JPS60255891A - 流動接触クラツキング方法 - Google Patents
流動接触クラツキング方法Info
- Publication number
- JPS60255891A JPS60255891A JP60107094A JP10709485A JPS60255891A JP S60255891 A JPS60255891 A JP S60255891A JP 60107094 A JP60107094 A JP 60107094A JP 10709485 A JP10709485 A JP 10709485A JP S60255891 A JPS60255891 A JP S60255891A
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- riser
- catalyst
- conduit
- cyclone
- cyclone separator
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/005—Separating solid material from the gas/liquid stream
- B01J8/0055—Separating solid material from the gas/liquid stream using cyclones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
- C10G11/00—Catalytic cracking, in the absence of hydrogen, of hydrocarbon oils
- C10G11/14—Catalytic cracking, in the absence of hydrogen, of hydrocarbon oils with preheated moving solid catalysts
- C10G11/18—Catalytic cracking, in the absence of hydrogen, of hydrocarbon oils with preheated moving solid catalysts according to the "fluidised-bed" technique
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
本発明は流動接触クラッキング(F CC)操作におけ
るガスサスペンション相から触媒相を分離するための方
法及び装置に関する。更に詳しくは、本発明はガスサス
ペンション相がライザー転化帯域から排出されるとき、
すなわちライザークラッキング帯域排出口から排出され
た時のライザー転化帯域後のクラッキングを最少限にす
るか、または実質上なくすためにガスサスペンション相
から触媒相を分離する方法及び装置に関する。
るガスサスペンション相から触媒相を分離するための方
法及び装置に関する。更に詳しくは、本発明はガスサス
ペンション相がライザー転化帯域から排出されるとき、
すなわちライザークラッキング帯域排出口から排出され
た時のライザー転化帯域後のクラッキングを最少限にす
るか、または実質上なくすためにガスサスペンション相
から触媒相を分離する方法及び装置に関する。
[従来の技術]
接触クラッキングの分野、特に流動接触クラッキングの
分野は主に触媒技術及びそこから得られる生成物分布の
進歩のためにがなり目覚ましい改善がなされている。高
活性クラッキング触媒、特に結晶性ゼオライトクラッキ
ング触媒の出現に伴って、操作技術の新規な分野は高触
媒活性、選択性及び操作感度の利点を得るために操作技
術を改善する必要にさえ遭遇している。
分野は主に触媒技術及びそこから得られる生成物分布の
進歩のためにがなり目覚ましい改善がなされている。高
活性クラッキング触媒、特に結晶性ゼオライトクラッキ
ング触媒の出現に伴って、操作技術の新規な分野は高触
媒活性、選択性及び操作感度の利点を得るために操作技
術を改善する必要にさえ遭遇している。
本発明の背景として、FCC装置に通常使用する炭化水
素転化触媒としては流動可能な粒子寸法の結晶性ゼオラ
イト触媒を使用することが好適であることが挙げられる
。触媒は1個または2個U上のライザー転化帯域(FC
Cクラッキング帯域)での炭化水素の滞留時間が約0.
5秒〜約10秒、通常約8秒以下の範囲となる条件下で
個々の転化帯域を通常上方に通過するサスペンション相
、ずなわち分散相をなして移動する。少なくとも538
℃(1000下)またはそれ以上の温度で、且つライザ
ー中で触媒と接触する炭化水素の滞留時間3.5〜4秒
て生ずる高温う、イザー炭化水素転化反応は触媒からの
蒸気状炭化水素生成物の分離を開始する前のある操作に
ついては望ましいものである。ライザー転化帯域から排
出された炭化水素類からの触媒の急速分離は炭化水素転
化時間を制限するために特に望ましい、炭化水素転化工
程の間、炭素質沈着、物は触媒粒子上に蓄積し、また該
粒子は炭素水素転化工程から離去する際に炭素水素蒸気
を同伴する。触媒粒子に同伴された炭素水素類は該炭素
水素類を機械的手段及び/または別個の触媒ストリッピ
ング帯域中のストリ・シピングガスにより触媒から剥離
されるまで触媒と更に接触する。触媒から分離した炭素
水素転化生成物と前記剥離された物質を混合し、生成物
精留工程へ送る0次に、失活馬の炭素質物質(以下コー
クスと記載する)を含有する同伴炭化水素類を剥離した
触媒を触媒再生操作へ送る。
素転化触媒としては流動可能な粒子寸法の結晶性ゼオラ
イト触媒を使用することが好適であることが挙げられる
。触媒は1個または2個U上のライザー転化帯域(FC
Cクラッキング帯域)での炭化水素の滞留時間が約0.
5秒〜約10秒、通常約8秒以下の範囲となる条件下で
個々の転化帯域を通常上方に通過するサスペンション相
、ずなわち分散相をなして移動する。少なくとも538
℃(1000下)またはそれ以上の温度で、且つライザ
ー中で触媒と接触する炭化水素の滞留時間3.5〜4秒
て生ずる高温う、イザー炭化水素転化反応は触媒からの
蒸気状炭化水素生成物の分離を開始する前のある操作に
ついては望ましいものである。ライザー転化帯域から排
出された炭化水素類からの触媒の急速分離は炭化水素転
化時間を制限するために特に望ましい、炭化水素転化工
程の間、炭素質沈着、物は触媒粒子上に蓄積し、また該
粒子は炭素水素転化工程から離去する際に炭素水素蒸気
を同伴する。触媒粒子に同伴された炭素水素類は該炭素
水素類を機械的手段及び/または別個の触媒ストリッピ
ング帯域中のストリ・シピングガスにより触媒から剥離
されるまで触媒と更に接触する。触媒から分離した炭素
水素転化生成物と前記剥離された物質を混合し、生成物
精留工程へ送る0次に、失活馬の炭素質物質(以下コー
クスと記載する)を含有する同伴炭化水素類を剥離した
触媒を触媒再生操作へ送る。
触媒粒子及び蒸気状炭素水素生成物含有ガスサスペンシ
ョン相から触媒粒子を分離するための方法及び装置、特
に炭素水素転化生成物のオーバークラッキングを低減し
且つ炭素水素転化操作の望ましい生成物の回収を促進す
るためのより効率的な分離条件下で高活性結晶性ゼオラ
イトクラッキング触媒を分離するための方法及び装置の
発達に特に関心が寄せられている。現在、ガスサスペン
ション相から流動可能な触媒粒子を効率的に分離するた
めにサイクロン装置が通常使用されている。
ョン相から触媒粒子を分離するための方法及び装置、特
に炭素水素転化生成物のオーバークラッキングを低減し
且つ炭素水素転化操作の望ましい生成物の回収を促進す
るためのより効率的な分離条件下で高活性結晶性ゼオラ
イトクラッキング触媒を分離するための方法及び装置の
発達に特に関心が寄せられている。現在、ガスサスペン
ション相から流動可能な触媒粒子を効率的に分離するた
めにサイクロン装置が通常使用されている。
しかし、現在のサイクロン装置はしばしば大規模反応−
器内での生成物蒸気の滞留時間を許容できない程長くす
ることがある。この長い滞留時間は4%程度も非選択性
熱クラッキングにより望ましい生成物の収率を低減する
。この業界における最近の発達はガスサスペンション相
からの同伴した触媒粒子の急速分離及び回収に関連する
ものである。
器内での生成物蒸気の滞留時間を許容できない程長くす
ることがある。この長い滞留時間は4%程度も非選択性
熱クラッキングにより望ましい生成物の収率を低減する
。この業界における最近の発達はガスサスペンション相
からの同伴した触媒粒子の急速分離及び回収に関連する
ものである。
触媒とクラッキングした炭化水素類との接触時間を最短
とするためにライザークラッキング帯域の末端部で炭化
水素相からの触媒相の急速分離を行なうために種々の方
法及び機械的手段がこれまで使用されてきた。これらの
いくつかを以下に記載する。
とするためにライザークラッキング帯域の末端部で炭化
水素相からの触媒相の急速分離を行なうために種々の方
法及び機械的手段がこれまで使用されてきた。これらの
いくつかを以下に記載する。
カートメル(Cartmell)の米国特許第3,66
1.799号明細書はクラッキング触媒とクラッキング
した装入原料との流動化した混合物を垂直に設置された
反応帯域から取り出し、導管により別個のストリッパー
容器に設置されたサイクロン分離装置に送ることからな
る石油装入原料の接触転化方法を開示している。導管は
不活性ストリッピングガス及び付随するストリッピング
した蒸気を→ノ゛イクロン分離装置へ送るための環状部
分を含む。
1.799号明細書はクラッキング触媒とクラッキング
した装入原料との流動化した混合物を垂直に設置された
反応帯域から取り出し、導管により別個のストリッパー
容器に設置されたサイクロン分離装置に送ることからな
る石油装入原料の接触転化方法を開示している。導管は
不活性ストリッピングガス及び付随するストリッピング
した蒸気を→ノ゛イクロン分離装置へ送るための環状部
分を含む。
アンダーソン(A nderson)らの米国特許第4
.043,899号明細書は流動化した触媒粒子と蒸気
状炭化水素生成物相とからなる生成物サスペンションの
全てをライザー転化帯域からサイクロン分離帯域へ直接
排出することによって触媒を炭化水素蒸気から分離した
後でサイクロンにより同伴炭化水素上記をストリッピン
グすることからなる前記生成物サスペンションの急速分
離力法を開示している。アンダーリンらの方法において
、サイクロン分離装置は低部サイクロン段階よりなる下
方へ延びた帯域を更に包含するように改変されている。
.043,899号明細書は流動化した触媒粒子と蒸気
状炭化水素生成物相とからなる生成物サスペンションの
全てをライザー転化帯域からサイクロン分離帯域へ直接
排出することによって触媒を炭化水素蒸気から分離した
後でサイクロンにより同伴炭化水素上記をストリッピン
グすることからなる前記生成物サスペンションの急速分
離力法を開示している。アンダーリンらの方法において
、サイクロン分離装置は低部サイクロン段階よりなる下
方へ延びた帯域を更に包含するように改変されている。
この配置において、上部サイクロン段階でガス状物質か
ら分離された触媒は下方に向って傾斜するじゃま仮に沿
って低部サイクロンに滑落し、この低部サイクロン中に
はストリッピングスチームが導入されて触媒から同伴す
る炭化水素生成物類を更に分離する。スチーム及びスト
リッピングされた炭化水素類は低部サイクロンから、該
スチーム及び炭化水素類を上部サイクロンで分離した炭
化水素蒸気と混合する同芯管に送られる。分離及びスト
リッピングされた触媒は収集され、慣用の手段によりサ
イクロン分離装置から浸漬脚に送られる。この方法は触
媒、ガス状相及びストリッピングスチームの全体積をサ
イクロン分離装置に通すことが必要であり、このことは
該分離装置を多量の蒸気のみならず多量の固体をもまた
有効に処理するために設計しなければならないことを意
味するものである。
ら分離された触媒は下方に向って傾斜するじゃま仮に沿
って低部サイクロンに滑落し、この低部サイクロン中に
はストリッピングスチームが導入されて触媒から同伴す
る炭化水素生成物類を更に分離する。スチーム及びスト
リッピングされた炭化水素類は低部サイクロンから、該
スチーム及び炭化水素類を上部サイクロンで分離した炭
化水素蒸気と混合する同芯管に送られる。分離及びスト
リッピングされた触媒は収集され、慣用の手段によりサ
イクロン分離装置から浸漬脚に送られる。この方法は触
媒、ガス状相及びストリッピングスチームの全体積をサ
イクロン分離装置に通すことが必要であり、このことは
該分離装置を多量の蒸気のみならず多量の固体をもまた
有効に処理するために設計しなければならないことを意
味するものである。
マイヤース(M yprs)らの米国特許第4,070
,159号明細書は大部分の触媒固体をサイクロン分離
装置を通過させずに沈降室へ直接排出することからなる
分離装置を提供している。この装置において、ライ→ノ
゛−転化帯域の排出口端部は触媒かライザーから解放室
に垂直方向に排出されるように解放室と出入自由に連通
しており、それ以外では解放室は実質状ガス流に対して
は閉塞している。ザイクI7ン分離装置はライザー転化
帯域の排出口端部の十流nPlてあって1つ該端部の近
くに設置された受口装置によりライザー転化帯域し出入
自由に連通している。ライザ一端部の真上に設置された
円錐状そらせ板は触媒による解放容器上端部の磨耗を防
止するように触媒を下方へ向けさせるものである。サイ
クロン分離装置はクラッキングした炭化水素生成物から
同伴する触媒粒子を分離するために接触クラッキング装
置に使用される通常の構造のものてあ゛す、触媒は解放
容器の低部帯域の触媒本体I\浸漬脚を介して送られ、
また蒸気相は解放容器から慣用の精留装置に送られる。
,159号明細書は大部分の触媒固体をサイクロン分離
装置を通過させずに沈降室へ直接排出することからなる
分離装置を提供している。この装置において、ライ→ノ
゛−転化帯域の排出口端部は触媒かライザーから解放室
に垂直方向に排出されるように解放室と出入自由に連通
しており、それ以外では解放室は実質状ガス流に対して
は閉塞している。ザイクI7ン分離装置はライザー転化
帯域の排出口端部の十流nPlてあって1つ該端部の近
くに設置された受口装置によりライザー転化帯域し出入
自由に連通している。ライザ一端部の真上に設置された
円錐状そらせ板は触媒による解放容器上端部の磨耗を防
止するように触媒を下方へ向けさせるものである。サイ
クロン分離装置はクラッキングした炭化水素生成物から
同伴する触媒粒子を分離するために接触クラッキング装
置に使用される通常の構造のものてあ゛す、触媒は解放
容器の低部帯域の触媒本体I\浸漬脚を介して送られ、
また蒸気相は解放容器から慣用の精留装置に送られる。
解放容器の底部にある触媒をストリッピングするために
導入する中位量のスチーノ、から生ずるガス流以−トの
カス流は解放容器内には実質上存在しない5[発明が解
決しようとする問題点) ハタット(Haddad)らの米国特許第4,219,
407−シノ明細書は触媒の有効なスチーノ\ストリッ
ピングを可能にするガス状クラッキング生成物からの触
媒の分離方法を開示している。触媒とガス状物質とのサ
スペンションはライザー転化帯域から、下方に向いた端
部を有する半径方向に延びる通路すなわちアームを通過
して外部に排出される。触媒ストリッピング帯域すなわ
ちストリッピング装置は前記半径方向に延びる通路の各
端部の下に設置されている。各々のストリッピング装置
は頂部及び底部で解放され且つ下方に傾斜するじゃま板
を内蔵した垂直な室からなり、それによって触媒はスト
リッピング室の下端部で導入されて上方に向って流れる
ストリッピング流と向流して断続的に流れる。各半径方
向に延びるアームは湾曲した内部表面と制限性ntq壁
とを備え、→ノ′イクロ〉式に触媒粒子を濃縮し、炭化
水素蒸気から触媒粒子の強制的分離を促進する。蒸気か
らの触媒の分離は触媒と蒸気の流れの方向を急速に変化
させることにより基本的に達成される。従って、触媒粒
子のサイクロン式補集と濃縮とが使用されて触媒粒子の
流れの方向が逆転し、その結果触媒粒子の流れは下方に
制限された流れとして濃縮され、はぼ下方に向けてスト
リッピング室の解放上端部に向けられる。
導入する中位量のスチーノ、から生ずるガス流以−トの
カス流は解放容器内には実質上存在しない5[発明が解
決しようとする問題点) ハタット(Haddad)らの米国特許第4,219,
407−シノ明細書は触媒の有効なスチーノ\ストリッ
ピングを可能にするガス状クラッキング生成物からの触
媒の分離方法を開示している。触媒とガス状物質とのサ
スペンションはライザー転化帯域から、下方に向いた端
部を有する半径方向に延びる通路すなわちアームを通過
して外部に排出される。触媒ストリッピング帯域すなわ
ちストリッピング装置は前記半径方向に延びる通路の各
端部の下に設置されている。各々のストリッピング装置
は頂部及び底部で解放され且つ下方に傾斜するじゃま板
を内蔵した垂直な室からなり、それによって触媒はスト
リッピング室の下端部で導入されて上方に向って流れる
ストリッピング流と向流して断続的に流れる。各半径方
向に延びるアームは湾曲した内部表面と制限性ntq壁
とを備え、→ノ′イクロ〉式に触媒粒子を濃縮し、炭化
水素蒸気から触媒粒子の強制的分離を促進する。蒸気か
らの触媒の分離は触媒と蒸気の流れの方向を急速に変化
させることにより基本的に達成される。従って、触媒粒
子のサイクロン式補集と濃縮とが使用されて触媒粒子の
流れの方向が逆転し、その結果触媒粒子の流れは下方に
制限された流れとして濃縮され、はぼ下方に向けてスト
リッピング室の解放上端部に向けられる。
半径方向に延びるアームと触媒ストリッピング室との間
に蒸気解放用空間が設りられ、触媒から分離された蒸気
の急速な除去が促進される。分離した蒸気は解放容器を
上方に通過し、サイクロン分離装置の開放口へ入り、サ
イクロン分離装置で同伴触媒粒子はカス状物質から除か
れ、除かれた触媒粒子は浸漬脚を通ってスヂームにより
ストリッピングされた触媒の本体に戻され、一方分離し
た蒸気状物質は精留装置へ入る。炭化水素生成物は半径
方向に延びるアームからサイクロン分離装置中へ排出さ
れる途中の解放容器内を通るときに無秩序に移動し流動
クラッキング装置の主精留装置の急冷帯域に入る前に接
触反応温度にさらされて望ましくない副反応及び熱分解
を生ずる。
に蒸気解放用空間が設りられ、触媒から分離された蒸気
の急速な除去が促進される。分離した蒸気は解放容器を
上方に通過し、サイクロン分離装置の開放口へ入り、サ
イクロン分離装置で同伴触媒粒子はカス状物質から除か
れ、除かれた触媒粒子は浸漬脚を通ってスヂームにより
ストリッピングされた触媒の本体に戻され、一方分離し
た蒸気状物質は精留装置へ入る。炭化水素生成物は半径
方向に延びるアームからサイクロン分離装置中へ排出さ
れる途中の解放容器内を通るときに無秩序に移動し流動
クラッキング装置の主精留装置の急冷帯域に入る前に接
触反応温度にさらされて望ましくない副反応及び熱分解
を生ずる。
ハタットらの米国特許第4,440,095号明細書に
は第1触媒−炭化水素分離装置として半径方向に延びる
サイドアーノ、を備えたライザーよりなるFCC反応器
が開示されている。サイドアーノ、は触媒と炭化水素と
のサスペンションの流れの方向を垂直方向から水平方向
に急に変換し、それによって固体触媒粒子からのガス状
炭化水素の予備分離を行なう。触媒粒子は下方のストリ
ッピング装置に落ち、一方炭化水素と若干同伴する触媒
粒子はサイクロンのような第2分離装置へ入る。サイド
アーム及び第2分離装置は無秩序の制御てきない炭化水
素の熱分解を防止するために垂直導管により封入されて
いる。しかし、サイドアームから第2分離装置に炭化水
素を送るために設置された垂直導管は分離装置の半径方
向及び長さ方向の熱膨張に適応できるものではない。
は第1触媒−炭化水素分離装置として半径方向に延びる
サイドアーノ、を備えたライザーよりなるFCC反応器
が開示されている。サイドアーノ、は触媒と炭化水素と
のサスペンションの流れの方向を垂直方向から水平方向
に急に変換し、それによって固体触媒粒子からのガス状
炭化水素の予備分離を行なう。触媒粒子は下方のストリ
ッピング装置に落ち、一方炭化水素と若干同伴する触媒
粒子はサイクロンのような第2分離装置へ入る。サイド
アーム及び第2分離装置は無秩序の制御てきない炭化水
素の熱分解を防止するために垂直導管により封入されて
いる。しかし、サイドアームから第2分離装置に炭化水
素を送るために設置された垂直導管は分離装置の半径方
向及び長さ方向の熱膨張に適応できるものではない。
し問題点を解決するための手段]
従って、本発明は炭化水素装入原料の流動接触クラッキ
ング装置において、上流端部及び下流端部をもつ垂直に
配置された細長い管状導管よりなり且つ前記ライザー下
流端部が反応容器内で終結しているライサー転化帯域;
前記ライザー転化帯域の上流端部に炭化水素と触媒との
サスペンションを導入するためのライザー挿入口及び前
記ライザー転化帯域の下流端部でクラッキングした炭化
水素装入原料と失活した触媒とを取り出すための排出口
、挿入口及び排出口をもつう゛イザーサイクロン分離装
置であって、前記挿入口が第1導管により前記ライザー
排出口に連通しており、また前記排出口が第2導管によ
り前記ライザーサイクロン排出口と連通ずる挿入口を備
え且つ排出口をもつ主サイクロン分離装置と連通してな
るライザーサイクロン分離装置、前記主サイクロン分離
装置排出口及び前記反応容器と連通してなるクラッキン
グした炭化水素用容器排出口:触゛媒ストリッピング帯
域;前記ライザー転化帯域及び主サイクロン分離装置か
ら前記触媒ストリッピング帯域へ触媒を誘導する手段、
及び前記触媒ストリッピング帯域かt、のストリッピン
グガスの少なくとも1部分をクラッキングした炭化水素
類及び触媒の混合物へ前記ライザー排出口と前記主サイ
クロン挿入口の間の位置て通ずための手段を備えてなる
炭化水素装入原料の流動接触クラッキングKWを櫂供す
るにある。
ング装置において、上流端部及び下流端部をもつ垂直に
配置された細長い管状導管よりなり且つ前記ライザー下
流端部が反応容器内で終結しているライサー転化帯域;
前記ライザー転化帯域の上流端部に炭化水素と触媒との
サスペンションを導入するためのライザー挿入口及び前
記ライザー転化帯域の下流端部でクラッキングした炭化
水素装入原料と失活した触媒とを取り出すための排出口
、挿入口及び排出口をもつう゛イザーサイクロン分離装
置であって、前記挿入口が第1導管により前記ライザー
排出口に連通しており、また前記排出口が第2導管によ
り前記ライザーサイクロン排出口と連通ずる挿入口を備
え且つ排出口をもつ主サイクロン分離装置と連通してな
るライザーサイクロン分離装置、前記主サイクロン分離
装置排出口及び前記反応容器と連通してなるクラッキン
グした炭化水素用容器排出口:触゛媒ストリッピング帯
域;前記ライザー転化帯域及び主サイクロン分離装置か
ら前記触媒ストリッピング帯域へ触媒を誘導する手段、
及び前記触媒ストリッピング帯域かt、のストリッピン
グガスの少なくとも1部分をクラッキングした炭化水素
類及び触媒の混合物へ前記ライザー排出口と前記主サイ
クロン挿入口の間の位置て通ずための手段を備えてなる
炭化水素装入原料の流動接触クラッキングKWを櫂供す
るにある。
他の実施態様において、本発明は子連の装置を使用する
FCC方法を提供するにある、本発明方法及び装置は新
たに造る装2または開放型サイクロンFCC反応装置の
改造に適用することがてきる。
FCC方法を提供するにある、本発明方法及び装置は新
たに造る装2または開放型サイクロンFCC反応装置の
改造に適用することがてきる。
[作用]
本発明方法及び装置を図を用いて以下に詳細に説明する
。
。
良く知られているように、流動接触クラッキング(FC
C)方法は蒸気で曝気したとき流動体として作用する非
常に黴細な粒子の形態V)触媒を使用する。流動化した
触媒は反応帯域と再生帯域の間を連続的に循環し、また
再生装置から炭化水素装入原料及び反応器へ熱を移動す
るためのビヒクルとして作用する。FCC方法は重質炭
化水素をより価値のあるガソリン及び軽質生成物へ転化
するために有用である。
C)方法は蒸気で曝気したとき流動体として作用する非
常に黴細な粒子の形態V)触媒を使用する。流動化した
触媒は反応帯域と再生帯域の間を連続的に循環し、また
再生装置から炭化水素装入原料及び反応器へ熱を移動す
るためのビヒクルとして作用する。FCC方法は重質炭
化水素をより価値のあるガソリン及び軽質生成物へ転化
するために有用である。
第7図に示すように、先行技術は触媒粒子と炭化水素を
混合しfS混合物としてライザー3に通し、導管17に
よりライザーサイクロン5へ送り、ここて触媒を炭fヒ
水素蒸気/触媒粒子のサスペンションから分離し、反応
容器1の底部に送ることからなる開放型反応器形態を使
用している。サイクロン5で分離された炭化水素類は導
管4により反応容器1の上方の空間に送られ、導管25
により連通している一組の次工程サイクロン7及び9を
通過させ、ガスサスペンション中に同伴する触媒を更に
除去する。この装置において、ライザーサイクロン5か
ら反応容器の頂部へ出る炭化水素類はオーバークラッキ
ング及びクラッキングした生成物の制御の損失を生ずる
ほど長く反応容器内に残存する傾向にある。
混合しfS混合物としてライザー3に通し、導管17に
よりライザーサイクロン5へ送り、ここて触媒を炭fヒ
水素蒸気/触媒粒子のサスペンションから分離し、反応
容器1の底部に送ることからなる開放型反応器形態を使
用している。サイクロン5で分離された炭化水素類は導
管4により反応容器1の上方の空間に送られ、導管25
により連通している一組の次工程サイクロン7及び9を
通過させ、ガスサスペンション中に同伴する触媒を更に
除去する。この装置において、ライザーサイクロン5か
ら反応容器の頂部へ出る炭化水素類はオーバークラッキ
ング及びクラッキングした生成物の制御の損失を生ずる
ほど長く反応容器内に残存する傾向にある。
本発明はライザーサイクロン5がら上方へ出るガスサス
ペンション中に残存する触媒1’S71’を直接次工程
のサイクロン7及び9へ装入することにより、触媒の急
速分離を行ない、それによって炭化水素5がオーバーク
ラッキングするための時間をもつ前に炭化水素類を触媒
からストリッピングし且つ導管11により反応容器から
出すことからなる密封型反応器方法及び装置を指向する
ものである。上述のオーバークラッキングは最近発達し
な触媒が以前の触媒とは異なりJ1°常に高い反応性を
6つものであるために現在問題となっている。従って、
本発明において、直接導管1つ(第1図)はFCC反応
器内に設置されている第1工程のサイクロンと次工程の
直列に配列されたサイクロンの第1サイクロンとを連通
ずるものである。
ペンション中に残存する触媒1’S71’を直接次工程
のサイクロン7及び9へ装入することにより、触媒の急
速分離を行ない、それによって炭化水素5がオーバーク
ラッキングするための時間をもつ前に炭化水素類を触媒
からストリッピングし且つ導管11により反応容器から
出すことからなる密封型反応器方法及び装置を指向する
ものである。上述のオーバークラッキングは最近発達し
な触媒が以前の触媒とは異なりJ1°常に高い反応性を
6つものであるために現在問題となっている。従って、
本発明において、直接導管1つ(第1図)はFCC反応
器内に設置されている第1工程のサイクロンと次工程の
直列に配列されたサイクロンの第1サイクロンとを連通
ずるものである。
反応容器からの触媒ストリッピングカスとライザーサイ
クロン5から上方に出るガスサスペンションとを混合し
て触媒からの炭化水素類の除去を促進することが好都き
である。これを達成するために直接導管19はストリッ
ピングガスを該導管に導入するために形成された開口部
をもつ。開口部は導管のテレ・なくとも2つの部材に設
けることにより形成されている。
クロン5から上方に出るガスサスペンションとを混合し
て触媒からの炭化水素類の除去を促進することが好都き
である。これを達成するために直接導管19はストリッ
ピングガスを該導管に導入するために形成された開口部
をもつ。開口部は導管のテレ・なくとも2つの部材に設
けることにより形成されている。
[実施例1
さて、本発明を第1図〜第6図に記載した実施態様に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
本発明の第1実施態様である装置の面、すなわち第1図
において、反応容器1はその低部区域に触媒ストリッピ
ング帯8i49をもつ。反応容器lはライザー3(また
ライザー反応器またはライザー転化帯域と呼称する)の
上端部及び該端部に連通ずるライザー(第1)サイクロ
ン5、主(第2)サイクロン7、副(第3)サイクロン
9を包囲している。ライザーサイクロン5は慣用の密封
型導管であるライザー導v−17によりライザー3と連
通している。ライザーサイクロン5は頂部導管(直接導
管)1つにより主サイクロン7と連通している。
において、反応容器1はその低部区域に触媒ストリッピ
ング帯8i49をもつ。反応容器lはライザー3(また
ライザー反応器またはライザー転化帯域と呼称する)の
上端部及び該端部に連通ずるライザー(第1)サイクロ
ン5、主(第2)サイクロン7、副(第3)サイクロン
9を包囲している。ライザーサイクロン5は慣用の密封
型導管であるライザー導v−17によりライザー3と連
通している。ライザーサイクロン5は頂部導管(直接導
管)1つにより主サイクロン7と連通している。
主サイクロン7は慣用の密封型導管25により副サイク
ロン9と連通している。副サイクロンまたは並列に配置
された他の副サイクロン(図示せず)からの頂部ガスは
副サイクロン9用の頂部導管】1または他の並列に配置
された副サイクロン用の頂部導管13により反応容器1
から排出される。
ロン9と連通している。副サイクロンまたは並列に配置
された他の副サイクロン(図示せず)からの頂部ガスは
副サイクロン9用の頂部導管】1または他の並列に配置
された副サイクロン用の頂部導管13により反応容器1
から排出される。
頂部導管11及び頂部導管13を通過して反応器を出る
ガスは混合され、また反応器頂部受【コ15を通って出
る。ライザーサイクロン5、主サイクロン7及び副サイ
クロン9により分離された触媒粒子はサイクロン浸漬脚
29.31及び33をそれぞれ通過して落下し、触媒に
固着する炭化水素類を除去する反応器ストリッピング帯
域(触媒ストリッピング帯域)49に装入される。 ・
運の連通ずるライザーサイクロン、主サイクロン及び副
サイクロンのみを第1図に示ずが、ニー組以上のサイク
ロン及び/または3個以上またはそれ辺T”の連続した
サイクロンを使用することができる。
ガスは混合され、また反応器頂部受【コ15を通って出
る。ライザーサイクロン5、主サイクロン7及び副サイ
クロン9により分離された触媒粒子はサイクロン浸漬脚
29.31及び33をそれぞれ通過して落下し、触媒に
固着する炭化水素類を除去する反応器ストリッピング帯
域(触媒ストリッピング帯域)49に装入される。 ・
運の連通ずるライザーサイクロン、主サイクロン及び副
サイクロンのみを第1図に示ずが、ニー組以上のサイク
ロン及び/または3個以上またはそれ辺T”の連続した
サイクロンを使用することができる。
第3図に示すように、頂部導管19は炭化水素類及び触
媒粒子をライザーサイクロン5から主サイクロン7へ反
応容器1の雰囲気に出ることなしに直接運ぶための通路
を提供する6のである。しかし、反応容器1から頂部導
管19ヘスドリツピングガスを導入するための手段を頂
部導管19は備える。頂部導管1つは排出[1導管21
及びそこから間隔を隔てて設置された主サイクロン7の
挿入口導管23を含む、排出口導管21と挿入口導管2
3の間の空間は第3図に示すように受口27を形成し2
、この受口27は触媒に固着した炭化水素からの触媒の
分離を促進するストリッピングガスを挿入口導管23に
導入するものである。排出口導管21及び挿入口導管2
3は水平(第3図)または垂直に同=−・軸上にあるこ
とができる。更に、排出口導管21の開口の寸法と形状
と挿入口導管23の開口の寸法と形状とはほぼ同してな
ければならない。
媒粒子をライザーサイクロン5から主サイクロン7へ反
応容器1の雰囲気に出ることなしに直接運ぶための通路
を提供する6のである。しかし、反応容器1から頂部導
管19ヘスドリツピングガスを導入するための手段を頂
部導管19は備える。頂部導管1つは排出[1導管21
及びそこから間隔を隔てて設置された主サイクロン7の
挿入口導管23を含む、排出口導管21と挿入口導管2
3の間の空間は第3図に示すように受口27を形成し2
、この受口27は触媒に固着した炭化水素からの触媒の
分離を促進するストリッピングガスを挿入口導管23に
導入するものである。排出口導管21及び挿入口導管2
3は水平(第3図)または垂直に同=−・軸上にあるこ
とができる。更に、排出口導管21の開口の寸法と形状
と挿入口導管23の開口の寸法と形状とはほぼ同してな
ければならない。
ライザーサイクロン5、主サイクロン7及び副サイクロ
ン9からの分離された触媒はそれぞれ浸漬脚29.31
及び33を通過し、所定の圧力が触媒の堆積により浸漬
脚肉に生じた後、浸漬脚から排出される。触媒は触媒床
51に落下する。ライザーサイクロン浸漬脚29の直径
は収集した触媒と共に浸”漬脚29を流れ落ちる炭化水
素生成物の量を低減するために最小とすることができる
。
ン9からの分離された触媒はそれぞれ浸漬脚29.31
及び33を通過し、所定の圧力が触媒の堆積により浸漬
脚肉に生じた後、浸漬脚から排出される。触媒は触媒床
51に落下する。ライザーサイクロン浸漬脚29の直径
は収集した触媒と共に浸”漬脚29を流れ落ちる炭化水
素生成物の量を低減するために最小とすることができる
。
下方からのストリソピンクガスはこの少:「、の炭化水
素生成物を浸漬脚29から主サイクロン71\吹き飛ば
し、この炭化水素生成物を他の反応生成物と共に反応容
器1かち取り出す、浸漬脚29.31及び33は触媒床
51へ脚を延長するか、またはトリックルバルブ35.
37によりj1止するこしができる。更に、浸漬脚の直
径は浸)へ脚中の触媒速度を制御するために調節できる
。
素生成物を浸漬脚29から主サイクロン71\吹き飛ば
し、この炭化水素生成物を他の反応生成物と共に反応容
器1かち取り出す、浸漬脚29.31及び33は触媒床
51へ脚を延長するか、またはトリックルバルブ35.
37によりj1止するこしができる。更に、浸漬脚の直
径は浸)へ脚中の触媒速度を制御するために調節できる
。
慣用の触媒ストリッピング帯域49内に触媒床51があ
り、ここで触媒は触媒の流向と自流的に流れるスチーム
のようなストリッピングガスの流れと接触する。ストリ
ッピングガスは1本または2木rノ上の慣用の導管55
により触媒スI・リッピング帯域の低部区域に導入され
る。ストリッピングした触媒は導管57より取り出され
、触媒粒子の活性及び触媒粒子上に沈着した炭素質物質
すなわぢコークスの蚤に依存して触媒再生帯域または第
2工程炭化水素転化帯域へ送られる。
り、ここで触媒は触媒の流向と自流的に流れるスチーム
のようなストリッピングガスの流れと接触する。ストリ
ッピングガスは1本または2木rノ上の慣用の導管55
により触媒スI・リッピング帯域の低部区域に導入され
る。ストリッピングした触媒は導管57より取り出され
、触媒粒子の活性及び触媒粒子上に沈着した炭素質物質
すなわぢコークスの蚤に依存して触媒再生帯域または第
2工程炭化水素転化帯域へ送られる。
第1図に説明した装置を使用する方法において、炭化水
素と触媒とを混きしたサスペンションは装入装置(炭化
水素及び触媒装入装置)6によりライザー31\導入さ
れる6クラソキングした炭化水素及び触媒のサスペンシ
ョンはライザー3からライザー導管17を通り、ライザ
ーサイクロン5/\送られる。該サスペンションは排出
口導管21及び挿入口導管23及び受口27を備えた頂
部導管19を通過し、主サイクロン7に送られる。次に
該サスペンションは導管25を通過し、副サイクロン9
へ送られ、次に頂部導管11を通過して触媒の存在し、
ないクラッキングした炭化水素として反応器を出て、下
流の精留装置に送られる。触媒はライザーサイクロン5
、主サイクロン7及び副サイクロン9中で分離され、そ
れぞれサイクロン浸漬脚29.31及び33を通過して
触媒ストリッピング帯域49へ送られ、そこから触媒は
導管57を通過し、触媒の活性に応じて次工程反応容器
または再生容器に送らる。ストリッピング帯域49から
のストリッピングガスは受口27より上述のサスペンシ
ョンに導入される。
素と触媒とを混きしたサスペンションは装入装置(炭化
水素及び触媒装入装置)6によりライザー31\導入さ
れる6クラソキングした炭化水素及び触媒のサスペンシ
ョンはライザー3からライザー導管17を通り、ライザ
ーサイクロン5/\送られる。該サスペンションは排出
口導管21及び挿入口導管23及び受口27を備えた頂
部導管19を通過し、主サイクロン7に送られる。次に
該サスペンションは導管25を通過し、副サイクロン9
へ送られ、次に頂部導管11を通過して触媒の存在し、
ないクラッキングした炭化水素として反応器を出て、下
流の精留装置に送られる。触媒はライザーサイクロン5
、主サイクロン7及び副サイクロン9中で分離され、そ
れぞれサイクロン浸漬脚29.31及び33を通過して
触媒ストリッピング帯域49へ送られ、そこから触媒は
導管57を通過し、触媒の活性に応じて次工程反応容器
または再生容器に送らる。ストリッピング帯域49から
のストリッピングガスは受口27より上述のサスペンシ
ョンに導入される。
第2図及び第4図に記載した本発明の他の実施態様にお
いて、フイザーザイクロン5内の圧力は反応容器1の圧
力より低く設定され、その結果としてライザーサイクロ
ン浸漬脚129はストリッピングガスを受口27ではな
く浸漬脚12つを通過して導入できるように改変するこ
とができる。
いて、フイザーザイクロン5内の圧力は反応容器1の圧
力より低く設定され、その結果としてライザーサイクロ
ン浸漬脚129はストリッピングガスを受口27ではな
く浸漬脚12つを通過して導入できるように改変するこ
とができる。
従って、浸漬脚の底部開口部は反応容器1と出入り自由
に連通しており、また浸漬脚の直径は触媒の流れと自流
的なストリッピングガスの速度が約0.03〜0.3輪
/秒(01〜] 0フィート/秒)となるような寸法で
ある。また浸漬脚129の直径はライザーサイクロン5
が触媒サージに−・層抵抗力のあるものとする。これは
浸漬脚の直径が慣用のものより大いから触媒がより容易
に落下するなめである。更に、ライザーサイクロン5は
土サイクロン7と、ライザーサイクロン5から延びる上
流区分121と主サイクロン7の挿入口と連通する下流
区分123からなるライザーサイクロン頂部導管119
により連通している。下流区分123は上流区分121
とバッキング128を充填した密封型継手127または
ベローズ(図示せず)により連通している。密封型継手
127またはへロースは伸縮継手として作用する。
に連通しており、また浸漬脚の直径は触媒の流れと自流
的なストリッピングガスの速度が約0.03〜0.3輪
/秒(01〜] 0フィート/秒)となるような寸法で
ある。また浸漬脚129の直径はライザーサイクロン5
が触媒サージに−・層抵抗力のあるものとする。これは
浸漬脚の直径が慣用のものより大いから触媒がより容易
に落下するなめである。更に、ライザーサイクロン5は
土サイクロン7と、ライザーサイクロン5から延びる上
流区分121と主サイクロン7の挿入口と連通する下流
区分123からなるライザーサイクロン頂部導管119
により連通している。下流区分123は上流区分121
とバッキング128を充填した密封型継手127または
ベローズ(図示せず)により連通している。密封型継手
127またはへロースは伸縮継手として作用する。
第2図及び第4図に記載した実施態様において、ストリ
ッピングカスは第1図に示した受口27よりストリッピ
ングガスを導入する代わりにライザーサイクロン浸漬脚
129及び次にライザー→ノーイクロン5を通過させる
。
ッピングカスは第1図に示した受口27よりストリッピ
ングガスを導入する代わりにライザーサイクロン浸漬脚
129及び次にライザー→ノーイクロン5を通過させる
。
第5図及び第()図は本発明の他の改変を説明するもの
である。この実施W3様においてライザー導管は上流区
域117及び上流区域117より太い直径の該区域に重
なる下流区域118よりなるように改変されている6上
流区域117は下流区域118中へ延びる管として配置
されている。環状部分は」−流区域117と下流区域1
18の間に形成されており、該環状部分は反応容器lの
雰囲気と出入り自由に連通しているオリフィス125を
もつ実質上平坦な金属リングにより包囲されζおり、ス
トリッピングガスは上述のオリフィスを通過して下流区
域118の導管に送られる。サイクロン浸漬脚29及び
30はトリックルバルブまたLl他の手段番ご、Lり封
止てきる。更にライザーサイクロン5は上流区域11≦
)の密封型導管により一1サイクロン7に連通している
。
である。この実施W3様においてライザー導管は上流区
域117及び上流区域117より太い直径の該区域に重
なる下流区域118よりなるように改変されている6上
流区域117は下流区域118中へ延びる管として配置
されている。環状部分は」−流区域117と下流区域1
18の間に形成されており、該環状部分は反応容器lの
雰囲気と出入り自由に連通しているオリフィス125を
もつ実質上平坦な金属リングにより包囲されζおり、ス
トリッピングガスは上述のオリフィスを通過して下流区
域118の導管に送られる。サイクロン浸漬脚29及び
30はトリックルバルブまたLl他の手段番ご、Lり封
止てきる。更にライザーサイクロン5は上流区域11≦
)の密封型導管により一1サイクロン7に連通している
。
更に他の改変において、スチーム(」第5図に示すよう
にスチーム用導管39を通過してライザーサイクロン5
/\注入される。ガスの再同伴を防止するためにガス方
向指示導管41をライザーサイクロン′5内に設置する
ことがてきる。
にスチーム用導管39を通過してライザーサイクロン5
/\注入される。ガスの再同伴を防止するためにガス方
向指示導管41をライザーサイクロン′5内に設置する
ことがてきる。
第5図の実施態様において、ライザーサイクロン5の圧
力は反応容器1の圧力より低く、そのためにストリッピ
ングガスはオリフィス125を通過してライザー導管の
下流区域118の端部に送られる。更に、クラッキング
した炭化水素W、触媒及びストリッピングガスのサスペ
ンションは密封型導管119を通過して主サイクロン7
へ送られる。
力は反応容器1の圧力より低く、そのためにストリッピ
ングガスはオリフィス125を通過してライザー導管の
下流区域118の端部に送られる。更に、クラッキング
した炭化水素W、触媒及びストリッピングガスのサスペ
ンションは密封型導管119を通過して主サイクロン7
へ送られる。
また、スチームはサスペンシコンと混合され11つ触媒
に固着する炭化水素類の除去を促進するためにライザー
サイクロン5/\注入される。
に固着する炭化水素類の除去を促進するためにライザー
サイクロン5/\注入される。
第1図は本発明の1実施暦様の流動接触クララキンク(
F CC)反応器の側面の概略図てあり、第2図は本発
明のもう1つの実施態様の流動接触クララキンク(F
CC7,)反応器の側面の概略図であり、第3図はライ
ザーカイクロンと主サイクロンの間の導管を詳細に説明
する図てあり、第・4図はライザーカイクロンと1−サ
イクロンの間の導管を詳細に説明する図てあり、第5図
は本発明の第3実施態様をしめずライザーサイクロンと
主サイクロンの間の導管を説明する拡大図であり、第6
図は第5図の7−7で得られる断面図であり、第7図は
先行技術グ)流動接触クララキンク(FCC)反応器の
側面の概略図である。図中: 1・反応容器、3 ライザー、4 導管、5 ライザー
サイクロン(第1ザイクロン〉、6・炭化水素及び触媒
装入装置、7 主サイクロン(第2サイクロン〉、9・
副サイクロン(第3サイクロン)、頂部導管、13 頂
部導管、15 反応器頂部受口、17・・ライザー導管
、19・・・直接導管(頂部導管)、21・排出口導管
、23・・挿入口導管、25・導管、27・受口、29
.31及び33サイクロン浸漬脚く浸漬層)、35及び
37−1〜リツクルバルブ、39 スチー1、用導管、
41 ガス方向指示導管、49 触媒ス)・リッピング
帯域(反応器ストリッピング帯域)、51 触媒床、5
5・導管、57 導T、117 F流区域、118・下
流区域、1]9 ライザーライク1]ンH+部導管(密
封型導管)、121 上流区分、] 23− ’F流区
分、127 密封型継手、128 バッキング。 特許出願人代理人 曽 我 遵 照、′ゝ−1−i15
1 FIG、 5 FIG、 6 FIG、 4
F CC)反応器の側面の概略図てあり、第2図は本発
明のもう1つの実施態様の流動接触クララキンク(F
CC7,)反応器の側面の概略図であり、第3図はライ
ザーカイクロンと主サイクロンの間の導管を詳細に説明
する図てあり、第・4図はライザーカイクロンと1−サ
イクロンの間の導管を詳細に説明する図てあり、第5図
は本発明の第3実施態様をしめずライザーサイクロンと
主サイクロンの間の導管を説明する拡大図であり、第6
図は第5図の7−7で得られる断面図であり、第7図は
先行技術グ)流動接触クララキンク(FCC)反応器の
側面の概略図である。図中: 1・反応容器、3 ライザー、4 導管、5 ライザー
サイクロン(第1ザイクロン〉、6・炭化水素及び触媒
装入装置、7 主サイクロン(第2サイクロン〉、9・
副サイクロン(第3サイクロン)、頂部導管、13 頂
部導管、15 反応器頂部受口、17・・ライザー導管
、19・・・直接導管(頂部導管)、21・排出口導管
、23・・挿入口導管、25・導管、27・受口、29
.31及び33サイクロン浸漬脚く浸漬層)、35及び
37−1〜リツクルバルブ、39 スチー1、用導管、
41 ガス方向指示導管、49 触媒ス)・リッピング
帯域(反応器ストリッピング帯域)、51 触媒床、5
5・導管、57 導T、117 F流区域、118・下
流区域、1]9 ライザーライク1]ンH+部導管(密
封型導管)、121 上流区分、] 23− ’F流区
分、127 密封型継手、128 バッキング。 特許出願人代理人 曽 我 遵 照、′ゝ−1−i15
1 FIG、 5 FIG、 6 FIG、 4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、炭化水素装入原料の流動接触クラッキング装置にお
いて。 上流端部及び下流端部をもつ垂直に配置された細長い管
状導管よりなり且つ前記ライザー下流端部が反応容器内
で終結しているライザー転化帯域。 前記ライザー転化帯域の上流端部に炭化水素と触媒との
サスペンションを導入するためのライザー挿入口及び前
記ライザー転化帯域の下流端部でクラッキングした炭化
水素装入原料と失活した触媒とを取り出すための排出口
; 挿入口及び排出口をもつライザーサイクロン分離装置で
あって、前記挿入口が第1導管により前記ライザー排出
口に連通しており、また前記排出口が第2導管により前
記ライザーサイクロン排出口と連通ずる挿入口を備え且
つ排出口をもっ主サイクロン分離装置と連通してなるラ
イザーサイクロン分離装置。 前記主サイクロン分離装置排出口及び前記反応容器と連
通してなるクラッキングした炭化水素用容器排出口; 触媒ストリッピング帯域; 前記ライザー転化帯域及び主サイクロン分離装置から前
記触媒ストリッピング帯域へ触媒を誘導する手段、及び 前記触媒ストリッピング帯域からのストリッピングガス
の少なくとも1部分をクランキングした炭化水素類及び
触媒の混合物へ前記ライザー排出口と前記主サイクロン
挿入口の間の位置で通ずための手段を備えてなる炭化水
素装入原料の流動接触クラッキング装置。 2 第2導管がライザーサイクロンに連通ずる排出口導
管及び主サイクロンに連通ずる挿入口導管よりなり、前
記挿入口導管が前記排出口と一線をなし且つ間隔が空い
ており、前記挿入口と前記排出口の間の空間がストリッ
ピングガスをクランキングした炭化水素及び触媒の混合
物へ導入するための受口である特許請求の範囲第1項記
載の装置。 3、排出口導管及び挿入口導管が同じ開口部直径をも−
)特許請求の範囲第2項記載の装置。 4、排出口導管及び挿入口導管を水平に配置する特許請
求の範囲第2項または第3項記載の装置。 5、ストリッピングガスを通ず手段がライザーサイクロ
ン分離装置浸漬脚よりなる特許請求の範囲第1項記載の
装置。 6 ストリッピングガスを通ずための手段が反応容器の
内部の第1導管開口部の少なくとも1個の受口よりなる
特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に
記載の装置。 7、受口が太い直径の導管区域と細い直径の導管区域の
間に設置された第1導管の環状部分に形成される特許請
求の範囲第6項記載の装置。 8、多数の受口が環状部分の周囲に間隔をおいて設置さ
れている特許請求の範囲第7項記載の装置。 9、 ライザーサイクロン分離装置がライザーサイクロ
ン分離装置の低部区域の側壁に設置されたスチーム装入
導管をもつ特許請求の範囲第1項から第8項までのいず
れか1項に記載の装置。 10、炭化水素装入原料の流動接触クラッキング方法に
おいて、 炭化水素装入原料と触媒の混合物をサスペンションとし
て反応容器内に設置されたライザー転化帯域に通し、ラ
イザー転化帯域中で前記炭化水素装入原料をクラッキン
グし: ライザー転化帯域からの混合物を第1導管により反応容
器内に設置したライザーサイクロン分離装置に送り: ライザーサイクロン分離装置内で混合物から触媒の少な
くとも1部分を分離し。 ライザーサイクロン分離装置からのガス状流出流を第2
導管により前記反応容器内に設置した主サイクロン分離
装置に送り。 ライザーサイクロン分離装置及び主サイクロン分離装置
から分離した触媒を反応容器内な設置した触媒ストリッ
ピング帯域に送り、触媒に同伴する炭化水素類を除去し
; 反応容器中にストリッピングガスの少なくとも1部分を
触媒ストリッピング帯域から前記導管の少なくとも1本
及びライザーサイクロン分離装置の浸漬脚に送り: 主サイクロン分離装置からの流出流としてクラッキング
した炭化水素類を下流の精留装置へ送り。 分離した触媒を触媒ストリッピング帯域から再生容器に
送ることよりなる炭化水素装入原料の流動接触クラッキ
ング方法。
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