JPS60239409A - 歯磨組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 するための歯磨組成物，特に歯科用クリームまたはゲル
に係る。

現今，歯垢と歯肉炎症との間にはある関係があることが
確立されているゎ現在歯垢を除去するために最も普遍的
に行なわれているのは歯ブラシによる機械的清浄方法で
ある。しかしながら、一般に行なわれている歯磨は比較
的短時間のため，特に歯ブラシが届き難い部分の歯垢を
除去するには不充分である、 過去２５年間にわたる歯科分野の文献には、歯垢に対処
するための抗菌剤の使用に関する発表が非常に多い。殆
んどの研究はカチオン性薬剤の使用に集中している。何
故なら，これらは口腔組織に対し独立して（持続的に）
存在し得，したがって口内に保持されるからである。こ
れらの薬剤の活性は，これらが口腔表面上に吸着されか
つ一定期間にわたり徐々に放出されることによると信じ
られる〔ジャーナル・オプ・クリニカル・ペリオドント
ロジ−（ｔＴｏｕｒｎａ．Ｌ　ｏｆ　Ｃｌｉｎｉｃａｌ
Ｐｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌｏｇｙ）　、１　９　８　０年
，第７巻，第４３１−４４２員〕。活性抗菌剤が口腔表
面上に吸着されないと，口腔内バクテリアが急速に回復
し，歯垢発達（成長）の有意義な減少は期待されない〔
ブリティッシュΦデンタル・ジャーナル（Ｂｒｉｔｉｓ
ｈ　Ｄｅｎｔａｌ　、Ｔｏｕｒｎａｌ　）、　１　９　
８　４年３月，第１７５−１７８員〕。しかしながら、
市場に受け入れられる練歯磨中へカチオン性抗菌剤を配
合することはまだ成功していない。これは少な（とも部
分的にカチオン性抗菌剤と一般の練歯磨成分との非相溶
性に起因する。さらに、カチオン性物質，特に鋭意研究
されているクロルヘキシジンは、菌を着色したり口腔組
織を刺戟したり或いは苦味が長い間残ったりするなどの
欠点をも有する。歯の着色問題を克服する試みは，多（
の特許の主題となっている。本発明者らの確信するとこ
ろでは，有意義な抗歯垢（歯垢防止）効果を有すること
が認識されているカチオン性抗菌剤を含有する寺叢り練
歯磨は現在に至るも市販されていな（−１。

カチオン性化合物以外の抗菌剤を使用して口腔内の衛生
を改善する試みに関する文献も存在するが、一般にこれ
ら薬剤の口腔内持続性は有意義な抗歯垢特性を得るには
不充分であると考えられ。

いずれにせよこれらは概して難水溶性であるため有用で
ないと考えられている。従来、歯磨の活性薬剤は練歯磨
の水性相中で溶液状態である必要があると一般に信じら
れていた。

本発明者らは、実質的に水不溶性の非カチオン性抗菌剤
またはこれら抗菌剤の混合物を用いると。

これを含有する歯磨組成物が下記に詳細に説明するい（
つかの特性を有すれば，歯垢の発達を相当に減少させう
ろことを見い出した。このような予期されＩＬρ）つた
抗歯垢活性は，本発明の特殊な歯磨組成物によって，抗
菌剤が歯表面に対して放出され，歯垢の再発達の速度，
歯垢代謝の速匪および平衡歯垢レベルに対し実質的な影
響を及ばずのに充分な時間にわたって歯表面に留まるこ
とができるという事実に基づ（ものと思われる。

また本発明者らの研究によって、本発明の特殊な歯磨組
成物は、亜鉛塩（一般に抗歯垢効果を有することが知ら
れている）の口腔内保持を増進させて歯垢成長の抑制効
果をも改善しうろことが示された。各種の亜鉛塩、たと
えばクエン酸亜鉛が米国特許第４，０２２，８８０号に
開示されている。また、カルボキシメチルオキシコハク
酸亜鉛の使用については米国特許第４．１４４，３２３
号に記載されている。

本発明によって１表面活性剤と、実質的に水不溶性の非
カチオン性抗菌剤、もしくは２５℃、ｐＨ７で水１００
ｇ当り２　Ｘ　１０−’　ｇより大きく、好ｌ　ましく
は”ｘｔｏ−”ｇｊり大きい水溶声性を有する亜鉛塩、
またはこれらの混合物より成る抗歯垢剤（ａｎｔｉ−ｐ
ｌａｑｕｅ　ａｇｅｎｔ　）とを含む１１．歯垢の成長
を抑制するのに有効な歯磨組成物が提供され。

この歯磨組成物中には、６．Ｏｎｍ未満のラメラ間隔（
ｌａｍｅｌｌａｒ　ｓｐａｃｉｎｇ　）を有する表面活
性剤分子と水分子との交互の相からなる離液性のラメラ
液晶相（以下、ラメラ液晶表面活性剤相と云う）が存在
し、このラメラ液晶表面活性剤相が歯磨組成物の少なく
とも０．２重量％、好ましくは少なくとも０．３重量％
、より好ましくは少な（とも０．５重量％の量で存在す
ることを特徴とする。

歯磨組成物がラメラ液晶表面活性剤相を含んでいるかど
うかは、歯磨−を遠心分離工程にかけて得られる生成物
を検査して決定することができる。

これについて以下に説明する。

歯磨舅な充分な遠心力で遠心分離し、一般に研磨剤相、
水性相、洗浄剤相および香料相として存在する主たる相
を分離する。予備的遠心分離で大部分の研磨剤を分離す
ると便利であり１次いで超遠心分離によって液体部分の
夫々の相を分離する。

必要とされる遠心分離の速度および時間は１分離に対す
る調合物の抵抗性に依存する。結合剤としてナトリウム
カルボキシメチルセルロースを含有する歯磨の場合は、
遠心分離に先立って結合剤を酵素的に分解すると分離が
容易になる。歯磨をセルラーゼ含有粉末（０，１Ｗ／Ｗ
％、アスペルギルス・３ガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ
　ｎｉｇｅｒ　）から調製。

活性１．３単位／ｍ９）と共に室温で１８時間インキュ
ベートしてナトリウムカルボキシメチルセルロース結合
剤を分解する。

得られたスラリー、または結合剤の予備的分解を行なわ
ない場合には歯磨自身を、ｔｏ、ｏｏｏｐｇて゛１時間
遠心分離しζで沈降した研磨剤を除去する。

次に、液体部分を２時間２００，０００．ｊ９で遠心分
離する。一般にこの遠心分離条件で歯磨の各相をうまく
分離できることが判明した。

この遠心分離工程で得られた生成物を１本明細書におい
て遠心分離生成物と呼ぶ。この遠心分離主要部が構成さ
れている。遠心分離生成物の残部には、液晶の形態の表
面活性剤よりなる層が含まれていることがある。存在す
る場合この層は一絞に上層または上層の１つを構成する
。その実際の位置は、これら層の相対密度に依存する。

この液晶表面活性剤相を遠心分離生成物から除去するこ
とができ、その重量を歯磨に対する％として決定するこ
とができる。ラメラ液晶表面活性剤相は基本的に水層に
よって分離された表面活性剤分子の複数個の層で構成さ
れるが、歯磨の全体組成に応じて他の成分を含んでいて
もよい。表面活性剤層と水層との間のこれら他の成分の
分配は、それぞれの水溶性および疎水性に依存する。

液晶は周知であり、これらについて記載した最近の文献
はエルセビール・サイエンティフィック出版社（Ｅｌｓ
ｅｖｉｅｒ　１Ｅｔｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　Ｐｕｂｌｉｓ
ｈｉｎｇ（’！ｏｍｐａｎｙ　、アムステルダムーオッ
クスフォードーニューヨーク、１９８３年）が出版した
イー・ワイン−ジョーンズ（Ｋ、　Ｗｙｎ−Ｊｏｎａｓ
　）およびジエー・ゴーマリ−（Ｊ　、　Ｇｏｒｍａｌ
ｌｙ　）編集の「溶液中の凝集工程（Ａｇｇｒｅｇａｔ
ｉｏｎ　Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ　１ｎＳｏｌｕｔｉｏｎ　
）　Ｊと題するものであり１％にその「離液性液晶（Ｌ
ｙｏｔｒｏｐｉｃ　ＬｉｑｕｉｄＣｒｙａｔａｌｓ　）
　Ｊと題する第７章を参照することができる・遠心分離
生成物がラメラ液晶表面活性剤相を含む場合、層間隔は
Ｘ線散乱技術によって決定することができる。

層間隔ｄ。は１層状液晶構造の断面における反復単位間
の距離、すなわち洗浄剤シートの厚さとこれら洗浄剤シ
ート間に挾まれた水層の厚さの合計として定義される。

これは、小角度Ｘ線散乱（８ＡＸ８）、すなわち結晶も
しくは液晶物質中における１〜１，０００ｍｍの範囲の
長周期（ｌｏｎｇｐｅｒｉｏｄｉｃｉｔｉｅｓ　）を測
定するのに使用される技術によって測定することができ
る。この測定に使用される［クラドキー（Ｋｒａｔｋｙ
　）　Ｊ　Ｓ　ＡＸ　Ｓカメラでは精巧なコリメーター
によってＸ線（Ｃｕ。

Ｋａ放射）の細いビームが発伍し、これが１騨のガラス
製毛細管に入れであるかまたは厚さ６１１ｍのマイラー
（Ｍｙｌａｒ）フィルムの間に挾持された試料に衝突す
る。

この散乱した放射線を、角度に対する散乱強度の変化を
測定する比例計数管によって検出する。

最大ピークに相当する角度をチャートレコーダーの記録
から測定し、対応する「ｄ−間隔」を次のブラッグの条
件式から算出する： ２層画θ−ｎλ 〔ここでＣｕ　Ｋａ放射の場合、ｎ−１，λ−０，１５
４２層ｍである〕。

ラメラ液晶相のラメラ間隔を測定するためにこの技術を
応用することについては、ジャーナル・オフ’−コロイ
ド・アンド・インターフェース◆サイエンス（Ｊｏｕｒ
ｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏ１１ｏｉｄ　ａｎｄ　Ｉｎｔｅｒｆ
ａｃｅＳｃｉｅｎｃ＠）　ｓ　ｌｆｔ　４１巻、第１号
（１９７４年４月）、第５９〜６４貞および第８６巻、
第２号（１９８２年４月）、第５０１〜５１４員に記載
されている。

液晶表面活性剤相のラメラ間隔は、好ましくは５、Ｏｎ
ｍ未満、特に好ましくは４．４層ｍ未満である。

歯磨に使用される最も一般的な表面活性剤は。

ヤシ油脂肪酸から誘導された主としてドデシル硫とがで
きる。他の公知の歯磨用表面活性剤としてはドデシルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムがあるが、これは歯磨の表
面活性剤として単独では一般に使用されず、ラウリル硫
酸ナトリウムと組み合せて使用することができる。ラウ
リル硫酸ナトリウムとドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウムとの適当な組み合せは１重量で４＝１〜１：４の
割合である。亜鉛含有抗歯垢剤を含む歯磨にこれら表面
活性剤の組み合せを使用することは、英国特許公開第Ａ
−１，３７３，００３号に記載されている。

ナトリウムラウロイルサルコシネートは他の周知の歯磨
用表面活性剤であって、これも本発明の歯磨に使用する
ことができる。

歯磨中の表面活性剤は３種の主たる形態、ｆなわち溶液
、液晶相または結晶固体として存在することができる。

表面活性剤が存在する形態は、特に歯磨の他の成分に依
存する。たとえは、単独または主たる液体湿潤剤として
極めて一般的に使用されるグリセロールの存在下では１
表面活性剤は溶液として存在する。何故なら、グリセロ
ールは一般的な歯磨用表面活性剤に対する溶剤とな・る
かうである。同じことがプロピレングリコール（これも
周知の歯磨用湿潤剤である）についても言える。さらに
、ソルビトールを湿潤剤として使用する場合には、香料
油が存在しないとき表面活性剤は固体結晶相として存在
することも判明した。すなわち、液晶表面活性剤相の形
成を促進する歯磨調合物は、主としてソルビトールを湿
潤剤として使用しかつさらに香料油を含有するものであ
る。

しかしながら、液晶表面活性剤相の形成を妨げないよう
な量のグリセロールをソルビトールと組み合せて使用す
ることが可能である。勿論、ラメラ液晶表面活性剤相の
他の生成方法も本発明の範囲内である。

歯磨中の液晶表面活性剤相の層間隔は、水性相の電解質
濃度によって影響を受ける。すなわち。

本発明に従って６．Ｏｎｍ未溝の層間隔を得るには。

水性相の電解質濃度を調節することで行なうこと戸　が
できる。このような低ラメラ間隔を得るには、電解質濃
度を比較的高くする必要がある。しかしながら、電解質
濃度の調節以外の手段を使用してラメラ間隔を調整する
こともできる。

適する電解質濃度は、適当な水溶性電解質を添加して得
ることができる。低いｄ。値を得るのに必要とされる電
解質の量を決定するには簡単な実験しか必要とされない
。一般に、治療成分および他の歯磨成分に対し相溶性で
ありかつ感覚（刺激）的に許容しうる任意の無毒性塩ま
たは塩の混合物を使用することができる。ここにいう塩
とは、抗カリエス特性を付与するために含ませうる何ら
かの弗素含有塩に付加するものである。勿論、この種の
塩は表面活性剤（これも電解質である）および同様に存
在させうる任意の亜鉛塩に付加するものである。また、
この追加の塩は、水性湿潤剤液相用の結合剤もしくは増
粘剤（シックナー）とも区別されるべきであり、この結
合剤もしくは増粘剤は一般的に使用される歯磨成分であ
り、塩たとえばナトリウムカルボキシメチルセルロース
であってもよい。常用レベルでは１表面活性剤、結合剤
および弗素含有塩を組入合せて使用しても表面活性剤液
晶相の層間隔を６．０部ｍ未満まで低下させる程充分な
電解質濃度は得られない。

追加する塩のカチオンは好ましくはナトリウム。

力Ｖウム、アルミニウム、マグネシウムまたは亜鉛であ
る。適するアニオンは酢酸、塩化物、クエン酸、グルコ
ン酸、乳酸、硫酸、燐酸、酒石酸。

グリコン酸（ｇｌｙｃｏｎａｔｅ　）およびアスコルビ
ン酸イオンである。ｄｏ値を減少させるのに成る種の塩
は同一モル濃度のカチオン添加で他のものよりも有効で
ある。好ましい塩はナトリウムおよびアルミニウムの塩
である。

塩化ナトリウムの添加量は、歯磨組成物に対し約０．１
〜約３重量％、好ましくは約０．１〜約１重景％の範囲
とするのが好適であることが判明した。

その他の塩は、全カチオンモル濃度が前記塩化ナトリウ
ムの量（モル製置）に相当するような量で添加すること
ができる。

所望の低ラメ９聞障シ怨スのｒｒη騨シ代七ス上り多い
塩を含ませることは推奨できない。過剰量は歯磨の感覚
（刺激）的な面での品質を損なうだけでな（、実際に液
晶相の破壊をもたらす。５％の塩化ナトリウムを添加す
ると液晶が破壊されうろことが判明した。したがって、
添加する電解質の量は歯磨に対し約３重量％の塩化ナト
リウムに相当（当価）するカチオン七ル当量を越えない
ことが推奨される。実際上１層間隔の最適な減少は。

３重量％より相当少ない塩化ナトリウムの添加レベルで
達成され得る。

存在する場合亜鉛塩は水性相の全電解質濃［Ｋ寄与する
。

水性相中に存在する電解質の１部は、固体研磨剤から生
ずるイオン、たとえばアルミナ研磨剤からのアルミニウ
ムイオンからなっていてもよく、水性相中のこのような
イオンの割合は使用するミキサーのタイプ、特に歯磨の
製造中固体成分を混合するのに使用されるエネルギーに
依存し得る。

本発明の歯磨は、一般に少なくとも１重量％の液晶表面
活性剤相を有し、典型的にはその含有量は１．５〜１２
重量％である。

本発明の歯磨の抗歯垢剤は実質的に水不溶性の非カチオ
ン性抗菌剤または上記に定義したような亜鉛塩またを丁
これらの混合物である。水門＋１ｉｌｌｌ書中実質的に
水不溶性の抗菌剤という用語は、２５℃味する、ただし
、抗菌剤がイオン化しうる残基を含有する場合、溶解匿
はこれらの残基がイオン化されないようなｐＨで測定す
るものとする。本発明の歯磨組成物に使用する抗菌剤は
１本質的に非イオン性であると見なすことができる。し
かしながら、多（の適する抗菌性化合物は成るｐＨにお
いてイオン化しうる１個以上のフェノール性ヒドロキシ
基を含有する。したがって１本発明の歯磨組成物に有用
な抗菌剤の一般的なものが非カチオン性であると記載す
る方が正確であると考えられる。

本発明の歯磨組成物に使用しうる非カチオン性抗菌剤の
例はフェノール系化合物、ビスフェノール系化合物、ハ
ロゲン化ジフェニルエーテル、安息香酸エステルおよび
カルボアニリドである。

フェノール系抗菌化合物（〕・ロゲン化サすチルアニリ
ドを包含する）の例は次の通りである。

２−フェニルフェノール。

４−クロロフェノール。

４−クロロ−２−メチルフェノール。

４−クロロ−３−メチルフェノール。

４−クロロ−３，Ｓ−ジメチルフェノール。

２．４−ジクロロ−３，５−ジメチルフェノール。

３．４，５．６−テトラプロモー２−メチルフェノール
。

５−メチル−２−ペンチルフェノール。

４−イソプロピル−３−メチルフェノール。

５−クロロ−２−ヒドロキシジフェニルメタン。

４′１５−ジブロモサリチルアニリド。

３．４’、５−）リクロロサリチルアエリド。

３　、４’　、　５−　）、ジブロモサリチルアニリド
。

２．３．３’、５−テトラクロロサリチルアニリド。

３　、３’　、　４　、　ｆｉ’−テトラクロロサリチ
ルアニリド。

３．５−ジブロモ−３′−トリフルオロメチルサリチル
アニリド令 ５−ｎ−オクタノイル−３′−トリフルオロメチルサリ
チルアニリド。

ビスフェノール系化合物としては次のものを挙げること
ができる。

２．２′−メチレンビス（３，４，６−）ジクロロフェ
ノール）。

２．２′−メチレンビス（４−クロロフェノール）。

２．２２−メチレンビス（４−クロロ−６−ブロモフェ
ノール）。

ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ス
ルフィド。

ビス（２−ヒドロキシ−５−クロロフェール）スルフィ
ド。

これらの抗菌剤はその亜鉛誘導体として使用することが
でき、多くのものが米国特許第４，０２２，８８０号に
開示されている。

ハロゲン化上ドロキシジフェニルエーテルヲ例示すれば
１次の化合物が挙げられる０ ２’、４．４’−１，リクロロー２−ヒドロキシージフ
ェニルエーテルおよび ２．２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジブロモ−ジフェ
ニルエーテル。

他の周知の種類の非カチオン性抗菌剤はｐ−ヒドロキシ
安息香酸のエステル、％にメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、ヘプチ
ルおよびベンジルエステルである。

ハロゲン化カルボアニリドも使用することができ、これ
らは次のものが典盤例である。

３．４．４’−）リフローカルボアニリド。

３−トリフルオロメチル−４，４′−）ｐロロカルボア
ニリド。

３　、３’　、　４−トリクロロカルボアニリｖ０その
他の公知の実質的に水不溶性の非カチオン性抗菌剤、た
とえば２．４−ジクロロベンジルアルコール、３．４−
ジクロロベンジルアルコールおよび３−　（４−クロロ
フェノキシ）−プロパン１　−”　・′−″−′も使用
する０と力゛１０゜好適な抗菌剤はハロゲン化ビスフェ
ノール化合物およびハロゲン化ヒドロキシジフェニルエ
ーテルである・特に好ましいものは、２’、４．４’−
）ジクロロ−２−ヒドロキシ−ジフェニルエーテル（以
下、トリクロサ７　（Ｔｒｉｃｌｏｓａｍ　）と云う）
オヨヒ２．２′−メナレンビス（４−クロロ−６−ブロ
モフェノール）である。

一般に、抗菌剤は歯磨に対し０．０１〜５１景％。

好ましくは０．０５〜１重景％重量で使用される。

抗菌剤の混合物も、勿論、使用することができる。

また１本発明の歯磨組成物の抗歯垢剤は、２５℃、ｐＨ
７１）水１００ｆｉ当り２Ｘ１０−’ｐより太き（、好
ましくはＩ　Ｘ　１０”−”、、９より大きい水溶性を
有する亜鉛塩とすることもできる。多数の適する亜鉛塩
が米国特許第４，０２２，８８０号に記載されている。

好ましい亜鉛塩はモノ−、ジーおよびトリーカルボン酸
、α−ヒドロキシカルボン酸およびアミノ酸の亜鉛塩で
ある。好適な塩の例はクエン酸亜鉛、酒石酸亜鉛、リン
ゴ酸亜鉛、乳酸亜鉛。

グリコール酸亜鉛、コハク酸亜鉛、カルボキシメチルオ
キシコハク酸亜鉛、グルコン酸亜鉛、サリチル酸亜鉛、
亜鉛ヒスタミンおよび亜鉛ヒスチジンである。米国特許
第４，３２５，９３９号に記載されているよ５なアンモ
ニウムおよびアルカリ金属のクエン酸亜鉛塩も使用する
ことができる。２種以上の亜鉛塩も、勿論、使用するこ
とができる。

亜鉛塩または亜鉛塩の混合物は、望ましくは歯磨中に約
０．０５〜約１．５重量％の亜鉛を供給するような量で
使用される。

好適な亜鉛塩はクエン酸亜鉛である。これは三水塩とし
て容易に入手することができる。好ましくは、これは約
０．２〜約５重量％、特に好ましくは０．２〜２重量％
の量で配合される。

抗菌剤をたとえばクエン酸亜鉛のような亜鉛塩と組み合
せて使用すると最良の結果が得られろう特に好適な抗歯
垢系は、トリクロサンとクエン酸亜鉛との組み合せ、お
よび２．２′−メチレンビス（４−クロロ−６−ブロモ
フェノール）とクエン酸亜鉛との組み合せとに基づくも
のである。抗菌剤とクエン酸亜鉛との組み合せは最良の
歯垢成長抑制度を示し１％に好適な組み合せはトリクロ
サンとクエン酸亜鉛との組み合せである。この後者の組
み合せ忙より、カチオン性物質の使用に関連した重大な
欠点を示すことな（、クロルヘキシジンを用いて得られ
る抑制に近い歯垢抑制が得られるＯ 本発明の歯磨組成物は、好ましくはさらに練歯磨の活性
成分に対し相客性の粒状研磨剤をも含む。

特に好適なものは水和アルミナおよびシリカ研磨剤であ
り、これら両者は市販製品として広（使用されている。

燐酸塩研磨剤も広（使用されているが、これらは亜鉛塩
を含む場合には適していない。

何故なら、これら成分の間に化学的相互作用が生じうる
からである。研磨剤の粒子寸法は一般に通常通り２〜２
０　ａｍの範囲である。適するグレードのα−アルミナ
三水和物は、英国のＢＡケミカルズ社（ＢＡ　Ｃｈｅｍ
ｌｃａｌｓ　）によりＢＡＣＯの名称で、および西ドイ
ツのフルチンスヴエルケ社（Ｍａｒｔｉｎｓｗｅｒｋｅ
　ＧｍｂＨ）によりマルチナル（ＭＡＲＴ　Ｘ　ＮＡＬ
　）の名称で販売されている。好適なシリカ研磨剤は周
知のシリカキセロゲルおよび沈降シリカ、たとえばガシ
ル（ＧＡＳＩＬ）２００（クロスフィールド・ケミカル
ズ社（ＣｒｏａｆｉｅｌｄＣｈｅｍｉｃａｌＳ）　、英
国により販売されてイル）。

サイロイド（８ＹＬＯＩＤ　）　６３　（ブレース・コ
ーポレーション（Ｇｒａｃｅ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
　）、ＵＳＡにより販売されている）およびゼオ（ＺＥ
Ｏ）４９（ヒユーバー・コーポレーション（Ｈｕｂｅｒ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｌ、ｏｎ　）　！Ｉ　Ｕ　Ｂ　Ａ　Ｋ
より販売されている）である。研磨剤の使用量は一般に
歯磨組成物に対し５〜６０重量％の範囲である。

歯磨組成物に使用するのに適する結合剤または増粘剤は
当業者に公知である。一般的に使用されるものは、ナト
リウムカルボキシメチルセルロースおよびキサンタンガ
ムである。歯磨に着香するにはペパーミント油およびス
ペアミント油が一般に使用されるが、他の広範な種類の
香料油も使用することができる。上記の一般的な標準成
分の他に、多数の任意成分も含ませることができ１％に
たとえはモノフルオロ燐酸ナトリウムのような弗化物、
乳白剤（たとえば二酸化チタン）、保存料。

甘味料およびｐＨ調整剤も含むことができる。

本発明による歯磨の水分含量は一般に不溶性固形物を除
いた歯磨の重量に対し約２５〜６０重量％の範囲である
。

本発明の歯磨は常法により製造することができる。液晶
表面活性剤相の低ｄ。間隔は最終練歯磨組成物の水性相
中の電解質濃度によって調節されるので、製造の際の水
分損失は電解質濃度（したがってｄ０間隔）Ｋ影響を与
える。したがって、製造に際し高過ぎる温度を使用した
り或いは過匿の熱を発生させるのは避けるのが望ましく
、処理温度は好ましくは１５〜３５℃、より好ましくは
２２〜３２°Ｃの範囲である。

以下、実施例により本発明を説明する。

％は重）ｋによる。

実施例　１ 多数の練歯磨を次の成分力）ら作成した。

成分　％ アルミナ三水和物　５０．００ ソルビトールシロツプ（７０％溶ｔ）　２７．００ラウ
リル硫酸ナトリウム　１．８７５ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム　０．６２５ナ
トリウムカルボキシメチルセルロース　０．８０クエン
酸亜鉛三水塩　１．００ トリクロサン　０．５０ モノフルオロ燐酸ナトリウム　０．８５香料　１．２０ サッカリン酸ナトリウム　０．１８ ホルマリン　０．０４ 水　ｉｏｏ、ｏｏまで 各種の練歯磨用ミキサーを用いて練歯磨を作成した。成
るミキサーは他のミキサーより大きい混合エネルギーを
有していた。成る場合には、他の場合よりも水分損失が
大きかった。このため、溶液中に入って来た研磨剤に由
来する様々な量のカチオンと相俟って、異なる電解質濃
度を有する練歯磨が得られた。それぞれの場合１表面活
性剤は練歯磨中に液晶の形態で存在していたが、ラメラ
間隔は最終生成物の水性相中の電解質濃度が異なる結果
種々の練ｍｓで異なっていた。この実施例および後述の
全ての実施例の練歯磨を製造する際、成分は２２〜３２
℃の範囲の温度で混合した。ラメラ間隔ｄ０の数値を下
記第１表に示す。第１表およびその他水門細書中に示し
たｄ、の数値は、各練歯磨の製造後１ケ月以内に測定し
た。

さらに第１表には各生成物のＰＧ値も示す。

ｐＧは歯垢の発達を意味し、ＰＧ値が低い穆、歯に対す
る練歯磨の歯垢発達抑制効果が大きい。

ＰＧ値は、歯垢の発達を測定する標準法にしたがって得
られるデータから決定される。歯垢の発達の測定法は、
ジャーナル・クリニカル・ベリオドントロジ−（、Ｔ、
Ｃ１１ｎ、Ｐｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌ、）、１９７４年、
第１巻、第１６６−１７４員に記載されていル都、ラッ
プ（Ｈａｒｒａｐ　）の方法であり、これは歯肉境界部
に隣接した歯に対する歯垢の量の測定方法である。この
方法は次の通りである。

午后遅（、各被検者が単純な非活性練歯磨（以下に示す
ような組成を有する）により歯を不特定時間層いて、で
伊るだけ歯垢を除去する。この直後に、１．３１７の所
定の試験練歯磨で１分間歯を磨く。残留した練歯磨を水
で口をゆすいで除去し。

残存する歯垢を軟質ラクダ毛ブラシを用いてエリスロシ
ン（Ｅｒｙｔｈｒｏｓｉｎ　）の水溶液（０，５ｖ／ｗ
ｌ　％）を歯に塗布して顕示させる。過剰の染料を水洗
して除去し、歯垢の量を測定し、１６本の歯のそれぞれ
（各象限（上下の顎の左右四部分）の第３〜６歯）につ
き記録する。記録した歯垢をＰｏとして示す。

他の口腔内衛生は１８時間にわたり許可せず。

その後各被検者が水で口をゆすいで食物残渣と粘性唾液
とを除去する。次いで、上記のように歯垢測定を行ない
、かつ記録するＣＰ、８）。各歯に関する”１ｌｌ−Ｐ
Ｏの数値を平均して、１名当りのＰ□、−Ｐｏ値を得る
。試験した被検者の得られた数値の平均がｐＧ値である
。少な（とも１２名の被検者よりなるパネルを用いる。

活性成分を含有しない練歯磨のＰＧ値は通常２２〜２６
の範囲にある口 上記した単純な非活性練歯磨の組成は次の通りとした。

成分　％ アルミナ三水和物　５０．００ グリセリン　２７．００ ヒドロキシエチルセルロース　０．９５二酸化チタン　
０．５０ 水　１００．００まで 配合した練歯磨のラメラ間隔およびｐＧ値を。

ラメラ間隔の大きさの順に第１表に示す。

６．６　１９．９ ６．３　１８．５ ６．１　１６．８ ５．６　１６．１ ５．０　１５．６ ４．８　１４．５ ４．６　１３．４ ４．３　１２．４ ４．０　１２．０ 表は、ｄｏ値が減少するにつれて歯垢成長を抑制する練
歯磨の効果が増大することを示している。

上記練歯磨に対する液晶表面活性剤相の量は、全て各練
歯磨に対し１．５重量％を越えていた。

実施例　２ この実施例は、比較的少量の電解質を添加して得られる
ＰＧ値の有利な減少を水、している。

塩化す）　ＩＪウムを含有する各種の練歯磨を、第■表
に示した成分を用いて作成した。

アルミナ三水和物　←　５０．００　→ソルビトールシ
ロラフ”（７０％）←　２７．００　→ラウリル硫酸ナ
トリウム　←　１．８７５　→ドデシルベンゼンスルホ
ン酸　←　０．６２５　→ナトリウム ナトリウムカルボキシメチル　０．８５　０．８５　０
．８０セルロース クエン酸亜鉛三水塩　←　０．５０　→トリクロサン　
←　０・２０　″ 塩化ナトリウム　ｏ、ｓｏ　ｏ、ｓｏ　ｏ、ｓ。

二酸化チタン　０．５０−− モ／フルオロ燐酸ナトリウム　←　０．８５　→ナトリ
ウムサッカリン　←　０．１８　→ホルムアルデヒド　
−０，０４０，０４香料　←　１．２　→ 水　１００．０　１００．０　１００．０ま゛塩化ナト
リウムを用いずに対応する練歯磨Ａ′。

Ｂ′およびＣ′を作成した。

６対の練歯磨Ａ　、　ｘ　、　Ｂ　、　Ｂ′およびｃ、
ｃ’を同じ方法で同じミキサーを用いて作成した。６対
は市販のミキサー、すなわちそれぞれトンプソン型（Ｔ
ｈｏｍｐｓｏｎ　）　、プレスインダストリヤ型（ｐｒ
ｅＳｓ：Ｌｎｄｕｓｔｒｉａ　）およびフリ７型（Ｆｒ
ｙｍａ　）ミキサーを用いて作成した２ 第■表は、それぞれの場合塩化す）　ＩＪウムを含ませ
ると歯垢成長を抑制する効果が改善されることを示して
いる。

第　■　表 Ａ、Ａ’　３．５　６．３ Ｂ、Ｂ’　３．１　５．６ Ｃ，Ｃ’　３．３　４．３ 亡 １：塩含有の練歯磨は、塩を含有しない各練歯磨よりも
小さいｄ。値を有する表面活性剤液晶相を含んでいた。

２：塩含有の練歯磨は、塩を含有しない各練歯磨よりも
低いｐＧ値を示した。

６種の練歯磨のそれぞれの液晶表面活性剤相の量は２重
量％を越えていた。

実施例　３ 実施例２の練歯磨人と同じ成分から練歯磨を作成した。

ただし、この場合トリクロサンの代りに次の抗菌剤を使
用した。

練歯磨　抗　菌　剤 Ｄ　２　、２’−メチレンビス（３，４，６−ドリクロ
ロフエノール） この練歯磨のｄ。値、液晶表面活性剤重量割合（％）お
よびＰＣ値を第■表に示す。

Ｄ　４．１　３，７　１１．５ 実施例　４ この実施例は、他の抗菌剤の使用を示している。

実施例２の練歯磨Ｃと同様に練歯磨を配合したが、ただ
し第７表に示した抗菌剤をトリクロサンの代りに使用し
た。各練歯磨の液晶表面活性剤相のラメラ間隔ｄ。を、
液晶表面活性剤相の重量％と共に第７表に示す。

第　Ｖ　表 ５−メチル−２−ペンチルフェノール４．０　１．７２
．４−ジクｃｒｃＸベンジルアルコール４．２　１．６
４−クロロ−３，５−ジメチルフエ　４．２　２．０ノ
ール 実施例　５ この実施例は、練歯磨の液晶表面活性剤相のｄ。

間隔を低下させるために広範な種類の電解質を使用しう
ろことを示している− 実施例２の練歯磨Ｃの各成分を有する一連の練歯磨を作
成し、ただし塩化ナトリウムの代りに下記第■表に示す
他の塩を使用した。この表は、さらに各練歯磨における
液晶表面活性剤相のｄ０間隔をも示している。

塩化カリウム　０．６４　３．５　３．６硫酸マグネシ
ウム・７Ｈ２０λ１１　４．５２．６乳酸カリウム　１
．１０　１６　１．４酒石酸カリウムー０．５Ｈ，０１
，０１３，’１　１１酢酸ナトリウム　０．７０　＆５
　３．０アスコルビン酸ナトリウム　１．６９　１８　
＆２乳酸ナトリウム　０．９６　３．８　３．０硫酸ナ
トリウム　０．６１　４．２　λ９（クエ杉、す？Ａ　
−２Ｈ，。　０．８−４　３．６　３．０グルコン酸カ
リウム　１００　３．３　１．７酢酸カリウム　０．８
４　３．６　１．２グリシン酸ナトリウム−ＩＨ２００
，９８３，９１７グルコン酸ナトリウム　１．８７　３
．９　２２酒石酸ナトリｆｙム−２ＨＯＯ，９９４，０
１２それぞれの場合、堰の配合量は０．５％塩化ナトリ
ウムと同じモルカチオン濃度と当価とした。

練歯磨ＣおよびＣ′に関するｄ０値はそれぞれ３．９　
ｎｍおよび７．２ｎｍであった。

実施例　６〜ｌＯ 次のものは、作成した本発明の歯磨調合物の他の例であ
る− （以下余白） 成分　％ アルミナ三水和物　５０００　５０００　５０００　５
０１３０　−（Ｂｉｐｅｒｎａｔ）２２Ｓ） ラウリル硫酸ナトリウム　１８７５　２Ｊ５０　１８７
５　１ＪＩＩ７５　２４０キサンタンガム　−１００−
−− クエン酸亜鉛三水塩　１０００舅　０５０　−　０５０
トリクロサン　０２０　０１２　０２０　０５０　０２
０塩化ナトリウム　ｏｓｏ　−−−ｉｏ。

二酸化チタン　０５０　１００　−　−　−ナトリウム
サッカリン　０１８　０１８　−　０１８　０３０ナト
リウムシクラメイト　−　−２００−−ホル？すｙＢｐ
　’　００４　００４　０ｏ４　００４　−香料油　１
２０　１２０　１，２０　１２！０　１２０着色料　０
００８　０００７　−　−　＋水　１００ｆｌＯ１００
Ｄ０　１００Ｄ０　１００ｊ）０　１０ω０までｄ０間
隔（ｎｍ）　４０　３９　３８　３．７　３ｊＳｐＧ値
　１２７１３１　−　１０７　−１　：　１．４１％の
クエン酸三ナトリウムニ水塩と１．３７５％の硫酸亜鉛
上水塩との水性プレミックス、 】Ｉ■ｔＬＬユ１３ 次のものは、さらに本発明による歯磨調合物の他の例で
ある二 成分　重量部 実施例＝　ユニ　１２　１３ アルミナ三水和物　！１０．０００　５０．００　５０
．００ソルビトールシロツプ（７０％）　２７．００　
２７．００　２７．００ラウリル硫酸ナトリウム　−１
，５００，７５ドデシルベンゼンスルホ閃唆　λ００　
−　０．７５ナトリウム クエン酸亜鉛三水塩　１．００　１．００　１．００ト
リクロサ／　０．５０　０．５０　０．５０塩化ナトリ
クム　１．００　０．５０　１．００モノフルオロ燐酸
　０．８５　０，８５　０．８５ナトリウム ナトリウムサッカリン　０．２０　０．２０　０．２０
ホルマリンＢＰ　Ｏ，０４０，０４０，０４香料油　１
．２０　１．２０　１．２０水　９．９１　９．９０　
１１．９１ ｄｏ間隔（ｎｍ）　３．４　＆８　３．６液晶相の重量
％　０．３　λＩ　ＳＬＩ実施例　１４ この実施例は、低いｄ。間隔を有する液晶の形態で表面
活性剤相を存在させた練歯磨Ｃで゛（、＆で。

ｄ０値がこれより高い練歯磨よりも歯に対する抗菌剤の
保持が優れていることを示している。

このインビトロ法においては、ヒトの大臼歯を使用した
。試験練歯磨に露出させる歯の面積は次のように標準化
した。各歯を垂直方向に２分し。

ラクダ毛ブラシを用いて各半分をワックスで覆ったが、
ただし各半分の歯のエナメル質表面には６ａ＋ｉ”の窓
部を覆わずに残した。

練歯磨は、試験当日に次のように新たに作成した５０％
（Ｗ／Ｖ）スラリーとして供給した。使用した希釈剤は
エタノールと水との混合物（１：２ｖ／ｖ）とし、Ｈ’
−）リクロサンを溶解して試験するペーストの全含有量
よりも２０％多い練歯磨／希釈剤スラリーにおけるトリ
クロサンの最終濃度を与えた。たとえば、ペースト１ｇ
にっきトリクロサン２ｒＲ９を含有する組成物５ｇ（す
なわち、トリクロサン１０〜）を追加のＨ３−トリクロ
サン２■を含有するエタノール／水混合物５ａ！１でス
ラリー化した。

各場合に使用した試験スラリーの容量は３０　ｕｌとし
た。この量は、歯の窓部を覆うのに充分であり、これを
１分間で施こした。これを施こした後。

歯を水２ｄで４５秒間洗浄した。次いで、ワックスを除
去して捨て、かつ歯をさらにエタノール（２ｍ／りで４
５秒間づつ２回、および酸性化エタノール（２ｄ：濃塩
酸／エタノール１／９ｖ／ｖ）で３０分間１回洗浄した
。最終の２回のエタノール洗浄物および酸性エタノール
洗浄物に集められた放射能を適当な消光補正をしたバラ
カード・トリカルブ（Ｐａｃｋａｒｄ　Ｔｒｌｃａｒｂ
　）　４５３０　型シンチレーション・カウンターによ
り測定した。その際インスターゲル・液体・シンチレー
ション・カクテル（Ｉｎ５ｔａ　−ｇｅｌ　Ｌｉｑｕｉ
ｄ　５ｃｉｎｔｉｌｌａｔｉｏｎＣｏｃｋｔａｉｌ　、
ユナイテッド・チクノロシーズ・バラカード、　Ｕｎｉ
ｔｅｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　Ｐａｃｋａｒｄ　
）を使用した。次いで、これを露出窓部における歯表面
に対するトリクロサン結合量として表わした。

適当な比較実験によって、放射能が歯表面のワックス被
覆に浸透しないことが示された。ワックスに対するトリ
クロサンの結合は無視した。ワックスは単に保護膜とし
て作用し、かつ吸収量の測定はワックス窓部により露出
された歯の設定領域につき行なった。

それらの結果を第１表に要約する。

実施例　２Ａ　Ｏ，２４，０１，３６±０．１６＊実施
例　２ｘ　Ｏ，２７，４０，８７±０．０４＊実施例　
１０．蔑　４．０　１．２８±０．１３＊＊実施例　１
　０．５　６．３　０．８９十〇、ｌｌ”＊　５％レベ
ルで有意差のある数値 ＊＊ この実験に使用した練歯磨２Ａおよび２Ａ′のそれぞれ
は、第ｍ表にデータを示したものとは異なるものとした
。

実施例　１５ この実施例は、クエン酸亜鉛を含有する練歯磨を使用し
た後に口内に保持される亜鉛の量は練磨層の液晶表面活
性剤相のラメラ間隔が小さくなると大きくなることを示
し、ている。

１９名の試験員が口の周囲の練歯磨の水性スラリー（練
歯磨１ｇ、水４ＩＩＬｌ）を１分間ゆすいだ。

これを吐き出し工集めた後、ｔＯＩ１１７！の水で１分
間ゆすいでこれを集めた。分析により、練歯磨中におけ
る亜鉛のどの程度の割合がゆすいだ後に口内１　に保持
されるかを測定した。

使用した２種の練歯磨は、実施例１に示した組成を有す
る。

これらの結果を第■表に示す・ ４．０　２６％ ６．３　６％ 長期歯垢減少および歯肉衛生維持の例示この試験に使用
した練歯磨は、４．３ｎｍのｄ。

間隔を有する第１表に示したものとした。

１％のクエン酸亜鉛と０．５％のトリクロサンとを含有
する歯磨の長期使用が歯垢蓄積および歯肉衛生（健康）
に及ぼす効果を検討した、試験を２つの部分に分割し、
すなわち動因（ｍｏｔｉｖａｔｉｏｎ　）および専門的
清浄の影響を減少させる４週間の予備試験期間の後に１
０週間の実験期間を設けた。予備試験期間の際、参加者
は。

クエン酸亜鉛とトリクロサンとを省略した以外は試験練
歯磨と同じ組成を有するプラセボ歯磨を使用した。１０
週間の実験期間は、２週間の間隔で分離した４週間づつ
の２つの期間に分けた。これら４週間づつの２つの実験
期間に際し、参加者は二重盲検交差実験において試験歯
磨とプラセポ歯磨とを使用した。繰越効果の影響を最小
化させるため、２週間の間隔を設けた。

この試験に参加させる前に志願者を選別した。

この選別法は次の通りであった。ジャーナル・クリニカ
ル・ヘリオトントロシ−（Ｊ、Ｃ１Ｃ１１ｎｉｃａｌＰ
ｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌｏ　）、、　１９７５年、第２巻
、第２３１−２４０頁においてカラエル（Ｃｏｖｒｅｌ
ｌ　）等が推奨している部分記録法を使用して、対象と
する６本の特定の歯が明確なカリエスを含まずかつＷＨ
Ｏプローブ（ＷＨＯは世界保健機構（Ｗｏｒｌｄ　Ｈｅ
ａｌｔｈ　Ｏｒｇａｎｉｓａｔｉｏｎ）を意味する）を
用いて探査した際に３．５ＩＩＩＬ未満の関連するポケ
ット深さを有する試験員を選択した。さらに１選択した
被験者は、゛いかなる改善をも示しうるよ５最小レベル
の歯肉炎症（２４ケ所のうち７ケ所より多い出血点）を
少な（とも示さねばならなかった。年令２３才〜５５才
の２０名の男性および２９名の女性がこの試験に参加し
た。口腔衛生に関する指示は何も与えなかったが、参加
者には歯ブラシの頭部を覆うのに充分な量の歯磨（約１
．５ｇ）を使用するよう指示した。

シルネス（５ｉｌｎａｓｓ　）およびロエ（Ｌｏｅ）〔
アクタ・オドント、スカンジナビア（ＡｃｔａＯｄｏｎ
ｔ、　５ｃａｎｄｉｎａｖｉａ　）　、１９６４年、第
２２巻、第１２１−３５員〕による歯垢インデックスを
用ｔ）て歯垢を評価した。歯肉炎症については。

ロエ（Ｌｏｅ）［ジャーナル・ヘリオトントロシー（Ｊ
、Ｐｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌｏｇｙ　）　、　１９６７年
、第３８巻、第６１０−１６ＪＲ）によって記載された
歯肉インデックス、並びにカフエル（ｃｏｗｅ：ｔｌ　
）等〔ジャーナル・クリニカル・ペリオドン）ａジー（
Ｊ、Ｃ１１ｎｉｃａｌ　Ｐｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌｏｇｙ
　）　、　１９７５年、第２巻、第２３１−２４０４０
員〕り示唆された出血インデックスの変法により評価し
た。ポケット深さは、幅１．０顛の０．５朋目盛のプラ
スチックストリップを用いて記録した〔スミス（Ｓｍ１
ｔｈ　）　、プリティッシュ・デンタル・ジャーナル（
Ｂｒｉｔｉｓｈ　Ｄｅｎｔａｌ　Ｊ、　）　１９７５年
、第１３９巻、第３６９頁〕。ラムフィヨルド（’Ｒａ
ｍｆｊｏｒｄ　）　Ｃジャーナル・ペリオドントロジ−
（、ｙ、ｐｅｒｌｏａｏｎｔｏｌｏｇｙ　）　、　１９
５９年、第３０巻、第５１−５９頁〕により示唆された
ように代表歯（２本の大臼歯、２本の小口的および２本
の切歯）の頬領、歯列弓近心側、遠位側および舌側表面
につき評価を行なった。

先ず最初に、これらの歯を専門的に掃除して上部および
歯肉下部における歯垢および歯石を全て除去した。次い
で、参加者にプラセボ歯磨と新たな歯ブラシとを与えた
。さらに、歯を第２回の検査で専門的に掃除し、第１回
の実験交差期間に対する基準線を作成した。この検査で
記録した出血および歯垢のデータ欠使用して、試験員を
２つの調和したグループが形成されるようにこれら群の
１つに割当てた（第■表）。一方のグループには試験歯
磨を与え、かつ他方の群にはブラセボを与え、それぞれ
４週間使用させた。この期間の後。

臨床パラメータを再計測し、かつプラセボ歯磨を２週間
使用して第２回の交差期間の前に試験歯磨から生ずる全
ての繰越効果を回避した。臨床検査と専門的掃除とを、
第２実験期間の前に行なった。

次いで、各参加者にそれぞれ第２の歯磨を与えた。

参加者を、この期間の終了時に再び検査した。

４週間の予備試験期間にわたる歯垢、歯肉および出血イ
ンデックスの平均値を下記箱Ｘ表に示す。

基準線　０．８７　１，００　０．４７４週間　０．７
７　０．９９　０．４９両者の歯磨に関するそれぞれ４
週間の実験期間並びに全試験（ｎ−４１）に対する歯垢
、歯肉および出血インデックスの平均値を下記箱Ｘ表に
示す・ 歯垢インデックス プラセボ　０．９１　０，９１　０．９１試験歯磨　０
．６７　０，６７　０．６７統計的有意差　ｐ＜　０．
０５　０．０５　０．００１歯肉インデツクス プラセボ　０．９２　０．９３　０．９２試験歯磨　０
．７１５　０，７１０．７３統引的有意差Ｐ＜　０．０
６　０．０ｉ　ｏ、ｏｏｔ出血インデックス プラセボ　０．４９　０，５４　０．５１試験歯磨　０
．３９　０，４２　０．４１統計的有意差ｐ＜　０．０
９　０．０１　０．００１第Ｘ表に示した結果は、プラ
セボと比較して試験歯磨につき歯垢蓄積の有意な減少お
よび歯肉健康における改善を示している。

第１頁の続き ０発　明　者　チャールズ・アラン・　イギリス国、サ
クストン　トン・クレス ＠発　明　者　フランシスカス・ヨハ　イギリス国、ン
ネス・ゲリット・フ　パークゲイト アン・デル・オウデラ マージ−サイド、ウイラル、ゲイトン、ソーント１１８ チェシャー、サウス・ウイラル、ネストン、・ロード４
０転　“キンフオウンズ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）表面活性剤と、実質的に水不溶性の非カチオン性
   抗菌剤、２５℃、ｐＨ７で水１００ｇ当り２　Ｘ　１０
   −’　ｇより大きい水溶性を有する亜鉛塩、またはこれ
   らの混合物から成る抗歯垢剤とを含む歯垢の発達を抑制
   するのに有効な歯磨組成物であって、この歯磨組成物中
   に６、Ｏｎｍ未満のラメラ間隔を有するラメラ液晶表面
   活性剤相が歯磨組成物の少な（とも０．２重量％の量で
   存在することを特徴とする歯磨組成物。 （２）液晶表面活性剤相のラメラ間隔が５’、Ｏｎｍ未
   満であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の歯磨組成物。 （３）　ラメラ間隔が４．４ｎｍ未満であることな特徴
   とする特許請求の範囲第２項に記載の歯磨組成物。 （４）　ラメラ液晶相が歯磨組成物の少な（とも０・３
   重量％の量で存在することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項〜第３項のいずれかに記載の歯磨組成物。 （５）　ラメラ液晶相が歯磨組成物の少なくとも０．５
   重量％の量で存在することを特徴とする特許請求の範囲
   第４項に記載の歯磨組成物。 （６）表面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムであること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか
   に記載の歯磨組成物。 （７）表面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムとドデシル
   ベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合物であることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記
   載の歯磨組成物。 （８）　歯磨調合物中に更に、塩化ナトリウムそのもの
   が０．１〜３重量％、またば弗索合滴鵠ｔス外の塩が当
   モルカチオン濃度で含まれていることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の歯磨組成
   物。 （９）前記塩の量が０．１〜１重量％であることを特徴
   とする特許請求の範囲第８項に記載の歯磨組成物。 ａｌ　前記塩のカチオンがナトリウム、カリウム。 アルミニウム、マグネシウムまたは亜鉛であることを特
   徴とする特許請求の範囲第８項または第９項に記載の歯
   磨組成物。 Ｏｎ　塩が塩化ナトリウムであることを特徴とする特許
   請求の範囲第８項〜第１０項のいずれかに記載の歯磨組
   成物。 Ｈ練歯磨調合物中に塩化ナトリウムが０．１〜１重量重
   量重含ていることを特徴とする特許安息香酸エステルま
   たはカルボアニリドであることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項〜第１２項のいずれかに記載の歯磨組成物。 （Ｉｎ）　抗菌剤が２５℃の水に対し０．５％未満の溶
   解度を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項〜
   第１３項のいずれかに記載の歯磨組成物。 ａ９　抗菌剤が２５℃の水に対し０．１％未満の溶解度
   を有することを特徴とする特許請求の範囲第１４項に記
   載の歯磨組成物。 ａｌｌ　抗菌剤がトリクロサン、　２　、２’−メチレ
   ンビス（４−クロロ−６−ブロモフェノール）またはｐ
   −ヒドロキシ安息香酸エステルであることを特徴とする
   特許請求の範囲第１４項に記載の歯磨組成物。 ａη　抗菌剤がトリクロサンであることを特徴とする特
   許請求の範囲第１６項に記載の歯磨組成物・ Ｃ１０抗菌剤が０．０１〜５重量％の量で存在すること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１７項のいずれ
   かに記載の歯磨組成物。 （１！Ｉ　抗菌剤が０．０５〜１重量％の量で存在する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１８項のい
   ずれかに記載の歯磨組成物。 （イ）抗歯垢剤が抗菌剤と、亜鉛が０．０５〜１．５重
   ｔ％になるような量の亜鉛塩との混合物からなることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１９項のいずれか
   に記載の歯磨組成物。 ＱＤ　抗歯垢剤が亜鉛が０．０５〜１．５重量％となる
   ような量の亜鉛塩であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項〜第１２項のいずれかに記載の歯磨組成物。 （２）亜鉛塩がクエン酸亜鉛であることを特徴とする特
   許請求の範囲第２０項または第２１項に記載の歯磨組成
   物。 （２）　クエン酸亜鉛が０．２〜２重量％の量で存在す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第２２項に記載の耐
   層組成物。 （財）　湿潤剤としてンルビトールを含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項〜第２３項のいずれかに記載
   の歯磨組成物。 （至）　トリクロサン０．０５〜０．３％、クエン酸亜
   鉛０．３〜１．５％、塩化ナトリウム０．２〜１％。 およびラウリル硫酸ナトリウム１〜３％からなることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の歯磨組成物。 （イ）　更に水和アルミナ研磨剤をも含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項〜第２５項のいずれかに記載
   の歯磨組成物。 四　更にシリカ研磨剤をも含むことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項〜第２５項のいずれかに記載の歯磨組成
   物。 （至）研磨剤がシリカキセロゲルであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第２７項に記載の歯磨組成物。 翰　研磨剤が沈降シリカであることを特徴とする特許請
   求の範囲第２７項に記載の歯磨組成物。 （至）　６．Ｏｎｍ未満のラメラ間隔を有する液晶性表
   面活性剤相が生成するのに充分な電解質濃度の水性相を
   得るように、前記水溶性塩を他の成分と混合することか
   らなる、特許請求の範囲第８項に記載の練歯磨組成物の
   製造方法。 Ｏａ＃！歯磨成分を１５〜３５℃の範囲内の温度で混合
   することを特徴とする特許請求の範囲第３０項に記載の
   方法。 ＠　練歯磨成分を２２〜３２℃の範囲内の温度で混合す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第３１項に記載の方
   法。