JPS60246011A - Magnetic head - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To improve a magnetic characteristic and durability by uniting and joining core halves made of an amorphous magnetic alloy between thin copper or copper alloy films via a gap material sandwiching a glass film thereby forming a secure magnetic gap which obviates cracking and peeling. CONSTITUTION:The thin film 12 consisting of copper or an alloy of copper and Ni, Ti, Zn, etc. and the thin glass film 13 consisting of PbO-B2O3 and having 500-700 deg.C softening point are formed in this order on the butt surfaces of the respective C-shaped and I- shaped core halves 11, 11 made of the amorphous magnetic alloy. The thickness of the film 12 is made about 0.05-2mu and the thickness of the film 13 about 0.1-1mu. The core halves 11, 11 are butted to each other and glass grains 14 of PbO-B2O3 having 300-500 deg.C softening point are imposed on the gap 15 part, then the grains 14 and the layer 13 are heated to the softening point or above to unite and join the core halves and the films, by which a magnetic head is obtd. The films 12, 13 and the core halves 11 have nearly the same coefft. of thermal expansion. The film 12 absorbs the stress of the film 13 and the film 12 with the small specific resistance thereof sharpens the leak magnetic field from the magnetic gap 15, thereby improving an overwrite characteristic, etc. as well. The deterioration of the reproduction efficiency, etc. are thus obviated.

Description

【発明の詳細な説明】 ■、技術分野 本発明は、磁気ヘッド、特に非晶質磁性合金を用いたフ
ロピーディスク等、デジタル記録に用いるナローギャッ
プ型の磁気ヘッドに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (1) Technical Field The present invention relates to a magnetic head, particularly a narrow gap type magnetic head used for digital recording such as a floppy disk using an amorphous magnetic alloy.

ＩＩ　、先行技術 近年、情報機器の性能の向上とＯＡ化が進むなかで記憶
媒体の一つであるフロッピーディスクの高性能化と小型
化が望まれている。II. Prior Art In recent years, as the performance of information equipment has improved and the use of OA has progressed, there has been a desire for higher performance and smaller size of floppy disks, which are one of the storage media.

スフから更に小型化された５、２５インチのフロピーデ
ィスクが開発されてきた。5- and 25-inch floppy disks, which are even smaller than the Sufu disk, have been developed.

また、最近更に小型化し、記憶容量も８インチフロッピ
ーディスクと同容量の３．５インチのマイクロフロッピ
ーディスク（ＭＦＤ）が実用化に向けて開発されている
。Recently, a 3.5-inch microfloppy disk (MFD), which is even smaller and has the same storage capacity as an 8-inch floppy disk, has been developed for practical use.

このように小型化し、かつ大記憶容量をもったフロッピ
ーディスクを実現するには、高密度記録を実現しなけれ
ばならない。　高密度記録を実現するには、記録媒体と
磁気ヘッドとに関して新たな特性が要求される。In order to realize such a compact floppy disk with a large storage capacity, it is necessary to realize high-density recording. In order to realize high-density recording, new characteristics are required for the recording medium and the magnetic head.

記録媒体では性能向上の１つとして高保磁力の磁性材料
の開発が必要になっている。In order to improve the performance of recording media, it is necessary to develop magnetic materials with high coercive force.

磁気ヘッドにも新たに特性の向」二が要求される。　従
来フロッピーディスク用の磁気ヘットは、フロッピーデ
ィスクの実用化の初期の段階では磁気ヘッド用コア材に
パーマロイが使用されていた。Magnetic heads are also required to have new characteristics. Conventional magnetic heads for floppy disks used permalloy as the core material for the magnetic head in the early stages of practical use of floppy disks.

しかし、パーマロイでは種々の問題がある。However, permalloy has various problems.

例えば、フロッピーヘッドの使用周波数帯域（１２５Ｋ
）１２〜２５Ｃ）Ｋ）ＩＺ）とオーディオヘッドの使用
周波数帯域（２０ＫＨ２以下）を比較すると、フロッピ
ーヘッドの使用周波数帯域は高周波数の帯域である。　
しかし、パーマロイは比抵抗が５０〜１５０ｐＬΩＣＩ
ｌと小さいので高周波帯域での実効透磁率は急激に減少
し、再生出力、Ｓ／Ｎ比、分解能等の磁気特性が悪くな
る。For example, the frequency band used by the floppy head (125K
) 12 to 25C) K) IZ) and the frequency band used by the audio head (20KH2 or less), the frequency band used by the floppy head is a high frequency band.
However, permalloy has a specific resistance of 50 to 150 pLΩCI
1, the effective magnetic permeability in the high frequency band rapidly decreases, and magnetic properties such as reproduction output, S/N ratio, and resolution deteriorate.

他方、同じく多用されているフェライトは比抵抗ｌＸ１
０６ルΩＣｌ１１と大きく、しかも磁気ギャップもガラ
ス溶着法を用いるので強固な狭磁気キャップが製造でき
る。　したがって最近ではフロッピー用磁気ヘッドのコ
ア材はフェライトが主に使用されている。　そして、高
密度記録は、磁気ヘッドのコア材にフェライトを用いる
ことによって、ある水準までは達成することかできる。On the other hand, ferrite, which is also widely used, has a specific resistance of lX1
Since the magnetic gap is as large as 0.06 ΩCl11 and the glass welding method is used, a strong narrow magnetic cap can be manufactured. Therefore, recently, ferrite has been mainly used as the core material of magnetic heads for floppies. High-density recording can be achieved up to a certain level by using ferrite as the core material of the magnetic head.

　ところで、さらに高密度記録を達成するためには、磁
気記録媒体であるフロッピーディスクの保磁力（Ｈｅ）
は、初期の頃のＨｃ＝２７０　０ｅ　（磁性体としてΩ
−Ｆｅ２０３を使用）から、高保磁力の記録媒体（磁性
体としてＧＯをドープしたＧＯ−Ω−Ｆｅ　２０３を使
用）のＨｃ＝６３００ｅに移行している。　そして、さ
らに合金粉を磁性体としだ高保磁力の記録媒体では、Ｈ
ｃ＝１３０００ｅに至っている。By the way, in order to achieve even higher density recording, the coercive force (He) of the floppy disk, which is a magnetic recording medium, has to be improved.
is Hc=270 0e (Ω as a magnetic material) at the early stage.
-Fe203) to Hc=6300e of a high coercivity recording medium (using GO-Ω-Fe203 doped with GO as the magnetic material). Furthermore, in recording media with high coercive force using alloy powder as a magnetic material, H
c=13000e.

従って、磁気ヘッド用コア材は、このような高保磁力記
録媒体に記録するために、高飽和磁束密度をもち、かつ
高周波数帯域において実効透磁率が減少しない材料の開
発が必要になってきた。Therefore, in order to record on such a high coercive force recording medium, it has become necessary to develop a core material for a magnetic head that has a high saturation magnetic flux density and whose effective magnetic permeability does not decrease in a high frequency band.

このため、磁気ヘッド用コア材として、センダストと非
晶質合金とが注目されている。　これらの材料はフェラ
イトと比較すると、飽和磁束密度も大きいので、高保磁
力記録媒体への記録も可能になり注目されている。For this reason, sendust and amorphous alloys are attracting attention as core materials for magnetic heads. Since these materials have a higher saturation magnetic flux density than ferrite, they are attracting attention because they enable recording on high coercive force recording media.

しかし磁気ヘッドの問題はコアの材質の磁気特性だけの
問題でなく、信頼性の点から強固なナローキャップを有
する磁気ヘッドのギャップ製造法の確立も必要である。However, the problem with magnetic heads is not only the magnetic properties of the core material, but also the establishment of a gap manufacturing method for magnetic heads with strong narrow caps from the viewpoint of reliability.

Ｈされているが、非晶質合金の場合には結晶化温度が低
いので一定温度以」−の処理ができない。　特願昭５５
−１１０２４１号のように２．３の磁気ギャップの製造
方法に関する提案もあるが未だ十分な解決をみるには、
至っていない。However, since the crystallization temperature of an amorphous alloy is low, it cannot be processed above a certain temperature. Special request 1977
Although there are proposals for manufacturing methods for magnetic gaps of 2.3 as in No. 110241, there is still no satisfactory solution.
Not yet reached.

ナローキャップで高磁束密゛度の磁気ヘッドを実現する
際には、作製時の性能とともに経時的な劣化が問題にな
る。When realizing a magnetic head with a high magnetic flux density using a narrow cap, problems arise not only in performance during manufacture but also in deterioration over time.

すなわち、コア材とギャップ材との相対的な温度特性、
接着性または固着性、残留応力等に依って電磁変換特性
が経時的に劣化する。In other words, the relative temperature characteristics of the core material and gap material,
Electromagnetic conversion characteristics deteriorate over time due to adhesion or stickiness, residual stress, etc.

例えば、特にギャップ長の安定度と関係のある、オーバ
ライド（重ね書き）特性に大きな問題があった。For example, there have been major problems with override characteristics, particularly related to gap length stability.

■９発明の具体的目的 本発明は前記の問題を解決するために非晶質合金を用い
た磁気ヘッドにおいて、狭いギャップ長の強固゛な磁気
キャップを有し、しかも長時間使用しても磁気ギャップ
が変形せず、したがって磁気特性、特にオーバーライド
特性が経時的に劣化しない磁気ヘットを提供することを
１−目的とする。■9 Specific Purpose of the Invention In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a magnetic head using an amorphous alloy, which has a strong magnetic cap with a narrow gap length, and which maintains the magnetic field even after long-term use. It is an object of the present invention to provide a magnetic head in which the gap does not deform and therefore the magnetic properties, especially the override properties, do not deteriorate over time.

このような目的は、下記の本発明によって達成される。Such objects are achieved by the invention described below.

すなわち本発明は、非晶質磁性合金からなるコア半休を
ギャップ材を介してつきあわせてなる磁気ヘッドにおい
て、ギャップ材がコア半休に被着された銅または銅合金
薄膜と、この銅または銅合金薄膜間にはさまれたガラス
膜からなることを特徴とする磁気ヘッドである。That is, the present invention provides a magnetic head in which core halves made of an amorphous magnetic alloy are brought into contact with each other via a gap material. This magnetic head is characterized by consisting of a glass film sandwiched between thin films.

■１発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。■1 Specific structure of the invention Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の磁気ヘッドにおけるコアは１通常。The magnetic head of the present invention usually has one core.

非晶質磁性合金の薄板から形成される。It is formed from a thin sheet of amorphous magnetic alloy.

非晶質磁性合金をコア材として用いるときには、コアと
しての特性が良好で、またきわめて長期にわたる使用に
よって、ダミーブロックとコアとの摩耗量に差が生じず
、ヘッドの媒体摺接面の摩耗が少なく１周波数特性や出
力レベル変動が少ない点で、良好な結果を得る。When an amorphous magnetic alloy is used as a core material, it has good properties as a core, and even after extremely long use, there is no difference in the amount of wear between the dummy block and the core, and the wear on the media sliding surface of the head is reduced. Good results can be obtained in terms of fewer single frequency characteristics and fewer output level fluctuations.

コア材として、非晶質磁性合金薄板を用いる場合、その
組成としては、磁気ヘッドのコア用のものとして知られ
ている種々の組成であってもよいが、特に飽和磁束密度
Ｂｓが高く、高保磁力磁気記録媒体に好適であるという
点で、Ｆｅ、Ｇｏ、ＳｉおよびＢを主体とするもの、特
に下記式［Ｉ］で示される組成であることが好ましい。When an amorphous magnetic alloy thin plate is used as the core material, its composition may be of various compositions known for use in cores of magnetic heads, but in particular those with a high saturation magnetic flux density Bs and high retention. It is preferable to use a composition mainly composed of Fe, Go, Si and B, particularly a composition represented by the following formula [I], since it is suitable for a magnetomagnetic recording medium.

式［Ｉ］　Ｔ　Ｘ Ｙ 上記式［Ｉ］中においてＴはＦｅおよびＣｏ、またはＦ
ｅおよびＣｏと他の遷移金属元素の１種以上との組合せ
を表す。Formula [I] T X Y In the above formula [I], T is Fe and Co, or F
Represents a combination of e and Co with one or more other transition metal elements.

この場合、必要に応じ、ＦｅおよびＣＯとともに組合せ
添加される他の添加元素は、ＦｅおよびＣＯ以外の他の
遷移金属元素（Ｓｃ−Ｚｎ；Ｙ−Ｃｄ；Ｌａ−Ｈｇ；Ａ
ｃ以上）であり、例えばＮｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ　、　Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｒｈ　
、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ等の１種以上をその具体例
として挙げることができる。In this case, if necessary, other additive elements added in combination with Fe and CO include transition metal elements other than Fe and CO (Sc-Zn; Y-Cd; La-Hg;
c or more), such as Ni, Ti, Zr, Hf, V,
Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Ru, Rh
, Pd, Os, Ir, Pt, etc. can be mentioned as specific examples.

一方、Ｘは、Ｂ、ＳｉおよびＢ、またはＢもしくはＳｉ
およびＢと他のガラス化元素の１種以上との組合せを表
す。On the other hand, X is B, Si and B, or B or Si
and represents a combination of B and one or more other vitrifying elements.

この場合、必要に応じ、ＢまたはＳｉおよびＢとともに
組合せ添加される他のガラス化元素の例としては、Ｐ、
Ｃ，Ｇｅ、Ｓｎ、ＡＩ等の１種以上を挙げることができ
る。In this case, examples of other vitrifying elements that may be added in combination with B or Si and B include P,
One or more of C, Ge, Sn, AI, etc. can be mentioned.

他方、上記式［１］において、Ｘ十ｙ＝１００ａｔ％で
あり、ｙは２０〜２７ａｔ％である。　すなわち、Ｆｅ
およびＣｏを必須成分とする遷移金属元素成分量Ｘは７
３〜８０ａｔ％であり、ＢまたはＳｉおよびＢを必須成
分とするガラス化元素成分量ｙは２０〜２７ａｔ％であ
る。　ｙが２０ａｔ％未満となると、非晶質化が困難と
なり、また、２７ａｔ％を越えると残留磁束密度Ｂｓが
減少してしまう。On the other hand, in the above formula [1], X0y=100 at%, and y is 20 to 27 at%. That is, Fe
and the transition metal element content X with Co as an essential component is 7
The vitrification element component amount y containing B or Si and B as essential components is 3 to 80 at%, and is 20 to 27 at%. When y is less than 20 at%, it becomes difficult to make it amorphous, and when it exceeds 27 at%, the residual magnetic flux density Bs decreases.

さらに、遷移金属元素成分中の必須成分ＦｅおよびＣｏ
の含有量は、それぞれＦ−ｅ；１．５〜５．６ａｔ％お
よび、Ｃｏ；４５〜７８．５ａｔ％である。　Ｆｅ含有
量が１．５ａｔ％未満（Ｃｏ含有量が７８．５ａｔ％よ
り犬）、あるいは５．６ａｔ％を超えると、磁歪が大き
なものとなってしまい、また透磁率が減少する。Furthermore, essential components Fe and Co in the transition metal element components
The content of Fe is 1.5 to 5.6 at% and Co is 45 to 78.5 at%, respectively. If the Fe content is less than 1.5 at% (Co content is lower than 78.5 at%) or exceeds 5.6 at%, magnetostriction becomes large and magnetic permeability decreases.

Ｃｏが４５ａｔ％未満となるとＢｓが減少してしまう。When Co is less than 45 at%, Bs decreases.

この場合、−１−温式Ｎ］において、Ｔは」−記含有Ｊ
が範囲内にて、ＦｅおよびＣｏのみがらなっても、Ｆｅ
とＣｏと」−記した他の添加元素の１挿具にとからなっ
てもよい。In this case, in the -1-temperature N], T is "-" containing J
is within the range, even if it consists only of Fe and Co, Fe
, Co, and one of the other additive elements mentioned.

ＴがＦｅとＣｏのみからなる場合、Ｆｅ含右・′ｆ：は
、１．５〜５．６ａｔ％、より好ましくは２〜５．５ａ
ｔ％、Ｃｏ含有着は、６７．４〜７８．５ａｔ％、より
好ましくは６７．５〜７８ａｔ％である。When T consists only of Fe and Co, the Fe content is 1.5 to 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%.
t%, Co content is 67.4 to 78.5 at%, more preferably 67.5 to 78 at%.

ＴかＦｅおよびＣｏに加え、他の元素の１種以上を含む
場合、他の遷移金属元素の１種以上は、通常、総計最大
２５ａｔ％まで含有することかできる。　これ以上の含
有量となると、Ｂｓが低下し、表面性が悪くなる等の不
都合が牛Ｉ。When one or more other elements are included in addition to T, Fe, and Co, one or more of the other transition metal elements can usually be contained up to a total of 25 at %. If the content is higher than this, there will be disadvantages such as decreased Bs and poor surface quality.

る。Ru.

このような元素の１例としてｊｆＮｉがある。An example of such an element is jfNi.

Ｎｉ話加は、Ｃｏを置換して、材料コストを低減する等
の効果があるが、Ｎｉ量が増大するどＢｓが減少するの
で、Ｎｉ含有量は、好ましくは８ａｔ％以下である。Adding Ni has the effect of reducing material costs by replacing Co, but as the amount of Ni increases, Bs decreases, so the Ni content is preferably 8 at% or less.

一方、他の元素の１挿具」−としては、鉄族（Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ）以外の遷移金属元素であってよいが、鉄族以
外の遷移金属元素の１挿具−には、総計１２ａｔ％以下
であることが好ましい。　このとき、Ｂｓの低下は少な
く、各添加元素特有のすぐれた効果が実現する。On the other hand, other elements of the iron group (Fe, C
Although the transition metal elements other than iron group metal elements may be used, it is preferable that the total amount of transition metal elements other than the iron group is 12 at % or less. At this time, the decrease in Bs is small, and excellent effects unique to each additive element are realized.

このような元素としては、特に、Ｒｕおよび／またはＣ
ｒが好ましい。Such elements include, in particular, Ru and/or C
r is preferred.

特に、０，５〜８ａｔ％のＲｕを添加すると、耐摩耗性
が向−卜し、表面性や打抜加工性等が向」ニする。In particular, when 0.5 to 8 at% of Ru is added, wear resistance is improved, and surface properties, punching workability, etc. are improved.

また、１〜８ａｔ％のＣｒを添加すると、耐食性か向−
１−する。Additionally, adding 1 to 8 at% Cr improves corrosion resistance.
1- Do.

そして、０．５−８ａｔ％のＲｕと、１〜８ａｔ％、特
に２〜６ａｔ％のＣｒを併用添加すると、これらの効果
はさらに向上し、より好ましい結果を得る。When 0.5-8 at% Ru and 1-8 at%, especially 2-6 at% Cr are added together, these effects are further improved and more favorable results are obtained.

さらに、これらＲｕ、Ｃｒ、Ｎｉ等に加え、Ｔａ、Ｔ１
．Ｗ、ＭＯ等の１種以上を含有させることもできる。Furthermore, in addition to these Ru, Cr, Ni, etc., Ta, T1
．． It is also possible to contain one or more of W, MO, and the like.

なお、このようにＦｅ、Ｃｏ以外の他の遷移金属元素を
含有させる場合、これらの総計は２０ａｔ％以下となり
、Ｃｏ含有量が４７．４〜７８．５ａｔ％、より好まし
くは４７．５〜７８ａｔ％、またＦｅ含有量が１．５〜
５．６ａｔ％、よりりｆましくは、２〜５．５ａｔ％と
なることが好ましい。In addition, when containing transition metal elements other than Fe and Co in this way, the total of these becomes 20 at% or less, and the Co content is 47.4 to 78.5 at%, more preferably 47.5 to 78 at%. %, and the Fe content is 1.5~
The content is preferably 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%.

これに対し、ガラス化元素成分Ｘは、ＢまたはＳｉおよ
びＢを必須成分とする。On the other hand, the vitrification element component X has B or Si and B as essential components.

この場合、Ｂ含有量が３．３〜２７ａｔ％、Ｓ１含有量
か（１〜１６．２ａｔ％となると、Ｂｓが高くなり、薄
板の表面性が向」ニし、好ましい結果を得る。In this case, when the B content is 3.3 to 27 at% and the S1 content is 1 to 16.2 at%, Bs becomes high and the surface properties of the thin plate improve, yielding favorable results.

そして、Ｂ含有量が１４．１〜２６，９ａｔ％、Ｓｉ含
有部が０　、１−５　、４．ａｔ％となると、Ｂｓがさ
らに高くなり、表面性もさらに向」−シ、さらに、Ｒｕ
、Ｃｒ等の添加元素の添加効果も顕著となり、より好ま
しい結果を得る。The B content is 14.1 to 26.9 at%, and the Si content is 0, 1-5, 4. At%, the Bs becomes higher and the surface properties are further improved.
The effect of adding additional elements such as , Cr, etc. becomes significant, and more favorable results are obtained.

なお、ガラス化元素成分Ｘ中には、必要に応じ−、Ｓｊ
およびＢ以外の他の元素の１挿具」−が含まれていても
よい。　ただ、その総計が０．５ａｔ％を超えると非晶
質化しにくくなるので、その含有量−は０．５ａｔ％以
丁であることか好ましい。In addition, in the vitrification element component X, -, Sj
and one insert of another element other than B may be included. However, if the total amount exceeds 0.5 at%, it becomes difficult to become amorphous, so it is preferable that the content is at least 0.5 at%.

以上詳述したような組成をもつ合金１゛１与板は、実質
的に長範囲規則性をもたない非晶質体である。Alloy 1/1 plate having the composition as detailed above is an amorphous body having substantially no long-range regularity.

又、板厚は、概ね、１０〜２００−！ｖ度である。Also, the plate thickness is generally 10 to 200-! It is v degrees.

このような非晶質磁性合金薄板は、公知の高速急冷性に
従い製造される。Such an amorphous magnetic alloy thin plate is manufactured according to a known high-speed quenching method.

すなわち、対応する組成の合金を、気相または液相から
超急冷する。　この場合、通常、は、合金を融液となし
、液相から１０４°Ｃ／ｓｅｃ以上、通常１０４〜１０
６°Ｃ／ｓｅｃノ冷却速度で超急冷し、固化させること
によって非晶質磁性合金薄板を得る。　溶融状態の合金
を超急冷するには、溶融合金をノズルから噴射させ、双
ロール法、片ロール法、遠心急冷法等公知の種々の方式
、就中片ロール法に従い急冷すればよい。That is, an alloy of a corresponding composition is ultra-quenched from the gas phase or liquid phase. In this case, the alloy is usually made into a melt, and the temperature is 104°C/sec or more from the liquid phase, usually 104 to 10°C.
An amorphous magnetic alloy thin plate is obtained by ultra-quenching and solidifying at a cooling rate of 6°C/sec. In order to super-quench a molten alloy, the molten alloy may be injected from a nozzle and quenched according to various known methods such as a twin roll method, a single roll method, and a centrifugal quenching method, particularly a single roll method.

このような非晶質磁性合金薄板は、それを好ましくは絶
縁性接着剤層を介して積層して、所望の形状のコア半休
とされ、これを後述のように突き合わせて磁気ヘッド、
特にフロッピーディスク用、ビデオ映像用等の磁気ヘッ
ドとされる。　あるいは、薄板を積層せず、薄板自体を
所望の形状のコア半休となし、このコア半休を突き合わ
せて磁気ヘッド用、特にフロッピー用、ビデオ用等の磁
気へラド用とされる。Such amorphous magnetic alloy thin plates are preferably laminated with an insulating adhesive layer interposed therebetween to form core halves of a desired shape, and these are butted together as described below to form a magnetic head.
In particular, it is used as a magnetic head for floppy disks, video images, etc. Alternatively, the thin plates are not laminated, but the thin plates themselves are formed into core halves of a desired shape, and the core halves are brought together to form a magnetic head, especially a magnetic head for floppies, videos, and the like.

このような磁気へ一２ド用コア半休は、通常以下のよう
にして作製される。Such a magnetic core half-hole is usually manufactured as follows.

まず、好ましくは、超急冷法によって得られた薄板に対
し、所定の熱処理を施す。　この熱処理としては、例え
ば、結晶化温度未満、キュリ一点以上の温度で施す無磁
場中での、特に内部歪取りを目的とする焼鈍処理でもよ
く、又、結晶化温度およびキュリ一点未満の温度で行う
、歪取りと磁気特性の改良を目的とする磁場中での焼鈍
処理であってもよい。　そして、この後者の磁場中での
焼鈍処理としては、静磁場、回転磁場等にいずれを用い
てもよい。　これら焼鈍熱処理およびその条件は、非晶
質磁性合金の組成と所、望の磁気特性とから、適宜選択
して行えばよい。First, preferably, a predetermined heat treatment is performed on a thin plate obtained by an ultra-quenching method. This heat treatment may be, for example, annealing in a non-magnetic field at a temperature below the crystallization temperature and above the Curie point, especially for the purpose of eliminating internal strain, or annealing at a temperature below the crystallization temperature and the Curie point or above. It may also be annealing treatment in a magnetic field for the purpose of removing strain and improving magnetic properties. As for the latter annealing treatment in a magnetic field, either a static magnetic field, a rotating magnetic field, or the like may be used. These annealing heat treatments and their conditions may be appropriately selected depending on the composition and location of the amorphous magnetic alloy and the desired magnetic properties.

次いで、通常は、このような非晶質磁性合金薄板を金型
により打抜き、所定の形状となし、一般に、その複数枚
を絶縁性接着剤により所定トラック巾となるよう積層し
て、コア半休を作製する。Next, such an amorphous magnetic alloy thin plate is usually punched into a predetermined shape using a die, and generally, a plurality of the sheets are laminated with an insulating adhesive so as to have a predetermined track width, and the core is semi-circumscribed. Create.

なお、コア７１′、体１１は、第１図、第２図に示され
るような１字状、Ｃ字状等公知の種々の形状とすればよ
い。Incidentally, the core 71' and the body 11 may have various known shapes such as a single-shape or a C-shape as shown in FIGS. 1 and 2.

次いで、これらコア半休は、以下のようなキャップ材を
介してつきあわされる。Next, these core halves are held together via a cap material as described below.

すなわち、まず第１図、第２図に示されるように、銅ま
たは銅合金薄膜１２を、蒸着やスパッタリング法等を用
いてコア半休ｌｌ上に形成する。That is, first, as shown in FIGS. 1 and 2, a copper or copper alloy thin film 12 is formed on the core half-hole 11 by using vapor deposition, sputtering, or the like.

銅合金としてはＭｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒなどの一挿具］
−との合金を用いればよい。　銅と他の合金成分の比率
は１０〜３０ｗｔ％が好ましい。　この場合、特に銅ま
たはＣｒを２０ｗｔ％以下とした銅合金は好適である。Copper alloys include Mn, Ni, Zn, Cr, etc.]
An alloy of - may be used. The ratio of copper to other alloy components is preferably 10 to 30 wt%. In this case, copper or a copper alloy containing 20 wt% or less of Cr is particularly suitable.

１１着、スバ・ンタリング等の方式は通常の方法を用い
て行えばよい。　この際、磁気ギヤツブ用の薄膜と磁気
ヘンドのコアの密着強度をあげるために被着体（磁気ヘ
ッドのコア）の温度をあげるのが良い。　温度は被着体
の結晶化温度以下である必要がありまた被着後の冷却速
度は、１０／ｓｅｅ以」−であることが好ましい。Methods such as 11th place and Suva interning may be carried out using normal methods. At this time, it is preferable to raise the temperature of the adherend (the core of the magnetic head) in order to increase the adhesion strength between the thin film for the magnetic gear and the core of the magnetic head. The temperature must be below the crystallization temperature of the adherend, and the cooling rate after adhesion is preferably 10/see or higher.

この際に銅または銅合金薄膜と磁気ヘッドを形成する非
晶質磁性合金材料の熱膨張係数に差異があると、薄膜に
応力が残留し、薄膜にクラックが入るか、さらにすすん
で磁気コアから薄膜が剥離してしまう。At this time, if there is a difference in the coefficient of thermal expansion between the copper or copper alloy thin film and the amorphous magnetic alloy material that forms the magnetic head, stress will remain in the thin film, causing cracks in the thin film, or even causing the magnetic core to separate. The thin film will peel off.

しかし、銅または銅合金薄膜の熱膨張係数は６０〜１５
　ｏｘ　ｌ　Ｏ−６（’Ｏ）−’であるので、後述のガ
□ラス薄膜から生じる熱応力も吸収する効果がある。　
そして、銅または銅合金は機械的強度も高く、硬度も　
Ｈマく１５０と好適である。・ 銅または銅合金薄膜の厚みは、０．１〜２．０−１特に
０．５〜１．６牌であることが好ましい。However, the thermal expansion coefficient of copper or copper alloy thin film is 60 to 15.
Since it is ox l O-6('O)-', it also has the effect of absorbing thermal stress generated from the glass thin film described below.
Copper or copper alloys also have high mechanical strength and hardness.
H maku 150 is suitable. - The thickness of the copper or copper alloy thin film is preferably 0.1 to 2.0-1, particularly 0.5 to 1.6 tiles.

銅または同合金薄膜１２には、以下に述べるガラス膜を
はさんで、もう一方のコア半休とつきあわせて形成され
るので、高磁束密度を得るためには’Ｊ”ｄμｓ以下で
あることが必要である。The copper or copper alloy thin film 12 is formed with a glass film described below in between and in contact with the other half of the core, so in order to obtain a high magnetic flux density, the magnetic flux density must be less than 'J'dμs. is necessary.

一方磁気特性を確保するためには一定量のギヤ・ンプ巾
が必要であるが、本発明の銅またｔ±銅合金薄膜を用い
る場合は０．１−の膜厚で充分な分解能を確保すること
ができる。On the other hand, a certain amount of gear width is required to ensure magnetic properties, but when using the copper or t± copper alloy thin film of the present invention, sufficient resolution can be ensured with a film thickness of 0.1-. be able to.

銅または銅合金薄膜１２上にはガラス薄膜１３を積層す
る。A glass thin film 13 is laminated on the copper or copper alloy thin film 12.

本発明では、ガラス薄膜１３は例えば、低融点ガラス（
７）ＰｂＯ−８２０３系のガラスを用Ｉ／Ｘる。　この
場合、ＰｂＯ８０〜９０ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３２０〜１０ｗ
ｔ％程度が好ましい。In the present invention, the glass thin film 13 is, for example, a low melting point glass (
7) Use PbO-8203 type glass for I/X. In this case, PbO80-90wt%, B2O320-10w
About t% is preferable.

そして、必要な場合には、融点を下げる元素としてＢｉ
２Ｏ３やｖ２　ｏ５等を加えて、所望の融点の低融点ガ
ラスとする。If necessary, Bi can be used as an element to lower the melting point.
By adding 2O3, V2O5, etc., a low melting point glass having a desired melting point is obtained.

ガラス薄膜は、通常、スパッタリングにより積層する。Glass thin films are usually laminated by sputtering.

ガラス薄膜１３は、銅または銅合金薄膜１２と良好に接
着し、充分強固なギャップを形成する。　しかも銅また
は銅合金薄膜上に設層する際に銅又は銅合金薄膜を損傷
しない。The glass thin film 13 adheres well to the copper or copper alloy thin film 12, forming a sufficiently strong gap. Furthermore, the copper or copper alloy thin film is not damaged when a layer is formed on the copper or copper alloy thin film.

ガラス薄膜の軟化温度は５００〜７００℃であることが
好ましい。The softening temperature of the glass thin film is preferably 500 to 700°C.

ガラス薄膜の厚みは、所望の磁気ギヤ・ンプ長ガラス薄
膜層が薄い場合、キャップ長の、られない。The thickness of the glass thin film does not depend on the desired magnetic gear cap length or the cap length if the glass thin film layer is thin.

または銅合金の薄膜により、ガラス薄膜層形成時の応力
を吸収することができず、小さなりラックが入ってしま
う。Alternatively, the copper alloy thin film cannot absorb the stress during the formation of the glass thin film layer, resulting in small cracks.

この場合、ガラス薄膜の厚みは、ギャップ長なお、ガラ
ス薄膜の厚みは、０．１〜０．５μｓであることが好ま
しい。In this case, the thickness of the glass thin film is preferably the gap length, and the thickness of the glass thin film is preferably 0.1 to 0.5 μs.

このようにして、少なくとも前部および後部ギャップ突
合せ面に、銅または銅合金薄膜１２と、ガラス薄膜１３
とを形成したコア半体１１はギャップ突合せ面を突合せ
て一体化される。In this way, the copper or copper alloy thin film 12 and the glass thin film 13 are provided at least on the front and rear gap abutment surfaces.
The core halves 11 formed with the above are integrated by abutting their gap abutting surfaces.

この際、第３図に示されるようにガラス薄膜１３．１３
間にはガラス質１４を配設する。At this time, as shown in FIG.
A glass material 14 is placed between them.

そして、これを熱処理して磁気ヘッドを形成する。This is then heat treated to form a magnetic head.

この場合、ガラス質１４は、前部および後部ギヤ、プ１
５に配設置する。In this case, the vitreous 14 covers the front and rear gears, the
5.

ここで用いるカラス質は、低融点ガラスを用いる。　こ
の場合、その硬化温度は３００〜５００℃が好ましい。The glass used here is a low melting point glass. In this case, the curing temperature is preferably 300 to 500°C.

組成としては、特に、ＰｂＯ−８２０３系のガラスが好
適である。　そして、通常Ｐｂ０８０−９０ｗｔ％、８
２０３　１０〜２０ｗｔ％とじ、他に添加物としてＢ　
ｉ２０３またはｖ２０５などを添加して所望の軟化温度
に調整する。As for the composition, PbO-8203 glass is particularly suitable. And usually Pb080-90wt%, 8
203 10 to 20 wt%, and B as an additive
Add i203 or v205 to adjust the desired softening temperature.

このような低融点カラスからなる粒状のガラス質１４を
カラス薄膜を積層したギャップ突合せ面近傍に配設した
後、磁気コア全体を３００〜５００℃で熱処理する。　
これにより、ガラス薄１１々１３を積層したギャップ突
合せ面を融着し、全体をガラス膜とする。After granular glass material 14 made of such low-melting-point glass is disposed near the abutting surfaces of the gaps where the glass thin films are laminated, the entire magnetic core is heat-treated at 300 to 500°C.
As a result, the gap abutting surfaces of the laminated glass sheets 11 and 13 are fused, and the entire film is formed into a glass film.

ガラス薄膜を機械的に充分接着し、しかも他のコア本体
や銅または銅合金薄膜を損傷しないためには、熱処理温
度がガラス質の軟化温度から溶融温度であることが必要
である。　以−］二のようにして形成されたギャップは
全体として４μｓ以下であることが好ましく、より好ま
しくは０．５〜２．０４である。　このとき１本発明の
効果はより顕著に実現する。In order to mechanically bond the glass thin film sufficiently and not to damage the other core body or the copper or copper alloy thin film, it is necessary that the heat treatment temperature is between the softening temperature and the melting temperature of the glass. The gap formed as described above is preferably 4 μs or less as a whole, more preferably 0.5 to 2.04 μs. At this time, the effects of the present invention are more clearly realized.

なお、銅または銅合金薄膜１２とガラス薄膜ｌ−３との
膜厚の総計は、全体として、所望とする磁気ヘッドのギ
ャップ長と等しいか、または１．２倍以下とすることが
必要である。Note that the total thickness of the copper or copper alloy thin film 12 and the glass thin film l-3 must be equal to or 1.2 times or less the gap length of the desired magnetic head as a whole. .

このように作製される磁気ヘッドはフロッピーディスク
用の用途において、きわめて有用である。The magnetic head manufactured in this way is extremely useful in applications for floppy disks.

なお、ｆ！Ｓ４図には、第１図、第２図に示されるコア
半休を、第３図に示されるように突合せてなる２つのコ
アをスペーサーを介して一体化して、３ギヤツプ型のフ
ロッピーへントとし！ご例が示される。In addition, f! Figure S4 shows a 3-gap type floppy head made by combining two cores shown in Figures 1 and 2 and butting them together via a spacer as shown in Figure 3. ! An example will be shown.

■１発明の具体的効果 本発明の銅または銅合金薄膜とガラス膜からなるギャッ
プを有する磁気ヘッドは以下のような効果を発揮する。(1) Specific Effects of the Invention The magnetic head having a gap made of a copper or copper alloy thin film and a glass film of the present invention exhibits the following effects.

すなわち、磁気キャップ用の下地薄膜として、銅または
銅合金を用いるので熱膨張係数が磁気へラドコア本体の
非結晶質磁性合金薄板およびガラス膜とほとんど同じと
なる。That is, since copper or a copper alloy is used as the underlying thin film for the magnetic cap, the coefficient of thermal expansion is almost the same as that of the amorphous magnetic alloy thin plate and glass film of the magnetic helad core body.

またこのため、応力の残留によりクラックが入ったり、
薄膜が剥離したりすることがなく、機械的に強固な磁気
ギャップを形成することができる。This also causes cracks to form due to residual stress.
A mechanically strong magnetic gap can be formed without peeling of the thin film.

銅または銅合金は、機械的に延性に富んでいるので、ガ
ラス薄膜のスパッタ時等に発生する応力も吸収すること
ができる。Since copper or copper alloy is mechanically highly ductile, it can also absorb stress generated during sputtering of glass thin films.

そして、銅または銅合金薄膜は、比抵抗が小さいので、
高周波帯域にて、渦電流を生じ、そのために磁気ギャッ
プの磁気抵抗が大きくなり、磁気ギャップからのもれ磁
界もシャープになり、磁気再生効率が良くなる。　同様
な理由により、オーバーライド時の消去率、すなわちオ
ーバーライド時の消去率、すなわちオーバーライド特性
や分解能も良好となる。And since copper or copper alloy thin film has low specific resistance,
Eddy currents are generated in the high frequency band, which increases the magnetic resistance of the magnetic gap, sharpens the leakage magnetic field from the magnetic gap, and improves magnetic reproduction efficiency. For the same reason, the erasing rate during overriding, that is, the erasing rate during overriding, that is, the overriding characteristics and resolution are also improved.

本発明による磁気ギャップは銅または銅合金薄膜上にガ
ラス膜を有するので走行による銅または銅合金薄膜の摩
耗が防げるので、磁気ギャップの肩がだれることがなく
、長時間作動させた場合でも、磁気ギャップからのもれ
磁界をシャープに保つことができ、オー）＜−ライト特
性や、分解能や磁気再生効率の劣化が少ない。Since the magnetic gap according to the present invention has a glass film on the copper or copper alloy thin film, the wear of the copper or copper alloy thin film due to running can be prevented, so the shoulders of the magnetic gap will not sag, even when operated for a long time. It is possible to keep the leakage magnetic field from the magnetic gap sharp, and there is little deterioration in o) <- write characteristics, resolution, and magnetic reproduction efficiency.

本発明では低溶融点ガラス薄膜と、さらに接着または固
着用のガラス質を用い、このガラス薄膜とガラス質とが
熱処理によって相互に拡散するため強固な磁気ギャップ
を形成することができる。In the present invention, a low melting point glass thin film and a glass material for adhesion or fixing are used, and since the glass thin film and the glass material are mutually diffused by heat treatment, a strong magnetic gap can be formed.

■１発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。(1) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail.

Ｆ記の組成（ａｔ％）を有する厚さ６５−の非晶質磁性
合金の薄板２枚をラミネートしたＣ字状および１字状の
磁気ヘッド用コア半休を作成した。C-shaped and single-shaped half cores for magnetic heads were prepared by laminating two thin plates of an amorphous magnetic alloy with a thickness of 65 mm and having the composition (at%) shown in F.

成　分 次にコア本体上に下記の組成を有する銅または銅合金の
ｆｊＩｌ！をスパッタリングで設層した（厚さそれぞれ
ｏ、５ｇ）。Ingredients Next, fjIl of copper or copper alloy having the following composition on the core body! were deposited by sputtering (thickness: 0, 5 g each).

表　２ さらに銅または銅合金薄膜上にＰｂＯ系ガラス（コーニ
ング社製Ｃ−１４１６；軟化温度５８０℃）をターゲッ
トとしてスパッタリングを行い、０．３μ厚のガラス薄
膜を形成した。Table 2 Furthermore, sputtering was performed on the copper or copper alloy thin film using PbO-based glass (C-1416 manufactured by Corning Corporation; softening temperature 580° C.) as a target to form a glass thin film with a thickness of 0.3 μm.

以上の層を積層したコア半休をつきあわせて、ビーズ状
のガラス質（コーニグ社製Ｃ−８４６３）を配設し、４
８０℃で熱処理して一体化し、磁気ヘッド用コアを作成
した。A bead-like glass material (C-8463 manufactured by Koenig) is placed on the core halves of the above-described layers, and 4
They were heat-treated at 80° C. and integrated to create a core for a magnetic head.

コアサンプルの構成は、下記表３に示される。The composition of the core sample is shown in Table 3 below.

各サンプルのオーバーライド（ｏｖｅｒ　ｗｒｉｔｅ　
）の相対消去率（ｒｅｌａｔｉｖｅ　ｅｒａｓｅ　ｒａ
ｔｉｏ　）と絶対消去率（ａｂｓｏｌｕｔｅ　ｅｒａｓ
ｅ　ｒａｔｉｏ　）を測定した。Overwrite each sample
) relative erase rate (relative erase ra
tio) and absolute erasure rate (absolute eras)
eratio) was measured.

すなわち、相対消去率はＩＦつまり１２５ＫＨ２で書込
み後、２Ｆつまり２５０Ｋｌ（Ｚの書込みを行って後の
ＩＦの出力（ＩＦ’）を測定しＩＦ’／２Ｆで示す。That is, the relative erasure rate is determined by writing at IF, that is, 125 KH2, and then measuring IF output (IF') after writing at 2F, that is, 250 Kl (Z writing), and is expressed as IF'/2F.

絶対消去率はＩＦつまり１２５Ｋ）１２で書込みを行い
２Ｆつまり２５０Ｋ）ＩＺで書込む前のＩＦの出力と２
Ｆで書込んだ後のＩＦの出力（ＩＦ’）との比Ｉ　Ｆ’
／Ｉ　Ｆを測定した。The absolute erase rate is the IF output before writing at IF (125K) 12 and the IF output before writing at 2F (250K) IZ.
Ratio to IF output (IF') after writing with F
/IF was measured.

マタコれらオーバーライド（ｏｖｅｒ　ｗｒｉｔｅ）の
１００時間パスさせた後の値を測定した。The value after 100 hours of overwrite was measured.

これらの結果を表３に示す。These results are shown in Table 3.

なお、表３には、ガラス薄膜のクラ・ンクの発生状況が
示される。Note that Table 3 shows the occurrence of cracks in the glass thin film.

表３に示される結果から、本発明によればオーへ−ライ
ト特性が良好となり、カラス薄膜のクランク発生が減少
することがわかる。From the results shown in Table 3, it can be seen that according to the present invention, the oherite properties are improved and the occurrence of cranking of the glass thin film is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は本発明のコア半休の１例を示す胴視図 第２図は本発明の別の形状のコア半休を示す斜視図であ
る 第３図は第１図に示すコア半休と第２図に示すコア半体
をつきあわせたときの磁気ヘッドの４１面図である。 第４図は第３図に示すコアをつきあわせた磁気ヘッドを
示す斜視図である。 符けの説明 １１・・・コア本体、 １２・・・銅または銅合金からなる薄膜、１３・・・カ
ラス薄ＨＩ２、　１４・・・ガラス質、１５・・・ギャ
ップ、　１６・・・スペーサー特酌　出願人　ティディ
ケー株式会社 ノー−１１１１１イト　Ｔｌｌ＋　、−ｊ−１＝　Ｉｌ
ｌ　県１　−手続補正書（鮭） 昭和５９年　７月２０日 、事件の表示 昭和５９年特許願第１０２３９１、 発明の名称 磁気ヘッド 、補正をする者 本件との関係　特許出願人 任　所　東京都中央区日本橋−丁目１３番１号名　称　
（３０６）ティーディーケイ株式会社代表者　大　歳　
寛 、代理人　〒１０１ 住　所　東京都千代田区岩本町３丁目２番２号千代田岩
木ビル４階 ｔｒ８６４−４４９８　Ｆａｘ、８６４−６２８０（全
文訂正）　明　細　書 ｌ・発明の名称 磁気ヘッド ２、特許請求の範囲 （１）非晶質磁性合金からなるコア半休をギャップ材を
介してつきあわせてなる磁気ヘッドにおいて、ギャップ
材がコア半休に被着された銅または銅合金薄膜と、この
銅または銅合金薄膜間にはさまれたガラス膜からなるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 （２）銅または銅合金薄膜の厚みが０．０５〜２ＪＬｍ
である特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。 （３）ガラス膜が、ガラス薄膜を銅または銅合金薄膜上
に設層し、しかもガラス薄膜間にガラス質を配設した後
、熱処理して形成される特許請求の範囲第１項または第
２項に記載の磁気ヘッド。 （４）ガラス薄膜が軟化温度５００〜７００　’０であ
る特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載
の磁気ヘッド。 （５）ガラス質が軟化温度３００〜５００℃である特許
請求の範囲第３項または第４項に記載の磁気ヘッド。 （６）ガラス薄膜の厚みが０．１〜１ルｍである特許請
求の範囲第３項ないし第５項のいずれかに記載の磁気ヘ
ッド。 （７）ガラス薄膜の厚みが、ギャップ長の０．０５〜０
．７である特許請求の範囲第１項ないし第６項のいずれ
かに記載の磁気へラド。 （８）熱処理温度がガラス質の軟化温度から溶融温度で
ある特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記
載の磁気ヘッド。 （９）磁気ヘッドのギャップ長が４７ｐｍ以下である特
許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載の磁
気ヘッド。 （１０チ銅または銅合金薄膜とガラス膜の膜厚の総計が
ギャップ長と等しいか、あるいはその１．２倍以下であ
るように設層する特許請求の範囲第１項ないし第９項の
いずれかに記載の磁気ヘッド。 （１１）非晶質磁性合金が、Ｆｅと、Ｃｏと、Ｂまたは
ＢおよびＳｉを主体とし、Ｒｕ　、ＣｕおよびＴｉの１
種以上を含む組成からなる特許請求の範囲第１項ないし
第１０項のいずれかに記載の磁気ヘッド。 ３、発明の詳細な説明 ■、技術分野 本発明は、磁気ヘッド、特に非晶質磁性合金を用いたフ
ロピーディスク等、デジタル記録に用いるナローギャッ
プ型の磁気ヘッドに関するものである。 ■、先行技術 近年、情報機器の性能の向上とＯＡ化が進むなかで記憶
媒体の一つであるフロッピーディスクの高性能化と小型
化が望まれている。 この要求に応えて８インチのフロッピーディスクから更
に小型化された５、２５インチのフロッピーディスクが
開発されてきた。 また、最近更に小型化し、記憶容量も８インチフロッピ
ーディスクと同容量の３．５インチのマイクロフロッピ
ーディスク（ＭＦＤ）が実用化に向けて開発されている
。 このように小型化し、かつ大記憶容量をもったフロッピ
ーディスクを実現するには、高密度記録を実現しなけれ
ばならない、　高密度記録を実現するには、記録媒体と
磁気ヘッドとに関して新たな特性が要求される。 記録媒体では性能向上の１つとして高保磁力の磁性材料
の開発が必要になっている。 磁気ヘッドにも新たに特性の向上が要求される。　従来
フロッピーディスク用の磁気ヘッドは、フロッピーディ
スクの実用化の初期の段階では磁気ヘッド用コア材にパ
ーマロイが使用されていた。 しかし、パーマロイでは種々の問題がある。 例えば、フロッピーへ・ンドの使用周波数帯域（１２５
Ｋ）ｌｚ　〜２５０　ＫＨｚ）とオーディオヘッドの使
用周波数帯域（２０ＫＨｚ以下）を比較すると、フロッ
ピーヘッドの使用周波数帯域は高周波数の帯域である。 　しかし、パーマロイは比抵抗が５０〜１５０ｐΩＣ腫
と小さいので高周波帯域での実効透磁率は急激に減少し
、再生る。 他方、同じく多用されているフェライトは比抵抗ｌＸ１
０８１ＬΩＣ１１と大きく、しかも磁気ギャップもガラ
ス溶着法を用いるので強固な狭磁気ギャップが製造でき
る。　したがって最近ではフロッピー用磁気ヘッドのコ
ア材はフェライトが主に使用されている６　そして、高
密度記録は、磁気ヘッドのコア材にフェライトを用いる
ことによって、ある水準までは達成することができる。 　ところで、さらに高密度記録を達成するためには、磁
気記録媒体であるフロッピーディスクの保磁力（Ｈｃ）
は、初期の頃のＨｃ＝２７０　０ｅ　（磁性体としてγ
−Ｆｅ２Ｏ３を使用）から、高保磁力の記録媒体（磁性
体としてＣＯをドープしたＣＯ−γ−Ｆｅ２Ｏ３を使用
）のＨ，ｃ＝６３００ｅに移行している。　そして、さ
らに合金粉を磁性体としだ高保磁力の記録媒体では、Ｈ
ｃ＝１３０００ｅに至っている。 番うで　よ生へ＋、ド田１ア甜ｌ±−この上るか高保磁
力記録媒体に記録するために、高飽和磁束密度をもち、
かつ高周波数帯域において実効透磁率が減少しない材料
の開発が必要になってきた。 このため、磁気ヘッド用コア材として、センダストと非
晶質合金とが注目されている。　これらの材料はフェラ
イトと比較すると、飽和磁束密度も大きいので、高保磁
力記録媒体への記録も回部になり注目されている。 しかし、磁気ヘッドの問題はコアの材質の磁気特性だけ
の問題でなく、信頼性の点から強固なナローギャップを
有する磁気ヘッドのギャップ製造法の確立も必要である
。 センダストについては銀ロウ溶接の方法が検討されてい
るが、非晶質合金の場合には結晶化温度が低いので一定
温度以上の処理ができない。　特開昭５５−１１０２４
１号のように２．３の磁気ギャップの製造方法に関する
提案もあるが未だ十分な解決をみるには、至っていない
。 ナローギャップで高磁束密度の磁気ヘッドを実現する際
には、作製時の性能とともに経時的な劣化が問題になる
。 すなわち、コア材とギャップ材との相対的な温度特性、
接着性または固着性、残留応力等に依って電磁変換特性
が経時的に劣化する。 例えば、特にギャップ長の安定度と関係のある、オーバ
ライド（重ね書き）特性に大きな問題があった。 ■１発明の具体的目的 本発明は前記の問題を解決するためになされたものであ
って、非晶質合金を用いた磁気ヘッドにおいて、狭いギ
ャップ長の強固な磁気ギャップを有し、しかも長時間使
用しても磁気ギャップが変形せず、したがって磁気特性
、特にオーバーライド特性が経時的に劣化しない磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち本発明は、非晶質磁性合金からなるコア半休を
ギャップ材を介してつきあわせてなる磁気ヘッドにおい
て、ギャップ材がコア半休に被着された銅または銅合金
薄膜と、この銅または銅合金薄膜間にはさまれたガラス
膜からなることを特徴とする磁気ヘッドである。 ■９発明の具体的構成 以下１本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気ヘッドにおけるコアは１通常、非晶質磁性
合金の薄板から形成される。 非晶質磁性合金をコア材として用いるときには、コアと
しての特性が良好で、またきわめて長期にわたる使用に
よって、ダミーブロックとコアとの摩耗量に差が生じず
、ヘッドの媒体摺接面の摩耗が少なく、周波数特性や出
方レベル変動が少ない点で、良好な結果を得る。 コア材として、非晶質磁性合金薄板を用いる場合、子の
鉗ｒ＃）−１プ斗　’ｍｓ　＆Ａ＋−’へ一−Ｍのもの
として知られている種々の組成であってもよいが、特に
飽和磁束密度Ｂｓが高く、高保磁力磁気記録媒体に好適
であるという点で、Ｆｅ、Ｃｏ、ＨないしＳｉおよびＢ
を主体とするもの、特に下記式［Ｉ］で示される組成で
あることが好ましい。 式［Ｉ’］　ＴＸ ！　ｙ 上記式［Ｌ］中において、ＴはＦｅおよびＣｏ、または
ＦｅおよびＣｏと他の遷移金属元素の１種以上との組合
せを表す。 この場合、必要に応じ、ＦｅおよびＣｏとともに組合せ
添加される他の添加元素は、ＦｅおよびＣｏ以外の他の
遷移金属元素（Ｓ　ｃ　−Ｚ　ｎ；Ｙ−Ｃｄ；Ｌａ−Ｈ
ｇ；Ａｃ以上）であり、例えばＮｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ
、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｒｈ
、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ等の１種以上をその具体例
として挙げることができる。 一方、Ｘは、Ｂ、ＳｔおよびＢ、またはＢも１、　＜　
ｔｋ　Ｓ　ｉおよびＢと他のガラス化９＊の１漏以」−
との組合せを表す。 この場合、必要に応じ、ＢまたはＳｉおよびＢとともに
組合せ添加される他のガラス化元素の例としては、Ｐ、
Ｃ，Ｇｅ、Ｓｎ、Ａ１等の１種以上を挙げることができ
る。 他方、上記式［ｊ］において、　Ｘ＋ｙ＝１００ａｔ％
であり、ｙは２０〜２７ａｔ％である・　すなわち、Ｆ
ｅおよびＣＯを必須成分とする遷移金属元素成分量Ｘは
７３〜８０ａｔ％であり、ＢまたはＳｉおよびＢを必須
成分とするガラス化元素成分量ｙは２０〜２７ａｔ％で
ある。 ｙが２０ａｔ％未満となると、非晶質化が困難となり、
また、２７ａｔ％を越えると残留磁束密度Ｂｓが減少し
てしまう。 さらに、遷移金属元素成分中の必須成分ＦｅおよびＣＯ
の含有量は、それぞれＦｅ；１．５〜５．６ａｔ％およ
び、Ｃｏ；４５〜７８．５ａｔ％である。 Ｆｅ含有量が１．５ａｔ％未満（Ｃｏ含有量が７８．５
ａｔ％より大）、あるいは５．６ａｔ％を超えると、磁
歪が大きなものとなってしまい、また透磁率が減少する
。　ＣＯが４５ａｔ％未満となるとＢｓが減少してしま
う。 この場合、上記式［Ｉ］において、Ｔは上記含有量範囲
内にて、ＦｅおよびＣＯのみからなっても、ＦｅとＣＯ
とＬ記した他の添加元素の１種以上とからなってもよい
。 ＴがＦｅとＣＯのみからなる場合、Ｆｅ含有量は、１．
５〜５．６ａｔ％、より好ましくは２〜５．５ａｔ％、
Ｃｏ含有量は、６７．４〜７Ｂ、５ａｔ％、より好まし
くは６７．５〜７８ａｔ％である。 ＴがＦｅおよびＣＯに加え、他の元素の１種以上を含む
場合、他の遷移金属元素の１挿具」二は、通常、総計最
大２５ａｔ％まで含有することができる。　これ以上の
含有量となると、Ｂｓが低下し、表面性が悪くなる等の
不都合が生じる。 このような元素の１例としてはＮｉがある。 Ｎｉ添加は、Ｃｏを置換して、材料コストを低減する等
の効果があるが、Ｎ　ｉ　（ｉｔが増大するとＢｓが減
少するので、Ｎｉ含有量は、好ましくは８ａｔ％以下で
ある。 一方、他の元素の１挿具りとしては、鉄族（Ｆｅ、Ｃｏ
、Ｎｉ）以外の遷移金属元素であってよいが、鉄族以外
の遷移金属元素の１挿具」二は、総計１２ａｔ％以１で
あることが好ましい。　このとき、Ｂｓの低下は少なく
、各添加元素特有のすぐれた効果が実現する。 このような元素としては、特に、Ｒｕ。 Ｃｒ、Ｔｉの１種ないし２種以上が好ましい。 特に、０．５〜８ａｔ％のＲｕを添加すると、耐摩耗性
が向上し１表面性や打抜加工性等が向」ニする。 また、１〜８ａｔ％のＣｒを添加すると、耐食性が向」
ニする。 そして、０．５〜８ａｔ％のＲｕと、１〜８ａｔ％、特
に２〜６ａｔ％のＣｒを併用添加すると、これらの効果
はさらに向−トし、より好ましい結果を得る。 また、０．０５〜２ａｔ％のＴｉをこれらにかえ、ある
いはこれらに加えて添加すると、より好ましい結果を得
る。 さらに、これらＲｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ等に加え、Ｔａ
、Ｗ、Ｍｏ等の１種以上を含有させることもできる。 なお、このようにＦｅ、ＣＯ以外の他の遷移金属元素を
含有させる場合、これらの総計は２０ａｔ％以下となり
、Ｃｏ含有量が４７．４〜７８．５ａｔ％、より好まし
くは４７．５〜７８ａｔ％、またＦｅ含有量が１．５〜
５．６ａｔ％、より好ましくは、２〜５．５ａｔ％とな
ることが好ましい。 これに対し、ガラス化元素成分Ｘは、ＢまたはＳＬおよ
びＢを必須成分とする。 この場合、Ｂ含有量が３．３〜２７ａｔ％、Ｓｔ含有量
がＯ”１６．２ａｔ％となると、Ｂｓが高くなり、薄板
の表面性が向上し、好ましい結果を得る。 そして、Ｂ含有量が１４．１〜２６．９ａｔ％、Ｓｉ含
有量が０−１〜５．４ａｔ％となると、Ｂｓがさらに高
くなり、表面性もさらに向上し、さらに、Ｒｕ、Ｃｒ等
の添加元素の添加効果も顕著となり、より好ましい結果
を得る。 なお、ガラス化元素成分Ｘ中には、必要に応じ、Ｓｉお
よびＢ以外の他の元素の１挿具」二が含まれていてもよ
い。　ただ、その総計が０．５ａｔ％を超えると非晶質
化しにくくなるので、その含有量は０．５ａｔ％以下で
あることが好ましい。 以上詳述したような組成をもつ合金薄板は。 実質的に長範囲規則性をもたない非晶質体である。 また、板厚は、概ね、１０〜２００　ｇ、ｍ程度である
。 このような非晶質磁性合金薄板は、公知の高速急冷法に
従い製造される。 すなわち、対応する組成の合金を、気相または液相から
超急冷する。　この場合、通常は、合金を融液となし、
液相から１０４℃／ｓｅａ以Ｌ、通常１０４−１０６℃
１ｓｅｃ（１）冷却速度で超急冷し、固化させることに
よって非晶質磁性合金薄板を得る。　溶融状態の合金を
超急冷するには、溶融合金をノズルから噴射させ、双ロ
ール法、片ロール法、遠心急冷法等公知の種々の方式、
とりわけ片ロール法に従い急冷すればよい。 このような非晶質磁性合金薄板は、それを好ましくは絶
縁性接着剤層を介して積層して、所望の形状のコア半休
とされ、これを後述のように突き合わせて磁気ヘッド、
特にフロッピーディスク用、ビデオ映像用等の磁気ヘッ
ドとされる。 あるいは、薄板を積層せず、薄板自体を所望の形状のコ
ア半休となし、このコア半休を突き合わせて磁気ヘッド
、特にフロッピー用、ビデオ用等の磁気ヘッドとされる
。 このような磁気ヘッド用コア半休は、通常以下のように
して作製される。 まず、好ましくは、超急冷法によって得られた薄板に対
し、所定の熱処理を施す。　この熱処理としては１例え
ば、結晶化温度未満、キュリ一点景１；の温度で施す無
磁場中での、特に内部歪取りを目的とする焼鈍処理でも
よく、又、結晶化温度およびキュリ一点未満の温度で行
う、歪取りと磁気特性の改良を目的とする磁場中での焼
鈍処理であってもよい。　そして、この後者の磁場中で
の焼鈍処理としては、静磁場、回転磁場等にいずれを用
いてもよい。　これら焼鈍熱処理およびその条件は、非
晶質磁性合金の組成と所望の磁気特性とから、適宜選択
して行えばよい。 次いで、通常は、このような非晶質磁性合金薄板を金型
により打抜き、所定の形状となし、一般に、その複数枚
を絶縁性接着剤により所定トラック巾となるよう積層し
て、コア半休を作製する。 なお、コア半体１１は、第１図、第２図に示されるよう
な１字状、Ｃ字状等公知の種々の形状とすればよい。 次いで、これらコア半休は、以下のようなギャップ材を
介してつきあわされる。 すなわち、まず第１図、第２図に示されるように、銅ま
たは銅合金薄膜１２を、蒸着やスパッタリング法等を用
いてコア半体１１上に形成する。 銅合金としてはＭｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃ，ｒなどの一種以
上との合金を用いればよい。　銅と他の合金成分の比率
は１０〜３０ｗｔ％が好ましい、　この場合、特に銅か
、あるいはＣｒを２０ｗｔ％以下とした銅合金は好適で
ある。 蒸着、スパッタリング等の方式は通常の方法を用いて行
えばよい。　この際、磁気ギャップ用の薄膜と磁気ヘッ
ドのコアの密着強度をあげるために被着体（磁気ヘッド
のコア）の温度をあげるのが良い。　温度は被着体の結
晶化温度以下である必要がありまた被着後の冷却速度は
、１０℃／ｓｅｃ以上であることが好ましい。 この際に銅または銅合金薄膜と磁気ヘッドを形成する非
晶質磁性合金材料の熱膨張係数に差異があると、薄膜に
応力が残留し、薄膜にクラックが入るか、さらにすすん
で磁気コアから薄膜が剥離してしまう。 しかし、銅または銅合金薄膜の熱膨張係数は６Ｏ−１５
０Ｘ１０−’６　（”０）−’であるので、後述のガラ
ス薄膜から生じる熱応力も吸収する効果がある。　そし
て、銅または銅合金は機械的強度も高く、硬度も　Ｈマ
く１５０と好適である。 銅または銅合金薄膜の厚みは、０．０５〜２．０７上ｍ
、特に０．０１〜１．６１Ｌｍであることが好ましい。 銅または同合金薄膜１２には、以下に述べるガラス膜を
はさんで、もう一方のコア半休とつきあわせて形成され
るので、高磁束密度を得るためには２．０７Ｌｍ以下で
あることが必要である。 一方磁気特性を確保するためには一定量のギヤツブ巾が
必要であるが、本発明の銅または銅合金薄膜を用いる場
合は０．０５７１ｍの膜厚で充分な分解能を確保するこ
とができる。 銅または銅合金薄膜１２上にはガラス薄膜１３を積層す
る。 本発明では、ガラス薄膜１３は例えば、低融点ガラスの
ＰｂＯ−８２０３系のガラスを用いる。 この場合、ＰｂＯ：　ｇｏ〜９０賢ｔ％、Ｂ２０３　：
　２０＝　ｌ　Ｏｗｔ％程度が好ましい。 そして、必要な場合には、融点を下げる元素としてＢｉ
２Ｏ３やｖ２０５等を加えて、所望の融点の低融点ガラ
スとする。 ガラス薄膜は、通常、スパッタリングにより積層する。 ガラス薄膜１３は、銅または銅合金薄膜１２と良好に接
着し、充分強固なギャップを形成する。　しかも、銅ま
たは調合゛金薄膜上に設層する際に銅または銅合金薄膜
を損傷しない。 ガラス薄膜の軟化温度は５００〜７００℃であることが
好ましい。 ガラス薄膜の厚みは、所望の磁気ギャップ長の０．０５
〜０．７程度であることが望ましい。　ガラス薄膜層が
薄い場合、ギャップ長の、０．０５より小であると、強
固な接着強度が得られない。 また、０．７より大であると、中間層である銅または銅
合金の薄膜により、ガラス薄膜層形成時の応力を吸収す
ることができず、小さなりラックが入ってしまう。 この場合、ガラス薄膜の厚みは、ギャップ長の、より好
ましくは、０．１〜０．６である。 なお、ガラス薄膜の厚みは、０．１〜１．０ｐＬｍであ
ることが好ましい。 このようにして、少なくとも前部および後部ギャップ突
合せ面に、銅または銅合金薄膜１２と、ガラス薄膜１３
とを形成したコア半体１１はギャップ突合せ面を突合せ
て一体化される。 この際、第３図に示されるようにガラス薄膜１３．１３
間にはガラス質１４を配設する。 そして、これを熱処理して磁気ヘッドを形成する。 この場合、ガラス質１４は、前部および後部ギャップ１
５に配設する。 ここで用いるガラス質は、低融点ガラスを用いる。　こ
の場合、その軟化温度は３００〜５００℃が好ましい。 組成としては、特に、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系のガラスが好
適である。　そして、通常ＰｂＯ：８０〜９０ｗｔ％、
Ｂ２０３　：　１０〜２０ｗｔ％とし、他に添加物とし
て、Ｂｉ２Ｏ３またはｖ２０５などを添加して所望の軟
化温度に調整する。 このような低融点ガラスからなる粒状のガラス質１４を
ガラス薄膜１３を積層したギャップ突合せ部近傍に配設
した後、磁気コア全体を３００〜５００℃で熱処理する
。　これにより、ガラス薄膜１３を積層したギャップ突
合せ面を融着し、全体をガラス膜とする。 ガラス薄膜を機械的に充分接着し、しかも他のコア本体
や銅または銅合金薄膜を損傷しないためには、熱処理温
度がガラス質の軟化温度から溶融温度であることが必要
である。 以上のようにして形成されたギャップは全体として４４
ｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５〜
２．０７ｈｍである。　このとき、本発明の効果はより
顕著に実現する。 なお、銅または銅合金１１２とガラス薄膜１３との膜厚
の総計は、全体として、所望とする磁気へ−２１のギャ
ップ長と等しいか、または１．２倍以下とすることが必
要である。 このように作製される磁気ヘッドはフロッピーディスク
用の用途において、きわめて有用である。 なお、−第４図には、第１図、第２図に示されるコア半
休を、第３図に示されるように突合せてなる２つのコア
をスペーサー１６を介して一体化して、３ギヤツプ型の
フロッピーヘッドとした例が示される。 ■１発明の具体的効果 本発明の銅または銅合金薄膜とガラス膜からなるギャッ
プを有する磁気ヘッドは以下のような効果を発揮する。 すなわち、磁気ギャップ用の下地薄膜として、銅または
銅合金を用いるので熱膨張係数が磁気へラドコア本体の
非結晶買磁性合金薄板およびガラス膜とほとんど同じと
なる。 また、このため、応力の残留によりクラックが入ったり
、薄膜が剥離したりすることがなく、機械的に強固な磁
気ギャップを形成することができる。 銅または銅合金は、機械的に延性に富んでいるので、ガ
ラス薄膜のスパー２夕時等に発生する応力も吸収するこ
とができる。 そして、銅または銅合金薄膜は、比抵抗が小さいので、
高周波帯域にて、渦電流を生じ、そのために磁気ギャッ
プの磁気抵抗が太きくなり、磁気ギャップからのもれ磁
界もシャープになり１ｗ１気再生効率が良くなる。　同
様な理由により、オーバーライド時の消去率、すなわち
、オーバーライド特性や分解能も良好となる。 本発明による磁気ギャップは銅または銅合金薄膜上にガ
ラス膜を有するので走行による銅または銅合金薄膜の摩
耗が防げるので、磁気ギャップの肩がだれることがなく
、長時間作動させた場合でも、磁気ギャップからのもれ
磁界をシャープに保つことができ、オーバーライド特性
や１分解能や磁気再生効率の劣化が少ない。 本発明では低溶融点ガラス薄膜と、さらに接着または固
着用のガラス質を用い、このガラス薄膜とガラス質とが
熱処理によって相互に拡散するため強固な磁気ギャップ
を形成することができる。 ■６発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 下記の組Ｔ＆（ａｔ％）を有する厚さ６５ｐｍの非晶質
磁性合金の薄板２枚をラミネートしたＣ字状および１字
状の磁気ヘッド用コア半休を作成した。 成　分 （Ｆ”５．５　９４．５　）　７０　”０．１　Ｂｏ、
９　）　２４　”８Ｏ 次にコア本体上に下記の組成を有する銅または銅合金の
薄膜をスパッタリングで設層した（厚さそれぞれ０．５
ルｍ）。 表　１ さらに、銅または銅合金薄膜上にＰｂＯ系ガラス（コー
ニング社製Ｃ−１４１６，軟化温度５８０℃）をターゲ
ットとしてスパッタリングを行い、０．３ｇｍ厚のガラ
ス薄膜を形成した。 以」二の層を積層したコア半休をつきあわせて、ビーズ
状のガラス質（コーニグ社製Ｃ−８４６３）を配設し、
４８０℃で熱処理して一体化し、磁気ヘッド用コアを作
成した。 コアサンプルの構成は、下記表２に示される。 各サンプルのオーバーライド（ｏｖｅｒ　ｗｒｉｔｅ　
）の相対消去率（ｒｅｌａｔｉｖｅ　ｅｒａｓｅ　ｒａ
ｔｉｏ　）と絶対消去率（ａｂｓｏｌｕｔｅ　ｅｒａｓ
ｅ　ｒａｔｉｏ　）を測定した。 すなわち、相対消去率はＩＦつまり１２５ＫＨｚ　テ書
込み後、２Ｆつまり２５０ＫＨｚの書込みを行って後の
ＩＦの出力（ＩＦ“）を測定しＩＦ’／２Ｆで示す。 絶対消去率はＩＦつまり１２５ＫＨｚで書込みを行い２
Ｆつまり２５０ＫＨｚで書込む前のＩＦの出力と２Ｆで
書込んだ後のＩＦの出力（ＩＦ′）との比ＩＦ′／ＩＦ
を測定した。 またこれらオーバーライド（ｏｖｅｒ　ｌＦｒ１ｔｅ　
）の１００回バス後の値を測定した。 これらの結果を表２に示す。 なお、表２には、ガラス薄膜のクラックの発生状況が示
される。 表２に示される結果から１本発明によればオーバーライ
ド特性が良好となり、ガラス薄膜のクラック発生が減少
することがｂかる。 ４、図面の簡単な説明 第１図は本発明のコア半休の１例を示す斜視図 第２図は本発明の別の形状のコア半休を示す斜視図であ
る 第３図は第１図に示すコア半休と第２図に示すコア半休
をつきあわせたときの磁気ヘッドの平面図である。 第４図は第３図に示すコアを用いて形成した磁気ヘッド
を示す斜視図である。 符号の説明 １１川コア本体、 １２・・・銅または銅合金からなる薄膜、１３・・・ガ
ラス薄膜、・　１４・・・ガラス質。FIG. 1 is a trunk view showing one example of the core half-rest of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing another shape of the core half-rest of the present invention. FIG. 3 shows the core half-rest shown in FIG. FIG. 4 is a 41-plane view of the magnetic head when the core halves shown in the figure are brought together. FIG. 4 is a perspective view showing a magnetic head in which the cores shown in FIG. 3 are brought into contact with each other. Description of marks 11... Core body, 12... Thin film made of copper or copper alloy, 13... Glass thin HI2, 14... Glassy, 15... Gap, 16... Spacer special Cup Applicant TidyK Co., Ltd. No-11111 Ito Tll+ , -j-1= Il
l Prefecture 1 - Procedural Amendment (Salmon) July 20, 1980, Case Description 1982 Patent Application No. 102391, Name of the invention Magnetic head, Person making the amendment Relationship to the case Patent applicant Location Tokyo Chuo-ku Nihonbashi-chome 13-1 Name
(306) TDC Co., Ltd. Representative Daitoshi
Hiroshi, Agent 101 Address 4th floor, Chiyoda Iwaki Building, 3-2-2 Iwamoto-cho, Chiyoda-ku, Tokyo TR864-4498 Fax, 864-6280 (Full text corrected) Description Document 1/Name of invention Magnetic head 2, Patent Claims (1) A magnetic head comprising core halves made of an amorphous magnetic alloy that are brought together via a gap material, including a copper or copper alloy thin film on which the gap material is adhered to the core halves, and the copper or copper. A magnetic head characterized by comprising a glass film sandwiched between thin alloy films. (2) Thickness of copper or copper alloy thin film is 0.05 to 2 JLm
A magnetic head according to claim 1. (3) Claim 1 or 2, wherein the glass film is formed by depositing a glass thin film on a copper or copper alloy thin film, disposing a vitreous material between the glass thin films, and then heat-treating the film. The magnetic head described in section. (4) The magnetic head according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass thin film has a softening temperature of 500 to 700'0. (5) The magnetic head according to claim 3 or 4, wherein the glass has a softening temperature of 300 to 500°C. (6) The magnetic head according to any one of claims 3 to 5, wherein the glass thin film has a thickness of 0.1 to 1 m. (7) The thickness of the glass thin film is 0.05 to 0 of the gap length.
．． 7. The magnetic helad according to any one of claims 1 to 6. (8) The magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein the heat treatment temperature is from the softening temperature to the melting temperature of glass. (9) The magnetic head according to any one of claims 1 to 8, wherein the magnetic head has a gap length of 47 pm or less. (Any of claims 1 to 9 in which the layers are arranged so that the total film thickness of the 10T copper or copper alloy thin film and the glass film is equal to the gap length or 1.2 times or less thereof. The magnetic head according to claim 1. (11) The amorphous magnetic alloy is mainly composed of Fe, Co, B or B and Si, and one of Ru, Cu and Ti.
A magnetic head according to any one of claims 1 to 10, comprising a composition containing at least one species. 3. Detailed Description of the Invention (1) Technical Field The present invention relates to a magnetic head, particularly a narrow gap type magnetic head used for digital recording such as a floppy disk using an amorphous magnetic alloy. (2) Prior Art In recent years, as the performance of information equipment has improved and the use of OA has progressed, there has been a desire for higher performance and smaller size of floppy disks, which are one of the storage media. In response to this demand, 5- and 25-inch floppy disks, which are smaller than the 8-inch floppy disk, have been developed. Recently, a 3.5-inch microfloppy disk (MFD), which is even smaller and has the same storage capacity as an 8-inch floppy disk, has been developed for practical use. In order to realize such a compact floppy disk with a large storage capacity, high-density recording must be achieved.To achieve high-density recording, new characteristics of the recording medium and magnetic head must be developed. is required. In order to improve the performance of recording media, it is necessary to develop magnetic materials with high coercive force. Magnetic heads are also required to have improved characteristics. In the early stages of practical use of floppy disks, permalloy was used as the core material for conventional magnetic heads for floppy disks. However, permalloy has various problems. For example, the frequency band used by the floppy disk (125
Comparing the frequency band used by the audio head (20 KHz or less), the frequency band used by the floppy head is a high frequency band. However, since permalloy has a small resistivity of 50 to 150 pΩ, its effective permeability in a high frequency band rapidly decreases and regenerates. On the other hand, ferrite, which is also widely used, has a specific resistance of lX1
The magnetic gap is as large as 081LΩC11, and since the glass welding method is used, a strong narrow magnetic gap can be manufactured. Therefore, recently, ferrite has been mainly used as the core material of magnetic heads for floppy disks.6 High-density recording can be achieved to a certain level by using ferrite as the core material of magnetic heads. By the way, in order to achieve even higher density recording, the coercive force (Hc) of the floppy disk, which is a magnetic recording medium, must be improved.
is Hc=270 0e (γ as a magnetic material) at the early stage.
-Fe2O3) to H,c=6300e of a high coercivity recording medium (using CO-γ-Fe2O3 doped with CO as the magnetic material). Furthermore, in recording media with high coercive force using alloy powder as a magnetic material, H
c=13000e. In order to record on a high coercive force recording medium, it has a high saturation magnetic flux density,
In addition, it has become necessary to develop materials whose effective permeability does not decrease in high frequency bands. For this reason, sendust and amorphous alloys are attracting attention as core materials for magnetic heads. These materials have higher saturation magnetic flux densities than ferrites, so they are attracting attention as they become popular for recording on high coercive force recording media. However, the problem with magnetic heads is not only the magnetic properties of the core material, but also the establishment of a gap manufacturing method for magnetic heads having a strong narrow gap from the viewpoint of reliability. Silver brazing welding is being considered for sendust, but since the crystallization temperature of an amorphous alloy is low, it cannot be processed above a certain temperature. Japanese Patent Publication No. 55-11024
Although there are proposals for manufacturing methods for a magnetic gap of 2.3 as in No. 1, a satisfactory solution has not yet been found. When realizing a magnetic head with a narrow gap and high magnetic flux density, problems arise not only in performance during manufacture but also in deterioration over time. In other words, the relative temperature characteristics of the core material and gap material,
Electromagnetic conversion characteristics deteriorate over time due to adhesion or stickiness, residual stress, etc. For example, there have been major problems with override characteristics, particularly related to gap length stability. ■1 Specific Purpose of the Invention The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. It is an object of the present invention to provide a magnetic head whose magnetic gap does not deform even after use over time, and whose magnetic properties, especially override properties, do not deteriorate over time. Such objects are achieved by the invention described below. That is, the present invention provides a magnetic head in which core halves made of an amorphous magnetic alloy are brought into contact with each other via a gap material. This magnetic head is characterized by consisting of a glass film sandwiched between thin films. (9) Specific configuration of the present invention A specific configuration of the present invention will be described in detail below. The core in the magnetic head of the present invention is usually formed from a thin plate of an amorphous magnetic alloy. When an amorphous magnetic alloy is used as a core material, it has good properties as a core, and even after extremely long use, there is no difference in the amount of wear between the dummy block and the core, and the wear on the media sliding surface of the head is reduced. Good results can be obtained in terms of frequency characteristics and output level fluctuations. When an amorphous magnetic alloy thin plate is used as the core material, it may have various compositions known as those of 'ms &A+-'. In particular, Fe, Co, H, Si and B have a high saturation magnetic flux density Bs and are suitable for high coercive force magnetic recording media.
It is preferable that the composition is mainly composed of, in particular, the composition represented by the following formula [I]. Formula [I'] TX! y In the above formula [L], T represents Fe and Co, or a combination of Fe and Co and one or more other transition metal elements. In this case, other additive elements added in combination with Fe and Co, if necessary, include transition metal elements other than Fe and Co (S c -Z n; Y-Cd; La-H
g; Ac or higher), such as Ni, Ti, Zr, Hf
, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Ru, Rh
, Pd, Os, Ir, Pt, etc. can be mentioned as specific examples. On the other hand, X is B, St and B, or B is also 1, <
tk Si and B and other vitrification 9*
represents a combination with In this case, examples of other vitrifying elements that may be added in combination with B or Si and B include P,
One or more of C, Ge, Sn, A1, etc. can be mentioned. On the other hand, in the above formula [j], X+y=100at%
and y is 20 to 27 at%, i.e., F
The amount X of the transition metal element whose essential components are e and CO is 73 to 80 at%, and the amount y of the vitrification element whose essential components are B or Si and B is 20 to 27 at%. When y is less than 20 at%, it becomes difficult to make it amorphous,
Moreover, if it exceeds 27 at%, the residual magnetic flux density Bs will decrease. Furthermore, the essential components Fe and CO in the transition metal element components
The contents are Fe: 1.5 to 5.6 at% and Co: 45 to 78.5 at%, respectively. Fe content is less than 1.5 at% (Co content is 78.5 at%
(greater than 5.6 at%) or more than 5.6 at%, magnetostriction becomes large and magnetic permeability decreases. When CO is less than 45 at%, Bs decreases. In this case, in the above formula [I], even if T consists only of Fe and CO within the above content range, Fe and CO
and one or more of the other additive elements indicated by L. When T consists only of Fe and CO, the Fe content is 1.
5 to 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%,
Co content is 67.4-7B, 5 at%, more preferably 67.5-78 at%. When T includes one or more other elements in addition to Fe and CO, the other transition metal elements can typically be included up to a total of 25 at %. If the content exceeds this range, problems such as decreased Bs and poor surface properties will occur. One example of such an element is Ni. Ni addition has the effect of replacing Co and reducing material costs, but as Ni (it) increases, Bs decreases, so the Ni content is preferably 8 at% or less. On the other hand, Examples of other elements include iron group (Fe, Co
, Ni), but preferably the total amount of transition metal elements other than the iron group is 12 at % or more. At this time, the decrease in Bs is small, and excellent effects unique to each additive element are realized. Such an element is particularly Ru. One or more of Cr and Ti are preferred. In particular, when 0.5 to 8 at% of Ru is added, wear resistance is improved and surface properties, punching workability, etc. are improved. Additionally, adding 1 to 8 at% Cr improves corrosion resistance.
d. When Ru of 0.5 to 8 at% and Cr of 1 to 8 at%, especially 2 to 6 at% are added in combination, these effects are further enhanced and more favorable results are obtained. Moreover, if 0.05 to 2 at % of Ti is added instead of or in addition to these, more preferable results can be obtained. Furthermore, in addition to these Ru, Cr, Ti, Ni, etc., Ta
, W, Mo, and the like. In addition, when containing transition metal elements other than Fe and CO in this way, the total of these becomes 20 at% or less, and the Co content is 47.4 to 78.5 at%, more preferably 47.5 to 78 at%. %, and the Fe content is 1.5~
It is preferably 5.6 at%, more preferably 2 to 5.5 at%. On the other hand, the vitrification element component X has B or SL and B as essential components. In this case, when the B content is 3.3 to 27 at% and the St content is O''16.2 at%, Bs becomes high, the surface properties of the thin plate improve, and a favorable result is obtained. When the Si content is 14.1 to 26.9 at% and the Si content is 0-1 to 5.4 at%, the Bs becomes even higher, the surface properties are further improved, and the effects of adding additional elements such as Ru and Cr are further improved. The vitrification element component X may also contain other elements other than Si and B, if necessary. However, if the total amount exceeds 0.5 at%, it becomes difficult to form amorphous, so the content is preferably 0.5 at% or less. The alloy thin plate has the composition detailed above. It is an amorphous material with virtually no long-range regularity. Further, the plate thickness is approximately 10 to 200 g.m. Such an amorphous magnetic alloy thin plate is manufactured according to a known high-speed quenching method. That is, an alloy of a corresponding composition is ultra-quenched from the gas phase or liquid phase. In this case, the alloy is usually used as a melt,
104℃/sea or less from liquid phase, usually 104-106℃
An amorphous magnetic alloy thin plate is obtained by ultra-quenching and solidifying at a cooling rate of 1 sec (1). In order to ultra-quench the molten alloy, the molten alloy is injected from a nozzle and various known methods such as the twin roll method, single roll method, and centrifugal quenching method are used.
In particular, it may be rapidly cooled according to the single roll method. Such amorphous magnetic alloy thin plates are preferably laminated with an insulating adhesive layer interposed therebetween to form core halves of a desired shape, and these are butted together as described below to form a magnetic head.
In particular, it is used as a magnetic head for floppy disks, video images, etc. Alternatively, the thin plates are not laminated, but the thin plates themselves are formed into core halves of a desired shape, and the core halves are butted together to form a magnetic head, especially a magnetic head for floppies, videos, and the like. Such a half core for a magnetic head is usually manufactured as follows. First, preferably, a predetermined heat treatment is performed on a thin plate obtained by an ultra-quenching method. This heat treatment may be, for example, annealing in a non-magnetic field at a temperature below the crystallization temperature and below the Curie point, particularly for the purpose of eliminating internal strain, or annealing below the crystallization temperature and below the Curie point. It may also be annealing treatment performed at high temperature in a magnetic field for the purpose of removing strain and improving magnetic properties. As for the latter annealing treatment in a magnetic field, either a static magnetic field, a rotating magnetic field, or the like may be used. These annealing heat treatments and their conditions may be appropriately selected from the composition of the amorphous magnetic alloy and the desired magnetic properties. Next, such an amorphous magnetic alloy thin plate is usually punched into a predetermined shape using a die, and generally, a plurality of the sheets are laminated with an insulating adhesive so as to have a predetermined track width, and the core is semi-circumscribed. Create. Note that the core half 11 may have various known shapes such as a single-shape or a C-shape as shown in FIGS. 1 and 2. Next, these core halves are brought together via a gap material as described below. That is, first, as shown in FIGS. 1 and 2, a copper or copper alloy thin film 12 is formed on the core half 11 using a vapor deposition method, a sputtering method, or the like. As the copper alloy, an alloy with one or more of Mn, Ni, Zn, C, r, etc. may be used. The ratio of copper and other alloy components is preferably 10 to 30 wt%. In this case, copper or a copper alloy containing 20 wt% or less of Cr is particularly suitable. Vapor deposition, sputtering, etc. may be performed using conventional methods. At this time, it is preferable to raise the temperature of the adherend (the core of the magnetic head) in order to increase the adhesion strength between the thin film for the magnetic gap and the core of the magnetic head. The temperature must be below the crystallization temperature of the adherend, and the cooling rate after adhesion is preferably 10° C./sec or higher. At this time, if there is a difference in the coefficient of thermal expansion between the copper or copper alloy thin film and the amorphous magnetic alloy material that forms the magnetic head, stress will remain in the thin film, causing cracks in the thin film, or even causing the magnetic core to separate. The thin film will peel off. However, the thermal expansion coefficient of copper or copper alloy thin film is 6O-15
Since it is 0X10-'6 ("0)-', it has the effect of absorbing the thermal stress generated from the glass thin film described later. Copper or copper alloy also has high mechanical strength and hardness of Hmaku 150, making it suitable. The thickness of the copper or copper alloy thin film is 0.05 to 2.07 m.
, particularly preferably 0.01 to 1.61 Lm. The copper or copper alloy thin film 12 is formed with a glass film described below in between and in contact with the other half of the core, so in order to obtain a high magnetic flux density, it is necessary that the magnetic flux density be 2.07 Lm or less. It is. On the other hand, a certain amount of gear width is required to ensure magnetic properties, but when using the copper or copper alloy thin film of the present invention, sufficient resolution can be ensured with a film thickness of 0.0571 m. A glass thin film 13 is laminated on the copper or copper alloy thin film 12. In the present invention, the glass thin film 13 is made of, for example, PbO-8203 glass, which is a low melting point glass. In this case, PbO: go~90%, B203:
Approximately 20=l Owt% is preferable. If necessary, Bi can be used as an element to lower the melting point.
By adding 2O3, V205, etc., it is made into a low melting point glass with a desired melting point. Glass thin films are usually laminated by sputtering. The glass thin film 13 adheres well to the copper or copper alloy thin film 12, forming a sufficiently strong gap. Furthermore, the copper or copper alloy thin film is not damaged when it is deposited on the copper or composite gold thin film. The softening temperature of the glass thin film is preferably 500 to 700°C. The thickness of the glass thin film is 0.05 of the desired magnetic gap length.
It is desirable that the value is about 0.7. If the glass thin film layer is thin and the gap length is less than 0.05, strong adhesive strength cannot be obtained. Moreover, if it is larger than 0.7, the stress at the time of forming the glass thin film layer cannot be absorbed by the thin film of copper or copper alloy which is the intermediate layer, and a small rack is generated. In this case, the thickness of the glass thin film is more preferably 0.1 to 0.6 of the gap length. Note that the thickness of the glass thin film is preferably 0.1 to 1.0 pLm. In this way, the copper or copper alloy thin film 12 and the glass thin film 13 are provided at least on the front and rear gap abutment surfaces.
The core halves 11 formed with the above are integrated by abutting their gap abutting surfaces. At this time, as shown in FIG.
A glass material 14 is placed between them. This is then heat treated to form a magnetic head. In this case, the vitreous 14 has a front and rear gap 1
5. The glass used here is a low melting point glass. In this case, the softening temperature is preferably 300 to 500°C. As for the composition, PbO--B2O3-based glass is particularly suitable. And usually PbO: 80 to 90 wt%,
B203: 10 to 20 wt%, and other additives such as Bi2O3 or v205 are added to adjust the softening temperature to a desired value. After granular glass material 14 made of such low melting point glass is disposed near the gap abutting portion where the glass thin film 13 is laminated, the entire magnetic core is heat-treated at 300 to 500°C. As a result, the gap abutting surfaces on which the glass thin films 13 are laminated are fused, and the entire film is formed into a glass film. In order to mechanically bond the glass thin film sufficiently and not to damage the other core body or the copper or copper alloy thin film, it is necessary that the heat treatment temperature is between the softening temperature and the melting temperature of the glass. The total gap formed as described above is 44
It is preferably less than m, more preferably 0.5 to
It is 2.07hm. At this time, the effects of the present invention are more significantly realized. The total thickness of the copper or copper alloy 112 and the glass thin film 13 must be equal to or 1.2 times or less the desired magnetic gap length of -21. The magnetic head manufactured in this way is extremely useful in applications for floppy disks. In addition, in FIG. 4, two cores formed by butting together the core halves shown in FIGS. 1 and 2 as shown in FIG. 3 are integrated via a spacer 16 to form a three-gap type. An example of a floppy head is shown. (1) Specific Effects of the Invention The magnetic head having a gap made of a copper or copper alloy thin film and a glass film of the present invention exhibits the following effects. That is, since copper or a copper alloy is used as the underlying thin film for the magnetic gap, the coefficient of thermal expansion is almost the same as that of the amorphous magnetic alloy thin plate and glass film of the magnetic helad core body. Further, for this reason, a mechanically strong magnetic gap can be formed without cracking or peeling of the thin film due to residual stress. Since copper or copper alloy is mechanically highly ductile, it can also absorb stress that occurs when a glass thin film is heated. And since copper or copper alloy thin film has low specific resistance,
Eddy currents are generated in the high frequency band, which increases the magnetic resistance of the magnetic gap, sharpens the leakage magnetic field from the magnetic gap, and improves the 1W1 reproduction efficiency. For the same reason, the erasure rate during overriding, that is, the overriding characteristics and resolution are also improved. Since the magnetic gap according to the present invention has a glass film on the copper or copper alloy thin film, the wear of the copper or copper alloy thin film due to running can be prevented, so the shoulders of the magnetic gap will not sag, even when operated for a long time. It is possible to keep the leakage magnetic field from the magnetic gap sharp, and there is little deterioration in override characteristics, 1 resolution, and magnetic reproduction efficiency. In the present invention, a low melting point glass thin film and a glass material for adhesion or fixing are used, and since the glass thin film and the glass material are mutually diffused by heat treatment, a strong magnetic gap can be formed. (6) Specific Examples of the Invention Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown and the present invention will be explained in more detail. C-shaped and single-shaped core halves for magnetic heads were prepared by laminating two thin plates of amorphous magnetic alloy with a thickness of 65 pm and having the following set T & (at %). Ingredients (F”5.5 94.5) 70”0.1 Bo,
9) 24"8O Next, a thin film of copper or copper alloy having the following composition was deposited on the core body by sputtering (thickness: 0.5
le m). Table 1 Furthermore, sputtering was performed using PbO-based glass (C-1416 manufactured by Corning, softening temperature 580° C.) as a target on the copper or copper alloy thin film to form a glass thin film with a thickness of 0.3 gm. A bead-like glass material (C-8463 manufactured by Koenig) is placed on the core halves of the two layers laminated together.
They were heat-treated at 480° C. and integrated to create a core for a magnetic head. The composition of the core sample is shown in Table 2 below. Overwrite each sample
) relative erase rate (relative erase ra
tio) and absolute erasure rate (absolute eras)
eratio) was measured. In other words, the relative erase rate is determined by writing at IF, or 125 KHz, then writing at 2F, or 250 KHz, and measuring the subsequent IF output (IF"). The absolute erase rate is expressed by writing at IF, or 125 KHz. action 2
F, that is, the ratio of the IF output before writing at 250KHz and the IF output (IF') after writing at 2F, IF'/IF
was measured. Also, these overrides (over lFr1te
) was measured after 100 baths. These results are shown in Table 2. Note that Table 2 shows the occurrence of cracks in the glass thin film. From the results shown in Table 2, it can be seen that according to the present invention, the override characteristics are improved and the occurrence of cracks in the glass thin film is reduced. 4. Brief description of the drawings FIG. 1 is a perspective view showing one example of the core half-rest of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing another shape of the core half-rest of the present invention. FIG. 3 is a plan view of the magnetic head when the half-closed core shown in FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a magnetic head formed using the core shown in FIG. 3. Explanation of symbols 11 River core body, 12... Thin film made of copper or copper alloy, 13... Glass thin film, 14... Glassy.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 （１）非晶質磁性合金からなるコア半休をギャップ材を
介してつきあわせてなる磁気ヘットにおいて、ギャップ
材がコア半休に被着された銅または銅合金薄膜と、この
銅または銅合金薄膜間にはさまれたガラス膜からなるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 （２）銅または銅合金薄膜の厚みが０．１〜２．０−で
ある特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。 （３）ガラス膜が、ガラス薄Ｈりを銅または銅合金薄膜
１−に設層し、しかもガラス薄膜間にガラス質を配設し
た後、熱処理して形成される特許請求の範囲第１項また
は第２項に記載の磁気ヘッド。 （４）ガラス薄膜が軟化温度５００〜７００°Ｃである
特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の
磁気ヘッド。 （５）ガラス質が軟化温度３００〜５００℃である特許
請求の範囲第３項または第４項に記載の磁気ヘッド。 （６）ガラス薄膜の厚みが０．１〜０．５−である特許
請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の磁気
ヘッド。 （７）ガラス薄膜の厚みが、キャップ長のないし第６項
のいずれかに記載の磁気ヘッド。 （８）熱処理温度がガラス質の軟化温度から溶融温度で
ある特許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれかに記
載の磁気ヘッド。 （９）磁気ヘッドのギャップ長が４＃１１１１以下であ
る特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれかに記載
の磁気ヘッド。 （ｌＯ）銅または銅合金薄膜とガラス膜の膜厚の総計が
ギャップ長と等しいか、あるいはその１．２倍以下であ
る特許請求の範囲第１項ないし第８．９項のいずれかに
記載の磁気ヘッド。 （１１）非晶質磁性合金が、Ｆｅ、Ｇｏ、ＳｉおよびＢ
を主体とし、ｌｕ、ＣｕおよびＴｉの１種以上を含む組
成からなる特許請求の範囲第１項ないし第１０項のいず
れかに記載の磁気ヘッド用・。[Scope of Claims] (1) A magnetic head in which core halves made of an amorphous magnetic alloy are brought together via a gap material, in which the gap material is a copper or copper alloy thin film coated on the core halves, and A magnetic head characterized by comprising a glass film sandwiched between copper or copper alloy thin films. (2) The magnetic head according to claim 1, wherein the copper or copper alloy thin film has a thickness of 0.1 to 2.0 -. (3) Claim 1, wherein the glass film is formed by layering a glass thin film 1- on a thin copper or copper alloy film 1-, and after arranging a vitreous material between the glass thin films, heat treatment is performed. Or the magnetic head according to item 2. (4) The magnetic head according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass thin film has a softening temperature of 500 to 700°C. (5) The magnetic head according to claim 3 or 4, wherein the glass has a softening temperature of 300 to 500°C. (6) The magnetic head according to any one of claims 1 to 5, wherein the glass thin film has a thickness of 0.1 to 0.5. (7) The magnetic head according to any one of item 6, wherein the thickness of the glass thin film is equal to or equal to the cap length. (8) The magnetic head according to any one of claims 1 to 7, wherein the heat treatment temperature is from the softening temperature to the melting temperature of glass. (9) The magnetic head according to any one of claims 1 to 8, wherein the gap length of the magnetic head is 4#1111 or less. (1O) The total film thickness of the copper or copper alloy thin film and the glass film is equal to the gap length or 1.2 times or less thereof, according to any one of claims 1 to 8.9. magnetic head. (11) Amorphous magnetic alloys include Fe, Go, Si and B
The magnetic head according to any one of claims 1 to 10, comprising a composition mainly consisting of lu, Cu, and at least one of Ti.