JPS60228693A - Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法 - Google Patents
Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法Info
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- JPS60228693A JPS60228693A JP59083412A JP8341284A JPS60228693A JP S60228693 A JPS60228693 A JP S60228693A JP 59083412 A JP59083412 A JP 59083412A JP 8341284 A JP8341284 A JP 8341284A JP S60228693 A JPS60228693 A JP S60228693A
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- Japan
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- mol
- anodes
- plating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、Zn−Ni合金めっき鋼板の製造方法に関す
るものである。
るものである。
従来技術
Zn−Ni合金めっき鋼板は、耐食性に優れており、ま
た、自動車用素材として要求される諸物件、すなわち塗
装性、溶接性、加工性等においても優れた性能を発揮し
、バランスのとれた自動車用素材として高く評価されて
いる。
た、自動車用素材として要求される諸物件、すなわち塗
装性、溶接性、加工性等においても優れた性能を発揮し
、バランスのとれた自動車用素材として高く評価されて
いる。
電気亜鉛めっきライン(E G L)における従来の製
造方法とその問題点について述べる。め2き浴は、硫酸
塩と硫酸ニッケルを主成分とした硫酸塩浴である。硫酸
塩浴中では、Niアノードは不動態化し、溶解しないの
で、不溶性アノードを使用し、ZnイオンとNiイオン
の補給は、金属をめっき槽の外で薬品で溶かしたものを
以って行われる。
造方法とその問題点について述べる。め2き浴は、硫酸
塩と硫酸ニッケルを主成分とした硫酸塩浴である。硫酸
塩浴中では、Niアノードは不動態化し、溶解しないの
で、不溶性アノードを使用し、ZnイオンとNiイオン
の補給は、金属をめっき槽の外で薬品で溶かしたものを
以って行われる。
従来法の問題点を以下に列記する。
(1)硫酸塩浴での合金めっきの析出機構は、Znが優
先的に析出する異常型共析である。従って、性能の一番
良好なγ相単層(旧=10〜20%)0.70まで高く
する必要がある。高価なNiの濃度が高いので、建浴コ
ストあるいはドラグアウドによる損失に対する補給コス
トが非常に高い。
先的に析出する異常型共析である。従って、性能の一番
良好なγ相単層(旧=10〜20%)0.70まで高く
する必要がある。高価なNiの濃度が高いので、建浴コ
ストあるいはドラグアウドによる損失に対する補給コス
トが非常に高い。
(2)めっき浴中のZnとNis度は、鋼板への付着と
ドラグアウドによる損失により減少していく。
ドラグアウドによる損失により減少していく。
それに対応して、めっき系外で薬品あるいは金属を補給
するために、オンラインに精度の高い分析計(蛍光X線
など)を必要とする補給もひんばんに行う必要があり、
液管理は複雑で難しい。
するために、オンラインに精度の高い分析計(蛍光X線
など)を必要とする補給もひんばんに行う必要があり、
液管理は複雑で難しい。
(3)不溶性アノードは、pb金合金るいはTi−Pt
が使用されるが、いずれも経時劣化がある。その補修コ
ストが高い上に、アノード材料の溶出によるめっき浴中
へのコンタミネーション(汚染)があり、特にpbはめ
っきに悪影響を与えることが知られている。浴中のpb
は炭酸ストロンチウムなどにより共沈させ、フィルター
で除外する方法もあるが、大規模なシステムを必要とし
、作業負荷も大きい。
が使用されるが、いずれも経時劣化がある。その補修コ
ストが高い上に、アノード材料の溶出によるめっき浴中
へのコンタミネーション(汚染)があり、特にpbはめ
っきに悪影響を与えることが知られている。浴中のpb
は炭酸ストロンチウムなどにより共沈させ、フィルター
で除外する方法もあるが、大規模なシステムを必要とし
、作業負荷も大きい。
(4)めっき皮膜中のNi含有率は、コイル内およびコ
イル間でばらつきを小さくする必要があるが、電流密度
、ライン速度、流速に影響されやすく、EGLでの操業
条件を一定とする必要がある。 しかしながら、電流密
度とライン速度は製品の板幅や付着量によって変わり、
一定にするのが難しい。
イル間でばらつきを小さくする必要があるが、電流密度
、ライン速度、流速に影響されやすく、EGLでの操業
条件を一定とする必要がある。 しかしながら、電流密
度とライン速度は製品の板幅や付着量によって変わり、
一定にするのが難しい。
II 発明の目的
本発明の目的は、上記のような問題点を解決し、低コス
トで作業負荷が少なく、しかもNi含有率の安定したZ
n−Ni合金めっき鋼板の得られる製造方法を提供しよ
うとするものである。
トで作業負荷が少なく、しかもNi含有率の安定したZ
n−Ni合金めっき鋼板の得られる製造方法を提供しよ
うとするものである。
すなわち、本発明は、
Ni
Niモル比(−)0.10〜0.20かっ、Zn十旧Z
n+Ni 合計1〜4モル/lのZnCl2およびNiCl2を主
成分とし、これに、KCl 4.0〜5.4モル/l、
アルいはNH4CI 4.7〜7.1モル/見を添加し
た塩化物めっき浴において、可溶性のZnとNiのアノ
ードを使用し、それぞれの投入電流を次式で表わす割合
に制御することを特徴とするZn−Ni合金めっき鋼板
の製造方法を提供するものである。
n+Ni 合計1〜4モル/lのZnCl2およびNiCl2を主
成分とし、これに、KCl 4.0〜5.4モル/l、
アルいはNH4CI 4.7〜7.1モル/見を添加し
た塩化物めっき浴において、可溶性のZnとNiのアノ
ードを使用し、それぞれの投入電流を次式で表わす割合
に制御することを特徴とするZn−Ni合金めっき鋼板
の製造方法を提供するものである。
”Zn:■Ni”
I : Znアノードへの投入電流(A)Zn
I : Niアノードへの投入電流(A)Ni
X : めっき皮膜中のNi含有率(%)C: Znの
電気化学当量−0,34(mg/C)Zn C: N1(7)電気化学当量’= 0.30 (mg
/C)Ni ηz n ’ Z nアノードの陽極効率(%)η :
Niアノードの陽極効率(%) 旧 ここにアノード効率は、 ■ 発明の構成 以下に本発明の内容を更に詳細に説明する。
電気化学当量−0,34(mg/C)Zn C: N1(7)電気化学当量’= 0.30 (mg
/C)Ni ηz n ’ Z nアノードの陽極効率(%)η :
Niアノードの陽極効率(%) 旧 ここにアノード効率は、 ■ 発明の構成 以下に本発明の内容を更に詳細に説明する。
従来法の問題点を解決するために鋭意検討したところ、
以下に述べる方法が効果的〒あることがわかった。
以下に述べる方法が効果的〒あることがわかった。
めっき浴は、ZnCl2とNiCl2を主成分とした塩
化物浴であり、電導度助剤としてKGIを4.0〜5.
4 mol/u、またはNH4CIを4.7〜?、1
mol/u添加したものである。塩化物浴を選定した理
由を下記に列挙する。
化物浴であり、電導度助剤としてKGIを4.0〜5.
4 mol/u、またはNH4CIを4.7〜?、1
mol/u添加したものである。塩化物浴を選定した理
由を下記に列挙する。
(1)液管理を容易にするためには、可溶性のZnアノ
ードとNiアノードを使用することが好ましいが、従来
の硫酸浴中では旧の溶解が困難であった。塩化物浴中で
は、いずれもほぼ100%の7ノード効率が得られるの
で有利である。
ードとNiアノードを使用することが好ましいが、従来
の硫酸浴中では旧の溶解が困難であった。塩化物浴中で
は、いずれもほぼ100%の7ノード効率が得られるの
で有利である。
(2)塩化物浴は電導度が400〜500 ms/cm
ストが安い。
ストが安い。
(3)電導度助剤としてKCIあるいはNH4CIを選
定した理由は、電導度が高いこと、溶解度が高いこと、
安価であること、陽イオンがめつき層中に析出しないこ
とである。
定した理由は、電導度が高いこと、溶解度が高いこと、
安価であること、陽イオンがめつき層中に析出しないこ
とである。
(4) KCI (7)濃度を4.(1〜5.4 mo
l/4、あるいはNH4CIを 4.7〜7.1 mo
l/fLとした理由は、この範囲で、めっき浴中のNi
モル%と皮膜中の旧含有率がほぼ等しくなる正常型共析
となるためである。
l/4、あるいはNH4CIを 4.7〜7.1 mo
l/fLとした理由は、この範囲で、めっき浴中のNi
モル%と皮膜中の旧含有率がほぼ等しくなる正常型共析
となるためである。
この関係を、第6図に基づいて説明する。
Zn−Ni合金めっきは、一般に異常型の析出挙動を示
すことが知られており、めっき浴中のN4%に比し、め
っき皮膜中のN4%が非常に低くなるのが普通である。
すことが知られており、めっき浴中のN4%に比し、め
っき皮膜中のN4%が非常に低くなるのが普通である。
第6図に塩化浴の例b、硫酸浴の例Cを示す。これに反
し、本発明で使用する高濃度塩化物浴では、例aの如く
、めっき皮膜中のN4%はめつき浴中のN4%とほぼ一
致する。本発明において、正常型析出とは、めっき皮膜
中の1%(y)とめっき浴中のNiモル比(X)の間に
、y=kx ・・・(1) ここに、k=100±20 の関係がある場合を指すこととする。その範囲を第6図
中に斜線部をもって図示した。
し、本発明で使用する高濃度塩化物浴では、例aの如く
、めっき皮膜中のN4%はめつき浴中のN4%とほぼ一
致する。本発明において、正常型析出とは、めっき皮膜
中の1%(y)とめっき浴中のNiモル比(X)の間に
、y=kx ・・・(1) ここに、k=100±20 の関係がある場合を指すこととする。その範囲を第6図
中に斜線部をもって図示した。
この方法により、めっき皮膜中のNi含有率は、電流密
度、ライン速度、液流速に対して安定化し、また、高価
なNiのめっき浴中濃度を低くできる利点がある。
度、ライン速度、液流速に対して安定化し、また、高価
なNiのめっき浴中濃度を低くできる利点がある。
次の特徴は、可溶性のZnアノードとNiアノードを使
用し、それぞれの投入電流を皮膜中の旧含有率に対応し
て制御することにある。すなわち、ZnとNiの投入電
流を、次式で表わす割合に制御する。
用し、それぞれの投入電流を皮膜中の旧含有率に対応し
て制御することにある。すなわち、ZnとNiの投入電
流を、次式で表わす割合に制御する。
■Zn:工Ni= ・・・(2)
I : Znアノードへの投入電流(A)Zn
I : Niアノードへの投入電流(A)I
X : めっき皮膜中のNi含有率(%)C: Znの
電気化学当量= 0.34 (mg/c)Zn C: Niの電気化学当量= 0.30 (mg/C)
Ni ηzn: Znアノードの陽極効率(%)ηNi’ N
+アノードの陽極効率(%)ここにアノード効率は、 の範囲にあり、めっき浴組成、温度、電流密度などによ
って変動するが、実用上、電流密度の影響は、無視でき
るのでめっき条件(各組成温度)に対応して決まる定数
とみなせる。このように投入電流を制御することにより
鋼板に付着するZnと旧については消耗に対応する割合
で可溶性7ノードから補給されることになり、労せずに
安定しためっき浴濃度が維持できる。薬品の補給は陰極
効率とドラグアウドの差だけとなり非常に少量となるの
で浴管理は極めて容易となる。可溶性アノードとしては
インゴット、板、棒等が考えられ、その他にコストと交
換作業の点からはバスケットにZnあるいはNiのペレ
ウトを充填したものが有利である。
電気化学当量= 0.34 (mg/c)Zn C: Niの電気化学当量= 0.30 (mg/C)
Ni ηzn: Znアノードの陽極効率(%)ηNi’ N
+アノードの陽極効率(%)ここにアノード効率は、 の範囲にあり、めっき浴組成、温度、電流密度などによ
って変動するが、実用上、電流密度の影響は、無視でき
るのでめっき条件(各組成温度)に対応して決まる定数
とみなせる。このように投入電流を制御することにより
鋼板に付着するZnと旧については消耗に対応する割合
で可溶性7ノードから補給されることになり、労せずに
安定しためっき浴濃度が維持できる。薬品の補給は陰極
効率とドラグアウドの差だけとなり非常に少量となるの
で浴管理は極めて容易となる。可溶性アノードとしては
インゴット、板、棒等が考えられ、その他にコストと交
換作業の点からはバスケットにZnあるいはNiのペレ
ウトを充填したものが有利である。
可溶性アノードの場合はpbなと不純物のコンタミネー
ションもなく都合が良い。
ションもなく都合が良い。
ZnアノードとNiアノードの面積比は、所望のN4%
に近い方が望ましいが、厳密な一致を必要としない。例
えば8木のアノード中1本をNi、7木をZnとすれば
10〜15%のN4%を得るのに好適である。
に近い方が望ましいが、厳密な一致を必要としない。例
えば8木のアノード中1本をNi、7木をZnとすれば
10〜15%のN4%を得るのに好適である。
次にZn−Ni合金めっきはNi 10〜20%の範囲
で耐食性が優れているので安定してその範囲が得られる
条件を述べる。
で耐食性が優れているので安定してその範囲が得られる
条件を述べる。
(1)めっき浴中のNiモル比を式(1)に従って、所
望のめっき皮膜中のN4%に対応する値にする。これは
上述したKCI 4.0〜5.4mol/ l又はNH
4C14,7〜7.1 mol/lを添加することによ
り可能となる。この利点はドラグアウドによる濃度減少
に対してもめっき浴のNiモル比が変化しないことにあ
る。KCI、NHd C1とも上限は効果が飽和するた
めにそれぞれ5.4mol/l、7.1 mol/Jl
jとした。
望のめっき皮膜中のN4%に対応する値にする。これは
上述したKCI 4.0〜5.4mol/ l又はNH
4C14,7〜7.1 mol/lを添加することによ
り可能となる。この利点はドラグアウドによる濃度減少
に対してもめっき浴のNiモル比が変化しないことにあ
る。KCI、NHd C1とも上限は効果が飽和するた
めにそれぞれ5.4mol/l、7.1 mol/Jl
jとした。
(2) pHは3〜5とするのが好ましい。PHが3未
満では鋼板のFe溶出が増え好ましくなく、また5を超
えると外観が悪くなる。
満では鋼板のFe溶出が増え好ましくなく、また5を超
えると外観が悪くなる。
(3)温度は40℃〜65℃とするのが好ましい。40
℃未満ではやけが発生しやすくなり、また65℃を超え
ると設備の腐食が起こりやすくなり不都合である。
℃未満ではやけが発生しやすくなり、また65℃を超え
ると設備の腐食が起こりやすくなり不都合である。
(4) ZnとN1のトータル濃度は1〜4mol/文
とする。1mol/u未満ではやけが発生しやすく、ま
た4mol/文を超える濃度はコスト上不利である。
とする。1mol/u未満ではやけが発生しやすく、ま
た4mol/文を超える濃度はコスト上不利である。
(5)電流密度については特に制限がないことが特徴で
あるが20〜200A/drr!’が一般的である。
あるが20〜200A/drr!’が一般的である。
異常型析出のめっきでは液中の旧、Zn比とめっき被覆
中の%i、Zn比が異なるため、すなわちNi、Znの
消費率が異なるため、所望のXi、Zn比を有するめっ
き被覆をコンスタントに得ようとするには、常に液中の
Nj、Zn比を最適値に維持管理しなければならない。
中の%i、Zn比が異なるため、すなわちNi、Znの
消費率が異なるため、所望のXi、Zn比を有するめっ
き被覆をコンスタントに得ようとするには、常に液中の
Nj、Zn比を最適値に維持管理しなければならない。
しかるに正常型析出のめっきでは消費されるNi、Zn
の割合はめっき液中のXi、Zn比とほぼ同じなので常
に一定の割合でNi、Znを液中に溶解させる手段、す
なわちNi、Znアノードへの投入電流を(2)式で示
す割合で行う手段を講じればよいことになる。
の割合はめっき液中のXi、Zn比とほぼ同じなので常
に一定の割合でNi、Znを液中に溶解させる手段、す
なわちNi、Znアノードへの投入電流を(2)式で示
す割合で行う手段を講じればよいことになる。
次に本発明を実施例をあげて具体的に説明する。
〔実施例1〕
下記に示す塩化物めっき浴を使用し、ラジアルセル4セ
ルにより鋼板の片面にZn−Ni合金めつきを施した。
ルにより鋼板の片面にZn−Ni合金めつきを施した。
ライン速度を40〜12(l mpm 、電流密度を5
0〜200A/dm’まで変化させ、めっき皮膜中の旧
含有率を蛍光X線を使用し測定した。
0〜200A/dm’まで変化させ、めっき皮膜中の旧
含有率を蛍光X線を使用し測定した。
(めっき浴) ZnCl2 1.78mol#LNiC
I2 ・EtH200,24mol/fLNH4CI
5.8mal/愛 Niモル比 0.12 pH4,温度 60℃ (アノード) 可溶性Znアノード 7本可溶性Niア
ノード 1本 電流比 Zn:Ni= 8.6:I Ni含有率とライン速度および電流密度との関係を1 第1図に示す。本発明法によればライン速度と電流密度
の変化に対して安定して12%の旧含有率が得られる。
I2 ・EtH200,24mol/fLNH4CI
5.8mal/愛 Niモル比 0.12 pH4,温度 60℃ (アノード) 可溶性Znアノード 7本可溶性Niア
ノード 1本 電流比 Zn:Ni= 8.6:I Ni含有率とライン速度および電流密度との関係を1 第1図に示す。本発明法によればライン速度と電流密度
の変化に対して安定して12%の旧含有率が得られる。
〔実施例2〕
下記に示す塩化物めっき浴と電解条件を使用し、第2図
に示すような構成のラジアル4セルにより鋼板の両面に
Zn−Ni合金めつきを連続24 hr施した。
に示すような構成のラジアル4セルにより鋼板の両面に
Zn−Ni合金めつきを連続24 hr施した。
(めっき浴) ZnCl2 2.2 mol/11Ni
C12・BI30 0.3 +nol/uKCI 4.
5mo+/文 Niモル比 0.12 pH4,5温度 55°C (アノード) 可溶性Znアノード 7本1.12,2
1,22,31,32,41. (第2図参照)投入電
流 各23.40OA (合計183,800 A) 可溶性Niアノード 1本 42(第2図参照) 投入電流 24,800 A 2 電流比 1:8.8 (板幅) 1000 ll1ra (ライン速度) 80m/5in (めっき付着量)20ノ20 g/rrr’24hr連
続めっき中の浴濃度の変化とめっき皮膜の付着量とNi
含有率の変化を第3図に示す。この間薬品の補給を全く
していないのにもかかわらず一定の浴濃度が得られ、ま
た付着量とNi含有率も一定なものが得られた。
C12・BI30 0.3 +nol/uKCI 4.
5mo+/文 Niモル比 0.12 pH4,5温度 55°C (アノード) 可溶性Znアノード 7本1.12,2
1,22,31,32,41. (第2図参照)投入電
流 各23.40OA (合計183,800 A) 可溶性Niアノード 1本 42(第2図参照) 投入電流 24,800 A 2 電流比 1:8.8 (板幅) 1000 ll1ra (ライン速度) 80m/5in (めっき付着量)20ノ20 g/rrr’24hr連
続めっき中の浴濃度の変化とめっき皮膜の付着量とNi
含有率の変化を第3図に示す。この間薬品の補給を全く
していないのにもかかわらず一定の浴濃度が得られ、ま
た付着量とNi含有率も一定なものが得られた。
24hr後の最終コイルでサンプルをとり、板幅方向と
深さ方向のプロフィルを第4図および第5図に示す。板
幅方向は蛍光X線を使用し、また深さ方向はI MMA
(Ion Mass 旧cro Analyzer。
深さ方向のプロフィルを第4図および第5図に示す。板
幅方向は蛍光X線を使用し、また深さ方向はI MMA
(Ion Mass 旧cro Analyzer。
イオンマスマイクロアナライザ)を使用し測定した。板
幅方向と深さ方向ともに均一なプロフィルが得られた。
幅方向と深さ方向ともに均一なプロフィルが得られた。
以上本発明法によれば長期運転においても安定したZn
−Ni合金めっき鋼板が得られ、しかもめっき浴の濃度
管理とEGLの運転は非常に容易である。
−Ni合金めっき鋼板が得られ、しかもめっき浴の濃度
管理とEGLの運転は非常に容易である。
〔実施例3〕
各種めっき浴中Niモル比、KC1a度について、実施
例2と同一のめっき条件にて比較テストを行った。
例2と同一のめっき条件にて比較テストを行った。
5
511−
第1図はNi含有率とライン速度および電流密度との関
係を示すグラフ、第2図は実施例で用いたラジアルセル
の線図、第3図は連続めっき中の浴濃度、めっき皮膜の
付着量、Ni含有率の経時変化を示すグラフ、第4図お
よび第5図は実施例で得られたストリップの板幅方向と
深さ方向のプロフィルを示すグラフ、第6図はめっき皮
膜中のNiとめっき浴Niモル比との関係を示すグラフ
である。 符号の説明 11.12,21,22,31,32.41− Znア
ノード、42・・・ Niアノード 7
係を示すグラフ、第2図は実施例で用いたラジアルセル
の線図、第3図は連続めっき中の浴濃度、めっき皮膜の
付着量、Ni含有率の経時変化を示すグラフ、第4図お
よび第5図は実施例で得られたストリップの板幅方向と
深さ方向のプロフィルを示すグラフ、第6図はめっき皮
膜中のNiとめっき浴Niモル比との関係を示すグラフ
である。 符号の説明 11.12,21,22,31,32.41− Znア
ノード、42・・・ Niアノード 7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 Ni−T−ル比(Zn+Ni )0.1Q〜0.2Gか
つ、Zn十旧合計1〜4モル/皇のZnCl2および1
101:12を主成分とし、これに、MCI 4.0〜
5.4モル/交、あるいはNH4CI 4.7〜7.1
モル/Uを添加した塩化物めっき浴において、可溶性の
ZnとNiのアノードを使用し、それぞれの投入電流を
次式で表わす割合に制御することを特徴とするZn−N
i合金めっき鋼板の製造方法。 工Zn”Ni” I : Znアノードへの投入電流(A)Zn ■二N+アノードへの投入電流(A) )li X : めっき皮膜中のIf含有率(%)C: Znc
7)電気化学当量= 0.34 (mg/c)Zn Ca1: N1c7)電気化学当量= 0.30 (m
g/C)ηZn: Znアノードの陽極効率(%)ηH
H: N+アノードの陽極効率(%)ここにアノード効
率は、
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59083412A JPS60228693A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法 |
CA000479752A CA1253452A (en) | 1984-04-25 | 1985-04-22 | Production of zn-ni alloy plated steel strips |
US06/726,290 US4569731A (en) | 1984-04-25 | 1985-04-23 | Production of Zn-Ni alloy plated steel strips |
DE8585104990T DE3566279D1 (en) | 1984-04-25 | 1985-04-24 | Production of zn-ni alloy plated steel strips |
ES542515A ES8603593A1 (es) | 1984-04-25 | 1985-04-24 | Procedimiento para la fabricacion de flejes de acero pla- queados con aleacion de zn-ni |
EP85104990A EP0162322B1 (en) | 1984-04-25 | 1985-04-24 | Production of zn-ni alloy plated steel strips |
KR1019850002809A KR900000283B1 (ko) | 1984-04-25 | 1985-04-25 | Zn-Ni합금도금 강판의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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