JPS60201508A - 垂直記録再生用磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、厚み方向に磁気異方性を持つ垂直磁気記録媒
体で記録再生するための垂直記録再生用磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。

背景技術とその問題点 先に、厚み方向に磁気異方性を持つ垂直記録媒体に高密
度に記録し再生するための垂直記録再生用磁気ヘッドと
して第１図に示すような垂直記録再生用磁気ヘッドが提
案されている。

第１図において＋１１は軟質磁性薄膜よりなり磁気記録
媒体（２）に対する垂直磁束の磁路を形成する記、録再
生用主磁極を示し、この記録再生用主磁極ｉｌｌは左右
両側から非磁性ガード材（３ａ）及び（３ｂ）により挟
持される。また、非磁性ガード材（３ａ）及び（３ｂ）
の円筒研磨面により磁気記録媒体（２）の摺動面Ｓが形
成されている。かかる摺動面Ｓまで記録再生用主磁極（
１１が延在し先端部（１ａ）から垂直磁束が磁気記録媒
体（２）に向かうようになっている。ここで、磁気記録
媒体（２）は、例えばポリエチレンテレフタレートより
なる支持体（２ａ）上に高透磁率ｊ藷（２ｂ）と垂直記
録層（２ｃ）とが形成された２層媒体である。また（４
）及び＜５）はそれぞれ、例えば磁性フェライトよりな
る励磁コアを示し、この励磁コア（４）及び（５）には
励磁磁極部（４ａ）及び（５ａ）と垂直磁束のリターン
バスのためのリターンバス部（４ｂ）及び（５ｂ）とが
形成されている。

そして、励磁磁極部（４ａ）とリターンバス部（４ｂ）
、励磁磁極部（５ａ）とリターンパス部（５ｂ）はそれ
ぞれを巻線用の溝部（４Ｃ）及び（５Ｃ）にて分離され
るようになされている。この溝部（４Ｃ）及び（５ｃ）
を介して励磁巻線（６）が施され、励磁巻線（６）に流
れる電流により垂直磁束ｆが励磁される。かかる磁束ｆ
により摺動面Ｓを摺動する磁気記録媒体（２）の垂直記
録層が磁化され、たとえばかかる磁化の反転により所望
のディジタル信号が磁気記録され、この信号をひろうこ
とにより再生されることになる。

この例の垂直記録再生用磁気ヘッドの製造方法としては
次に述べる如きものがある。まず、第２図に示すように
溝部（４ｃ）及び（５ｃ）を入れた磁性フェライトブロ
ック（４）と非磁性ガード材（３ａ）とを接合して作っ
た複合ブロック上に主磁極＋１１となる軟質磁性薄膜を
付ける。そして、対称形状に形成した非磁性ガード材（
３ａ）及び（３ｂ）、励磁コア（４）及び（５）を用い
、左側から非磁性ガード材（３ａ）及び励磁コア（４）
、右側から非磁性ガード材（３ｂ）及び励磁コア（５）
により主ｆｌＩ極（１）を挟持し一体にするようにし、
さらに励磁巻線（６）を溝部（４Ｃ）（５ｃ）を介して
巻線してこの例の垂直記録再生用磁気ヘッドが得られる
。

この例は、主磁極（１）が励磁磁極（４ａ）及び（５ａ
）の間の中央部を通って充分深いところまで延びている
ので、主磁極（１）と励磁コア（４）及び（５）との対
向面積が広く主磁極（１）と励磁コア（４）及び（５）
間の磁気抵抗が非常に小さくできるので、非常に高感度
の垂直記録再生用磁気ヘッドに製造できるものである。

しかし、この垂直記録再生用磁気ヘッドを製造するには
、かかる斜面を含む形状を加工しなければならず煩わし
い点に問題があった。また、非磁性ガード材（３ａ）　
（３ｂ）の材質は以下の理由で制限され、材料選択の余
地が少ない点に問題があった。即ち、非磁性ガード材（
３ａ）と励磁コア（４ンとの接合、非磁性ガード材（３
ｂ）と励磁コ”？（５）との接合はその後の加工工程及
び信頼性を考慮するとガラス融着に限定され、有機化合
物による接着剤、他の無機化合物による接着剤は使用し
難かった。

そして、励磁コア＋４１　＋６）を形成した磁性フェラ
イトと良好にガラス融着できる非磁性材料は一般に両者
間の熱膨張率の差が±ｌθ％程度以下であることが必要
とされるので、対象が限定されてしまう。

また、非磁性ガード材（２）及び（３）は磁気記録媒体
摺動面Ｓをなすので耐摩耗性の材料であって緻密さ、加
工性の良さが具備することが必要で材料選択の範囲が狭
くなり材料費が嵩む点に問題があった。

発明の目的 本発明は如上の点に鑑みてなされたもので、材料費が安
く簡単な工程で精度良好に垂直記録再生用磁気ヘッドを
製造できる垂直記録再生用磁気ヘッドの製造方法を提供
することを目的とするものである。

発明の概要 本発明垂直記録再生用磁気ヘッドの製造方法は、軟質磁
性薄膜よりなる主磁極を非磁性ガード材で挟持して主磁
極ブロックを形成する工程と、励磁磁極部とリターンパ
ス部とを分離する溝を有する磁性体ブロックを形成する
工程と、主磁極と励磁磁極部とが磁気的に結合１゛るよ
うに主磁極ブロックとを接合する工程と、励磁巻線を前
記溝を介して施す工程とを有するもので、材料費が安く
、簡単な工程で精度良好に垂直記録再生用磁気ヘッドを
製造できるようにしたものである。

実施例 以下、第３図乃至第９図を参照して本発明の垂直記録再
生用磁気ヘッドの製造方法の一実施例にフいて説明しよ
う。この第３図乃至第９図において、第１図及び第２図
との対応部分には同一符号を付しそれらの詳細な説明は
省略する。

まず、この実施例によって製造される垂直記録再生用磁
気ヘッドについて第３図を参照して説明する。第３図に
おいて、（７）及び（８）　は非磁性ガード材を承し、
この非磁性ガード材（７）と（８）とで主磁極（１）が
挟持されている。また、（９）は磁性材例えば磁性フェ
ライトにより形成された励磁ブロックを示し、この励磁
ブロック（９）には励磁磁極部（９ａ）と主磁極（１１
よりの垂直磁束のリターンバスをなずリターンバス部ａ
ω及び（１１）とを分離する溝部（１２）及び（１３）
が形成されている。この溝部（１２）及び（１３）は、
主磁極（１）から遠ざかるほど励磁磁極部（９ａ）の断
面積を大きくするようにやや丸みをもたせて形成され、
励磁磁極部（９ａ）において主磁極（１）から遠ざかる
ほど磁気抵抗を小さくして垂直磁束を通しやすくすると
共に、主磁極（１）に近づく程垂直磁束を集中させて主
磁極（１）に高密度に磁束を供給するようになされてい
る。

次に、第４図乃至第９図を参照してこの例の垂直記録再
生用磁気ヘッドを製造する本発明の一実施例について説
明する。

まず、−面（１４ａ）を鏡面研磨した非磁性材による非
磁性ブロック（１４）を用意する。この非磁性ブロック
（１４）としては緻密で鏡面研磨でき、面粗さが最大０
．０１μｍ以下で、可能であれば０．００５μｍ以下に
することが望ましくボア（Ｐｏｒｅ）の少ない材料が好
ましい。また、熱膨張率が軟磁性膜に近いものが好まし
いが磁性フェライトとも接合するので両者を勘案した上
で決められる。但し、磁性フェライトと接合するという
点では磁性フェライトと熱膨張率が近いことが好ましい
が、磁性フェライトとの接合面は媒体摺動面には出ない
構造となり、比較的低温で接着できる接着剤を用いるこ
とができるのでガラス融着の場合はどこの熱膨張率を近
づけることについての制約はない。むしろ低温で接着で
きる接着剤は一般に硬化後も軟らかいので、摺動面Ｓに
接合面がでていると摩擦により表面に非磁性の層が焼き
つくいわゆるヘッドクロッキングを起こし易く好ましく
ない。そのため、緻密で軟質磁性薄膜をつけたとき良好
な磁気特性が得られること及び垂直記録媒体を摺動させ
たときの摩擦が小さくかつ耐摩耗性の良いことを重視し
て非磁性材を選択する。それゆえ、この非磁性材ブロッ
ク（１４）の材料としては、非磁性フェライト（Ｚｎフ
ェライト）、フォトセラム、結晶化ガラス、チタン酸バ
リウム、チタン酸カルシウム、フォルステライト、＾１
２０３−Ｔｉｃ系、八１２０３Ｔ　ｉ０２糸、ＴｉＯ２
糸、ＺｒＯ２系のセラミックス、サファイア−、ガラス
軟硬質カー゛ボンを用いることができる。この非磁性ブ
ロック（１４）の−面（１４ａ）を鏡面研磨し、この鏡
面研磨面（１４ａ）上に主磁極（１）となる所定の厚さ
例えば０．０５〜３μｍの軟質磁性薄膜（１５）をスパ
ッタ、蒸着、イオンブレーティング、メッキ等の方法で
所定間隔に付ける。

この際、ヘッド化した後磁気記録媒体（２）に垂直にな
る方向が磁化困難軸になるようにする。これは、再生時
バルクハウゼンノイズが出ないようにするためである。

ここで、主磁極（１１を形成する軟質磁性膜（１５）と
しては、高透磁率かつ高飽和磁束密度を持つもので例え
ばパーマロイ、センダスト、Ｇｏ　−Ｚｒ＋　Ｇｏ　−
Ｚｒ　−Ｎｂ等の磁性アモルファス膜を用いる。その上
に厚さ０．１〜３μｍの非磁性の保護膜（１６）をスパ
ッタ、蒸着イオンブレーティング等でつける。この保護
膜（１６）の材料としては、５ｉＯＪＱ、　Ｓｉ３Ｎ＋
　膜、　八１２０３　膜、　Ｚｒ０２１１ｆｔ’、　Ｔ
ｉ（ｈ膜、Ｔａ２０３ＩＩ等が適している。また、主磁
極（１）を形成する軟質磁性薄膜（１５）の種類によっ
ては例えばセンダスト、アモルファスであれば、この状
態で熱処理を行う。ここで、軟磁性薄膜（１５）の磁気
異方性については磁化困難軸が磁気記録媒体摺動面Ｓ上
の磁気記録媒体（２）に垂直な方向を向くようにする。

これにより、主磁極（１）の透磁率の周波数特性を良好
にし、再生時にバルクハウゼンノイズの発生を防ぐこと
ができる。

次に、第４図の非磁性ブロック（１４）と同一材料の非
磁性ブロック（１７）の−面を鏡面研磨する。

この鏡面研磨面を接着面とし、軟質磁性薄膜（１５）（
１５）、・・・・・・、（１５）を非磁性ブロック（１
４）と（，１７）とで挟持するようにして第５図の如く
接合一体化する。この接合は、ガラス融着が可能であれ
ば接合の信頼性の点で好ましいが、鏡面４ＪＪＦ磨面へ
付ける軟質磁性薄膜（１５）の耐熱性等の制限でガラス
融着が無理なときにはそれに対応して水ガラス等の無機
化合物による接着剤、エポキシ樹脂等の有機化合物によ
る接着剤を用いることができる。このときには、接着層
を０．１μｍ以）に薄くする必要があり、あらかじめ第
４図で示す保護膜（１６）を付着する工程の際、挟持一
体化する際の接合面が平坦になるように・処理すること
が望ましい。特に、有機化合物による接着剤を用いると
、ヘッドクロッキングを起こし易いので接着層を薄くす
る必要があり、かつ、硬化後できるだけ硬くなる接着剤
を用いることが望ましい。更に、硬化剤の配分比率を厳
密に行い硬化後余分な硬化剤が摺動面Ｓにしみ出さない
よう配慮する必要がある。

また、有機化合物による接着剤では一般に充分な接着強
度を得るためには、接着層の厚さが数μｍ〜数１０μｍ
程度必要である。そこで、有機化合物による接着剤を用
いるときには、第５図で接合する非磁性剤のうち軟質磁
性薄膜を付着していない側である非磁性材（１７）の接
合面例えば後述する磁性フェライトよりなり多数の励磁
ブロック（９）を同時に形成するための磁性体ブロック
（１８）を接着する而に、垂直記録再生用磁気ヘッド完
成時摺動面Ｓに出ないように軟磁性薄）挨のストライプ
の方向とは直角の方向に深さ数μｍ〜数１０μｍの溝を
入れ、この部分で必要な接着強度を得るために必要な接
着層の厚さを確保する方法を用いることもできる。

このようにして接合した複合ブロック（１９）を所定の
切断面Ｃ１で切断し軟磁性薄膜（１５）よりなる主磁極
（１１を非磁性カード材（７）及び（８）で挟持した主
磁極ブロック（２０）を得る。そして、後述する磁性体
ブロック（１８）に接合する面（２０ａ）を鏡面研磨す
る（第′６図）。

次に、磁性体ブロック（１８）の製造を行う。まず、磁
性フェライトよりなる磁性体ブロック（１８）に巻線用
の溝（１８ａ）及び（１８ｂ）を形成する。

巻線用の溝（１８ａ　）と（１８ｂ）との間の中央部（
１８ｃ）が完成時主磁極（１）の励磁磁極（９ａ）とな
る。ここで、この励磁磁極（９ａ）となる中央部（１８
ｃ）の幅は接合面で１００μｍまたはそれ以−トにする
ことが感度の点から望ましいが磁性フェライトの強度と
加工精度等の点から無理な場合には可能な範囲内で狭く
する。垂直磁束が集束して磁気記録媒体（２）へ向かう
ようにすること及び機械的強度の点からも先細りになる
ように側面を傾斜させる方がよい。また、この中央部（
１８ｃ）の元を丸くすると加工歪による破れを防ぐこと
ができる。

また、溝（１８ａ）及び（１８ｂ）の外側は磁束のリタ
ーンパス部ＱＱＩ及び（１１）となる。次に、主磁極ブ
ロック（２０）を接合する面（溝を入れた面）（１８ｄ
）の鏡面仕上げをする。このように鏡面仕上げするのは
、主磁極ブロック（２ｏ）との接合層の厚さが主磁極（
１５）と励磁磁極（１８ｃ）との間の磁気抵抗を規定す
るので、この磁気抵抗をできるだけ小さくずべくかかる
接着層を薄くし、　０．１μｍ以下にする必要があるた
めであり、また、できるだけ平面性良く鏡面仕上げをす
る。また、主磁極ブロック（２０）の接合面についても
同様にできるだけ平面性良く鏡面仕上げをする。そして
、主磁極ブロック（２０）と磁性体ブロック（１８）と
を接着剤にて接合する。この接合面は磁気記録媒体（２
）の摺動面Ｓにば出ないので、比較的低温で接合できる
有機化合物による接着剤を用いて接合することもできる
。一般に硬化する接着剤は硬化後も一般に軟らかいので
これが摺動面Ｓに出ると前述のようにヘッドクロッキン
グを生ずる原因になりゃすい。この実施例では高温で加
熱しないので、主磁極ブロック（２０）の非磁性材と磁
性体ブロック（１８）のフェライトの熱膨張率ががなり
異なっ°ζも接着できる利点がある。主磁極ブロック（
２ｏ）と磁性体ブロック（１８）との間の接着層は感度
の点から薄くする必要があるが、先に述べたように接着
層を薄くすると有機化合物による接着剤は十分な接着強
度が出ないので、有機化合物による接着剤を使用する場
合には接着層が厚くてもよい場所に第７図に示すように
外側即ちリターンパス部に数〜数ｌＯμｍの溝（２１）
及び（２２）を入れ、この部分の厚み分で非磁性ブロッ
ク（２ｏ）と磁性体ブロック（１８）との接着力を確保
することも可能である。他に、これとは直角方向に主磁
極膜のない部分即ち主磁極ブロックで軟質磁性ａ膜（１
５）のストライプの間の部分に対応する磁性体ブロック
の部分に同様に溝を形成する方法もある。主磁極ブロッ
ク（２０）側の同様の位置に同様に溝を入れても良いが
主磁極ブロック（２ｏ）は接合して出来ていることある
いは厚さが薄いことなどから機械的強度が弱いので磁性
体ブロック（１８）に溝を入れる方が加工が行いやすい
。この接着には無機化合物の接着剤を用いても良く、ま
た、ガラス融着が可能であれば信頼性の点からはその方
が好ましい。

そして、主磁極ブロック（２０）と磁性体ブロック（１
８）とを接合した後、所定の主磁極＋１１の長さになる
ように摺動面Ｓを円筒研磨を行うと共に断面Ｃ２にて切
断し、励磁巻線（６）を励磁磁極部（９ａ）に施して（
第９図）、垂直記録再生用磁気ヘッド（第３図）を得る
。

この実施例により得た垂直記録再生用磁気ヘッドは、効
率良く主磁極（１）を励磁するように巻線（６）が励磁
磁極部（９ａ）に巻回されると共に垂直磁束のリターン
バス部（１０）及び（１１）を持ち、さらに高透磁率層
（２ｂ）と垂直記録１四（２ｃ）を持つ２Ｍ媒体が用い
られ、これら主磁極１１）、高透磁率ＪＷ（２ｂ）、磁
束のリターンパス部（１０１及び（１１）によりほぼ閉
磁路に近い構成となるので、非常に高感度に垂直磁気記
録できることになる。前述の従来例と磁路の形成につき
異なることは、この例では主磁極（１ンの先端部（１ａ
）と反対側の端部が磁性体ブロック（９）の中央深いと
ころまで延びていないことである。

それにより、磁性フェライトと主磁極との対向面積が小
さくなり、その部分の磁気抵抗が多少大きくなるこの対
向面積が小さくても、接着層を非常に薄く形成すること
により、従来例と遜色が無く高感度にすることができる
。

以上述べたように、この実施例は従来と異なり主磁極＋
１１を非磁性カード材（７）及び（８）で挟持して主磁
極ブロック（２０）を形成するので製造が簡単で大量に
生産するのに適する利益がある。また、磁性体ブロック
（１８）はフェライトに１（１８ａ）及び（１８ｂ）を
形成するだけでよいのでその加工が簡単にできる利益が
ある。また、従来と異なり主磁極ブロック（２０）と磁
性体ブロック（１８）との接合後に熱を加える工程は無
いことと接合部が摺動面Ｓに出ないことから、かかる接
合に低温で硬化する接着剤を用いても良く、非磁性材と
フェライトの熱膨張率がかなり異なっても接着できる利
益がある。それゆえ、この実施例によれば、主磁極（１
１を挟持すると共に摺動面Ｓを形成する非磁性ガード材
＋７）及び（８）の材料選択の範囲が従来の製造方法に
比し非常に広くなるという利益がある。

また、第１θ図乃至第１５図は本発明の他の実施例を示
す。この第１０図乃至第１５図において第３図乃至第９
図との対応部分には同一符号を付しそれらの―゛を細な
説明は省略する。

まず、この実施例により製造する垂直記録写体用磁気ヘ
ッドは第１０図に示すように主磁極（１１の励磁磁極部
（９ａ）に隣接した部分の軟質磁性薄膜を厚くし、肉厚
部分を形成したものである。即ち、第１の軟質磁性薄１
！（ｔｂ）と第２の軟質磁性′ａ、膜（ｌｃ）とにより
主磁極（１１を成すようにしている。

ここで、第１の軟質磁性′＃ｉ股（１ｂ）は飽和磁束密
度Ｂｓの大きいことを重視した材料例えばＣｏ　−Ｚｒ
アモルファス股（飽＃ｒＪ　Ｍ１重密度Ｂｓ＝　１５０
００　（Ｇ）、透磁率μｍ１０００）を用い、第２の軟
質磁性薄膜（ｌｃ）は透磁率μが大きい材料例えばＧｏ
−ＺｒＮｂアモルファス股（飽和磁束密度Ｂｓ−１２０
００（Ｇ）、透磁率μｍ４０００）を用いている。

これは、摺動面Ｓまで出ている第１の軟質磁性薄膜（ｌ
ｂ）は垂直磁気記録媒体（２）を十分飽和磁化するため
できるだけ飽和磁束密度Ｂｓの大きい材料が良いためで
ある。第１の軟質磁性材料薄膜（ｌｂ）は再生の分解能
を上げるため薄くする必要があるが、薄くなればなるほ
ど磁気記録媒体（２）を充分磁気飽和するようにして磁
気記録するためには、飽和磁束密度Ｂｓのより大きい薄
膜が必要となるためである。そして同時に透磁率μも当
然人きい方が良いが、一般に飽和磁束密度Ｂｓの大きい
材料は透磁率μが多少小さくなる傾向がある。

また、第２の軟質磁性薄膜（ｌｃ）については第１の軟
質磁性薄膜（１ｂ）と異なり、飽和磁束密度Ｂｓより透
磁率μを重視した材料選択をなすのは、第２の軟質磁性
薄膜（１ｃ）の厚さは記録密度を規定しないので膜厚を
厚くすることができるため、材料の飽和磁束密度Ｂｓが
問題にならないと共に、記録再生の感度を向上させるた
め透磁率μの大きい材料を用いる意味があるためである
。なお、第１の軟質磁性薄膜（１ｂ）と第２の軟質磁性
薄膜（ｌｃ）とを同一の材料としても主磁極（１１の励
磁磁極部（９ａ）よりが厚くなっただけ記録再生感度が
向上する効果はある。また、摺動面Ｓより少し後退した
例えば後退幅Ｌｍを１〜３μｍ以上とした位置まで第２
の軟質磁性薄膜（ｌｃ）を配するのが好ましい。この後
退幅Ｌｍを第２の軟質磁性薄Ｍ（ｌｃ）から直接磁束が
垂直記録層（２Ｃ）に至ったり、第２の軟質磁性薄膜（
ＩＣ）が直接垂直記録層（２Ｃ）から磁束をひろったり
することにより記録再生の波形が乱れて悪影響が出ない
程度で可能な限り狭くして、再生に使用したときの感度
を高くすることが望ましい。また、摺動面Ｓの摩耗の点
も考慮して位置決めする。この第２の軟質磁性薄膜（ｌ
ｃ）の後退幅Ｌｍは、例えば１０μｍ以下とすることが
望ましく、５〜２０μｍが実用的である。また、この第
２の軟質磁性薄ＩＩ（ｌｃ）の厚さは、励磁磁極部（９
ａ）との対向ｉ１１の面積を増すという意味では厚い方
が良いが、あまり厚くすると、渦電流損により透磁率の
周波数特性が悪化すること及び作成に時間がかかること
から１０μｍ以下程度が実用的といえる。また（７ａ）
及び（８ａ）は主磁極ブロック（２０）に第１７図に示
すように形成した巻線用の溝部を示し、これらの溝部（
７ａ）及び（８ａ）にも励磁巻線（６）を施す。こうす
ると、単に励磁磁極部（９ａ）のみに巻線する場合に比
べ主磁極（１１の先端により近いところまで巻線できる
ので記録再生の効率を高めることができる。またこの溝
部（７ａ）及び（８ａ）の形状はこの例のように傾斜面
を形成するようにするほか、　１／４円の形として形成
してもよい。また、第２の軟質磁性薄膜（ＩＣ）の先端
部の形状は第１の軟質磁性′ａ−股（１ｂ）に近い部分
から後退するように傾斜している。これは、第１の軟質
磁性＊ｌ！１ｉＩ（ｔｂ）が第２の軟質磁性薄膜（１ｃ
）の先端より出ている長さが短くなったときでも、第２
の軟質磁性′／ａ膜（１ｃ）による再生波形の乱れを小
さくする効果がある。また、記録時には磁束を主磁極（
１１先端に集中させる効果がある。

次に第１１図乃至第１５図を参照し′ζ第１Ｏ図に示す
垂直記録再生用磁気ヘッドを製造する本発明の一実施例
について説明する。

まず、上述実施例同様に主磁極ブロック（２０）を製造
する。非磁性ガード材（７）及び（８）を形成するため
の非磁性材ブロック（１４）を用意しその鏡面研磨面（
１４ａ）所定位置に主磁極＋１１を形成する第１の軟質
磁性Ｍ映（１５）を付けその上に絶縁保護膜（１６）を
形成する。次に、第１１図に示すようにもう一方の非磁
性ガード材（８）を形成するための非磁性材ブロック（
１７）を用意し、この非磁性材ブロック（１７）側に励
磁磁極部（９ａ）近傍での、膜厚を厚くした肉厚部分を
形成する。即ち、非磁性材ブロック（１７）の鏡面研磨
面（１７ａ　）上に完成時主磁極ブロック（２０）の励
磁磁極近傍になる位置に対応させて、主磁極（１１の一
部となる軟質磁性薄膜（１５ａ　）を全面に付着し、そ
れから、ホトエツチングまたはリフトオフ法等により第
２の軟質磁性薄膜（１ｃ）の所定形状に形成する。ここ
で、この第２の軟質磁性薄１１Ｉ！（ｌｃ）の厚さは実
用的に１〜１０μｍとする。また、第２の軟質磁性′ａ
、膜（１ｃ）のトラック幅方向の長さは非磁性ガード材
（７）側に付けた第１の軟質磁性薄膜（１ｂ）の幅より
多少長くする方が磁気記録再生の効率を良くするという
点から好ましい。次に、この第２の軟質磁性薄膜（ｌｃ
）を付着した面を平均化するため絶縁材料による枕材（
１６’）をこの第２の軟質磁性薄膜の付着している部分
以外に形成する。例えばリフトオフ法により第２の軟質
磁性薄膜と同一厚さだけ付着されるようにする（第１２
図）。ごごで、枕材（１６’）の材料は絶縁保護［１（
１６）と同一材料が良く例えば５ｔ０２によるのが良い
。この枕材（１６’）の上に絶縁保護膜を付けた上で第
１の軟質磁性１膜（１ｂ）と第２の軟質磁性薄膜（ＩＣ
）とを対応させて、先に製造した第１の軟質磁性薄膜（
ｌｂ）を付着した非磁性ガード材ブロック（７）側と第
２の軟質磁性薄膜（１ｃ）を付着した非磁性材ブロック
（８）側とを接合し複合一体化する（第１３図）。次に
、切１１ｉ面Ｃ３によって主磁極ブロック（２０）に分
断する。切断面Ｃ３を第１４図によって示すように、第
２の軟質磁性薄膜（ＩＣ）の中間位置及び第２の軟質磁
性薄膜（ｌｃ）とく１ｃ）との中間位置とすれば、かか
る切断により第１５図に示すような個々の複合プロソり
を形成し、第２の軟質磁性薄膜（１ｃ）の長さが所定長
となるようにこの複合ブロックの一面（２１）を鏡面研
磨して主磁極ブロック（２０）を得る。次に第３図の例
を製造するときの第７図のような磁性体ブロック（１８
）を形成した上で、第８図でポしたように接合したのと
同様に主磁極ブロック（２０）を磁性体ブロック（１８
）に接合して巻線し、この実施例の垂直記録再往用磁気
ヘッドを得る。

この実施例におい°ζは、上述実施例と同様の製造工程
上の作用効果が得られると共に、第２の軟質磁性薄膜（
１ｃ）を高飽和磁束密度の第１の軟質磁性薄膜（１ｂ）
と別に設け、主磁極（１）の励磁磁極部（９ａ）側の断
面積が大きくなるように形成し、垂直磁束を通りやすく
した分だけ磁気記録再生の効率が良好とできる利益があ
る。また、第１６図に示すように主磁極膜（１１の形状
を第２の軟質磁性薄Ｍ（ｌｃ）に対面する部分（１ｄ）
のトラック幅方向の広さを広くしたものとして製造する
こともできる。

また、上述した第３図に示す例の主磁極＋１１について
この第１６図に示すような形状とし、主磁極（１）の幅
を励磁磁極（９ａ）の近傍についてトラック幅より広く
して、垂直記録再生の感度を向上させることもできる。

また、第１８図は、本発明の他の実施例を示す。

この例では主磁極ブロック（２０）のうち励磁磁極部（
１８ｃ）との接着面上に励磁磁極部（１８ｃ）と対向す
る部分に高透磁率膜（２０ｃ　）を付ける工程を上述実
施例の工程に付加する。即ち、励磁磁極（９ａ）の先端
の断面形状と同程度の大きさに高透磁率膜をホトエツチ
ングし、＋１１＋透磁率映（２０ｃ）の形成された部分
以外に絶縁材料よりなる枕材を付は平坦化するようにす
る。そして、他の製造工程は例えば第３図に示した垂直
記録再生用磁気ヘッドと同様とする。

この例では、主磁極ブロック（２０）と磁性体ブロック
（１８）との接着層が多少厚くなっても、主磁極ブロッ
ク（２０）と励磁ブロック（９）との接合部分の磁性材
料の対向面積が広いため、この部分の磁気抵抗が大きく
ならず垂・直磁気記録再生が商感度にできる垂直記録再
生用磁気ヘッドを製造できる利益がある。

また、第１９図及び第２０図は、本発明の他の実施例を
示す。この第１９図及び第２０図において第３図との対
応部分には同一符号を付しそれらの詳細な説明は省略す
る。

第１９図はこの実施例により得られた垂直記録再生用磁
気ヘッドを示すものである。この垂直記録再生用磁気ヘ
ッドは非磁性ガード材（７）及び（８）と磁性体ブロッ
ク（９）との接合面を傾斜させである。この傾斜は主磁
極（１）のある中央部分から離れるにつれて磁気記録媒
体（２）側と反対方向に後退する方向とする。摺動面Ｓ
が円筒状になっていてもそれと同程度に接合面を後退さ
せられるので、巻線用の溝（１２）及び（１３）部分の
非磁性材の厚さは薄くならないため機械的強度を保った
ままで、主磁極先端長Ｌｐを小さくできるようになされ
ている。他の部分は上述例により完成される乗置記録再
生用磁気ヘッドと同様とする。

次に、この実施例による垂直磁気記録再生用磁気ヘッド
の製造方法につき説明する。この実施例では、磁性体ブ
ロック（１８）のイザ１斜面（１８ｅ）と（１８ｆ）と
のなす角を０１、主磁極ブロック（２ｏ）側の傾斜面　
（２０ａ　）と（２０ｂ　）とのなす角を０２としたと
きθ１≦θ２となるように磁性体ブロック（１８）及び
主磁極ブロック（２０）を形成する。

このようにθ１とθ２との関係をもたせると、磁性体ブ
ロック（１８）と主磁極ブロック（２ｏ）との接合時に
主磁極（１）と励磁磁極部（９ａ）との隙間が無くなる
ので好都合である。またここで、リターンバス部側は少
々接着層が厚くなっても支障はない。

この実施例によれば上述例における作用効果に加えて主
磁極長が短くでき磁気記録再生の効率が改善された垂直
記録再生用磁気ヘッドを製造できる利益がある。

また、第２１し１乃至第２７図は励磁磁極の厚さを薄く
形成した本発明の他の実施例をボす。これら第２１図乃
至第２７図において第４図乃至第９し１との対応部分に
は同一符号を付しそれらの詳細な説明は省略する。まず
、磁性体ブロック（１８）に巻線溝の深さより深い溝（
１８ｇ）を入れる。残った磁性フェライトの幅は機械的
強度が許せばトラック幅にほぼ等しいか、多少幅広程度
にする。次に、磁性フェライトと同程度の熱膨張率を持
った非磁性材（２２）を第２２図に示すように加工し、
厚さは磁性体ブロック（１８）の溝の中に入れられるよ
うにする。この非磁性材に付けた溝（２２ａ　）の深さ
は巻線溝より深くする。次に第２３図に示すように磁性
体ブロック（１８）の！（１８ｇ）の中に非磁性材（２
２）を入れ、ガラス融着を行い一体化する。この時非磁
性材の＠　（２２ａ　）の部分もガラスＧで埋まるよう
にする。次に第２４図に示すように先に入れたｆｆｉ（
１８ｇ）とは直角に巻線溝（１８ａ　）及び（１８ｂ）
を入れる。この状態で適当な温度に加熱してガラスを熔
かすと、ガラスＧは励磁磁極（１８ｃ）となるフェライ
トの間から熔けて溝の底に広がる。

このとき、非磁性材（２２）が動かないように保持する
必要がある。また、溝（１８ａ　）　（Ｌ８ｂ　）の底
に広がったガラスＧが＃（１８ａ　）　（１８ｂ　）の
端がら出ないようにフェライトの外側の溝の近くにガラ
スとの濡れ性が悪いカーボン粉を塗るか、カーボン扱等
で両サイドを押さえるなどする必要がある。次に、この
上面を鏡面研磨し、個々の磁性体ブロック（１８）に切
断する（第２５図）。これまでに述べたと同様にして作
った主磁極ブロック（２０）をこの磁性体ブロック（１
８）に接合する（第２６図）。

このとき励磁磁極（１８ｃ）と主磁極（１５）の位置が
一致するように位置を合わせる必要がある。摺動面Ｓを
円筒研磨し、個々のヘッドに切断すると第２７図のよう
になり、巻線（６）を施して垂直記録再生用磁気ヘッド
が完成する。ここで（２２ａ　）　（２２ｂ　）はそれ
ぞれ非磁性材部である。

この工程中、溝の下部にガラスＧを入れたのは巻線が溝
の底に近づくと底のフェライトに近づくため、巻線イン
ピーダンスが大きくなっζしまうのを防止するためであ
る。従って巻線（６）は底から少し離して上部だけに巻
いた方が良い。その場合、底の部分は強度を強くするた
め非耐性材で補強した方が良い。ガラスＧの部分だけリ
ターンバス部への磁路が長くなるので多少磁気記録再往
効率が悪くなるから、インピーダンスが下がる効果と磁
路が長くなることによる効果の悪化の兼ね合いでガラス
Ｇの深さを決める。

また、第２８図は非磁性材部（２２ａ　）　（２２ｂ　
）を側面に設けた垂直記録再生用磁気ヘッドを示すもの
で、第２１図と同様に加工した磁性体ブロック（１８）
のｉ（１８ｇ）にガラスＧを充填することを除き上述実
施例同様にして製造したものである。

この例によれば励磁磁極部（９ａ）の径が小さいだけ励
磁巻線の巻線インピーダンスの小さい垂直記録再生用磁
気ヘッドが得られる利益がある。

また、第２９図乃至第３４図は本発明の他の実施例を示
す。この例は主磁極ブロック（２０）と磁性体ブロック
（１８）間の磁気抵抗を小さく製造するものである。第
２９図は完成した状態を示す。主磁極（１）の側面で、
励磁ブロック（９）との接合面側にフェライト補助コア
（２３）　（２４）を置く。このようにすると励磁磁極
部（９ａ）側と主磁極ブロック（２０）側との接合面で
の磁極の対向断面積が増し、接合部での磁気抵抗を減ら
ずことがでる。また、溝部（１２）　（１３）にＷ１面
し字状にガラスＧを充填する。

次に、主磁極ブロック（２０）の作り方を述べる。

第３０図に主磁極ブロック（２０）の作成法を示す。

適当な厚さの磁性フェライトと同程度の熱膨張率を持ち
緻密な非磁性材（２５）とフェライト板（２６）とを接
合する。この接合はガラス融着が望ましい。

例えば接合面に融着ガラスＧをスパックして加圧加熱し
て接合する。次に所定の角度で傾斜し゛ζ切断面Ｃ４で
切断し切断面を鏡面研磨する。次に、第３１図に示すよ
うに主磁極（１）をなす軟質磁性薄膜（１５）をこれま
でと同様の方法で付ける。次に、主磁極（１１の保護膜
を付けた後反対側の基板を接合する（第３２図）。この
例では反対側の基板も同じ複合基板を用いているが、片
側は非磁性基板を用いても良い。そして、片側に非磁性
基板を用いるときは鏡面′ｖＦ磨が容易であるという点
から非磁性基板側に主磁極膜を付けた方が良い。次に所
定の位置で切断して接合面を鏡面ｖｒ磨する（第３３図
）。

ここで、接合面でのフェライト補助コアー（２３）（２
４）＋７Ｊ幅は励磁磁極部（９ａ）の幅と同程度が良い
。励磁ブロック（９ンは、これまでに述べたと同様の方
法で作って、接合して垂直記録再生用磁気ヘッドを作る
ことができる。また、第３４図のように巻線溝をまず所
定の幅と深さだけ大きくしてガラスＧを充填して巻線溝
とする。ここでガラスＧの代わりに磁性フェライトの熱
膨張率に近い非磁性材を用いることもできる。他の工程
は上述側同様とする。

この例によっても上述実施例同様の作用効果が得られる
。また、第３５図に示す例のような垂直磁気記録再生用
磁気ヘッドも第２６図に示す例で主磁極（１５）を２つ
ずつで切断するようにする工程とするごとにより第２７
図に示す倒置様簡単に製造することができることも容易
に理解できよう。

なお、本発明は上述実施例に限らず本発明の要旨を逸脱
しない範囲でその他種々の構成が取り得ることは勿論で
ある。

発明の効果 本発明は、主磁極ブロックと励磁磁極部を有する磁性体
ブロックとを別々に作り最後に接合する製造工程とした
ので、従来の垂直記録再生用磁気ヘッドの製造方法に比
し主磁極を付着する非磁性材の熱膨張率についての制約
が緩まり、かかる非磁性材の選択範囲を大幅に広げるこ
とができ材料費を安価とできる利益がある。また、従来
に比し接合一体化するブロックの加工が容易で、主磁極
ブロック（２０）と磁性体ブロック（１８）との接合面
の鏡面研磨が容易で、加工精度を晶くできる利益がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の垂直記録再生用磁気ヘッドの例を示す断
面図、第２図は第１図に示す例の製造工程例の要部の例
を示す断面図、第３図は本発明垂直記録再生用磁気ヘッ
ドの製造方法の一実施例により製造した垂直記録再生用
磁気ヘッドの例を示す断面図、第４図、第５図、第６図
、第７図、第８図、第９図はそれぞれ本発明の一実施例
を示す一部切欠き斜視図、第１０図は本発明の他の実施
例により製造した垂直記録再生用磁気ヘッドを示ずＩｌ
ｉ面図、第１１図、第１２図、第１３図、第１４図、第
１５図は本発明の他の実施例を示す線図、第１６図、第
１７図及び第１８図はそれぞれ本発明の一実施例の要部
の例を示す線図、第１９図は本発明の他の実施例により
製造された垂直記録再生用磁気ヘッドの例を示す断面図
、第２０図は本発明の一実施例を示す断面図、第２１図
、第２２図、第２３図、第２４図、第２５図、第２６図
及び第２７図は本発明の一実施例をボず切欠き斜視図、
第２８図は本発明の一実施例の要部の例を示す線図、第
２９図は本発明の一実施例により製造された垂直記録再
生用磁気ヘッドの例を示す断面図、第３０図、第３１図
、第３２図、第３３図及び第３４図は本発明の一実施例
を承ず線図、第３５図は本発明の一実施例の要部の例を
示す線図である。 （１１は主磁極、（２＞は磁気記録媒体、（６）は励磁
巻線、（７）及び（８）は非磁性ガード材、（９目よ励
磁ブロック、（９ａ）は励磁磁極部、ａΦ及び（１１）
はリターンパス部、（１２）及び（１３）は溝部、（１
８）は磁性体ブロック、（２０）は主磁極ブロックであ
る。 第１５図　第１６図 第１２図　第１３図　第１４図 第１７図　第１８図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 軟質磁性薄膜よりなる主磁極を非磁性ガード材で挟持し
   て主磁極ブロックを形成する工程と、励磁磁極部とリタ
   ーンバス部とを分離する溝を有する磁性体ブロックを形
   成する工程と、前記主磁極と前記励磁磁極部とが磁気的
   に結合するように前記主磁極ブロックと前記磁性体ブロ
   ックとを接合する工程と、励磁巻線を前記溝を介して施
   す工程とを有することを特徴とする垂直記録再生用磁気
   ヘッドの製造方法。