JPS60222434A - (2e,6e)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−ア−ルの製造方法 - Google Patents
(2e,6e)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−ア−ルの製造方法Info
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- JPS60222434A JPS60222434A JP59077877A JP7787784A JPS60222434A JP S60222434 A JPS60222434 A JP S60222434A JP 59077877 A JP59077877 A JP 59077877A JP 7787784 A JP7787784 A JP 7787784A JP S60222434 A JPS60222434 A JP S60222434A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は(2E、6E)−3,7,11−)ジメチル−
2,6,10−ドデカトリエン−1−アール(以下、こ
れを全トランスファルネサールと記す。)の製造方法に
関する。
2,6,10−ドデカトリエン−1−アール(以下、こ
れを全トランスファルネサールと記す。)の製造方法に
関する。
全トランスファルネサールは各種医薬品の合成原料とし
て有用である。例えば、肝障害治療剤の有効成分である
一般式 %式% (1) (式中、nは1〜4の整数、Rは水素原子または低級ア
ルキル基を表わす。)で示される化合物(特開昭56−
167635号公報参照)ならびに抗癌剤または角化を
伴う皮膚疾患の治療剤の有効成分である次式 %式%() で示されるようなポリプレニル系化合物(特開昭57−
181012号、同57−106638号、同57−1
06617号および同57−31615号公報参照)の
合成原料として用いることができる。
て有用である。例えば、肝障害治療剤の有効成分である
一般式 %式% (1) (式中、nは1〜4の整数、Rは水素原子または低級ア
ルキル基を表わす。)で示される化合物(特開昭56−
167635号公報参照)ならびに抗癌剤または角化を
伴う皮膚疾患の治療剤の有効成分である次式 %式%() で示されるようなポリプレニル系化合物(特開昭57−
181012号、同57−106638号、同57−1
06617号および同57−31615号公報参照)の
合成原料として用いることができる。
従来全トランスファルネザールの効果的な合成法は知ら
れていなかった。例えば、(2E、6E)−3,7,1
1−)ジメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−
オールの酸化あるいは(6E)−3,7゜11−トリメ
チル−6,10−ドデカジエン−1−イン−3−オール
のバナジウム触媒存在下の転位反応(例えば特公昭51
−23484号公報参照)による方法では、反応条件下
で(2Z 、5E)−ファルネシルが大量に生成するこ
とは避けられず、しかも効果的な全トランスファルネサ
ールの単離精製方法が知られていないため、純度の高い
全トランスファルネサールが得られていなかった。例え
ば分留塔を用いた精密蒸留では下式に示すような分子内
エン反応により目的化合物が異性化してしまうことが知
られている。
れていなかった。例えば、(2E、6E)−3,7,1
1−)ジメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−
オールの酸化あるいは(6E)−3,7゜11−トリメ
チル−6,10−ドデカジエン−1−イン−3−オール
のバナジウム触媒存在下の転位反応(例えば特公昭51
−23484号公報参照)による方法では、反応条件下
で(2Z 、5E)−ファルネシルが大量に生成するこ
とは避けられず、しかも効果的な全トランスファルネサ
ールの単離精製方法が知られていないため、純度の高い
全トランスファルネサールが得られていなかった。例え
ば分留塔を用いた精密蒸留では下式に示すような分子内
エン反応により目的化合物が異性化してしまうことが知
られている。
本発明の目的は全トランスファルネサールの効果的な製
造方法を提供することにある。
造方法を提供することにある。
本発明によれば、上記の目的は、(2Z/E混合、6E
)または(2Z/E混合、6Z/Em合)−3,7,1
1−)ジメチル−2,6,10−ドデカトリエンニトリ
ルを蒸留分離して(2E 、 6 E ) −、a。
)または(2Z/E混合、6Z/Em合)−3,7,1
1−)ジメチル−2,6,10−ドデカトリエンニトリ
ルを蒸留分離して(2E 、 6 E ) −、a。
7.11−)ジメチル−2,6,10−ドデカトリエン
ニトリルを得、これを還元剤を用いて還元し、加水分解
することを特徴とする全トランスファルネサールの製造
方法によって達成される。
ニトリルを得、これを還元剤を用いて還元し、加水分解
することを特徴とする全トランスファルネサールの製造
方法によって達成される。
上Ht (2Z / E 混合、6 E )’t 7C
ハ(2Z / E混合、 6 Z/E混合) −3,7
,11−) IJ jテに−2、6,] ]0−ドデカ
トリエンニトリル以下、3,7゜11−トリメチル−2
,6,10−ドデカトリエンニトリルをファルネシルニ
トリルと記す。)は(5E )tりR(s Z/E混合
) −6,10−シJチルー5.9−’;17デカジ:
1ニー 7−2− オン(以下、6.10−ジメチル−
5,9−ウンデカジエン−2−オンをゲラニルアセトン
と記す。)をアセトニトリルまたは一般式(R”0)2
P CH2CN (式中、R1は低級アルギル基を表
わす。)で示されるシアノメチルホスホン酸ジエステル
と反応させることにより、あるいは該(5E)tたは(
sZ/E混合)−ゲラニルアセトンをシアン酢酸または
その低級アルキルエステルと反応させ、得られる生成物
を、必要に応じ加水分解したのち、脱炭酸することによ
り、容易に得ることができる。なお、上記において、(
5E)−ゲラニルアセトンからは(2Z/E混合。
ハ(2Z / E混合、 6 Z/E混合) −3,7
,11−) IJ jテに−2、6,] ]0−ドデカ
トリエンニトリル以下、3,7゜11−トリメチル−2
,6,10−ドデカトリエンニトリルをファルネシルニ
トリルと記す。)は(5E )tりR(s Z/E混合
) −6,10−シJチルー5.9−’;17デカジ:
1ニー 7−2− オン(以下、6.10−ジメチル−
5,9−ウンデカジエン−2−オンをゲラニルアセトン
と記す。)をアセトニトリルまたは一般式(R”0)2
P CH2CN (式中、R1は低級アルギル基を表
わす。)で示されるシアノメチルホスホン酸ジエステル
と反応させることにより、あるいは該(5E)tたは(
sZ/E混合)−ゲラニルアセトンをシアン酢酸または
その低級アルキルエステルと反応させ、得られる生成物
を、必要に応じ加水分解したのち、脱炭酸することによ
り、容易に得ることができる。なお、上記において、(
5E)−ゲラニルアセトンからは(2Z/E混合。
6E)−ファルネシルニトリルカ得うれ、(5z/E混
合)−ゲラニルアセトンからは(2Z/E混合、6Z/
E混合)−ファルネシルニトリルが得られる。
合)−ゲラニルアセトンからは(2Z/E混合、6Z/
E混合)−ファルネシルニトリルが得られる。
本発明の方法はその理解を容易にするために下図によっ
て表わすことができる。
て表わすことができる。
(2z/E混合、 6 E ) (2Z/EM 、 a
2S/E混合)(2E16E) ↓還元剤 ↓加水分解 メ、ヘノνへノリへ。
2S/E混合)(2E16E) ↓還元剤 ↓加水分解 メ、ヘノνへノリへ。
(2E、6E)
(5E)または(5Z/E混合)−ゲラニルアセトンと
アセトニトリルとからの(2Z/E混合。
アセトニトリルとからの(2Z/E混合。
6K)’l:たは< 2Z/Em合、6Z/Ei合)−
7アルネシルニトリルの合成反応は強塩基の存在下に行
われる。使用可能な強塩基として例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物;ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウ
ムプロポキシド、カリウムt−ブトキシドなどのアルカ
リ金属の低級アルコキシド;メチルリチウム、ブチルリ
チウムなどの低級アルキルリチウム;ナトリウムアミド
、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド;リチウム
ジイソプロピルアミドなどのアルカリ金属のジアルキル
アミド;四級アンモニウムの水酸化物;強塩基性イオン
交換樹脂などが挙げられる。
7アルネシルニトリルの合成反応は強塩基の存在下に行
われる。使用可能な強塩基として例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物;ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウ
ムプロポキシド、カリウムt−ブトキシドなどのアルカ
リ金属の低級アルコキシド;メチルリチウム、ブチルリ
チウムなどの低級アルキルリチウム;ナトリウムアミド
、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド;リチウム
ジイソプロピルアミドなどのアルカリ金属のジアルキル
アミド;四級アンモニウムの水酸化物;強塩基性イオン
交換樹脂などが挙げられる。
これら塩基は触媒として作用するため、反応中消費され
ないが、ゲラニルアセトンに対して0.01〜10モル
当量、好ましくは0,1〜5モル当量使用するのがよい
。この反応においてはアセトニトリルは反応成分として
ばかりではなく溶媒とじても作用するので、この目的の
ため通常好ましくはアセトニトリルを過剰量使用する。
ないが、ゲラニルアセトンに対して0.01〜10モル
当量、好ましくは0,1〜5モル当量使用するのがよい
。この反応においてはアセトニトリルは反応成分として
ばかりではなく溶媒とじても作用するので、この目的の
ため通常好ましくはアセトニトリルを過剰量使用する。
従って溶媒は使用してもしなくてもよいが、使用できる
溶媒の例トシテハヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの炭化水素類が挙げられる。本反応
は室温でも進行するが、反応速度の点から50〜150
℃で行うのが好ましい。大気圧下で十分な反応温度が得
られない場合には加圧下、例えばオートクレーブ中で反
応を行うのがよい。
溶媒の例トシテハヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの炭化水素類が挙げられる。本反応
は室温でも進行するが、反応速度の点から50〜150
℃で行うのが好ましい。大気圧下で十分な反応温度が得
られない場合には加圧下、例えばオートクレーブ中で反
応を行うのがよい。
(5E)または(5z/E混合)−ゲラニルア1
七トンと一般式(R”0>2 PCM2CN (式中、
R1は低級アルキル基を表わす。)で示されるシアンメ
チルホ艮ホン酸ジエステルとからの(2Z/E混合。
R1は低級アルキル基を表わす。)で示されるシアンメ
チルホ艮ホン酸ジエステルとからの(2Z/E混合。
6E)’27’cid(2z/E混合+ 6Z/E混合
)−ファルネシルニトリルの合成反応は塩基の存在下に
一80℃〜50℃の温度で行われる。上記式中のR1ハ
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基
、n−ブチル基、i−ブチル基、5ee−ブチル基、t
−ブチル基などであることができる。塩基としては水素
化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水
素化物;ブチルリチウム、n−ブチルリチウムなどのア
ルキルリチウム;メチルマグネシウムプロミド、エチル
マグネシウムクロリドなどのグリニヤール試薬;ナトリ
ウムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド
;ナトリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシドなど
のアルカリ金属の低級アルコキシドなどが用いられる0
シアノメチルホスホン酸ジエステルはゲラニルアセトン
に対して1.0〜1.5当量、塩基はゲラニルアセトン
に対して1.0〜2.0当量用いるのが好ましい。この
反応は溶媒の存在下に行われる。用いられる溶媒として
はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、メ
タノール、エタノール、塩化メチレン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミドなどが挙げられる。本反応で
は一般に(2E)−ファルネシルニトリルが(2z)一
体に優先して生成するが、反応条件下で放置しておくと
(2z)一体の比率が徐々に高くなってくるため、次の
蒸留分(5E)または(5Z/E混合)−ゲラニルアセ
トンと一般式NCCH2C00R2(式中、R2は水素
原子捷たけ低級アルキル基を表わす。)で示されるシア
ノ酢酸またはその低級アルキルエステルを酢酸アンモニ
ウム−酢酸、ピリジン、モルホリンなどの塩基または酸
の触媒量〜過剰量の存在下に0〜200℃好ましくは8
0〜150℃で反応させると一般式 (式中 R2は上記定義のとおりである。)で示される
化合物[(2Z/E混合、6E)一体またU(2Z/F
4合、6Z/E混合)一体〕が生成する。この場合、反
応条件下で式(Vl)の化合物にとどまらず直接ファル
ネシルニトリルが生成する場合もある。式(Vl)にお
いてR2=I(の化合物は、これを触媒量の酸の存在下
に脱炭酸することにより対応スル(2z/ E 混合、
6 E ) 1 ’* ハ(2Z/E混合、6z/E
混合)−ファルネシルニトリルに転化することができる
。式(■)においてR2か低級アルキル基(たとえばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
n−ブチル基など)である化合物は、これを水酸化カリ
ウム。
)−ファルネシルニトリルの合成反応は塩基の存在下に
一80℃〜50℃の温度で行われる。上記式中のR1ハ
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基
、n−ブチル基、i−ブチル基、5ee−ブチル基、t
−ブチル基などであることができる。塩基としては水素
化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属の水
素化物;ブチルリチウム、n−ブチルリチウムなどのア
ルキルリチウム;メチルマグネシウムプロミド、エチル
マグネシウムクロリドなどのグリニヤール試薬;ナトリ
ウムアミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド
;ナトリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシドなど
のアルカリ金属の低級アルコキシドなどが用いられる0
シアノメチルホスホン酸ジエステルはゲラニルアセトン
に対して1.0〜1.5当量、塩基はゲラニルアセトン
に対して1.0〜2.0当量用いるのが好ましい。この
反応は溶媒の存在下に行われる。用いられる溶媒として
はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、メ
タノール、エタノール、塩化メチレン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミドなどが挙げられる。本反応で
は一般に(2E)−ファルネシルニトリルが(2z)一
体に優先して生成するが、反応条件下で放置しておくと
(2z)一体の比率が徐々に高くなってくるため、次の
蒸留分(5E)または(5Z/E混合)−ゲラニルアセ
トンと一般式NCCH2C00R2(式中、R2は水素
原子捷たけ低級アルキル基を表わす。)で示されるシア
ノ酢酸またはその低級アルキルエステルを酢酸アンモニ
ウム−酢酸、ピリジン、モルホリンなどの塩基または酸
の触媒量〜過剰量の存在下に0〜200℃好ましくは8
0〜150℃で反応させると一般式 (式中 R2は上記定義のとおりである。)で示される
化合物[(2Z/E混合、6E)一体またU(2Z/F
4合、6Z/E混合)一体〕が生成する。この場合、反
応条件下で式(Vl)の化合物にとどまらず直接ファル
ネシルニトリルが生成する場合もある。式(Vl)にお
いてR2=I(の化合物は、これを触媒量の酸の存在下
に脱炭酸することにより対応スル(2z/ E 混合、
6 E ) 1 ’* ハ(2Z/E混合、6z/E
混合)−ファルネシルニトリルに転化することができる
。式(■)においてR2か低級アルキル基(たとえばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
n−ブチル基など)である化合物は、これを水酸化カリ
ウム。
(2Z/E混合、 6 E )−tたけ(2Z/E混合
。
。
5Z/E混合)−ファルネシルニトリルに転化すること
ができる。
ができる。
上記のようにして得られた(2Z/E混合、6E)fた
iJ:(2Z/E混合、6Z/E混合)−7フルネシル
ニトリルからの(2E、6E)−ファルネシルニトリル
の蒸留分離は通常用いられる蒸留塔を使用して行うこと
ができる。蒸留は通常、減圧下で行うが、ファルネシル
ニ) IJルの熱安定性全考慮してlQmml−1y以
下の減圧下で行うのが好ましく、さらに好ましくは0.
1〜5m1(fの減圧下で行う。蒸留分離により回収さ
れた(2E16E)−ファルネシルニトリル以外のファ
ルネシルニトリルは自体公知の異性化反応により(2E
、6E)−ファルネシルニトリルとの混合物に変換した
のち(2E、6E)−ファル不シルニトリルヲ分離取得
するために再度蒸留に付することかできるため、基本的
には全量(:2F、5′E)−ファルネシルニトリルと
することができる。上記異性化反応に用いる異性化触媒
としては、例えばチオフェノール、p−)チルチオフェ
ノール、p−ブロモチオフェノールあるいはルテニウム
アセチルアセトナート(Chemistry Lett
ers、1978.533参照)などが挙げられる。
iJ:(2Z/E混合、6Z/E混合)−7フルネシル
ニトリルからの(2E、6E)−ファルネシルニトリル
の蒸留分離は通常用いられる蒸留塔を使用して行うこと
ができる。蒸留は通常、減圧下で行うが、ファルネシル
ニ) IJルの熱安定性全考慮してlQmml−1y以
下の減圧下で行うのが好ましく、さらに好ましくは0.
1〜5m1(fの減圧下で行う。蒸留分離により回収さ
れた(2E16E)−ファルネシルニトリル以外のファ
ルネシルニトリルは自体公知の異性化反応により(2E
、6E)−ファルネシルニトリルとの混合物に変換した
のち(2E、6E)−ファル不シルニトリルヲ分離取得
するために再度蒸留に付することかできるため、基本的
には全量(:2F、5′E)−ファルネシルニトリルと
することができる。上記異性化反応に用いる異性化触媒
としては、例えばチオフェノール、p−)チルチオフェ
ノール、p−ブロモチオフェノールあるいはルテニウム
アセチルアセトナート(Chemistry Lett
ers、1978.533参照)などが挙げられる。
上記のようにして得られた(’ 2 El 6E)−フ
ァルネシルニトリルを還元するだめの還元剤としてハ水
素化ジイソブチルアルミニウムまたld一般式MAJI
((OR3)a (式中、Mはアルカリ金属を表わし、
R3は低級アルキル基またはアリール基を表わす。)で
示される化合物が用いられる。ここでMはたとえばリチ
ウム、ナトリウムなどであることができ、R3ハたとえ
ばメチル基、エチル基、n−プロピルNss 1−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、5ee−ブチル
基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、
フェニルasp−ト’)h基などであることができる。
ァルネシルニトリルを還元するだめの還元剤としてハ水
素化ジイソブチルアルミニウムまたld一般式MAJI
((OR3)a (式中、Mはアルカリ金属を表わし、
R3は低級アルキル基またはアリール基を表わす。)で
示される化合物が用いられる。ここでMはたとえばリチ
ウム、ナトリウムなどであることができ、R3ハたとえ
ばメチル基、エチル基、n−プロピルNss 1−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、5ee−ブチル
基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、
フェニルasp−ト’)h基などであることができる。
還元剤は(2E、6E)−ファルネシルニトリルに対し
て1.0〜1.3当量用いるのが好ましい。還元は通常
−20〜60℃の温度で溶媒中で行われる。使用できる
溶媒としてはへキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエンなどの炭化水素、ジエチルエーテル、ジインプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル類が挙
げられる。
て1.0〜1.3当量用いるのが好ましい。還元は通常
−20〜60℃の温度で溶媒中で行われる。使用できる
溶媒としてはへキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエンなどの炭化水素、ジエチルエーテル、ジインプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル類が挙
げられる。
上記還元反応において還元剤として水素化ジイソブチル
アルミニウムを用いた場合には式0式%) (式中、1−Buはイソブチル基を表わす。)で示され
る化合物が生成し、還元剤として一般式MAJH(OR
3)aで示される化合物を用いた場合にはy (式中、MおよびR3は上記定義のとおりである。)よ
シ目的とする全トランスファルネサールを純度よく得る
ことができる。
アルミニウムを用いた場合には式0式%) (式中、1−Buはイソブチル基を表わす。)で示され
る化合物が生成し、還元剤として一般式MAJH(OR
3)aで示される化合物を用いた場合にはy (式中、MおよびR3は上記定義のとおりである。)よ
シ目的とする全トランスファルネサールを純度よく得る
ことができる。
還元反応終了後、反応条件下で全トランスファルネサー
ルが(2z、6E)−ファルネサールへ徐々に異性化す
るのを避けるために、すみやかに加水分解処理すること
が好ましい。強酸性条件下では全トランス7アルネサー
ルの(2Z、6E)−ファルネサールへの異性化が起こ
るため、加水分解には強酸の水溶液は使用できない。使
用できる酸としては酢酸、プロピオン酸、クエン酸、酒
石酸、塩化アンモニウム水、炭酸水などの有機または無
機の弱酸類か挙げられる。酸の使用濃度によっては緩衝
溶液を用いたほうがよい。加水分解・0また加水分解は
0℃〜30℃で行うのが好ましい。
ルが(2z、6E)−ファルネサールへ徐々に異性化す
るのを避けるために、すみやかに加水分解処理すること
が好ましい。強酸性条件下では全トランス7アルネサー
ルの(2Z、6E)−ファルネサールへの異性化が起こ
るため、加水分解には強酸の水溶液は使用できない。使
用できる酸としては酢酸、プロピオン酸、クエン酸、酒
石酸、塩化アンモニウム水、炭酸水などの有機または無
機の弱酸類か挙げられる。酸の使用濃度によっては緩衝
溶液を用いたほうがよい。加水分解・0また加水分解は
0℃〜30℃で行うのが好ましい。
加水分解終了後、通常一般の分離操作たとえば抽出操作
により全トランスファルネサールを得ることができる。
により全トランスファルネサールを得ることができる。
さらに精製が必要な場合、充分な減圧下にすみやかに単
蒸留することにより、純度を低下させることなく全トラ
ンスファルネサールを精製することができる。
蒸留することにより、純度を低下させることなく全トラ
ンスファルネサールを精製することができる。
なお、前記(5E)または(5Z/E混合)−ゲラニル
アセトンはたとえばゲラニルクロリドまたはリナロール
を出発原料として用いて下記の方法によシ製造すること
ができる。
アセトンはたとえばゲラニルクロリドまたはリナロール
を出発原料として用いて下記の方法によシ製造すること
ができる。
(5E)−ゲラニルアセトン
(5E)−ゲラニルアセトン
〔発明の効果〕
本発明により全トランスファルネサールを効率よく展進
する方法が提供される。該本発明方法によれば容易に高
純度の全トランスファルネサール〔実施例〕 以下、本発明を実施例によシ詳しく説明する。
する方法が提供される。該本発明方法によれば容易に高
純度の全トランスファルネサール〔実施例〕 以下、本発明を実施例によシ詳しく説明する。
実施例1
(i)(2Z/E混合16 K ) 77/L’ ネジ
/l/ ニトリルの合成 水素化ナトリウム(60%才イル分散)37.12(9
28mmO1)のテト5 ヒ)”o 7う71.51溶
液に、氷冷下、シアノメチルホスホン酸ジインプロピル
(純度91%)]8(1(799mmol )をゆつく
シ滴下し、添加終了後室温で30分間攪拌した。次に、
水冷下% (5E)−ゲラニルアセトン150?(77
3mmol)を、上記反応液に滴下した後、同温度で1
.5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、n
−へキサンで抽出し、5チ水酸化ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を留去した後、減圧蒸留(103−105℃
/ 0.2 wmH9)するととに!!D (2Z/J
ill。
/l/ ニトリルの合成 水素化ナトリウム(60%才イル分散)37.12(9
28mmO1)のテト5 ヒ)”o 7う71.51溶
液に、氷冷下、シアノメチルホスホン酸ジインプロピル
(純度91%)]8(1(799mmol )をゆつく
シ滴下し、添加終了後室温で30分間攪拌した。次に、
水冷下% (5E)−ゲラニルアセトン150?(77
3mmol)を、上記反応液に滴下した後、同温度で1
.5時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、n
−へキサンで抽出し、5チ水酸化ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を留去した後、減圧蒸留(103−105℃
/ 0.2 wmH9)するととに!!D (2Z/J
ill。
61)−7フルネシルニトリル(純度98%、2Z/2
g=23.8/76.2)166F(750mm01
)を得た(収率97%)O Mass m/e:2]7(M”)+174181,6
9141上記(1)において得られた(2Z/E混合、
6E)−ファルネシルニトリル166F(750mmo
l )を内径1.5 cm 、長さx、1m(ヘリバッ
ク充填)の蒸留塔を用いて0.5 w Hfの減圧下で
精密蒸留した。
g=23.8/76.2)166F(750mm01
)を得た(収率97%)O Mass m/e:2]7(M”)+174181,6
9141上記(1)において得られた(2Z/E混合、
6E)−ファルネシルニトリル166F(750mmo
l )を内径1.5 cm 、長さx、1m(ヘリバッ
ク充填)の蒸留塔を用いて0.5 w Hfの減圧下で
精密蒸留した。
95%以上の純度をもつ全トランスファルネシルニトリ
ルの留分として629得られた。
ルの留分として629得られた。
MS
NMR(90MHz)δ : 1.55(S+6H)+
99m 1.61 (8、3H)+ 1.99 (S 、 3H
) 。
99m 1.61 (8、3H)+ 1.99 (S 、 3H
) 。
1.86−2.03(m、4H) 、2.03−2.2
0(m、4H)4.81−5.13(m、31() < m ) 全トランス7アルネサールの合成窒素雰囲
気下、上記(11)において得られた全トランスファル
ネシルニトリルs、 43 y (25,0mmol)
とn−ヘキサン2511Lil’の溶液中に室温でジイ
ソブチルアルミニウムハイドライド(以下、DIBAH
と記す。)(25r/1ooyヘキサン溶液)16.0
Ill (28,2mmol )をゆつく少滴下した。
0(m、4H)4.81−5.13(m、31() < m ) 全トランス7アルネサールの合成窒素雰囲
気下、上記(11)において得られた全トランスファル
ネシルニトリルs、 43 y (25,0mmol)
とn−ヘキサン2511Lil’の溶液中に室温でジイ
ソブチルアルミニウムハイドライド(以下、DIBAH
と記す。)(25r/1ooyヘキサン溶液)16.0
Ill (28,2mmol )をゆつく少滴下した。
室温で1時間攪拌した後、50℃で3時間攪拌した。こ
の反応液を0℃に冷却し、水4.5 f (250mm
ol )とテトラヒドロフラン(THF)z5m/の混
合液tゆつく少滴下した。次に、1規定酢酸175−(
175mmol )と3規定酢酸アンモニウム175d
(0,25mmol )と氷】502の混合液中に上
記の反応混合物を注ぎ、0℃で30分間攪拌した0続い
て有機層と水層に分液し、有機層を水洗し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥してから溶媒を留去した。得られた残渣
をクーゲルロール蒸留に付する(浴温150−160℃
10.3■W)ことによシ、全トラyx7アルネt−ル
3.37 f (12,6mmol)を得た。このもの
はガスクロマトグラフィー分析の結果、2E/2Z=9
4/6の比率のものでめった(収率61チ)。
の反応液を0℃に冷却し、水4.5 f (250mm
ol )とテトラヒドロフラン(THF)z5m/の混
合液tゆつく少滴下した。次に、1規定酢酸175−(
175mmol )と3規定酢酸アンモニウム175d
(0,25mmol )と氷】502の混合液中に上
記の反応混合物を注ぎ、0℃で30分間攪拌した0続い
て有機層と水層に分液し、有機層を水洗し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥してから溶媒を留去した。得られた残渣
をクーゲルロール蒸留に付する(浴温150−160℃
10.3■W)ことによシ、全トラyx7アルネt−ル
3.37 f (12,6mmol)を得た。このもの
はガスクロマトグラフィー分析の結果、2E/2Z=9
4/6の比率のものでめった(収率61チ)。
−Mass m/e : 220 [M+]、 84
+ 69 + 411R(crn−’) : 1680
,1190.’11201.61(s、3H) 1.8
5−2.06(m、4H)。
+ 69 + 411R(crn−’) : 1680
,1190.’11201.61(s、3H) 1.8
5−2.06(m、4H)。
2.06−2.24 (m、 4H) 、 2.11
(S 、 3f()4.80−5.20 (m、 2H
) 、 5.83 (d 、J=8Hz、 IH) 。
(S 、 3f()4.80−5.20 (m、 2H
) 、 5.83 (d 、J=8Hz、 IH) 。
9.98 (d 、J=8Hz 、 IH)実施例2
(i)(2Z/E混合、6E )−77に* シにニド
1フルの合成 405’の水酸化す)IJウム(1,0モル)、410
fのアセトニトリル(10,0モル)および(5E)−
ゲラニルアセトン190り(0,98モル)の混合物を
80℃で3日間加熱攪拌した。この反応混合物を550
2の10%酢酸水溶液中に注ぎ、次いでベンゼン100
m/を加え、分液した。水層はベンゼンで抽出した。ベ
ンゼン層を合わせて水洗した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、得られた残渣を減圧下で
蒸留(100−105℃10.2・ル)するととに!j
D(2Z/E混合。
1フルの合成 405’の水酸化す)IJウム(1,0モル)、410
fのアセトニトリル(10,0モル)および(5E)−
ゲラニルアセトン190り(0,98モル)の混合物を
80℃で3日間加熱攪拌した。この反応混合物を550
2の10%酢酸水溶液中に注ぎ、次いでベンゼン100
m/を加え、分液した。水層はベンゼンで抽出した。ベ
ンゼン層を合わせて水洗した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、得られた残渣を減圧下で
蒸留(100−105℃10.2・ル)するととに!j
D(2Z/E混合。
5E)−ファルネシルニトリル3(1’(0,18モル
)が得られ念。反応したゲラニルアセトン140f<0
.72モル)にもとづく収率は70チであった。
)が得られ念。反応したゲラニルアセトン140f<0
.72モル)にもとづく収率は70チであった。
(2E)一体と(2Z違の比は約6=4でめった。
上記の反応操作を7回縁シ返すことによシ合計280
fの(2Z/E混合、6 E)−77に$ シルニトリ
ルを得た。
fの(2Z/E混合、6 E)−77に$ シルニトリ
ルを得た。
(ii) 全トランス7アルネサールの合成りIBAH
加水分解 、−2、徒781、□ CHO 上記(1)において得られた(2Z/E混合、6E)−
7アルネシルニトリル2 s o y (2E/22二
6/4)を実施例1の(11)と同様に蒸留分離するこ
とにより95%以上の純度の全トランスファルネシルニ
トリル752が得られた。残シの蒸留留分はチオフェノ
ールによる異性化−蒸留分離を繰シ返すことによシ、最
終的に95%以上の純度をもつ全トランスファルネシル
ニトリル】80fが得られた。
加水分解 、−2、徒781、□ CHO 上記(1)において得られた(2Z/E混合、6E)−
7アルネシルニトリル2 s o y (2E/22二
6/4)を実施例1の(11)と同様に蒸留分離するこ
とにより95%以上の純度の全トランスファルネシルニ
トリル752が得られた。残シの蒸留留分はチオフェノ
ールによる異性化−蒸留分離を繰シ返すことによシ、最
終的に95%以上の純度をもつ全トランスファルネシル
ニトリル】80fが得られた。
上記で得られた全トランスファルネシルニトリル5.4
3 f (2s、ommol )を実施例1の(li+
)と同様に還元し加水分解することによシ、全トラン
ス7アルネサール3.21 ? (14,6mmol
)(2に/2z=c+4/lを得*(収率58 es)
。
3 f (2s、ommol )を実施例1の(li+
)と同様に還元し加水分解することによシ、全トラン
ス7アルネサール3.21 ? (14,6mmol
)(2に/2z=c+4/lを得*(収率58 es)
。
実施例3
(1)(2Z/E混合+6”)−77#ネシルニトリル
の合成 人へλへλ/CN (5B) −ゲ5ニル7*ドア39f (0,20モル
)をベンゼン2001/に溶かし、シアン酢酸エチル2
8F(0,25モル)、酢酸アンモニウム52および酢
酸5fを加え、水を除去しつつ10時間加熱還流した。
の合成 人へλへλ/CN (5B) −ゲ5ニル7*ドア39f (0,20モル
)をベンゼン2001/に溶かし、シアン酢酸エチル2
8F(0,25モル)、酢酸アンモニウム52および酢
酸5fを加え、水を除去しつつ10時間加熱還流した。
反応液を分液し、有機層を水洗し、溶媒を留去して得ら
れた残渣に水酸化ナトリウム20f(0,50モル)、
プロピレングリコール100dを加え、30分間室温で
攪拌した後、反応液に希塩酸を加え酸性とした後、ベン
ゼンで抽出し、水洗した。溶媒を留去して得られた残渣
をピリジンl00dに溶かし、これに銅粉を加えて2時
間加熱還流した。反応液を濾過し、ピリジンを留去した
残渣にヘキサンを加え、水洗した後を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣を減圧下に
蒸留(99−105℃10.2mHP)iることKjp
、(2Z/E混合、6g)−:yrル*シルニトリル2
4f(0,11モル)を得た(収率55%)o (2E
)一体と(2z)一体の比は約6!4Tあった。
れた残渣に水酸化ナトリウム20f(0,50モル)、
プロピレングリコール100dを加え、30分間室温で
攪拌した後、反応液に希塩酸を加え酸性とした後、ベン
ゼンで抽出し、水洗した。溶媒を留去して得られた残渣
をピリジンl00dに溶かし、これに銅粉を加えて2時
間加熱還流した。反応液を濾過し、ピリジンを留去した
残渣にヘキサンを加え、水洗した後を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣を減圧下に
蒸留(99−105℃10.2mHP)iることKjp
、(2Z/E混合、6g)−:yrル*シルニトリル2
4f(0,11モル)を得た(収率55%)o (2E
)一体と(2z)一体の比は約6!4Tあった。
上記の反応操作を10回繰シ返すことによシ合計245
f O(2z/E混合s 6 E ) 77 ル4シ
ルニトリルを得た。
f O(2z/E混合s 6 E ) 77 ル4シ
ルニトリルを得た。
上記(1)−t’得ラうタ(2Z/Ei合、 6 E
) −7フル$シルニ) リル220 tC2B/2Z
=6/4)を実施例1の(11)と同様に蒸留分離する
ことによシ95%以上の純度の全トランス7アルネシル
ニトリル68Fが得られた。
) −7フル$シルニ) リル220 tC2B/2Z
=6/4)を実施例1の(11)と同様に蒸留分離する
ことによシ95%以上の純度の全トランス7アルネシル
ニトリル68Fが得られた。
上記で得られた全トランス7アルネシルニトリル5.4
3 ? (25mmol )を実施例] ノ(iil)
と同様に還元し加水分解することによシ、全トランス7
アルネサール3.53 f (16,0mmol )(
2F/2Z==93/7 ) を得た( 収$64 %
)。
3 ? (25mmol )を実施例] ノ(iil)
と同様に還元し加水分解することによシ、全トランス7
アルネサール3.53 f (16,0mmol )(
2F/2Z==93/7 ) を得た( 収$64 %
)。
実施例4〜12および比較例1
実施例1の(111)において酸の種類と量を変えた以
外はまったく同様にして反応を行なった結果を表1に示
した。
外はまったく同様にして反応を行なった結果を表1に示
した。
実施例13〜16
シアルミニウムを用い、エーテル中、室温下で還元を行
う以外は同様にして反応させた結果を表2に示した。
う以外は同様にして反応させた結果を表2に示した。
表 2
実施例17
実施例2の(1)において(5E)−ゲラニルアセトン
のかわシに(5z15E=4/6混合)−ゲラニルアセ
トンを用いた以外は同様の操作を7回縁シ返し行ない1
合計2952の(2Z/E混合、6z/E混合)−7ア
ルネシルニトリルを得た。こ040(7)(2Z、6Z
)一体: (2Z、6E)および(,2E、6Z)一体
:(2E、6E)一体の比率は約15:49:36であ
った。該ファルネシルニトリルを実施例1の(1θと同
様にして精密蒸留し、純度96.5%の全トランスファ
ルネシルニトリル72.3Fを得た。この際に低沸分と
して得られ人ファルネシルニトリル215.2f[この
ものは(2Z、6Z)一体:(2Z、6E)お、mび(
2E、6Z)一体:(2E、5E)一体の比率は約20
:67;13であった〕をルテニウムアセチルアセトナ
ート1.55’の存在下に窒素雰囲気下で180℃にて
6時間加熱したところ、(2Z、6Z)一体:(2Z、
6E)お!び(2E、6Z)一体1(2E、6E)一体
の比率は17:52:31となった。この反応液を単蒸
留して触媒を分離したのち、得られたファルネシルニト
リル211.4Fを上記と同様の精密蒸留に付して、追
加量の純度95%の全トランスファルネシルニトリル6
0.6rをi*。
のかわシに(5z15E=4/6混合)−ゲラニルアセ
トンを用いた以外は同様の操作を7回縁シ返し行ない1
合計2952の(2Z/E混合、6z/E混合)−7ア
ルネシルニトリルを得た。こ040(7)(2Z、6Z
)一体: (2Z、6E)および(,2E、6Z)一体
:(2E、6E)一体の比率は約15:49:36であ
った。該ファルネシルニトリルを実施例1の(1θと同
様にして精密蒸留し、純度96.5%の全トランスファ
ルネシルニトリル72.3Fを得た。この際に低沸分と
して得られ人ファルネシルニトリル215.2f[この
ものは(2Z、6Z)一体:(2Z、6E)お、mび(
2E、6Z)一体:(2E、5E)一体の比率は約20
:67;13であった〕をルテニウムアセチルアセトナ
ート1.55’の存在下に窒素雰囲気下で180℃にて
6時間加熱したところ、(2Z、6Z)一体:(2Z、
6E)お!び(2E、6Z)一体1(2E、6E)一体
の比率は17:52:31となった。この反応液を単蒸
留して触媒を分離したのち、得られたファルネシルニト
リル211.4Fを上記と同様の精密蒸留に付して、追
加量の純度95%の全トランスファルネシルニトリル6
0.6rをi*。
上記の方法で得られた純友釣96%の全トランスファル
ネシルニトリル1329のn−ヘキサン650rILl
溶液を、実施例1の輔)の反応操作方法に準シて、21
の三つロフラスコlc入れ、1)IBAH(25f/1
00m1ヘキサン溶液つ390Inlを室温にて滴下し
たのち、50℃で5時間反応した。実施例1の゛(rr
r)、!!:同様の方法によシ後処理を行い、粗食トラ
ンスファルネサール116.5fを得た。このもoit
(zZ、6E)一体: (2E、6E)一体o比率が4
.3:95.7でめった。該、粗ファルネサールを減圧
下に単蒸留し、沸点130〜150℃10.2wnH2
の留分として純度98チの全トランスファルネサール8
4.38’ C(2Z 、6E)一体: (2E、6E
)一体の比率5.4:94.6)が得られた。
ネシルニトリル1329のn−ヘキサン650rILl
溶液を、実施例1の輔)の反応操作方法に準シて、21
の三つロフラスコlc入れ、1)IBAH(25f/1
00m1ヘキサン溶液つ390Inlを室温にて滴下し
たのち、50℃で5時間反応した。実施例1の゛(rr
r)、!!:同様の方法によシ後処理を行い、粗食トラ
ンスファルネサール116.5fを得た。このもoit
(zZ、6E)一体: (2E、6E)一体o比率が4
.3:95.7でめった。該、粗ファルネサールを減圧
下に単蒸留し、沸点130〜150℃10.2wnH2
の留分として純度98チの全トランスファルネサール8
4.38’ C(2Z 、6E)一体: (2E、6E
)一体の比率5.4:94.6)が得られた。
参考例1
ファル不す−ルの熱安定性ti[
7アルネサ−#(純に96.a%、2E/2Z=87/
13)を窒素雰囲気下、180℃で5時間加熱し。
13)を窒素雰囲気下、180℃で5時間加熱し。
加熱前および加熱後の該ファルネサールをそれぞれガス
クロマトグラフィーによシ分析〔カラム;0V−17,
カラム温度100℃で2分後から昇温(lO℃/分)し
、200℃まで分析〕したところ。
クロマトグラフィーによシ分析〔カラム;0V−17,
カラム温度100℃で2分後から昇温(lO℃/分)し
、200℃まで分析〕したところ。
添付図面第1図および第2図に示すガスクロマトグラム
が得られた。第1図は加熱前のファルネサールについて
得られたガスクロマトグラム、第2図は加熱後のファル
イ・サールについて得られたガスクロマトグラムである
。これらの図中、lは全トランスファルネサールを示す
ピーク、2i’1(IZ 、6E)−ファルネサールを
示すピーク、3は次で示される環化生成物を示すピーク
である。これらのガスクロマトグラムは上記加熱により
(2E。
が得られた。第1図は加熱前のファルネサールについて
得られたガスクロマトグラム、第2図は加熱後のファル
イ・サールについて得られたガスクロマトグラムである
。これらの図中、lは全トランスファルネサールを示す
ピーク、2i’1(IZ 、6E)−ファルネサールを
示すピーク、3は次で示される環化生成物を示すピーク
である。これらのガスクロマトグラムは上記加熱により
(2E。
6E)一体か’:+(2z、6F)−体へのMi化お、
1:び分子内エン反応による環化が促進されたことを示
している。
1:び分子内エン反応による環化が促進されたことを示
している。
実施例1の(11)と同じ蒸留塔を用いてファルネサー
ルの精密蒸留を行う場合、0.5 am Hyの減圧下
で蒸留釜の温度が180℃となるため、上記熱安定性試
験の結果から明らかなように、蒸留によるファルネサー
ルの異性体分離は困難である。
ルの精密蒸留を行う場合、0.5 am Hyの減圧下
で蒸留釜の温度が180℃となるため、上記熱安定性試
験の結果から明らかなように、蒸留によるファルネサー
ルの異性体分離は困難である。
添付図面第1図および第2図はファルネサールを窒素雰
凹気下180℃で5時間加熱した場合の加熱前および加
熱後の該ファルネサールについて得られたガスクロマト
グラムであり、第1図は加熱前のものを示し、第2図は
加熱後のものを示す。 ■・・・・・・(2E、6E)−ファルネサールを示す
ピーク。 2・・・・・(22,6E)−ファルネサールを示すピ
ーク、 3・・・・・・環化生成物を示すピーク。 特許出願人 株式会社り ラ し 代理人弁理士本多 堅 第10 手続補正書(自発) 昭和59年6月27日 1、事件の表示 昭和59年特許願第77877号 2、発明の名称 (2E、6E)−3,7,11−トリlfルー2,6.
10−ドデカトリエン−1−アールの製造方法3、補正
をする者 事件との関係 特許出願人 倉敷市酒津1621番地 (108)株式会社 り ラ し 代表取締役 上 野 他 − (東京連絡先) 株式会社クラレ特許部 li話東京03(27713182 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第5頁第1行の式 (2ン 明細書第20頁下から第5行目のrO,25J
をr525Jに改める。 (8)明細書第21頁第2行のr 12.6 jをr1
5.3Jに改める。
凹気下180℃で5時間加熱した場合の加熱前および加
熱後の該ファルネサールについて得られたガスクロマト
グラムであり、第1図は加熱前のものを示し、第2図は
加熱後のものを示す。 ■・・・・・・(2E、6E)−ファルネサールを示す
ピーク。 2・・・・・(22,6E)−ファルネサールを示すピ
ーク、 3・・・・・・環化生成物を示すピーク。 特許出願人 株式会社り ラ し 代理人弁理士本多 堅 第10 手続補正書(自発) 昭和59年6月27日 1、事件の表示 昭和59年特許願第77877号 2、発明の名称 (2E、6E)−3,7,11−トリlfルー2,6.
10−ドデカトリエン−1−アールの製造方法3、補正
をする者 事件との関係 特許出願人 倉敷市酒津1621番地 (108)株式会社 り ラ し 代表取締役 上 野 他 − (東京連絡先) 株式会社クラレ特許部 li話東京03(27713182 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 (1) 明細書第5頁第1行の式 (2ン 明細書第20頁下から第5行目のrO,25J
をr525Jに改める。 (8)明細書第21頁第2行のr 12.6 jをr1
5.3Jに改める。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) (2z/E混合、c;E)tたU(2Z/E混
合、6z/E混合)−3,7,11−トリメチル−2、
6,10−ドデカトリエンニトリルを蒸留分離して(2
F、6E)−3,7,・11−トリメチル−2,6,1
0−ドデカトリエンニトリルを得、これを還元剤を用い
て還元し、加水分解することを特徴とする(2E、6E
)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカ
トリエン−1−アールの製造方法。 、 (2)還元剤が水素化ジイソブチルアルミニウムま
たは一般式MAJH(OR3)a (式中、Mはアルカ
リ金属原子を表わし、R3ば低級アルキル基またはアリ
ール基を表わす。)で示される化合物である特許請求の
範囲第1項記載の製造方法。 (81(2Z/Effi合、6E)tたは(2Z/E混
合、6z/E・合) 3,7.11 )す)−f−に−
2,6,10−ドデカトリエンニトリルが(5E)’j
た1t(5Z/E混合) −6,10−ジメチル−5,
9−ワンデカジエン−2−オンとア七トニト1 リルまたは一般式(R”0)2P CH2CN (式中
、R1は低級アルキル基を表わす。)で示されるシアノ
メチルホスホン酸ジエステルとの反応によす得られたも
のである特許請求の範囲第1項または第2項記載の製造
方法。 (4) (2Z/E混合、6E)!fcは<2Z/E混
合+ 6 Z / E 混合) −3,7,11−)ジ
メチル−2,6,10−ドデカトリエンニトリルが、(
5E)’J*は(5Z/E混合) −6,10−ジメチ
JL/ −5,9−ウンデカジエン−2−オンとシアノ
酢酸またはその低級アルキルエステルとを反応させて得
られる生成物を、必要に応じ加水分解したのち、脱炭酸
して得られたものである特許請求の範囲第1項または第
2項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077877A JPS60222434A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | (2e,6e)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−ア−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077877A JPS60222434A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | (2e,6e)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−ア−ルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60222434A true JPS60222434A (ja) | 1985-11-07 |
JPH0466216B2 JPH0466216B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=13646290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59077877A Granted JPS60222434A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | (2e,6e)−3,7,11−トリメチル−2,6,10−ドデカトリエン−1−ア−ルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60222434A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4939304A (en) * | 1989-02-01 | 1990-07-03 | Allied-Signal Inc. | Continuous and selective catalytic conversion of cyanohydrins to their corresponding aldehydes |
WO2007061132A1 (ja) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Tokyo University Of Agriculture Educational Corporation | テルペン化合物 |
JP2008100960A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | T Hasegawa Co Ltd | アンテイソ脂肪族アルデヒドの製造方法およびこれを含有する香料組成物 |
JP2008532971A (ja) * | 2005-03-08 | 2008-08-21 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 特定のホスホネートにより被覆された金属酸化物ナノ粒子 |
JP2011503004A (ja) * | 2007-11-05 | 2011-01-27 | プロメラス, エルエルシー | 官能化ノルボルネンの中間体としてのエンド−および/またはエキソ−ノルボルネンカルボキシアルデヒドの生成 |
-
1984
- 1984-04-17 JP JP59077877A patent/JPS60222434A/ja active Granted
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4939304A (en) * | 1989-02-01 | 1990-07-03 | Allied-Signal Inc. | Continuous and selective catalytic conversion of cyanohydrins to their corresponding aldehydes |
JP2008532971A (ja) * | 2005-03-08 | 2008-08-21 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 特定のホスホネートにより被覆された金属酸化物ナノ粒子 |
WO2007061132A1 (ja) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Tokyo University Of Agriculture Educational Corporation | テルペン化合物 |
JPWO2007061132A1 (ja) * | 2005-11-25 | 2009-05-07 | 学校法人東京農業大学 | テルペン化合物 |
JP4512133B2 (ja) * | 2005-11-25 | 2010-07-28 | 学校法人東京農業大学 | テルペン化合物 |
JP2008100960A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | T Hasegawa Co Ltd | アンテイソ脂肪族アルデヒドの製造方法およびこれを含有する香料組成物 |
JP2011503004A (ja) * | 2007-11-05 | 2011-01-27 | プロメラス, エルエルシー | 官能化ノルボルネンの中間体としてのエンド−および/またはエキソ−ノルボルネンカルボキシアルデヒドの生成 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0466216B2 (ja) | 1992-10-22 |
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