JPS6025074A - フレキシブル磁気デイスク - Google Patents
フレキシブル磁気デイスクInfo
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- JPS6025074A JPS6025074A JP58133291A JP13329183A JPS6025074A JP S6025074 A JPS6025074 A JP S6025074A JP 58133291 A JP58133291 A JP 58133291A JP 13329183 A JP13329183 A JP 13329183A JP S6025074 A JPS6025074 A JP S6025074A
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- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
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- Y10T428/265—1 mil or less
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフレキシブル磁気ディスクの改良に関し、さら
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く装填されるフレキシブル磁気ディスクに関する。
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く装填されるフレキシブル磁気ディスクに関する。
フレキシブルな磁気ディスクシートをジャケットに収納
し、ジャケットとシートの両方に設けた中央円孔に書込
みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合せし
め、これを回転させてシート上に磁気記録をし、ちるい
はシートから磁気角生するものが知られている。この種
の磁気ディスクはシートがジャケットに多少余裕をもっ
て収納されているため、保管時、取扱時あるいは携帯時
に中のシートがジャケット内で片寄った位置にずれ、装
置にディスクを装填したとき、シート中央の円孔が装置
の位置決め部材（コレット）の位置に対して偏心し１位
置決め時にシートが偏心した位置に保持されてしまうこ
とがある。
し、ジャケットとシートの両方に設けた中央円孔に書込
みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合せし
め、これを回転させてシート上に磁気記録をし、ちるい
はシートから磁気角生するものが知られている。この種
の磁気ディスクはシートがジャケットに多少余裕をもっ
て収納されているため、保管時、取扱時あるいは携帯時
に中のシートがジャケット内で片寄った位置にずれ、装
置にディスクを装填したとき、シート中央の円孔が装置
の位置決め部材（コレット）の位置に対して偏心し１位
置決め時にシートが偏心した位置に保持されてしまうこ
とがある。
第１Ａおよび７８図はこの種のフレキシブル磁気シート
を示すもので、中央に円形開口／ａを有する矩形のジャ
ケット／の中に、前記中央円形開口／ａの中に中央円孔
−２３の周縁を露出した円形のフレキシブル磁気ジート
コが回転自在に収納されている。
を示すもので、中央に円形開口／ａを有する矩形のジャ
ケット／の中に、前記中央円形開口／ａの中に中央円孔
−２３の周縁を露出した円形のフレキシブル磁気ジート
コが回転自在に収納されている。
このフレキシブル磁気ディスクを書込みおよび読取り装
置に装填するとき、第２図に示すように位置決め部材の
回転部３をジートコの下から当て。
置に装填するとき、第２図に示すように位置決め部材の
回転部３をジートコの下から当て。
この上からコレット≠を下げて１回転部３の円形凹部３
ａの中に圧入する。このとき、シート−の中央円孔２ａ
の周縁は回転部３０円形凹部３ａの位置に必ずしも一致
しているわけではなく、ずれていることが多いから、こ
のままコレットｔを下げると第３図のようにシート２０
円孔ｊａの周縁の一部がコレット弘と回転部３の凹部３
ａ（０間に挾持され、偏心した状態で回転することにな
る。
ａの中に圧入する。このとき、シート−の中央円孔２ａ
の周縁は回転部３０円形凹部３ａの位置に必ずしも一致
しているわけではなく、ずれていることが多いから、こ
のままコレットｔを下げると第３図のようにシート２０
円孔ｊａの周縁の一部がコレット弘と回転部３の凹部３
ａ（０間に挾持され、偏心した状態で回転することにな
る。
磁気ディスクジートコは常に中心が正しく回転中心軸に
一致して回転されなければ書込み、読取りが正しく行な
われないから、このような位置をされることは防止され
ねばならない。また、このような状態で保持され１回転
されると、シートλの平面性が損なわれ２回転時にがた
つくという問題もある。コレット弘を下げてシートｌを
挾持するとき、シートｌが第３図のごとくでなく、第μ
図のように正しく装填されるためには、シートの中央円
孔周縁が適当な硬度を有し、かＱシートｌとコレットａ
および回転部３との摩擦係数（μ）の小さいことが必要
となる。
一致して回転されなければ書込み、読取りが正しく行な
われないから、このような位置をされることは防止され
ねばならない。また、このような状態で保持され１回転
されると、シートλの平面性が損なわれ２回転時にがた
つくという問題もある。コレット弘を下げてシートｌを
挾持するとき、シートｌが第３図のごとくでなく、第μ
図のように正しく装填されるためには、シートの中央円
孔周縁が適当な硬度を有し、かＱシートｌとコレットａ
および回転部３との摩擦係数（μ）の小さいことが必要
となる。
この目的のために、特開昭ｊ７−／／Ｊ≠２２には、フ
レキシブル磁気ディスクの中央円孔周縁のシート位置決
め部材と接触する部分に紫外線により重合可能なポリオ
レフィン材と脂肪酸エステルとを含有する保瞳層を設け
て摩擦係数を減少させる方法が開示されている。しかし
、この方法のように低分子量の潤滑剤を用いると、ａｏ
ｏｃ〜ｊ０°Ｃの比較的高温および７０％〜ｔｏｅｓＯ
高湿雰囲気下では摩擦係数が増大し、偏心装填を防止す
る効果が減少するという欠点があられれてくる。また、
室温においてもくり返し装填を行なううちに、潤滑効果
が減少してくる。このことは。
レキシブル磁気ディスクの中央円孔周縁のシート位置決
め部材と接触する部分に紫外線により重合可能なポリオ
レフィン材と脂肪酸エステルとを含有する保瞳層を設け
て摩擦係数を減少させる方法が開示されている。しかし
、この方法のように低分子量の潤滑剤を用いると、ａｏ
ｏｃ〜ｊ０°Ｃの比較的高温および７０％〜ｔｏｅｓＯ
高湿雰囲気下では摩擦係数が増大し、偏心装填を防止す
る効果が減少するという欠点があられれてくる。また、
室温においてもくり返し装填を行なううちに、潤滑効果
が減少してくる。このことは。
くり返し使用するうちに表面から潤滑剤がねぐい去られ
ていくことに起因すると思われる。
ていくことに起因すると思われる。
本発明の目的は、温度変化に依存しない、とくに高温お
よび高湿雰囲気下でも、またくり返し装填を行なっても
潤滑剤の損失が少ない、したがってフレキシブル磁気デ
ィスクシートと位置決め部材との摩擦係数を小さく保ち
、装置に偏心することなく装填されるフレキシブル磁気
ディスクを提供するにある。
よび高湿雰囲気下でも、またくり返し装填を行なっても
潤滑剤の損失が少ない、したがってフレキシブル磁気デ
ィスクシートと位置決め部材との摩擦係数を小さく保ち
、装置に偏心することなく装填されるフレキシブル磁気
ディスクを提供するにある。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果−
（ａ１分子の主鎖末端および側鎖の少なくとも一方に潤
滑性を有する原子団との結合を有し。
（ａ１分子の主鎖末端および側鎖の少なくとも一方に潤
滑性を有する原子団との結合を有し。
かつ主鎖末端および側鎖の少なくとも一方にアクリル酸
またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合物、
および（ｂ）紫外線を吸収することにより光重合開始剤
として作用する芳香族ケトンを含有する保護層を磁気デ
ィスクシートの中央円孔周縁のシート位置決め部材との
接触部分に設け、紫外線照射により該層を重合・硬化さ
せることによって著しい好結果が得られることを見いだ
し１本発明にいたった。
またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合物、
および（ｂ）紫外線を吸収することにより光重合開始剤
として作用する芳香族ケトンを含有する保護層を磁気デ
ィスクシートの中央円孔周縁のシート位置決め部材との
接触部分に設け、紫外線照射により該層を重合・硬化さ
せることによって著しい好結果が得られることを見いだ
し１本発明にいたった。
すなわち１本発明は、（１）フレキシブル磁気ディスク
シート中央円孔周縁に（ａ）分子の主鎖末端および側鎖
の少なくとも一方に潤ｆｆｉ性を有する原子団との結合
を有し、かつ主鎖末端および側鎖の少なくとも一方にア
クリル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する
化合物、および（１））芳香族ケトンを含有する保膜層
を設けることを特徴とするフレキシブル磁気ディスク。
シート中央円孔周縁に（ａ）分子の主鎖末端および側鎖
の少なくとも一方に潤ｆｆｉ性を有する原子団との結合
を有し、かつ主鎖末端および側鎖の少なくとも一方にア
クリル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する
化合物、および（１））芳香族ケトンを含有する保膜層
を設けることを特徴とするフレキシブル磁気ディスク。
（２）前記刊滑性を有する原子団が、下記一般式１）、
Ｉｌ）または■）で示されるものであることを特徴とす
る（１）に記載のフレキシブル磁気ディスク、に関する
。
Ｉｌ）または■）で示されるものであることを特徴とす
る（１）に記載のフレキシブル磁気ディスク、に関する
。
１）ＲＣＯＯ−（たソし、Ｒは炭素数！〜コＯである飽
和または不飽和 炭化尿素基を示す。） 旧 ＣＩ”３（ＣＦ２）ｎ −（たヌし、ｆｉ １Ｉｉ
Ｏ、／りの整数を示す。） またはＣＦｓＣＦＣ／！（ＣＦ２ＣＦＣｇ）ｎ−（たソ
し、ｎはＯ〜りの整数を示す。）１１１） ＲＳ ｉ
＋０ＣＨ２ＣＨ２Ｓ ｉ＋ｎｏ −（たＷｌ、、Ｒは炭
素数／〜ｊの飽和または不飽和炭化水素基を、ｎは／〜
１０の整数をそれぞれ示す。） 本発明中（ａｌとして示した化合物は、下記歳述べるご
とき潤滑性を有する原子団との結合を分子主鎖末端およ
び側鎖の少なくとも一方に有し、かつアクリル酸または
メタクリル酸とのエステル結合を主鎖末端および側鎖の
少なくとも一方に有するものである。分子板は特に限定
はされないが、ｊＯθ〜ＪＯ，ｏｏｏが好ましく、／、
０００〜コｏ 、ｏｏｏのオリゴマーからポリマー領域
のものがさらに好ましい。主鎖の骨格は、ポリエステル
骨格、ポリウレタン骨格、ポリエーテル骨格、ポリカー
「ネート骨格、エポキシ樹脂の骨格などが好ましく、そ
れらの混合された骨格であってもまたそれらを二種以上
混合して使用してもよい。
和または不飽和 炭化尿素基を示す。） 旧 ＣＩ”３（ＣＦ２）ｎ −（たヌし、ｆｉ １Ｉｉ
Ｏ、／りの整数を示す。） またはＣＦｓＣＦＣ／！（ＣＦ２ＣＦＣｇ）ｎ−（たソ
し、ｎはＯ〜りの整数を示す。）１１１） ＲＳ ｉ
＋０ＣＨ２ＣＨ２Ｓ ｉ＋ｎｏ −（たＷｌ、、Ｒは炭
素数／〜ｊの飽和または不飽和炭化水素基を、ｎは／〜
１０の整数をそれぞれ示す。） 本発明中（ａｌとして示した化合物は、下記歳述べるご
とき潤滑性を有する原子団との結合を分子主鎖末端およ
び側鎖の少なくとも一方に有し、かつアクリル酸または
メタクリル酸とのエステル結合を主鎖末端および側鎖の
少なくとも一方に有するものである。分子板は特に限定
はされないが、ｊＯθ〜ＪＯ，ｏｏｏが好ましく、／、
０００〜コｏ 、ｏｏｏのオリゴマーからポリマー領域
のものがさらに好ましい。主鎖の骨格は、ポリエステル
骨格、ポリウレタン骨格、ポリエーテル骨格、ポリカー
「ネート骨格、エポキシ樹脂の骨格などが好ましく、そ
れらの混合された骨格であってもまたそれらを二種以上
混合して使用してもよい。
潤滑性を有する原子団としては、具体例として下記のも
のがあげられる。
のがあげられる。
■）一般式ＲＣＯＯ−で示される飽和または不飽和炭化
水素基Ｒを有する原子団であり、その炭素数はｊ−Ｊ
Ｏ好ましくは／ ０．／ ｆであるもの。
水素基Ｒを有する原子団であり、その炭素数はｊ−Ｊ
Ｏ好ましくは／ ０．／ ｆであるもの。
旧一般式ＣＦａ（ＣＦｚ）ｎ −またはＣＦａＣＦＱ！
（ＣＦ２ｃｃｌ＞ ｎ−で示されるフッ素および／また
は塩素置換アルキル原子団であり、ｎはＣＦ３（ＣＦ２
）ｎ−の場合／〜１９−好ましくは≠〜り、ＣＦａＣＦ
ｃｌ、（ＣＦ２ＣＦＣ／りｎ−の場合０，９、好ましく
はｌ−弘のそれぞれ整数である。
（ＣＦ２ｃｃｌ＞ ｎ−で示されるフッ素および／また
は塩素置換アルキル原子団であり、ｎはＣＦ３（ＣＦ２
）ｎ−の場合／〜１９−好ましくは≠〜り、ＣＦａＣＦ
ｃｌ、（ＣＦ２ＣＦＣ／りｎ−の場合０，９、好ましく
はｌ−弘のそれぞれ整数である。
■）一般式Ｒ８ｉ＋０ｃＨ２ｃＨｚｓ ｉ＋ｎＯ−で示
される゛原子団であり、Ｒは炭素数／〜！、好ましくは
／〜３の飽和あるいは不飽和炭化水素基を、またｎけｉ
、ｉｏ、好ましくけλ〜乙の整数をそれぞれ示す。
される゛原子団であり、Ｒは炭素数／〜！、好ましくは
／〜３の飽和あるいは不飽和炭化水素基を、またｎけｉ
、ｉｏ、好ましくけλ〜乙の整数をそれぞれ示す。
上記原子団の数は該化合物の分子ｉ１’） ／ ０００
あたり７〜３０個であり、２〜λＯ個あることが好まし
く、３〜７５個あることがさらに好まし１０分子の主鎖
末端および側鎖の少なくとも一方に設けられるアクリル
酸またはメタクリル酸とのエステル結合の数は１分子量
１０θ０あたり／〜ＩＯ個、好ましくは１〜を個、さら
に好ましくはλ〜グ個である。
あたり７〜３０個であり、２〜λＯ個あることが好まし
く、３〜７５個あることがさらに好まし１０分子の主鎖
末端および側鎖の少なくとも一方に設けられるアクリル
酸またはメタクリル酸とのエステル結合の数は１分子量
１０θ０あたり／〜ＩＯ個、好ましくは１〜を個、さら
に好ましくはλ〜グ個である。
光源として通常使用される水銀灯の輝線スはクトルを生
ずる２ｊ≠、３／３．３Ａｊｎｍの波長において吸光係
数の比較的大なるものが好ましい。
ずる２ｊ≠、３／３．３Ａｊｎｍの波長において吸光係
数の比較的大なるものが好ましい。
その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン
、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール
、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケト
ン、ヒドロギシジメチルフェニルケトン、／−ヒドロキ
シシクロへキシルフェニルケトン、、２−２ジエトキシ
アセトフエノン。
、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール
、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケト
ン、ヒドロギシジメチルフェニルケトン、／−ヒドロキ
シシクロへキシルフェニルケトン、、２−２ジエトキシ
アセトフエノン。
Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり１種々の芳香族ケ
トンが使用できる。
トンが使用できる。
芳香族ケトンの混合比率は°、（１）で示した化合物ｉ
ｏｏ重量部に対し０．２〜２０重量部、好ましくは１〜
１５重量部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。
ｏｏ重量部に対し０．２〜２０重量部、好ましくは１〜
１５重量部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。
前記（ａ）および（ｂ）の化合物を混合して塗液を調製
する場合１種々の有機溶媒を必要に応じて使用できるが
、化合物（１）が常温で液体である場合、無溶媒でもよ
い。
する場合１種々の有機溶媒を必要に応じて使用できるが
、化合物（１）が常温で液体である場合、無溶媒でもよ
い。
使用できる有機溶媒としてはアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソヅチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系；メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノール等のアルコール系：酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
ーテル等のエステル系；エーテル、グリコールジメチル
エーテル。
トン、メチルイソヅチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系；メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノール等のアルコール系：酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
ーテル等のエステル系；エーテル、グリコールジメチル
エーテル。
クリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコ
ールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン等のタ
ール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチ
レンクロライド、四塩化炭素。
ールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン等のタ
ール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチ
レンクロライド、四塩化炭素。
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等があげらレル。
ゼン等があげらレル。
前記（ａ）および（ｂ）の化合物を倉有する塗液をフレ
キシブル磁気ディスクシートの中央円孔周縁に塗布する
際、その塗布量は２〜！Ｏｇ／ｍ２であり。
キシブル磁気ディスクシートの中央円孔周縁に塗布する
際、その塗布量は２〜！Ｏｇ／ｍ２であり。
！〜Ｊ０，９／ｍ２が好ましく、さらにｉｏ、、ｚ。
ｇ／ｒｒＬ２であることが好ましい。紫外線照射により
重合・硬化した後の塗布厚は／ −ｊ Ｏμ、好ましく
はｊ〜３０Ｂ、さらに好ましくはｌＯＮλＯμである。
重合・硬化した後の塗布厚は／ −ｊ Ｏμ、好ましく
はｊ〜３０Ｂ、さらに好ましくはｌＯＮλＯμである。
塗布量、シたがって厚みが上記の範囲より大のとき操作
中にいわゆるトラックずれが生じてくる。また小のとき
、十分な効果は望みえない。
中にいわゆるトラックずれが生じてくる。また小のとき
、十分な効果は望みえない。
以下に本発明を実施レリにより説明する。
第５図は本発明の実施例を示すものであり、フレキシブ
ル磁気シートＩＯの中央円孔１０ａの周縁にそって１表
裏両面に本発明による保護層の巾はＪｍｍとした。実施
例および比較例のそれぞれの組成を下記に示す。
ル磁気シートＩＯの中央円孔１０ａの周縁にそって１表
裏両面に本発明による保護層の巾はＪｍｍとした。実施
例および比較例のそれぞれの組成を下記に示す。
実施例１
６ミリステン酸変性ポリウレタン
実施例２
実施例３
比較例１
比較例２
保護層なし
上記組成による。塗液を調製シフ、フレキシブル磁気デ
ィスクシートの中央円孔周縁に塗布量が／ｒｇｙｍ２．
Ｌ、たがって塗厚が７３μとなるよう塗布後、ｇＯＷ／
ｃｍの高圧水銀灯により紫外線照射し重合・硬化させた
。
ィスクシートの中央円孔周縁に塗布量が／ｒｇｙｍ２．
Ｌ、たがって塗厚が７３μとなるよう塗布後、ｇＯＷ／
ｃｍの高圧水銀灯により紫外線照射し重合・硬化させた
。
前記実施例および比較例における上部および下部位置決
め部材との摩擦係数測定と、ディスクドライブへの装填
テストを、２ｊ０Ｃざ０ＩＲＨおよび４ｔ、ｏＯＣＩＯ
ａｌｒＲｌｌの二榮件下で結果を表に示す。
め部材との摩擦係数測定と、ディスクドライブへの装填
テストを、２ｊ０Ｃざ０ＩＲＨおよび４ｔ、ｏＯＣＩＯ
ａｌｒＲｌｌの二榮件下で結果を表に示す。
摩擦係数（μ値）の測定は、位置決め部材（コレット）
を磁気シート上で送り速度０ 、 ＩＨ／ｓｅｃで摩擦
［７，その際の付加荷重７０ｇ重として行なった。位置
決め部材（回転部）との間の摩擦係数に関しても同様に
測定を行なった。
を磁気シート上で送り速度０ 、 ＩＨ／ｓｅｃで摩擦
［７，その際の付加荷重７０ｇ重として行なった。位置
決め部材（回転部）との間の摩擦係数に関しても同様に
測定を行なった。
ディスクドライブへの装填テストに使用したドライブは
、Ｙ−Ｅデータ社製ＹＤ−２ざＯおよび３ｇｏ、松下通
工社製Ｊｋ７ｓｉおよびｓｔｉ。
、Ｙ−Ｅデータ社製ＹＤ−２ざＯおよび３ｇｏ、松下通
工社製Ｊｋ７ｓｉおよびｓｔｉ。
について不良の生じなかつ泥ものに○、ｌケ以上のドラ
イブで不良の生じたものには×を表示した。
イブで不良の生じたものには×を表示した。
比較例１では、ポリウレタンアクリレートと磁気記録媒
体調製の際通常使用される潤滑剤とを用い、芳香族ケト
ンの存在下に紫外線照射により。
体調製の際通常使用される潤滑剤とを用い、芳香族ケト
ンの存在下に紫外線照射により。
重合・硬化しているが、その結果は本発明の実施例のそ
れにくらべ摩擦係数が高く、装填テスト結果も劣る。、
また保ａ層なしの場合はｌ／−ＩＩ）までもなく劣る。
れにくらべ摩擦係数が高く、装填テスト結果も劣る。、
また保ａ層なしの場合はｌ／−ＩＩ）までもなく劣る。
これらの実施例より本発明による保護層が高温高湿下に
おいても摩擦係数を低く保持し。
おいても摩擦係数を低く保持し。
装填テストにおいても顕著な改良効果を示すことがわか
る。
る。
第１Ａ図は７レキシプル磁気デイスクの例を示す平面図
、 第１Ｂ図はその断面図。 第２図はフレキシブル磁気ディスクを装置の位置決め部
材に装填する状態を示す一部断面図。 第３図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図。 第１図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図。 第５図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図。 ／・・・ジャケット ／ａ・・・ジャケット開口２・・
・磁気シート 、２ａ・・・中央円孔３・・・位置決め
部材（回転部） ３ａ・・・円形四部 弘・・・位置決め部制（コレット） １０・・・磁気ノート１０Ｂ、・・・中央円孔／ｌ・・
・保護層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和ｊ♂年特願第１３３２り１号２、
発明の名称 フレキシブル（み気ディスク３、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 ４、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄、「
発明の詳細な説明」 の欄 ５、補正の内容 （１）明ａ誓の「特許請求の範囲」の項の記載を別紙の
通り補正する。 （２） 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下
記の通り補正する。 ／）本願明細誉第≠頁ｔ〜！行目の 「位置をされる」を 「位置に保持される」 と補正する。 コ）同瞥第７頁μ行目〜？行目の ［ちたはＣＦ’ ａ ＣＦＣ／！ （ＣＦ ２ ＣＦα
）。・・・・・・・・・・・・・・・整数をそれぞれ示
す。）」を 「ま１こはＣｐ３（ＣＸＹ） ｎ ＋ｆｃだしＸ、Ｙは
Ｈ，’Ｆ。 ａｌなどｎは／〜ｉｏの整数を示す。 ２ Ｙ２ （１こたし、Ｒは炭素数ｌ−ｊの飽和または不飽和炭化
水素基金、Ｘｌ、Ｘ２、Ｙ ｌｓ Ｙ２は１１、Ｆ１ａ
、ＣｍＨ２ｙｙ１−Ｈを、ｍは／−１の整数？、ｎは１
〜ＩＯの整数を示す。） １（′ （１ＧだしＩ（は夏１、ＣＨ３、α、ＯＨなど、Ｉ′Ｌ
′はＣ１１３又はＣａ ｌ−ｉ ５、ｎは０〜．！０（
好１しくは１−ＩＯ）の整数を示す。）」 と補正する。 ３）同■口頁？行目〜／９行目の １− ＣＦ ３ＣＦ（１，（ＣＰ ２ Ｃα）。−で示
される・・・・・・・・・・・・・・・整数をそれぞれ
ボす。」を ｒＣＦ３（ＣＸＹ）、、−で示される原子団である。こ
こでＸＸ１−Ｊ：Ｉ”および／又はＨ２Ｃ等である。 ｎはＵＦ３ｆ（、：Ｆ２）ｎ−の場合０− ／り、好ま
しくはμ〜り、ＵＦ３（ＣＸＹ） ｎ−の場合／−１０
゜好ましくは１〜グのそれぞれ整数である。 される原子団であり、Ｒは炭素数／〜ｊの飽和または不
飽和炭化水素基を、ＸＩＮ Ｘ２、Ｙ１％Ｙ２はＨ，Ｆ
ＸＣ６、ＣｍＨ２ｍ＋ｘｋ、ｍは／〜ｊの整数を、ｎけ
／〜１０好′ましくは！〜ｔの整数な示す。 Ｒ′ Ｒ′ 団でありＲはＨ，ＣＨ３、α、ＯＨ７ど、Ｉ（′Ｉｔ’
ｉ Ｃ１４３又はＣ６１−１ｓ、ｎばｏ−ｒｏ好ましく
は／−１０の整数を示す。」 と補正する。 ｔ）同替第１／ｆａｌＯ行目〜Ｉ／行目の「トラックず
れが生じてぐる。」を 「トラックず八が生じてくる恐れがあり、好ましくない
。」 と補正する。 ｊ）同７ノ２に／、２自／３有目の冥ｂｉｒｉ例３の鏝
に［実施例４ ２市加すＺ）。 ２）同−ｑ、紀／ｉｆ頁の表ケ次の如く補正する。 別紙 ２、特許請求の範囲 （１１フレキシブル磁気ディスクシートの中央円孔周縁
Ｖこ（ａ）分子の主鎖末端または側鎖の少なくとも一方
に潤滑性を有する原子団との結合を有し、かつ主鎖末端
および側鎖の少なくとも一方にアクリル酸せたはメタク
リル酸とのエステル結Ｕを有する化合物、および（ｂ）
芳香族ケトンを含有する保礁層を設けることを特徴とす
るフレキシブル磁気ディスク。 （２）前記潤滑性を有する原子団が、下記一般式Ｉ）、
ＩＩ）ま１こはＩｎ ）で示されるものであることを特
徴とする待Ｗ−［請求の範囲第７項記載のフレキシブル
０Ｒ気デイスク。 １１ ＲＣ（ＪＯ−（たソし、Ｒは炭素数ｊ−λＯであ
る飽和または不飽和 炭化水素基を示す。） ＩＩＩ ＣＦ３（ＣＦ’２）ｎ−ｆ７ｃＭし、ｎｌ”ｌ
’Ｏ−／りの幣数奮示す。） ＦＸｃ／！、などｎはｌ、ｔｏの軒数を示す。）（ただ
し、Ｒは炭素数７〜ｊの飽和または不整数ｆ、ｎは／〜
１０の整数伊示す。）Ｒ′ （ただしＲｌｄＨ，、ＣＨａ、α、ＵＩ］など、Ｒ′ば
Ｃ１１３又はＣ６Ｈ５、ｎＶｉＯ−；２０ノ整数を示す
。）
、 第１Ｂ図はその断面図。 第２図はフレキシブル磁気ディスクを装置の位置決め部
材に装填する状態を示す一部断面図。 第３図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図。 第１図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図。 第５図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図。 ／・・・ジャケット ／ａ・・・ジャケット開口２・・
・磁気シート 、２ａ・・・中央円孔３・・・位置決め
部材（回転部） ３ａ・・・円形四部 弘・・・位置決め部制（コレット） １０・・・磁気ノート１０Ｂ、・・・中央円孔／ｌ・・
・保護層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和ｊ♂年特願第１３３２り１号２、
発明の名称 フレキシブル（み気ディスク３、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 ４、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄、「
発明の詳細な説明」 の欄 ５、補正の内容 （１）明ａ誓の「特許請求の範囲」の項の記載を別紙の
通り補正する。 （２） 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下
記の通り補正する。 ／）本願明細誉第≠頁ｔ〜！行目の 「位置をされる」を 「位置に保持される」 と補正する。 コ）同瞥第７頁μ行目〜？行目の ［ちたはＣＦ’ ａ ＣＦＣ／！ （ＣＦ ２ ＣＦα
）。・・・・・・・・・・・・・・・整数をそれぞれ示
す。）」を 「ま１こはＣｐ３（ＣＸＹ） ｎ ＋ｆｃだしＸ、Ｙは
Ｈ，’Ｆ。 ａｌなどｎは／〜ｉｏの整数を示す。 ２ Ｙ２ （１こたし、Ｒは炭素数ｌ−ｊの飽和または不飽和炭化
水素基金、Ｘｌ、Ｘ２、Ｙ ｌｓ Ｙ２は１１、Ｆ１ａ
、ＣｍＨ２ｙｙ１−Ｈを、ｍは／−１の整数？、ｎは１
〜ＩＯの整数を示す。） １（′ （１ＧだしＩ（は夏１、ＣＨ３、α、ＯＨなど、Ｉ′Ｌ
′はＣ１１３又はＣａ ｌ−ｉ ５、ｎは０〜．！０（
好１しくは１−ＩＯ）の整数を示す。）」 と補正する。 ３）同■口頁？行目〜／９行目の １− ＣＦ ３ＣＦ（１，（ＣＰ ２ Ｃα）。−で示
される・・・・・・・・・・・・・・・整数をそれぞれ
ボす。」を ｒＣＦ３（ＣＸＹ）、、−で示される原子団である。こ
こでＸＸ１−Ｊ：Ｉ”および／又はＨ２Ｃ等である。 ｎはＵＦ３ｆ（、：Ｆ２）ｎ−の場合０− ／り、好ま
しくはμ〜り、ＵＦ３（ＣＸＹ） ｎ−の場合／−１０
゜好ましくは１〜グのそれぞれ整数である。 される原子団であり、Ｒは炭素数／〜ｊの飽和または不
飽和炭化水素基を、ＸＩＮ Ｘ２、Ｙ１％Ｙ２はＨ，Ｆ
ＸＣ６、ＣｍＨ２ｍ＋ｘｋ、ｍは／〜ｊの整数を、ｎけ
／〜１０好′ましくは！〜ｔの整数な示す。 Ｒ′ Ｒ′ 団でありＲはＨ，ＣＨ３、α、ＯＨ７ど、Ｉ（′Ｉｔ’
ｉ Ｃ１４３又はＣ６１−１ｓ、ｎばｏ−ｒｏ好ましく
は／−１０の整数を示す。」 と補正する。 ｔ）同替第１／ｆａｌＯ行目〜Ｉ／行目の「トラックず
れが生じてぐる。」を 「トラックず八が生じてくる恐れがあり、好ましくない
。」 と補正する。 ｊ）同７ノ２に／、２自／３有目の冥ｂｉｒｉ例３の鏝
に［実施例４ ２市加すＺ）。 ２）同−ｑ、紀／ｉｆ頁の表ケ次の如く補正する。 別紙 ２、特許請求の範囲 （１１フレキシブル磁気ディスクシートの中央円孔周縁
Ｖこ（ａ）分子の主鎖末端または側鎖の少なくとも一方
に潤滑性を有する原子団との結合を有し、かつ主鎖末端
および側鎖の少なくとも一方にアクリル酸せたはメタク
リル酸とのエステル結Ｕを有する化合物、および（ｂ）
芳香族ケトンを含有する保礁層を設けることを特徴とす
るフレキシブル磁気ディスク。 （２）前記潤滑性を有する原子団が、下記一般式Ｉ）、
ＩＩ）ま１こはＩｎ ）で示されるものであることを特
徴とする待Ｗ−［請求の範囲第７項記載のフレキシブル
０Ｒ気デイスク。 １１ ＲＣ（ＪＯ−（たソし、Ｒは炭素数ｊ−λＯであ
る飽和または不飽和 炭化水素基を示す。） ＩＩＩ ＣＦ３（ＣＦ’２）ｎ−ｆ７ｃＭし、ｎｌ”ｌ
’Ｏ−／りの幣数奮示す。） ＦＸｃ／！、などｎはｌ、ｔｏの軒数を示す。）（ただ
し、Ｒは炭素数７〜ｊの飽和または不整数ｆ、ｎは／〜
１０の整数伊示す。）Ｒ′ （ただしＲｌｄＨ，、ＣＨａ、α、ＵＩ］など、Ｒ′ば
Ｃ１１３又はＣ６Ｈ５、ｎＶｉＯ−；２０ノ整数を示す
。）
Claims (2)
- （１）フレキシブル磁気ディスクシートの中央円孔周縁
に（ａ）分子の主鎖末端または側鎖の少なくとも一方に
潤滑性を有する原子団との結合を有し。 かつ主鎖末端および側鎖の少なくとも一方にアクリル酸
またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合物、
およびｆｂ）芳香族ケトンを含有する保護層を設けるこ
とを特徴とするフレキシブル磁気ディスク。 - （２）前記潤滑性を有する原子団が、下記一般式Ｉ）、
ＩＩ）ｔたば■）で示されるものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のフレキシブル磁気ディス
ク。 Ｉ）ＲＣＯＯ−（たｙし、Ｒは炭素数ｊ−λＯである飽
和または不飽和 炭化水素基を示す。） 旧ＣＦ３（ＣＦ２）ｎ （たＭｌ、−ｎは０ 、 ／り
の整数を示す。） またはＣＦ ３ ｃｐｃｌ（ＣＦ ２ ＣＰＵ）ｎ−（
たソし、ｎはＯ〜りの整数を示す。）ｍｌ）Ｒ８ｉ＋０
ＣＨ２ＣＨｚＳｉ＋ｎ０−（たｙし、Ｒは炭素数／、Ｊ
ｔの飽和または不飽和炭化水素基を、ｎは／−１０の整
数をそれぞれ示す。）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58133291A JPS6025074A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | フレキシブル磁気デイスク |
| DE19843426657 DE3426657A1 (de) | 1983-07-21 | 1984-07-19 | Biegsame magnetscheibenplatte |
| US06/633,560 US4578299A (en) | 1983-07-21 | 1984-07-23 | Flexible magnetic disk sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58133291A JPS6025074A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | フレキシブル磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6025074A true JPS6025074A (ja) | 1985-02-07 |
Family
ID=15101214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58133291A Pending JPS6025074A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | フレキシブル磁気デイスク |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4578299A (ja) |
| JP (1) | JPS6025074A (ja) |
| DE (1) | DE3426657A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0220652A2 (en) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing phase gratings of a combination pattern-refraction modification type |
| JPH0250376A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-20 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスク装置 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS6080132A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク保護層の形成方法 |
| JPS60109031A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気ディスク |
| JPS60111340A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| US4707392A (en) * | 1984-02-29 | 1987-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flexible magnetic disk |
| US4759991A (en) * | 1984-03-06 | 1988-07-26 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
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| US5085911A (en) * | 1989-06-13 | 1992-02-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flexible magnetic disc with a two layer protective coating which top layer is a ultra violet radiation cured compound with specified elasticity modulus |
| JP2687245B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1997-12-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| KR0138251B1 (ko) * | 1991-02-05 | 1998-05-15 | 다니이 아끼오 | 자기기록매체 및 그 제조방법 |
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| US6379801B1 (en) | 1998-12-07 | 2002-04-30 | Seagate Technology, Llc | Silane derivatized lubricants for magnetic recording media |
| JP2003162879A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ディスク状磁気記録媒体 |
| JP2004310851A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Canon Inc | 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び情報処理装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3466156A (en) * | 1966-12-01 | 1969-09-09 | Ncr Co | Magnetic record members |
| JPS4815009B1 (ja) * | 1969-11-26 | 1973-05-11 | ||
| US4239828A (en) * | 1976-03-29 | 1980-12-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Self-lubricating magnetic recording diskette |
| JPS5625232A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-11 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS56159838A (en) * | 1980-05-12 | 1981-12-09 | Tokyo Jiki Insatsu Kk | Magnetic recording medium |
| JPS578926A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording body |
| JPS5715231A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-26 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| US4387114A (en) * | 1980-11-20 | 1983-06-07 | Verbatim Corporation | Spindle aperture reinforcement for a floppy disk |
| US4404247A (en) * | 1982-07-02 | 1983-09-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective covering for magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP58133291A patent/JPS6025074A/ja active Pending
-
1984
- 1984-07-19 DE DE19843426657 patent/DE3426657A1/de not_active Withdrawn
- 1984-07-23 US US06/633,560 patent/US4578299A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0220652A2 (en) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing phase gratings of a combination pattern-refraction modification type |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3426657A1 (de) | 1985-02-21 |
| US4578299A (en) | 1986-03-25 |
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