JPS6022329A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS6022329A JPS6022329A JP58131414A JP13141483A JPS6022329A JP S6022329 A JPS6022329 A JP S6022329A JP 58131414 A JP58131414 A JP 58131414A JP 13141483 A JP13141483 A JP 13141483A JP S6022329 A JPS6022329 A JP S6022329A
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- bonding
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
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- H01L2224/05075—Plural internal layers
- H01L2224/0508—Plural internal layers being stacked
- H01L2224/05082—Two-layer arrangements
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はトランジスタ、集積回路などの半導体装置に関
し、特に絶縁被膜上に結線用電極部(ポンディングパッ
ドと略す)’t−有する半導体装置に関するものである
。
し、特に絶縁被膜上に結線用電極部(ポンディングパッ
ドと略す)’t−有する半導体装置に関するものである
。
一般に半導体回路素子は金属細線(ボンディング線と略
す)で結線することによって電気的接続を行なうが、こ
の種の半導体素子のボンディングバンドは例えば第1図
(al tb)に示すような構造をとっていた。即ち基
板表面にはPN接合1の保護及び表面絶縁分離のための
絶縁被膜2が形成され、そしてエミッタ電極3及びベー
ス電極4が形成される。
す)で結線することによって電気的接続を行なうが、こ
の種の半導体素子のボンディングバンドは例えば第1図
(al tb)に示すような構造をとっていた。即ち基
板表面にはPN接合1の保護及び表面絶縁分離のための
絶縁被膜2が形成され、そしてエミッタ電極3及びベー
ス電極4が形成される。
この場合、ボンディング線で接続される電極部(特にポ
ンディングパッド部)と絶縁被膜は平滑面で対抗してい
るため、電極部と絶縁被膜との接着強度は接着面積に依
存し強いとはいえながった。
ンディングパッド部)と絶縁被膜は平滑面で対抗してい
るため、電極部と絶縁被膜との接着強度は接着面積に依
存し強いとはいえながった。
特に、高周波帯の素子は寄生容量の減少を図るため、ボ
ンディング線で接続される電極部はできる限シ小さい面
積となっているため、次の様な欠点を有していた。
ンディング線で接続される電極部はできる限シ小さい面
積となっているため、次の様な欠点を有していた。
1、 ボンディング線で結線を行なう場合、高温状態で
圧着するが、そのストレスにより電極が絶縁被膜から剥
れる。
圧着するが、そのストレスにより電極が絶縁被膜から剥
れる。
2 ボンディング線で結線し、樹脂封止全行なった場合
、樹脂の膨張歪によシミ極が絶縁被膜から剥れる。
、樹脂の膨張歪によシミ極が絶縁被膜から剥れる。
これら剥れのモードは電極端部がめくられた状態から剥
れておシ、半導体素子の接続不良全誘発し信頼度の優れ
た半導体素子を供給することが出来なかった。
れておシ、半導体素子の接続不良全誘発し信頼度の優れ
た半導体素子を供給することが出来なかった。
本発明の目的は上記の欠点を解決し、ボンディング部の
絶縁膜に対する接着力が強固で、安定した信頼度を有す
る半導体装置を提供することにある。
絶縁膜に対する接着力が強固で、安定した信頼度を有す
る半導体装置を提供することにある。
本発明によると半導体素子のポンディングパッド外周部
下の絶縁被膜表面に凹部を形成したことを特徴とする半
導体装置が得られる。
下の絶縁被膜表面に凹部を形成したことを特徴とする半
導体装置が得られる。
以下、本発明の一実施例を図面によって詳細に説明する
。第2図(a)(b)は本発明の一実施例を示すトラン
ジスタの平面図及び断面図である。
。第2図(a)(b)は本発明の一実施例を示すトラン
ジスタの平面図及び断面図である。
この実施例ではポンディングパッド3.4の外周部に対
抗する絶縁被膜1552に凹部5を形成することによシ
ミ極性周部を′ut極灰面よシ低くし、ボンディング線
との接着を避け、電極剥れのモードである外周部のめく
れtなくすことができる。
抗する絶縁被膜1552に凹部5を形成することによシ
ミ極性周部を′ut極灰面よシ低くし、ボンディング線
との接着を避け、電極剥れのモードである外周部のめく
れtなくすことができる。
本発明はトランジスタに限らず金属細線で接続を行なう
集積回路などの半導体素子全般にも適用出来る。
集積回路などの半導体素子全般にも適用出来る。
本発明は以上説明したように、ボンディング部の絶縁膜
に対する接着力が強固で、簀定した信頼夏が得られる効
果がある。
に対する接着力が強固で、簀定した信頼夏が得られる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
の平面図と断面図である。
1・・・・・・PN接合、2・・・・・・絶縁被膜、3
・・・・・・エミッタ電極、4・・・・・・ベース電極
%5・・・・・・絶縁被膜に形成された凹部。
・・・・・・エミッタ電極、4・・・・・・ベース電極
%5・・・・・・絶縁被膜に形成された凹部。
Claims (1)
- 半導体素子の結線用電極外周部下の絶縁被膜表面に凹部
を形成したことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58131414A JPS6022329A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58131414A JPS6022329A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6022329A true JPS6022329A (ja) | 1985-02-04 |
Family
ID=15057409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58131414A Pending JPS6022329A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6022329A (ja) |
-
1983
- 1983-07-19 JP JP58131414A patent/JPS6022329A/ja active Pending
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