JPS60233024A - 第3級ブチルアルコ−ルの製造方法 - Google Patents
第3級ブチルアルコ−ルの製造方法Info
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- JPS60233024A JPS60233024A JP59087865A JP8786584A JPS60233024A JP S60233024 A JPS60233024 A JP S60233024A JP 59087865 A JP59087865 A JP 59087865A JP 8786584 A JP8786584 A JP 8786584A JP S60233024 A JPS60233024 A JP S60233024A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイソナチレンと水を反応させ、高選択率にて第
3級ブチルアルコール(以下TBAと略す)を工業的に
製造する方法に関する。
3級ブチルアルコール(以下TBAと略す)を工業的に
製造する方法に関する。
C4混合物から、イソブチレンを水和して、TBAを製
造する方法は、多く知られている。これらの方法は、1
.触媒が異なる方法、21反応系(不均一系、均一系)
が異なる方法、3.均一系とする為に添加する溶媒に特
徴のある方法等に分類される。
造する方法は、多く知られている。これらの方法は、1
.触媒が異なる方法、21反応系(不均一系、均一系)
が異なる方法、3.均一系とする為に添加する溶媒に特
徴のある方法等に分類される。
例えば、触媒として硫酸を用いる方法が古くから知られ
ているが、副生成物(二量体、二量体)量の多さや、装
置材質の高級化等の問題がある。
ているが、副生成物(二量体、二量体)量の多さや、装
置材質の高級化等の問題がある。
又、固体酸などを用いる方法では、反応を高温高圧下で
実施する必要がある。これらに対し、強酸臘イオン交換
樹脂では、比較的低温で、反応を速やかに行なりことが
可能であル、この触媒下で収率を上げる数多くの方法が
提案されている。例えば、溶媒等を使用せず不均一系で
反応させる方法としては、特開昭54−27507、特
開昭54−30104、特開昭54−30105、特開
昭55−85529、特開昭55−108825、特公
昭52−151106等が知られているが、反応速度の
問題から収率を上げる為に拡反応器が大きくなるという
工業的不利がある。
実施する必要がある。これらに対し、強酸臘イオン交換
樹脂では、比較的低温で、反応を速やかに行なりことが
可能であル、この触媒下で収率を上げる数多くの方法が
提案されている。例えば、溶媒等を使用せず不均一系で
反応させる方法としては、特開昭54−27507、特
開昭54−30104、特開昭54−30105、特開
昭55−85529、特開昭55−108825、特公
昭52−151106等が知られているが、反応速度の
問題から収率を上げる為に拡反応器が大きくなるという
工業的不利がある。
一方、均一系下で反応を行なう場合、溶媒の種類として
は有機酸を用いる方法(特公昭53−20482、特公
昭53−14044、特公昭56−22855等)が知
られているが、生成したTBAと有機酸とが更に反応し
、有機酸エステルが多量副生じイソブチレン原単位を上
げる為には、生成したエステルを加水分解するなどの操
作が必要とな夛、又、装置材質も高級化する必要がある
。
は有機酸を用いる方法(特公昭53−20482、特公
昭53−14044、特公昭56−22855等)が知
られているが、生成したTBAと有機酸とが更に反応し
、有機酸エステルが多量副生じイソブチレン原単位を上
げる為には、生成したエステルを加水分解するなどの操
作が必要とな夛、又、装置材質も高級化する必要がある
。
更に、極性溶媒を用いる方法(特開昭56−34643
、特開昭57−108028、特開昭56−87526
、特公昭57−10853、特開昭56−10124、
等)が ゛知られているが、これらは使用する溶媒と反
応プ四セスの組合わせで収率を上げる工夫を行なってい
る。特に溶媒としてTBAを使用する場合(特公昭57
−10853、特開−57−108028)には、反応
が平衡反応である事、原料C4、水、TBAが任意の割
合で混合し均一相とはならない事等の問題があ)、工業
的水準迄収率を上げる為には、反応プロセスにかなシの
工夫が必要である。
、特開昭57−108028、特開昭56−87526
、特公昭57−10853、特開昭56−10124、
等)が ゛知られているが、これらは使用する溶媒と反
応プ四セスの組合わせで収率を上げる工夫を行なってい
る。特に溶媒としてTBAを使用する場合(特公昭57
−10853、特開−57−108028)には、反応
が平衡反応である事、原料C4、水、TBAが任意の割
合で混合し均一相とはならない事等の問題があ)、工業
的水準迄収率を上げる為には、反応プロセスにかなシの
工夫が必要である。
そこで、特公昭57−10853の方法によると、水1
00モルに対して10〜500モルのアルコール(TB
A含む)を添加すると記載されているが、これは不均一
相下となる条件をも含んでおシ、その様な条件下で反応
を実施した場合、反応器入口部で拡、反応が進まず均一
相下となる迄に多量の触媒を必要とすることが類推され
、との記載条件で工業化するのは容易ではない。一方、
特開昭56−10124の方法によると、Jl、紀条件
を限定し反応帯域の組成が均一系となる組成領域のある
部分に規定すると記載されている。又、その中の記述で
はイソブチレン転化速度は均一・不均一の境界附近の原
料組成がすぐれている、とされている。
00モルに対して10〜500モルのアルコール(TB
A含む)を添加すると記載されているが、これは不均一
相下となる条件をも含んでおシ、その様な条件下で反応
を実施した場合、反応器入口部で拡、反応が進まず均一
相下となる迄に多量の触媒を必要とすることが類推され
、との記載条件で工業化するのは容易ではない。一方、
特開昭56−10124の方法によると、Jl、紀条件
を限定し反応帯域の組成が均一系となる組成領域のある
部分に規定すると記載されている。又、その中の記述で
はイソブチレン転化速度は均一・不均一の境界附近の原
料組成がすぐれている、とされている。
しかし、この領域内であっても水とTBAの含有量の少
ない領域で反応を実施すると、原料イソブチレンの二量
化が起こシ選択率が悪くなる不利があシ、工業的にイソ
ブチレンの転化率を上げる為、通常の多段反応器にて本
反応奪行なう時、最少の触媒量にする為には、どうして
も前記の領域から出発する必要があり、選択率の低下は
不可避である。逆に、高選択率にてイソブチレンをTE
Aに転化させようとするとイソブチレン含有炭化水素、
水、TBAの混合溶液中のイソブチレン含有炭化水素の
濃度の低い溶液から反応を開始し、逐次、水を供給し反
応させても良いが、この様な方法だけ ・ではイソブチ
レンがある程度反応した段階でイソブチレンからTBA
の転化速度が急速に小さくなシ ;高転化率を得る為に
は美大なる量の触媒が必要と iなる。
ない領域で反応を実施すると、原料イソブチレンの二量
化が起こシ選択率が悪くなる不利があシ、工業的にイソ
ブチレンの転化率を上げる為、通常の多段反応器にて本
反応奪行なう時、最少の触媒量にする為には、どうして
も前記の領域から出発する必要があり、選択率の低下は
不可避である。逆に、高選択率にてイソブチレンをTE
Aに転化させようとするとイソブチレン含有炭化水素、
水、TBAの混合溶液中のイソブチレン含有炭化水素の
濃度の低い溶液から反応を開始し、逐次、水を供給し反
応させても良いが、この様な方法だけ ・ではイソブチ
レンがある程度反応した段階でイソブチレンからTBA
の転化速度が急速に小さくなシ ;高転化率を得る為に
は美大なる量の触媒が必要と iなる。
又、反応器を出た反応液に水を添加し2相分離 ・させ
、油相は次の反応器へ送液する方法も記載さ □れてい
るが、これは、C4留分、水、TBAの和平 □衡によ
シ油相の組成が決定される為、C4留分の 1濃度を高
める為には大量の水にて抽出する必要があシ、又、TB
Aを抽出した水溶液は希薄で、そのような水溶液からT
BAを回収することは多くの工 :ネルギーや操作を要
し工業的にとるべき好ましい方法とは言えない。
、油相は次の反応器へ送液する方法も記載さ □れてい
るが、これは、C4留分、水、TBAの和平 □衡によ
シ油相の組成が決定される為、C4留分の 1濃度を高
める為には大量の水にて抽出する必要があシ、又、TB
Aを抽出した水溶液は希薄で、そのような水溶液からT
BAを回収することは多くの工 :ネルギーや操作を要
し工業的にとるべき好ましい方法とは言えない。
本発明は上記に鑑みてなされたものであシ、イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素と水か :らTBAを
合成するにあたシ、反応を円滑に進める □ことができ
且つTEAを高選択、高収率で得ることができる製造方
法を提供することを目的とする。
ン又はイソブチレン含有炭化水素と水か :らTBAを
合成するにあたシ、反応を円滑に進める □ことができ
且つTEAを高選択、高収率で得ることができる製造方
法を提供することを目的とする。
本発明者等は鋭意研究の結果、イソブチレンと水の多段
反応において、第1反応帯域と第2反応帯域を蒸留等に
よシ物理的に分離し、第1反応帯域と第2反応帯域に供
給するTDA%水、C4混合溶液中のC4留分の濃度に
ついて、第2反応帯域に供給するTBA−水−C4留分
混合溶液中のC4留分の濃度を、第1反応帯域に供給す
るTBA−水−C4留分混合溶液中のC4留分の濃度よ
シも高くすることが、反応を円滑に進め、更に高選択率
高収率にて本反応を行うことができることを見出し、本
発明を完成するに至った0 すなわち、本発明は、インブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応
させ、第3級グチルアルコールを製造する方法において
、イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第3級グチル
アルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有
炭化水素及び水からなる反応混合物を得る第1蒸留帯域
B反応混合物を未反応イソブチレン又はインブチレン含
有炭化水素と第3級グチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応イソブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第3級グチルアルコール
、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及
び水からなる反応混合物を得る第2反応帯域からな夛、
蒸留帯域から分離された第3級グチルアルコール水溶液
の一部は、第1反応帯域及び/又は第2反応帯域に供給
せしめ、この際、第1反応帯域及び第2反応帯域の原料
供給口付近の第3級ノチルアルコールー水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第2反応帯域に供給する第3級
ツチルアルコールー水−イソグチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイノブチレ
ン含有炭化水素の濃度を1 第1反応帯域に供給する第
3級ツチルアルコールー水−イソツチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はインブ
チレン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特
徴とする第3級グチルアルコールの製造方法を要旨とす
る。
反応において、第1反応帯域と第2反応帯域を蒸留等に
よシ物理的に分離し、第1反応帯域と第2反応帯域に供
給するTDA%水、C4混合溶液中のC4留分の濃度に
ついて、第2反応帯域に供給するTBA−水−C4留分
混合溶液中のC4留分の濃度を、第1反応帯域に供給す
るTBA−水−C4留分混合溶液中のC4留分の濃度よ
シも高くすることが、反応を円滑に進め、更に高選択率
高収率にて本反応を行うことができることを見出し、本
発明を完成するに至った0 すなわち、本発明は、インブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応
させ、第3級グチルアルコールを製造する方法において
、イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第3級グチル
アルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有
炭化水素及び水からなる反応混合物を得る第1蒸留帯域
B反応混合物を未反応イソブチレン又はインブチレン含
有炭化水素と第3級グチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応イソブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第3級グチルアルコール
、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及
び水からなる反応混合物を得る第2反応帯域からな夛、
蒸留帯域から分離された第3級グチルアルコール水溶液
の一部は、第1反応帯域及び/又は第2反応帯域に供給
せしめ、この際、第1反応帯域及び第2反応帯域の原料
供給口付近の第3級ノチルアルコールー水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第2反応帯域に供給する第3級
ツチルアルコールー水−イソグチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイノブチレ
ン含有炭化水素の濃度を1 第1反応帯域に供給する第
3級ツチルアルコールー水−イソツチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はインブ
チレン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特
徴とする第3級グチルアルコールの製造方法を要旨とす
る。
以下、本発明を図面によシ詳しく説明する。
第1図は本発明の一例を示したものである。但し、本発
明はこれだけに限定されるものではない・第1図に示め
すノ冒セス紘1..基本的には、C4炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、TBA、未反
応C4炭些水素及び水からなる反応混合物を得る第1反
応帯域A及び第、2反応帯域C1並びに未反応C4炭化
水素とTBA水溶液とに蒸留分離する第1蒸留帯域B及
び第2蒸留帯域りから構成されている。 。
明はこれだけに限定されるものではない・第1図に示め
すノ冒セス紘1..基本的には、C4炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、TBA、未反
応C4炭些水素及び水からなる反応混合物を得る第1反
応帯域A及び第、2反応帯域C1並びに未反応C4炭化
水素とTBA水溶液とに蒸留分離する第1蒸留帯域B及
び第2蒸留帯域りから構成されている。 。
第1反応帯域9Aには、ライン2よシ所定の組成に制御
されたC4炭化水素、水及びTBAの混合物を供給する
。この場合、C4炭化水素はライン1よ)供給し、水及
びTBAは、jIx蒸留帯域から蒸留分離され九TDA
水溶液の一部をライン4,6を経て、TBム水溶液貯槽
Eに導きここで2イン7より水を供給して所定組成のT
BA本溶液とじ丸うえライン8を経て2イン2に合流さ
せる。本発明においては、第1反応帯域Aの原料供給口
付近のTBA−水−C4炭化水素混合物が均一相となる
ように組成を定めることが重要である。
されたC4炭化水素、水及びTBAの混合物を供給する
。この場合、C4炭化水素はライン1よ)供給し、水及
びTBAは、jIx蒸留帯域から蒸留分離され九TDA
水溶液の一部をライン4,6を経て、TBム水溶液貯槽
Eに導きここで2イン7より水を供給して所定組成のT
BA本溶液とじ丸うえライン8を経て2イン2に合流さ
せる。本発明においては、第1反応帯域Aの原料供給口
付近のTBA−水−C4炭化水素混合物が均一相となる
ように組成を定めることが重要である。
第1反応帯域で反応して得られたTBA 、未反応C4
炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン3から第
1蒸留帯域Bに供給される。第1蒸留帯域Bで未反応C
4炭化水素とTBA水溶液とに分離される。分離された
TBA水溶液の一部はライン4.5を経て精製工程(図
示しない)等に送られる。他の一部は、前述のとおシ、
水の含有量を調節してライン4e6p8e2を経て第1
反応帯域Aに供給される。一方、未反応C4炭化水素の
一部は、ライン9t10により循環させるとともに、他
の一部は、ライン9,11,12を経て、第1反応帯域
Cに供給される。
炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン3から第
1蒸留帯域Bに供給される。第1蒸留帯域Bで未反応C
4炭化水素とTBA水溶液とに分離される。分離された
TBA水溶液の一部はライン4.5を経て精製工程(図
示しない)等に送られる。他の一部は、前述のとおシ、
水の含有量を調節してライン4e6p8e2を経て第1
反応帯域Aに供給される。一方、未反応C4炭化水素の
一部は、ライン9t10により循環させるとともに、他
の一部は、ライン9,11,12を経て、第1反応帯域
Cに供給される。
なお、本発明の第1反応帯域から得られた反応混合物か
ら蒸留帯域によって分離′された未反応イソブチレン又
はイソブチレン含有炭化水素には若干のTBAや水は含
まれても差しつかえなく、精密にこれらを蒸留分離する
必要は全く々い。
ら蒸留帯域によって分離′された未反応イソブチレン又
はイソブチレン含有炭化水素には若干のTBAや水は含
まれても差しつかえなく、精密にこれらを蒸留分離する
必要は全く々い。
第2反応帯域Cに供給される水及びTBAは、第2蒸留
帯域から蒸留分離されたTBA水溶液の一部を2イン1
4.16を経てTBA水溶液貯槽Fに導きとこでライン
17よシ水を供給して所定組成のTBム水溶液としたう
えライン18を経てツイン12に合流させる。第2反応
帯域Cに供給される水及びTBAは、その一部を第1蒸
留帯域から得られるものを用いても勿論構わない。
帯域から蒸留分離されたTBA水溶液の一部を2イン1
4.16を経てTBA水溶液貯槽Fに導きとこでライン
17よシ水を供給して所定組成のTBム水溶液としたう
えライン18を経てツイン12に合流させる。第2反応
帯域Cに供給される水及びTBAは、その一部を第1蒸
留帯域から得られるものを用いても勿論構わない。
本発明においては、第1反応帯域の場合と同様に1.第
2反応帯域Cの原料供給口付近のTBA−水一04炭化
水素混合物が均一相となるように組成を定めることが重
要である。そして本発明においては、第2反応帯域Cに
供給するTBA−水−C4炭化水素混合溶液中の04炭
化水素濃度を、第1蒸留帯域ムに供給するTBA−水−
04炭化水素混合溶液中の04炭化水素濃度よシも高く
維持することが重要である。これに対し、特開昭56−
10124号公報は各反応帯域に供給する原料の組成が
ある範囲にあれば良いことを開示するに留まる。
2反応帯域Cの原料供給口付近のTBA−水一04炭化
水素混合物が均一相となるように組成を定めることが重
要である。そして本発明においては、第2反応帯域Cに
供給するTBA−水−C4炭化水素混合溶液中の04炭
化水素濃度を、第1蒸留帯域ムに供給するTBA−水−
04炭化水素混合溶液中の04炭化水素濃度よシも高く
維持することが重要である。これに対し、特開昭56−
10124号公報は各反応帯域に供給する原料の組成が
ある範囲にあれば良いことを開示するに留まる。
第2反応帯域で反応して得られたTBA、未反応C4炭
化水素及び水からなる反応混合物は、ライ/13から第
2蒸留帯域りに供給される。第2蒸留帯域りで未反応C
4炭化水素とTBA水溶液とに分離される。分離された
TBA水溶液の一部はライン14.15を経て精製工程
(図示しない)等に送られる。他の一部は、前述のとお
シ、水の含有量を調節してライン14,16,18,1
2を経て第2反応帯域Cに供給される。図示していない
がTBA水溶液の一部は、第1蒸留帯域からのTBA水
溶液に合して、第1反応帯域人に供給することもできる
。
化水素及び水からなる反応混合物は、ライ/13から第
2蒸留帯域りに供給される。第2蒸留帯域りで未反応C
4炭化水素とTBA水溶液とに分離される。分離された
TBA水溶液の一部はライン14.15を経て精製工程
(図示しない)等に送られる。他の一部は、前述のとお
シ、水の含有量を調節してライン14,16,18,1
2を経て第2反応帯域Cに供給される。図示していない
がTBA水溶液の一部は、第1蒸留帯域からのTBA水
溶液に合して、第1反応帯域人に供給することもできる
。
第2蒸留帯域りから蒸留分離された未反応C4炭化水素
の一部はライン19,20によシ循環させるとともに、
他の一部はライン19.21を経て系外へ排出される。
の一部はライン19,20によシ循環させるとともに、
他の一部はライン19.21を経て系外へ排出される。
又、本反応は発熱反応である為、反応熱によシ反応帯域
の温度が上昇したシ、あるいは反応帯域の入口の反応混
合物の組成を微調節したい場合等には、図中に破線で示
めしたライン22,230ように第1反応帯域A1第1
反応帯域Cの各々において出口の反応混合物を入口に循
環するなどしても良い。
の温度が上昇したシ、あるいは反応帯域の入口の反応混
合物の組成を微調節したい場合等には、図中に破線で示
めしたライン22,230ように第1反応帯域A1第1
反応帯域Cの各々において出口の反応混合物を入口に循
環するなどしても良い。
第1図では、反応帯域が2つの場合を示めしているが、
ライン21の未反応イソッチレンを含むC4炭化水素か
ら更にTBAを合成する場合には、□ 第2反応帯域C
に供給されるライン12における’ TBムー水−04
炭化水素混合物中の04炭化水□素“ 濃度よシも高く
なる様に、2イン21のc4炭化水素K TBA水溶液
を混合して、第1図と同様の方法で更に反応帯域、蒸留
帯域を追加するなどしても□良い。
ライン21の未反応イソッチレンを含むC4炭化水素か
ら更にTBAを合成する場合には、□ 第2反応帯域C
に供給されるライン12における’ TBムー水−04
炭化水素混合物中の04炭化水□素“ 濃度よシも高く
なる様に、2イン21のc4炭化水素K TBA水溶液
を混合して、第1図と同様の方法で更に反応帯域、蒸留
帯域を追加するなどしても□良い。
なお、本発明に≦いても、第1反応帯域、第2反応帯域
各々において、触媒層を多段に分割し途、 中に水を添
加するなどしてもよい・本発明において使用されるイソ
ブチレン含有炭化水素は、特に限定されるものではない
が、工業的に紘す7すの水蒸気分解やへ重質油の接触分
解□ から得られるC4留分である。このC4留分中に
ハ、イソッチレンの他に1−ラテン、Trans −2
−ラテン、Cis −2−fテy、n−ブタン、イソブ
タンと若干量のC3、C5留分及びブタジェンが含まれ
る。
各々において、触媒層を多段に分割し途、 中に水を添
加するなどしてもよい・本発明において使用されるイソ
ブチレン含有炭化水素は、特に限定されるものではない
が、工業的に紘す7すの水蒸気分解やへ重質油の接触分
解□ から得られるC4留分である。このC4留分中に
ハ、イソッチレンの他に1−ラテン、Trans −2
−ラテン、Cis −2−fテy、n−ブタン、イソブ
タンと若干量のC3、C5留分及びブタジェンが含まれ
る。
本発明で用いられる陽イオン交換樹脂は強酸性型陽イオ
ン交換樹脂が用いられ、好ましくは多孔性のものが良い
。異体的には、レパチ、トやアンバーライF等の商品名
で市販されているものであ □る。
ン交換樹脂が用いられ、好ましくは多孔性のものが良い
。異体的には、レパチ、トやアンバーライF等の商品名
で市販されているものであ □る。
本発明を更にわか)やすくする為に、第3図によシ説明
する。
する。
第3図は、TBA−水−C4炭化水素の3成分系におけ
る組成を表す三角図であシ、線Xmbyr。
る組成を表す三角図であシ、線Xmbyr。
Yは均一液相領域と不均一液相領域との境界−である。
なお特開昭56−10124の第2図に示めされている
ものも同様である。各反応器へ供給する液の組成はこの
境界線上にとるのが反応上有利であるが、多段反応によ
シ本反応を行なう場合、水を逐次供給してゆく方法や、
反応器を出た反応液に水を一部し2相分離させ、i層を
次の反応器に送液する方法(4If+開昭56−101
24号公報の実施例5)などの方法では、第1段目の反
応器からそれに続く反応器の入口組成は、この境界線上
に沿ってXからYの方向へ移動することに劣る。しかし
、本発明の方法では、これとは逆にYからXの方向に沿
って各反応器の入口組成が移動することになる。
ものも同様である。各反応器へ供給する液の組成はこの
境界線上にとるのが反応上有利であるが、多段反応によ
シ本反応を行なう場合、水を逐次供給してゆく方法や、
反応器を出た反応液に水を一部し2相分離させ、i層を
次の反応器に送液する方法(4If+開昭56−101
24号公報の実施例5)などの方法では、第1段目の反
応器からそれに続く反応器の入口組成は、この境界線上
に沿ってXからYの方向へ移動することに劣る。しかし
、本発明の方法では、これとは逆にYからXの方向に沿
って各反応器の入口組成が移動することになる。
ここで、45重量−のインブチレンを含むC4炭化水素
を原料とし、反応させる場合を例にとシ説明する。第1
反応帯域に供給する反応混合物の入口組成を後述の1g
4表のbを選んだとすると、第3図において第1反応帯
域内の反応混合物の組成は反応の進行にともない点すと
点αを結ぶ線上を点すから点αの方向へ変化する。(但
し、点αは、45チイソツチレン含有C4を点すから反
応させた場合に、反応の進行に伴い、組成変化する目標
点であシ、この”場合のインブチレンのTDAへの選択
率はは#’!’10011とし、その他のC4炭化水素
はほとんど反応しないか又は反応しても無視できる程微
少な量とする。)いま、第1反応帯域から得られた反応
混合物が点βで表わされる組成の混合物とする第2反応
帯域に供給する原料の組成の調整を水を該混合物に添加
することによって行なう場合、この混合物に水の添加量
の増加に伴い、原料の組成は点βから点Yを結ぶ線上で
組成が変化し水の添加量が多い程点Yの組成に近づく・
第1反応帯域入口で境界線上の点γの組成となる様に、
水を添加した場合点γにおけるC4炭化水素の濃度は、
点すにおけるC4炭化水素の濃度よシ小さくなっている
。又、この図から明かなように点β一点r間の組成は、
C4炭化水素の濃度が常に点すにおけるC4炭化水素の
濃度よフ小さいO 以上に対し本発明の場合、点βの反応混合物を蒸留によ
〕完全にC4炭化水素とT13A水溶液とに分離すれば
、塔頂からは点Xで表されるC4炭化水素100重量%
の留分子が得られ、塔底からは点Xと点βを結んだ直線
の延長と線yzの交点の点δで表されるTBA水溶液が
得られる。このC4炭化水素留分にTBム水溶液を混合
し、C4炭化水素濃度が点すよシも高く、かつ、境界線
x−b−Y上にある組成のTBA−水−C4炭化水素混
合物を調整しようとすると、混合すべきTBA水溶液の
組成は点Xと点すを結んだ直締の延長と線YZの交点の
点Cと点δの間のε−δ線上にあることがわかる。この
様に6からδで表される組成のTBA水溶液を混合する
ことによ多、本発明に記載されている第2反応帯域に供
給すべきC4炭化水素、水、TBAの混合溶液を調整す
ることができる。
を原料とし、反応させる場合を例にとシ説明する。第1
反応帯域に供給する反応混合物の入口組成を後述の1g
4表のbを選んだとすると、第3図において第1反応帯
域内の反応混合物の組成は反応の進行にともない点すと
点αを結ぶ線上を点すから点αの方向へ変化する。(但
し、点αは、45チイソツチレン含有C4を点すから反
応させた場合に、反応の進行に伴い、組成変化する目標
点であシ、この”場合のインブチレンのTDAへの選択
率はは#’!’10011とし、その他のC4炭化水素
はほとんど反応しないか又は反応しても無視できる程微
少な量とする。)いま、第1反応帯域から得られた反応
混合物が点βで表わされる組成の混合物とする第2反応
帯域に供給する原料の組成の調整を水を該混合物に添加
することによって行なう場合、この混合物に水の添加量
の増加に伴い、原料の組成は点βから点Yを結ぶ線上で
組成が変化し水の添加量が多い程点Yの組成に近づく・
第1反応帯域入口で境界線上の点γの組成となる様に、
水を添加した場合点γにおけるC4炭化水素の濃度は、
点すにおけるC4炭化水素の濃度よシ小さくなっている
。又、この図から明かなように点β一点r間の組成は、
C4炭化水素の濃度が常に点すにおけるC4炭化水素の
濃度よフ小さいO 以上に対し本発明の場合、点βの反応混合物を蒸留によ
〕完全にC4炭化水素とT13A水溶液とに分離すれば
、塔頂からは点Xで表されるC4炭化水素100重量%
の留分子が得られ、塔底からは点Xと点βを結んだ直線
の延長と線yzの交点の点δで表されるTBA水溶液が
得られる。このC4炭化水素留分にTBム水溶液を混合
し、C4炭化水素濃度が点すよシも高く、かつ、境界線
x−b−Y上にある組成のTBA−水−C4炭化水素混
合物を調整しようとすると、混合すべきTBA水溶液の
組成は点Xと点すを結んだ直締の延長と線YZの交点の
点Cと点δの間のε−δ線上にあることがわかる。この
様に6からδで表される組成のTBA水溶液を混合する
ことによ多、本発明に記載されている第2反応帯域に供
給すべきC4炭化水素、水、TBAの混合溶液を調整す
ることができる。
次に本発明を具体的な実施例で説明する。尚、実施例・
比較例とも各々の組成は、水についてはカールフィシキ
ー法で分析し、その他についてはガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
比較例とも各々の組成は、水についてはカールフィシキ
ー法で分析し、その他についてはガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
実施例1〜4
第1図のフローに従い第1表で示めされているインブチ
レン含有炭化水素をライン1から供給し、TBAの合成
を行った。
レン含有炭化水素をライン1から供給し、TBAの合成
を行った。
第1.第1反応帯域A y C1第1.第2蒸留帯域B
、Dの各々に対応するものとして、第2表で示めされた
構造・操作条件の反応器A、C,蒸留塔B、Dを使用し
た。各々の反応器の入口(ライン2,12の)組成は第
3表の条件となる様に運転した。
、Dの各々に対応するものとして、第2表で示めされた
構造・操作条件の反応器A、C,蒸留塔B、Dを使用し
た。各々の反応器の入口(ライン2,12の)組成は第
3表の条件となる様に運転した。
第3表中の記号awdの具体的な組成は第4表に示めし
たとおシである。反応結果は第5表のとおシであった。
たとおシである。反応結果は第5表のとおシであった。
第 1 表
第 2 表
第 3 表
第 4 表
第 5 表
比較例1〜4
第2図の70−に従い、第1表で示めされているイソメ
チレン含有炭化水素を原料とし、TBA合成を行った。
チレン含有炭化水素を原料とし、TBA合成を行った。
第1反応帯域A1第2反応帯域C1蒸留帯域りは第2表
の反応器A、C,蒸留塔りを使用し第2表の操作条件で
運転した。第1反応器AK供給したTBムー水−C4炭
化水素の組成拡第6表のとおシで、その表中の記号ay
dの具体的な組成は第4表に示めされたものである。
の反応器A、C,蒸留塔りを使用し第2表の操作条件で
運転した。第1反応器AK供給したTBムー水−C4炭
化水素の組成拡第6表のとおシで、その表中の記号ay
dの具体的な組成は第4表に示めされたものである。
第7表に、結果を示めした。
第 6 表
第 7 表
第2図の70−について説明する。第2図に示めすプロ
セスは、基本的には、C4炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、TDA 、未反応C4炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第1反応帯域A
及び第2反応帯域C1第1反応帯域Aに紘、ライン2よ
シ所定の組成に調整されたC4炭化水素、水及びTBA
の混合物を供給する。この場合、C4炭化水素はライン
1よシ供給し、水及びTBAは、蒸留帯域りから蒸留分
離されたTBA水溶液の一部をライン7.9を経て、T
BA水溶水溶液貯槽基き、ここでライン10 ”よ〕水
を供給して、所定組成のTBA水溶液としたうえライン
11を経てライン2に合流させる・第1反応帯域Aで反
応して得られたTBA、未反応C4炭化水素及び水から
なる反応混合物は、ライン3で抜き出され、ライン4よ
シ水を供給、混合された後、ライン5を経て第2反応帯
域Cに供 給される。
セスは、基本的には、C4炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、TDA 、未反応C4炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第1反応帯域A
及び第2反応帯域C1第1反応帯域Aに紘、ライン2よ
シ所定の組成に調整されたC4炭化水素、水及びTBA
の混合物を供給する。この場合、C4炭化水素はライン
1よシ供給し、水及びTBAは、蒸留帯域りから蒸留分
離されたTBA水溶液の一部をライン7.9を経て、T
BA水溶水溶液貯槽基き、ここでライン10 ”よ〕水
を供給して、所定組成のTBA水溶液としたうえライン
11を経てライン2に合流させる・第1反応帯域Aで反
応して得られたTBA、未反応C4炭化水素及び水から
なる反応混合物は、ライン3で抜き出され、ライン4よ
シ水を供給、混合された後、ライン5を経て第2反応帯
域Cに供 給される。
第2反応帯域Cで反応して得られたTBA 、未反応C
4炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン6を経
て蒸留帯域りに供給される。蒸留帯域Dで未反応C4炭
化水素とTBA水溶液とに分離される・分離されたTB
A水溶液の一部はライン7゜8を経て系外へ排出される
。
4炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン6を経
て蒸留帯域りに供給される。蒸留帯域Dで未反応C4炭
化水素とTBA水溶液とに分離される・分離されたTB
A水溶液の一部はライン7゜8を経て系外へ排出される
。
他の一部は、前述のとおシ、水の含有量を調節してライ
ン7.9,11,2を経て第2反応帯域Aに供給される
。
ン7.9,11,2を経て第2反応帯域Aに供給される
。
蒸留帯域りから蒸留分離された未反応C4炭化水素の一
部はライン12,13によシ循環させるとともに、他の
一部はライン12.14を経て系外へ排出される。
部はライン12,13によシ循環させるとともに、他の
一部はライン12.14を経て系外へ排出される。
第1図は本発明の1例を示すプロセス70−図である。
第2図は比較例のfoセス70−図である。
第3図はTBA−水−C4炭化水素の3成分系における
組成を表わす三角図である。 ム・・・第1反応帯域、B−・・蒸留帯域、C・・・第
2反応帯域。
組成を表わす三角図である。 ム・・・第1反応帯域、B−・・蒸留帯域、C・・・第
2反応帯域。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水、、 素
と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応させ、第3
級ブチルアルコールを製造する方法において イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽
イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第3級ブチルア
ルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第1反応帯域、
蚊反応混合物を未反応イソブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と第3級ブチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応インブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第3fチルアルコール、
未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及び
水からなる反応混合物を得る第2反応帯域からなシ、蒸
留帯域から分離された第3級ブチルアルコール水溶液の
一部は、第1反応帯域及び又は第2反応帯域に供給せし
め、この際、第1反応帯域及び第2反応帯域の原料供給
口 □付近の第3級ブチルアルコール−水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第2反応帯域に供給する第3級
ジチルアルコール−水−インツチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイソブチレ
ン含有炭化水素め濃度を、第1反応帯域に供給する第3
級!チルアル;−ルー水−イソゾチレン又はイソブチレ
ン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特徴
とする第3級ブチルアルコールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59087865A JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第3級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59087865A JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第3級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60233024A true JPS60233024A (ja) | 1985-11-19 |
JPH0342250B2 JPH0342250B2 (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=13926771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59087865A Granted JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第3級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60233024A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999033775A1 (fr) * | 1997-12-26 | 1999-07-08 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Procede de preparation d'alcool tert-butylique |
JP2005068150A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | t−ブタノールの製造方法 |
JP2010043122A (ja) * | 2009-11-16 | 2010-02-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アルコールの製造方法 |
JP2010059091A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Tosoh Corp | t−ブチルアルコール溶液及びその製造法 |
US7709690B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-05-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for producing tertiary butyl alcohol |
WO2023190038A1 (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 三菱ケミカル株式会社 | 第三級ブチルアルコールの製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5314044A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-08 | Sofuia Kk | Pachinko game machine |
-
1984
- 1984-05-02 JP JP59087865A patent/JPS60233024A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5314044A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-08 | Sofuia Kk | Pachinko game machine |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999033775A1 (fr) * | 1997-12-26 | 1999-07-08 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Procede de preparation d'alcool tert-butylique |
US6111148A (en) * | 1997-12-26 | 2000-08-29 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Process for producing tertiary butyl alcohol |
JP2005068150A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | t−ブタノールの製造方法 |
JP4504135B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2010-07-14 | エボニック オクセノ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | t−ブタノールの製造方法 |
US7709690B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-05-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for producing tertiary butyl alcohol |
JP2010059091A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Tosoh Corp | t−ブチルアルコール溶液及びその製造法 |
JP2010043122A (ja) * | 2009-11-16 | 2010-02-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アルコールの製造方法 |
WO2023190038A1 (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 三菱ケミカル株式会社 | 第三級ブチルアルコールの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0342250B2 (ja) | 1991-06-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |