による加速電子ビームのエネ
ルギを変化させるとき、または均一分布を要する照射範
囲を変化させるときけ、フィルタの形状も変えなければ
ならなりという欠点がある。
れにあっても、電子加速器による加速電子ビームのエネ
ルギを変化させるとき、または均一分布を要する照射範
囲を変化させるときけ、フィルタの形状も変えなければ
ならなりという欠点がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、上記従来技術の欠点にかんがみ、フィ
ルタを用することなく、加速電子ビームの所定の定点へ
の入射軸を定点を通る所定の中心軸の捷わりに回転させ
ることにより広範囲にわたり均一な分布を持つ放射線を
照射できるようにした電子加速装置を提供することにあ
る。
ルタを用することなく、加速電子ビームの所定の定点へ
の入射軸を定点を通る所定の中心軸の捷わりに回転させ
ることにより広範囲にわたり均一な分布を持つ放射線を
照射できるようにした電子加速装置を提供することにあ
る。
（発明の構成）
上記目的を達成するため、本発明の′電子加速装置は、
電子加速器から出力される加速電子ビームを加速器出力
ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向された電
子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定点に入
射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射する電子
ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸の１わりに回
転する手段とを備えたことを特徴としてしる。
電子加速器から出力される加速電子ビームを加速器出力
ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向された電
子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定点に入
射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射する電子
ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸の１わりに回
転する手段とを備えたことを特徴としてしる。
上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および上記電
子ビームを集束する電磁界発生手段は各々電磁石をもっ
て構成することができ、上記′電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
電磁石を上記出力ビーム軸のまわりに回転する手段によ
り構成することができる。
子ビームを集束する電磁界発生手段は各々電磁石をもっ
て構成することができ、上記′電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
電磁石を上記出力ビーム軸のまわりに回転する手段によ
り構成することができる。
また、上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段は各々２対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルをも
って構成することができ、上記電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
２対のステアリングコイルの電流を制御する手段により
構成することがで＾る。
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段は各々２対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルをも
って構成することができ、上記電子ビームの入射軸を加
速器出力ビーム軸のまわりに回転する手段は上記各々の
２対のステアリングコイルの電流を制御する手段により
構成することがで＾る。
さらに、上記の電磁界発生手段は電界発生手段をもって
構成することができる。
構成することができる。
（実 施例）
次に、本発明の実施例につ論て図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明による電子加速装置の一実施例の主要部
の構成を示す図である。図にお（Ａで、１は電子加速器
の出力ビーム軸、２は加速電子ビーム、３ｉｌ−を偏向
用の第１の電磁石、４は集束用の第２の電磁石、５は出
力ビーム軸上の所定の定点、６は上記定点への入射電子
ビーム軸を示す。
の構成を示す図である。図にお（Ａで、１は電子加速器
の出力ビーム軸、２は加速電子ビーム、３ｉｌ−を偏向
用の第１の電磁石、４は集束用の第２の電磁石、５は出
力ビーム軸上の所定の定点、６は上記定点への入射電子
ビーム軸を示す。
加速器の出力ビーム軸１に沿って出力された加速電子ビ
ーム２は、第１の電磁石３によって偏向され、次に第２
の電磁石４によって加速器出力ビーム軸１上の定点５へ
の入射電子ビーム軸６に沿って定点５に集束される。電
磁石３および電磁石４け、加速器出力ビーム軸１のまわ
りに回転−トるように構成されている。このようにして
、加速器からの加速電子ビームは一珪偏向された後に再
度所足の定点に集束させられ、かつ集束する定点への入
射電子ビーム軸が回転されるので、広範囲にわたり均一
な強度分布を持つ放射線を照射することができる。
ーム２は、第１の電磁石３によって偏向され、次に第２
の電磁石４によって加速器出力ビーム軸１上の定点５へ
の入射電子ビーム軸６に沿って定点５に集束される。電
磁石３および電磁石４け、加速器出力ビーム軸１のまわ
りに回転−トるように構成されている。このようにして
、加速器からの加速電子ビームは一珪偏向された後に再
度所足の定点に集束させられ、かつ集束する定点への入
射電子ビーム軸が回転されるので、広範囲にわたり均一
な強度分布を持つ放射線を照射することができる。
第２図は電子線をＸ線に変換した場合のＸ線の分布を示
寸図である。図におＡて、１は加速滲出力ビーム軸、５
け出力ビーム軸上の所定の定点、６および６′は定点５
への入射電子ビーム軸、７け定点５に置かれた金属ター
ゲット、８け入射電子ビーム軸６の場合の等強度線、８
′は入射電子ビーム軸６′の場合の等強度線、９は合成
した等強度線を示す。
寸図である。図におＡて、１は加速滲出力ビーム軸、５
け出力ビーム軸上の所定の定点、６および６′は定点５
への入射電子ビーム軸、７け定点５に置かれた金属ター
ゲット、８け入射電子ビーム軸６の場合の等強度線、８
′は入射電子ビーム軸６′の場合の等強度線、９は合成
した等強度線を示す。
加速器出力ビーム軸１上の所定の定点５にターゲット７
を配置し、加速電子ビームを偏向、集束シてターゲット
７にあてＸ線に変換する。
を配置し、加速電子ビームを偏向、集束シてターゲット
７にあてＸ線に変換する。
電子ビームが出力ビーム軸１に対して角度θをもつ入射
電子ビーム軸６に沿ってターゲット７にあたる場合、Ｘ
線の強度分布は等強度線８に示すようになる。入射電子
ビーム１ＩＩＩ１１が出力ビーム軸に対して角度θをも
って出力ビーム軸のまわりを回転し、入射１子ビーム軸
６と対称な入射α子ビーム軸６′にきたときけ等強度線
８′のような強度分布となる。等強度線８および８′は
、ｂずれもそれぞれの入射′成子ビーム軸６卦よび６′
の方向に強し強度分布を有してｂる。
電子ビーム軸６に沿ってターゲット７にあたる場合、Ｘ
線の強度分布は等強度線８に示すようになる。入射電子
ビーム１ＩＩＩ１１が出力ビーム軸に対して角度θをも
って出力ビーム軸のまわりを回転し、入射１子ビーム軸
６と対称な入射α子ビーム軸６′にきたときけ等強度線
８′のような強度分布となる。等強度線８および８′は
、ｂずれもそれぞれの入射′成子ビーム軸６卦よび６′
の方向に強し強度分布を有してｂる。
これらを合成すると等強度線９に示すような合成等強度
線が得られ、出力ビーム軸１に垂直な照射平面で考える
と広範囲にわたり均一な強度分布が得られることがわか
る。
線が得られ、出力ビーム軸１に垂直な照射平面で考える
と広範囲にわたり均一な強度分布が得られることがわか
る。
次に、第３図は本発明による電子加速装置の他の実施例
の主要部の構成を示す図である。
の主要部の構成を示す図である。
図におりて、ｌは加速器出力ビーム軸、２け加速電子ビ
ーム、５は出力ビーム軸上の所定の定点、６は定点５へ
の入射電子ビーム軸、１０ 、１０’は加速器出力ビー
ム軸に対して互いに対称に配置された一対の偏向用ステ
アリングコイル、 １１゜１１’ｉｉステアリングフイ
ル１０，１．０’と直角な位置関係に配置され、た他の
一対の偏向用ステアリングコイル、１２．１２’は互Ａ
に対称配置された一対の集束用ステアリングコイル、１
３．１３’はステアリングコイル１２．１２’と直角な
位置関係に配置された他の一対の集束用ステアリングコ
イルを示す。
ーム、５は出力ビーム軸上の所定の定点、６は定点５へ
の入射電子ビーム軸、１０ 、１０’は加速器出力ビー
ム軸に対して互いに対称に配置された一対の偏向用ステ
アリングコイル、 １１゜１１’ｉｉステアリングフイ
ル１０，１．０’と直角な位置関係に配置され、た他の
一対の偏向用ステアリングコイル、１２．１２’は互Ａ
に対称配置された一対の集束用ステアリングコイル、１
３．１３’はステアリングコイル１２．１２’と直角な
位置関係に配置された他の一対の集束用ステアリングコ
イルを示す。
加速電子ビーム２は、２対のステアリングコイル１．０
、１０’ 、 １１ 、１１’のつくる磁界により偏
向され、２対のステアリングコイル１２ 、１２’、１
３゜１３’のつくる磁界により所定の定点５に集束され
る。例えば、ステアリングコイル１０ 、１０’に供給
する電流をＡ ｓｉｎωｔ、ステアリングコイル１．１
、１１’に供給する電流ｆＡ′ＣＯ５ωｔ、ステアリ
ングコイル１２．１２’に供給する゛鑞流１Ｂｓｉｎ（
ωｔ＋α）、ステアリングコイル１３ 、１３’に供給
する電流をＢ’ｃｏｓ（ωｔ＋α′）とすると、定点５
への入射α子ビーム軸６を加速器出力ビーム軸１の寸わ
りに回転させることができ、第１図の実施例と同様に広
範囲にわたり均一な強度分布が得られる。なお、上記の
Ａ 、 Ａ’、Ｂ、Ｂ’、α、α′ は電子加速装置の
構成、配置、加速電子のエネルギなどで決められるパラ
メータである。
、１０’ 、 １１ 、１１’のつくる磁界により偏
向され、２対のステアリングコイル１２ 、１２’、１
３゜１３’のつくる磁界により所定の定点５に集束され
る。例えば、ステアリングコイル１０ 、１０’に供給
する電流をＡ ｓｉｎωｔ、ステアリングコイル１．１
、１１’に供給する電流ｆＡ′ＣＯ５ωｔ、ステアリ
ングコイル１２．１２’に供給する゛鑞流１Ｂｓｉｎ（
ωｔ＋α）、ステアリングコイル１３ 、１３’に供給
する電流をＢ’ｃｏｓ（ωｔ＋α′）とすると、定点５
への入射α子ビーム軸６を加速器出力ビーム軸１の寸わ
りに回転させることができ、第１図の実施例と同様に広
範囲にわたり均一な強度分布が得られる。なお、上記の
Ａ 、 Ａ’、Ｂ、Ｂ’、α、α′ は電子加速装置の
構成、配置、加速電子のエネルギなどで決められるパラ
メータである。
以上の実施例では、電子ビームの偏向、集束に磁界を用
いて（ｂるが、磁界の代わりに電界を用（ｂても同様の
効果が得られる。
いて（ｂるが、磁界の代わりに電界を用（ｂても同様の
効果が得られる。
（発明の効果）
本発明は以上説明したように、加速電子ビームを加速器
出力ビーム軸から偏向する手段と、偏向された電子ビー
ムを出力ビーム軸上の所定の定点に集束する手段と、上
記定点に入射する′電子ビームの入射軸を出力ビーム軸
のまわりに回転する手段とを備えてしるので、広範囲に
わたり均一な強度分布を持つ放射線を照射することが可
能になる。
出力ビーム軸から偏向する手段と、偏向された電子ビー
ムを出力ビーム軸上の所定の定点に集束する手段と、上
記定点に入射する′電子ビームの入射軸を出力ビーム軸
のまわりに回転する手段とを備えてしるので、広範囲に
わたり均一な強度分布を持つ放射線を照射することが可
能になる。
第１図は本発明による′成子加速装置の一実施例の主要
部の構成を示す図、第２図は本発明による電子加速装置
におして電子線をＸ線に変換した場合のＸ線の強度分布
を示す図、第３図は本発明による電子加速装置の他の実
施例の主要部の構成を示す図である。 １・・・加速器出力ビーム軸、 ２・・・加速電子ビーム、 ３・・・電子ビームを偏向する電磁石、本・・・電子ビ
ームを集束する電磁石、５・・・出力ビーム軸上の所定
の定点、６．６′・・・入射電子ビーム軸、 ］、０．１０’、１１．１１’・・・電子ビームを偏向
するステアリングコイル、 １２．１２’、１３．１３’・・・電子ビームを集束す
るステアリングコイル 特許出願人 日本電気株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第１図 第３図
部の構成を示す図、第２図は本発明による電子加速装置
におして電子線をＸ線に変換した場合のＸ線の強度分布
を示す図、第３図は本発明による電子加速装置の他の実
施例の主要部の構成を示す図である。 １・・・加速器出力ビーム軸、 ２・・・加速電子ビーム、 ３・・・電子ビームを偏向する電磁石、本・・・電子ビ
ームを集束する電磁石、５・・・出力ビーム軸上の所定
の定点、６．６′・・・入射電子ビーム軸、 ］、０．１０’、１１．１１’・・・電子ビームを偏向
するステアリングコイル、 １２．１２’、１３．１３’・・・電子ビームを集束す
るステアリングコイル 特許出願人 日本電気株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 第１図 第３図
Claims (3)
- （１）電子加速器から出力される加速電子ビームを加速
器出力ビーム軸から偏向する電磁界発生手段と、偏向さ
れた電子ビームを上記加速器出力ビーム軸上の所定の定
点に入射集束する電磁界発生手段と、上記定点に入射す
る電子ビームの入射軸を上記加速器出力ビーム軸のまわ
りに回転する手段とを具備したことを特徴とする電子加
速装置。 - （２）上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段が各々電磁石
であり、上記電子ビームの入射軸を加速器出力ビーム軸
のまわシに回転する手段が上記各々の電磁石を上記出力
ビーム軸のまわりに回転する手段であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の電子加速装置。 - （３）上記電子ビームを偏向する電磁界発生手段および
上記電子ビームを集束する電磁界発生手段が各々２対の
互すに直交配置した磁界発生用ステアリングコイルであ
り、上記電子ビームの入射軸を一加速器出力ビーム軸の
まわりに回転する手段が上記各々の２対のステアリング
コイルの電流を制御する手段であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の電子加速装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11509984A JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11509984A JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60257399A true JPS60257399A (ja) | 1985-12-19 |
Family
ID=14654188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11509984A Pending JPS60257399A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 電子加速装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60257399A (ja) |
-
1984
- 1984-06-05 JP JP11509984A patent/JPS60257399A/ja active Pending
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