JPS60192948A - 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 - Google Patents
湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法Info
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- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版
方法に関するものであり、更に詳しくはO−キノンジア
ジド構造な執む化合物を構成成分とし、かつ塩基性環境
下でジアゾカップリング反応を起こすカップリング成分
を含有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設
けてなる湿し水不要イ・ガ型感光性平版印刷版および紋
服を画像露光後、塩基処理および現像処理を含む工程に
利すことを特徴とする製版方法に関するものである。
方法に関するものであり、更に詳しくはO−キノンジア
ジド構造な執む化合物を構成成分とし、かつ塩基性環境
下でジアゾカップリング反応を起こすカップリング成分
を含有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設
けてなる湿し水不要イ・ガ型感光性平版印刷版および紋
服を画像露光後、塩基処理および現像処理を含む工程に
利すことを特徴とする製版方法に関するものである。
特公昭タル−740ググ号にはアルミニウム板に裏打ち
された先回溶化型ジアゾ感光層の上に接着層を介してシ
リコーンゴム層を設けた湿し水不要感光性平版印刷版に
ネガフ・fルムを通し′C露光した後、現像液を用いて
可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上にあ
るシリコーンゴム層も除去し、支持体であるアルミ板を
露出せしめ画像部とすることが提案されている。
された先回溶化型ジアゾ感光層の上に接着層を介してシ
リコーンゴム層を設けた湿し水不要感光性平版印刷版に
ネガフ・fルムを通し′C露光した後、現像液を用いて
可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上にあ
るシリコーンゴム層も除去し、支持体であるアルミ板を
露出せしめ画像部とすることが提案されている。
また、特開昭!t−ざθOグを号、特開昭33−一//
θλゲタ号、特開昭jj−!9り6を号には支持体に裏
打ちされた0−キノンジアジドからなる光分解型感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要ネガ型平版
印刷版にネガフ・rルムを通して露光し、露光部のシリ
コーンゴム層、場合によっては、感光層も一緒(=現像
液を用いて除去し、感光層、場合によっては支持体を露
出せしめて画像部とすることが提案されている。
θλゲタ号、特開昭jj−!9り6を号には支持体に裏
打ちされた0−キノンジアジドからなる光分解型感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要ネガ型平版
印刷版にネガフ・rルムを通して露光し、露光部のシリ
コーンゴム層、場合によっては、感光層も一緒(=現像
液を用いて除去し、感光層、場合によっては支持体を露
出せしめて画像部とすることが提案されている。
しかし、これらの湿し水不要イ、ガ型感光性平版印刷版
は、露光部分におけるシリコーンゴム層のみか、シリコ
ーンゴム層と感光層とを現像によって除去して画像部と
する一方、未露光部分におけるシリコ−ンゴム層は現像
後においても残留させて非画像部とすることにより湿し
水不要平版印刷版が作成される関係上、非画像像部(す
なわち未露光部)の感光層は現像処理後もその感光性を
保っており、太陽光あるいは室内螢光燈等により感光し
てしまうことになるつところで、印刷版は、印刷工程に
於ける版面洗浄剤(プレートクリーナー)あるいは印刷
・fンキとの接触など、現像溶媒に類似の有機溶剤に触
れる機会が考えられる。この場合現像工程までいか(=
良好な画像再現が得られていても、それ以降に再露光を
受けて感光層が感光するにしたがって、有機溶搏に侵さ
れて非画像部のシリコーンゴム層が脱落してしまうとい
う本質的な欠陥をもっている。
は、露光部分におけるシリコーンゴム層のみか、シリコ
ーンゴム層と感光層とを現像によって除去して画像部と
する一方、未露光部分におけるシリコ−ンゴム層は現像
後においても残留させて非画像部とすることにより湿し
水不要平版印刷版が作成される関係上、非画像像部(す
なわち未露光部)の感光層は現像処理後もその感光性を
保っており、太陽光あるいは室内螢光燈等により感光し
てしまうことになるつところで、印刷版は、印刷工程に
於ける版面洗浄剤(プレートクリーナー)あるいは印刷
・fンキとの接触など、現像溶媒に類似の有機溶剤に触
れる機会が考えられる。この場合現像工程までいか(=
良好な画像再現が得られていても、それ以降に再露光を
受けて感光層が感光するにしたがって、有機溶搏に侵さ
れて非画像部のシリコーンゴム層が脱落してしまうとい
う本質的な欠陥をもっている。
このような問題を解決するために、湿し水不要ネガ型感
光性平版印刷版を露光、現像後、熱処理することにより
定着する方法が提案されている(特開昭!!−20タク
7号および特開昭!2−/92F!を号公報)。しかし
これらの公報に示されている方法は、熱処理装置を必要
とし、しかもこのような熱処理条件では非画像部の定着
が不十分であり、依然として上述のような非画像部のシ
リコーンゴム層の脱落を完全に防止することはできない
という欠点があった。才な、特開昭57一コθ!7グθ
号公報には、露光、現像後、塩基処理して定着する方法
が開示されているがこのような塩基処理をする方法によ
っても、満足できる程には非画像部の定着が達成されな
いことが判明した。
光性平版印刷版を露光、現像後、熱処理することにより
定着する方法が提案されている(特開昭!!−20タク
7号および特開昭!2−/92F!を号公報)。しかし
これらの公報に示されている方法は、熱処理装置を必要
とし、しかもこのような熱処理条件では非画像部の定着
が不十分であり、依然として上述のような非画像部のシ
リコーンゴム層の脱落を完全に防止することはできない
という欠点があった。才な、特開昭57一コθ!7グθ
号公報には、露光、現像後、塩基処理して定着する方法
が開示されているがこのような塩基処理をする方法によ
っても、満足できる程には非画像部の定着が達成されな
いことが判明した。
更に才た、特開昭!9−7716.2号公報には、感光
層として0−キノンジアジド構造を含む化合物を構成成
分とし、かつカルボン酸成分を含有するものを使用した
湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版を画像露光し、塩基
処理してから現像するか塩基を含む現像液で処理するこ
とにより、現像ラチチュードが広がると同時に非画像部
も定着されることが開示されているが、この場合(二お
いても満足すべき程(二十分には定着されないことが判
明した。
層として0−キノンジアジド構造を含む化合物を構成成
分とし、かつカルボン酸成分を含有するものを使用した
湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版を画像露光し、塩基
処理してから現像するか塩基を含む現像液で処理するこ
とにより、現像ラチチュードが広がると同時に非画像部
も定着されることが開示されているが、この場合(二お
いても満足すべき程(二十分には定着されないことが判
明した。
本発明の目的は、非画像部が十分満足しうる程度に定着
された湿し水不要平版印刷版を与えることができる湿し
水不要感光性平版印刷版を提供することである。
された湿し水不要平版印刷版を与えることができる湿し
水不要感光性平版印刷版を提供することである。
本発明の別の目的は、簡単な処理により非111]I像
部が完全に定着された湿し水不要平版印刷版を得ること
ができる製版方法を提供することである。
部が完全に定着された湿し水不要平版印刷版を得ること
ができる製版方法を提供することである。
本発明者等は種々横1を重ねた結果、支持体上に感光t
−およびシリコーンゴム層を有する湿し水不要感光性平
版印刷版において、当該感光層が0−キノンジアジド構
造を含む化合物を構成成分とし、且つ塩基性環境下でジ
アゾカップリング反応を起こすカップリング成分を含有
するものを使用することにより、上記目的が達成される
ことを見い出した9、すなわち本発明は、支持体上に0
−キノンジ“ノジド構造を含む化合物を構成4分とし、
かつ塩基性環境下でジアゾカップリング反応を起こすカ
ップリング成分を含有する感光層およびシリコーンゴム
層をこの順に設けてなる醒し水不要ネガ型感光性平版印
刷版並びに紋服を画像露光し、現像して、湿し水不要平
版印刷版を得る方法であって、該画像露光後において、
塩基処理する工程を含むことを特徴とする製版方法であ
る。
−およびシリコーンゴム層を有する湿し水不要感光性平
版印刷版において、当該感光層が0−キノンジアジド構
造を含む化合物を構成成分とし、且つ塩基性環境下でジ
アゾカップリング反応を起こすカップリング成分を含有
するものを使用することにより、上記目的が達成される
ことを見い出した9、すなわち本発明は、支持体上に0
−キノンジ“ノジド構造を含む化合物を構成4分とし、
かつ塩基性環境下でジアゾカップリング反応を起こすカ
ップリング成分を含有する感光層およびシリコーンゴム
層をこの順に設けてなる醒し水不要ネガ型感光性平版印
刷版並びに紋服を画像露光し、現像して、湿し水不要平
版印刷版を得る方法であって、該画像露光後において、
塩基処理する工程を含むことを特徴とする製版方法であ
る。
本発明にいう感光層とは、公知の0−キノンジアジド構
造を含む化合物から構成されるものであり、0−キノン
ジアジド構造を含む化合物とは、通常ポジ型28版、ワ
・fボッ版、フォトレジストなどに用いられている0−
キノンジアジド類である。
造を含む化合物から構成されるものであり、0−キノン
ジアジド構造を含む化合物とは、通常ポジ型28版、ワ
・fボッ版、フォトレジストなどに用いられている0−
キノンジアジド類である。
かかる0−キノンジアジド類はポリマー、オリゴマーオ
たは七ツマ−としてでもよく、水酸基をもつ化合物と縮
合して得られる0−キノンジアジドスルホン酸エステル
またはアミン類と縮合させて得られる0−キノンジアジ
ドスルホン酸アミドである。
たは七ツマ−としてでもよく、水酸基をもつ化合物と縮
合して得られる0−キノンジアジドスルホン酸エステル
またはアミン類と縮合させて得られる0−キノンジアジ
ドスルホン酸アミドである。
これらの例としては、ベンゾキノン−/、2−ジアジド
スルホン酸、ナフトキノン−/1.2−ジアジドスルホ
ン酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下エス
テルとは部分エステルも含める)、ナフトキノン−/、
2−ジアジド−グースルホン酸またはナフトキノン−/
、コージアジドー!−スルホン酸とピI7ガロールアセ
トン樹脂とのエステル、ベンゾキノン−/、2−ジアジ
ドスルホン酸またはナフトキノン−/、−一ジアジドス
ルホン酸とノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹
脂またはノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹脂
のエステル、ポリ(p−アミノスチレン)とナフトキノ
ン−/1.2−ジアジドークースルホン酸またはナフト
キノン−/、2−ジアジド−オースルホン酸のアミド、
ポリp−ヒドロキシスチレンとナフトキノン−/、2−
ジアジド−グースルホン酸またはナフトキノン−/、−
一ジアジドータースルホン酊のエステル、ポリエチレン
クリコールとナフトキノン−7,2−ジアジド−グース
ルホン酸またはナフトキノン−/、2−ジアジド−j−
スルホン酸のエステル、重合体アミンとナフトキノン−
/ 、 、2.−ジアジド=y−スルホン酸またはナフ
トキノン−/2.2−ジアジド−オースルホン酸のアミ
ド、ポリメタクリル酸p−ヒドロキシアニリドとナフト
キノン−/、2−ジアジド−p−スルホン酸まt二はナ
フトキノン−/2.2−ジアジド−!−スルホ〉酸のエ
ステル、天然樹脂ロジンをアミン変性したものとナフト
キノン−/、コージアジドーオースルホン酸のアミド、
ビスフェノールAとプ1jビ1/ンオキシドからのエボ
Vン佃脂とナフトキノン−/1.2−ジアジド=!−ス
ルホン酸のエステル、(メタ)アクリル酸とジヒドロキ
シフェニルのモノエステルのポリマとナフトキノン−/
、、2−ジアジド−クースルホン酸またはナフトキノン
−/、2−ジアジF−t−スルホン酸のエステル、アミ
ノイソフタル酸ジアリルエステルとナフトキノンジアジ
ドスルホン酸の縮合物を重合させたもの、ポリカルボナ
ートとのキノンジアジドスルホン酸エステルまたはキノ
ンジアジド類を・fソシアネート等で架橋したもの、ビ
スフェノールAとナフトキノン−/。
スルホン酸、ナフトキノン−/1.2−ジアジドスルホ
ン酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下エス
テルとは部分エステルも含める)、ナフトキノン−/、
2−ジアジド−グースルホン酸またはナフトキノン−/
、コージアジドー!−スルホン酸とピI7ガロールアセ
トン樹脂とのエステル、ベンゾキノン−/、2−ジアジ
ドスルホン酸またはナフトキノン−/、−一ジアジドス
ルホン酸とノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹
脂またはノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹脂
のエステル、ポリ(p−アミノスチレン)とナフトキノ
ン−/1.2−ジアジドークースルホン酸またはナフト
キノン−/、2−ジアジド−オースルホン酸のアミド、
ポリp−ヒドロキシスチレンとナフトキノン−/、2−
ジアジド−グースルホン酸またはナフトキノン−/、−
一ジアジドータースルホン酊のエステル、ポリエチレン
クリコールとナフトキノン−7,2−ジアジド−グース
ルホン酸またはナフトキノン−/、2−ジアジド−j−
スルホン酸のエステル、重合体アミンとナフトキノン−
/ 、 、2.−ジアジド=y−スルホン酸またはナフ
トキノン−/2.2−ジアジド−オースルホン酸のアミ
ド、ポリメタクリル酸p−ヒドロキシアニリドとナフト
キノン−/、2−ジアジド−p−スルホン酸まt二はナ
フトキノン−/2.2−ジアジド−!−スルホ〉酸のエ
ステル、天然樹脂ロジンをアミン変性したものとナフト
キノン−/、コージアジドーオースルホン酸のアミド、
ビスフェノールAとプ1jビ1/ンオキシドからのエボ
Vン佃脂とナフトキノン−/1.2−ジアジド=!−ス
ルホン酸のエステル、(メタ)アクリル酸とジヒドロキ
シフェニルのモノエステルのポリマとナフトキノン−/
、、2−ジアジド−クースルホン酸またはナフトキノン
−/、2−ジアジF−t−スルホン酸のエステル、アミ
ノイソフタル酸ジアリルエステルとナフトキノンジアジ
ドスルホン酸の縮合物を重合させたもの、ポリカルボナ
ートとのキノンジアジドスルホン酸エステルまたはキノ
ンジアジド類を・fソシアネート等で架橋したもの、ビ
スフェノールAとナフトキノン−/。
a−ジアジド−グースルホン酸またはナフトキノン−/
1,2−ジアジド−オースルホン酸のエステル、ナフト
キノン−/、コージアジド=j−スルホン酸とフェノー
ル、p−クレゾールなどのフェノール類、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミルアルコールなどのアルコール類と
のエステル、ナフトキノン−/、、2−ジアジド−オー
スルホン酸とアニリン、p−ヒドロキシアニリンなどの
アミン類との酸アミドなどがあげられる。特に好ましく
は0−キノンジアジド系感光性樹脂が用いられる。
1,2−ジアジド−オースルホン酸のエステル、ナフト
キノン−/、コージアジド=j−スルホン酸とフェノー
ル、p−クレゾールなどのフェノール類、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミルアルコールなどのアルコール類と
のエステル、ナフトキノン−/、、2−ジアジド−オー
スルホン酸とアニリン、p−ヒドロキシアニリンなどの
アミン類との酸アミドなどがあげられる。特に好ましく
は0−キノンジアジド系感光性樹脂が用いられる。
本発明(1おいて感光層中に含まれる塩基性環境下でジ
アゾカップリングを起すカップリング成分としては、通
常シアシタ・rププロセス(ジアゾコピ’−)−二位相
されるカプラー、例えばJ、KO8ar著″Light
−8ensitive Systems″JohnWi
ley & Sor+s (/ 9 A j )第+2
/j〜J4t9頁に記載されたような化合物ならばいず
れも使用出来るが、現像液に対する溶解性が適度に低い
もの(即ち、易溶性でもなければ不溶性でもないもりが
好丈しい。更に、ジアゾ化合物との塩基性環境下でのカ
ップリング反応性が高いものが好ましい。
アゾカップリングを起すカップリング成分としては、通
常シアシタ・rププロセス(ジアゾコピ’−)−二位相
されるカプラー、例えばJ、KO8ar著″Light
−8ensitive Systems″JohnWi
ley & Sor+s (/ 9 A j )第+2
/j〜J4t9頁に記載されたような化合物ならばいず
れも使用出来るが、現像液に対する溶解性が適度に低い
もの(即ち、易溶性でもなければ不溶性でもないもりが
好丈しい。更に、ジアゾ化合物との塩基性環境下でのカ
ップリング反応性が高いものが好ましい。
一般にピラゾロン、ヒドロキシピリドン、ピロン、アセ
トニトリル又はジケトン誘導体よりなるカプラーが反応
性が高く有用である。
トニトリル又はジケトン誘導体よりなるカプラーが反応
性が高く有用である。
本発明において、特に好ましいカップリング成分は、上
記のようなカプラー残基を側鎖に持つポリマーであり、
このようなカップリング成分はジアゾカップリング反応
により架橋不溶化するので、効果的な定着機能を発揮す
る。このようなポリマーの奸才しい一群は(a)アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル及びマレイン酸エ
ステルから選ばれた少なくとも7つのモノマー、および
(b)下記一般式(1)で示される七ツマ−との共重合
体である。
記のようなカプラー残基を側鎖に持つポリマーであり、
このようなカップリング成分はジアゾカップリング反応
により架橋不溶化するので、効果的な定着機能を発揮す
る。このようなポリマーの奸才しい一群は(a)アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル及びマレイン酸エ
ステルから選ばれた少なくとも7つのモノマー、および
(b)下記一般式(1)で示される七ツマ−との共重合
体である。
R
c)(2=c−A−Q (1)
一般式(I)において、Rは水素原子又はメチル基を示
し、Aは−COO−1−〇−又は1111 −CONH−を示し、QはHO−C,=C−C=X (
但し、シカツブリング残基を示す。
し、Aは−COO−1−〇−又は1111 −CONH−を示し、QはHO−C,=C−C=X (
但し、シカツブリング残基を示す。
上記Qの特に好ましい例は、0−キノンジアジド構造を
有する化合物と塩基性環境下でカップリング反応を起こ
してアゾ染料を形成する核であり、ナフトール類、アシ
ルアセトアミド類、シアノアセチル類、β−ケトエステ
ル類、ピラゾロン類(例えば/−アリール−3−アミド
−ま−ピラゾロン類)、ホモフタル・fミド類、クララ
ノン類5、fノドキシル類、チオ・fノドキシル類、イ
ンダシロン類などである。
有する化合物と塩基性環境下でカップリング反応を起こ
してアゾ染料を形成する核であり、ナフトール類、アシ
ルアセトアミド類、シアノアセチル類、β−ケトエステ
ル類、ピラゾロン類(例えば/−アリール−3−アミド
−ま−ピラゾロン類)、ホモフタル・fミド類、クララ
ノン類5、fノドキシル類、チオ・fノドキシル類、イ
ンダシロン類などである。
上記一般式(1)で示されるモノマー単作は共重合体中
にt〜10重欝係、より好ましくはコθ。
にt〜10重欝係、より好ましくはコθ。
〜7θ重量の範囲で含まれる。また、共重合体の平均分
子量は、約2,000−約、2OO,θθOが適当であ
り、より好ましくはr、ooθ〜/θθ。
子量は、約2,000−約、2OO,θθOが適当であ
り、より好ましくはr、ooθ〜/θθ。
θθOの範囲である。
上記の共重合体は、例えば米国特許第3.グ!/ 、?
20号に記載されている方法により合成することができ
る。感光層中に含有させるカップリング成分の量は、そ
のカップリング残基の量が感光層中に含まれるO−キノ
ンジアジド残基/当歇あたり、O,OS〜10当量とな
る範囲が適しており、より好ましくは0.7〜/、θ当
量である。
20号に記載されている方法により合成することができ
る。感光層中に含有させるカップリング成分の量は、そ
のカップリング残基の量が感光層中に含まれるO−キノ
ンジアジド残基/当歇あたり、O,OS〜10当量とな
る範囲が適しており、より好ましくは0.7〜/、θ当
量である。
本発明に用いられるシリコーンゴム・層は、次のような
くり返し単位を有↑る分子量数千〜数十刃の線状有機ポ
リシロキサンを主成分とするものである。
くり返し単位を有↑る分子量数千〜数十刃の線状有機ポ
リシロキサンを主成分とするものである。
このような線状イ〕機ポリシロキザンをまばらに架橋す
ることによりシリコーンゴムが得られる。
ることによりシリコーンゴムが得られる。
この線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋するためシ
リコーン架橋剤が添加される。架橋剤は、いわゆる室温
(低温)硬化型のシリコーンゴムに使われているアセト
キシシラン、ケトオキジムシクン、アルコキシシラン、
アミノシラン、アミドシラン、アルケニロキシシランな
どであり、通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水
酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢酸型、脱オキ
シム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド型、脱
ケトン型(脱アセトン型)のシリコーンゴムとなる。
リコーン架橋剤が添加される。架橋剤は、いわゆる室温
(低温)硬化型のシリコーンゴムに使われているアセト
キシシラン、ケトオキジムシクン、アルコキシシラン、
アミノシラン、アミドシラン、アルケニロキシシランな
どであり、通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水
酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢酸型、脱オキ
シム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミド型、脱
ケトン型(脱アセトン型)のシリコーンゴムとなる。
特に好ましくは、次にあげるシリコーン架橋剤が用いら
れるう (1)R−81(OR)3 (脱アルコール型→(2)
R−8i(OAc)3 (脱酢酸壓)(3) RS i
(ON=CR’z ) 3 (脱オキシム型)(4)
R−8i (QC(R’) CH=CH2) 3(脱
ケトン型)ここで、Rは上で説明したRと同じ意味であ
り、R′はメチル、エチルなどのアルキル基であり、A
Cはアセチル基である。
れるう (1)R−81(OR)3 (脱アルコール型→(2)
R−8i(OAc)3 (脱酢酸壓)(3) RS i
(ON=CR’z ) 3 (脱オキシム型)(4)
R−8i (QC(R’) CH=CH2) 3(脱
ケトン型)ここで、Rは上で説明したRと同じ意味であ
り、R′はメチル、エチルなどのアルキル基であり、A
Cはアセチル基である。
またシリコーンゴムには、更(二触媒として少量の有機
スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
本発明の湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版において、
支持体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は
、画像再現性、耐刷力などの基本的な印刷版性能にとり
、非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着層
を設けたり、各層に接着改良性成分を添加したりするこ
とが可能である。
支持体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は
、画像再現性、耐刷力などの基本的な印刷版性能にとり
、非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着層
を設けたり、各層に接着改良性成分を添加したりするこ
とが可能である。
特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のため層間に接
着層として釉々のものが用いられているが、なかでもア
ミノシラン層が好ましい。ここで言うアミノシランとは
一般に次式で表わされるものを言う。
着層として釉々のものが用いられているが、なかでもア
ミノシラン層が好ましい。ここで言うアミノシランとは
一般に次式で表わされるものを言う。
RmR’nS i (OR’) 4 Hn−0代表的な
ものとしては、例えば、3−アミノプロビルシトリエト
キシシラ二ノ、N−(,2−7ミノエf−ル) −3−
7ミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノフIJ
ビルト9メトキシシラン、ビス〔3−(トリメトキシシ
リル)プロピル〕アミン、ビス〔3−(トリメトキシシ
リル)フロビル〕エチレンジアミン、N−(3−4リメ
トキシシリルプロビル)モルホリン、トリメトキシシリ
ルプロピルジエチレントリアミン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3−ア
ミノプロピルメチルジェトキシシラン、(N、N−ジエ
チル−3−アミノ)プロピルトリメトキシシラン、(N
、N−ジメチル−3−アミン)プロピルトリメトキシシ
ラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、/−
トリメトキシシリル−J−(p−m−アミノメチル)−
ブエニルエタン、トリメトキシシリルプロピルアリルア
ミンなどが挙げられる。
ものとしては、例えば、3−アミノプロビルシトリエト
キシシラ二ノ、N−(,2−7ミノエf−ル) −3−
7ミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノフIJ
ビルト9メトキシシラン、ビス〔3−(トリメトキシシ
リル)プロピル〕アミン、ビス〔3−(トリメトキシシ
リル)フロビル〕エチレンジアミン、N−(3−4リメ
トキシシリルプロビル)モルホリン、トリメトキシシリ
ルプロピルジエチレントリアミン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3−ア
ミノプロピルメチルジェトキシシラン、(N、N−ジエ
チル−3−アミノ)プロピルトリメトキシシラン、(N
、N−ジメチル−3−アミン)プロピルトリメトキシシ
ラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、
N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、/−
トリメトキシシリル−J−(p−m−アミノメチル)−
ブエニルエタン、トリメトキシシリルプロピルアリルア
ミンなどが挙げられる。
同様に感光層とシリコーンゴム111間の接着のため(
二、有機チタネート層が好ましい。ここでいう有機チタ
ネートとは、一般に次式で表わされるようなチタン系シ
ラ・fマを言う。
二、有機チタネート層が好ましい。ここでいう有機チタ
ネートとは、一般に次式で表わされるようなチタン系シ
ラ・fマを言う。
T i (OR) 4、もしくはTi(OCOR’)4
H(OR)m、もしくは これらの代表的なものとしては、例えばテトラ−・fソ
プロポキシテタン、テトラ−n−ヅトキシチタン、テト
ラステアロキシチタン、テトラキス−(2−エチル−キ
シル)テタイ・−トなとのテトラアルキルチタネート。
H(OR)m、もしくは これらの代表的なものとしては、例えばテトラ−・fソ
プロポキシテタン、テトラ−n−ヅトキシチタン、テト
ラステアロキシチタン、テトラキス−(2−エチル−キ
シル)テタイ・−トなとのテトラアルキルチタネート。
ジプロポキシ0ビス(アセチルアセトナ))F−タン、
ジブトキシ0ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブ
トキシ0ビス(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒ
ドロキシ0ビス(ラクタト)チタン、テトラキス(,2
,−エテルヘキサンジオラド)チタンなどのチタニウム
キレート。
ジブトキシ0ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブ
トキシ0ビス(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒ
ドロキシ0ビス(ラクタト)チタン、テトラキス(,2
,−エテルヘキサンジオラド)チタンなどのチタニウム
キレート。
トリーn−ブトキシチタンモノステアレート、チタニウ
ム7−トラベンゾエートなどのチタニウムアシレート、
もしくはこれらの会合体および重合体等が挙げられる。
ム7−トラベンゾエートなどのチタニウムアシレート、
もしくはこれらの会合体および重合体等が挙げられる。
接着層の厚みは原理的には単分子層以上あればよいが実
際の塗布操作上/ Omlt〜2μの範囲が選ばれる。
際の塗布操作上/ Omlt〜2μの範囲が選ばれる。
厚くなりすぎると経済的に不利であるばかりでなく、感
光層への現像液の浸透に悪影響を及ぼす。
光層への現像液の浸透に悪影響を及ぼす。
同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のために、シ
リコーンゴム層に接着成分として、種々のものが添加さ
れているが、なかでもアミノシランまだは有機チタネー
トが好ましい。ここでいうアミノシランまたは有機チタ
ネートは先に説明したものと同じである。
リコーンゴム層に接着成分として、種々のものが添加さ
れているが、なかでもアミノシランまだは有機チタネー
トが好ましい。ここでいうアミノシランまたは有機チタ
ネートは先に説明したものと同じである。
シリコーンゴム層中に含まれるアミノシランまたは有機
チタネートの量は好ましくは0.01〜/θ重量係、よ
り好ましくはθ、/〜!重量係が選ばれる。
チタネートの量は好ましくは0.01〜/θ重量係、よ
り好ましくはθ、/〜!重量係が選ばれる。
またアミノシランと有機チタネートの混合、または他の
接着成分と混合しても用いられる。
接着成分と混合しても用いられる。
支持体としては、通常の平版印刷機等にセットできるた
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えつるものでなければ
ならない。代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレフタレー1−のようなプラスチ
ックフィルムもしくはシートあるいはコート紙、ゴム等
があげられる。
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えつるものでなければ
ならない。代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレフタレー1−のようなプラスチ
ックフィルムもしくはシートあるいはコート紙、ゴム等
があげられる。
また複合された支持体、ゴム弾性を有する支持体、ゴム
弾性層を有する支持体シリンダー状の支持体を用いるこ
ともできる。
弾性層を有する支持体シリンダー状の支持体を用いるこ
ともできる。
上記のシート状物の上にハレーション防止その他の目的
でさらにコーチ・fングを施しで支持体とすることも可
能である。
でさらにコーチ・fングを施しで支持体とすることも可
能である。
以上説明したよう(ニして構成された画像形成用積1t
i体の表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなど
の目的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹
凸処理が施されたポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ポリスカレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、セロファンなどの薄い保護フ
ィルムまたはシートをラミネートすることもできる。か
かる保護フィルムは特に限定されなく、画像露光前(′
″、、除去ばよい。画像露光時にも使用できるような保
護フィルムとしては上記のような材質のフィルムで紫外
線を透過しうる透明性と露光時の焼きぼけを防ぐために
/ 00 p DI下、好ましくは30μ以下の厚みを
有するものである。
i体の表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなど
の目的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹
凸処理が施されたポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ポリスカレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、セロファンなどの薄い保護フ
ィルムまたはシートをラミネートすることもできる。か
かる保護フィルムは特に限定されなく、画像露光前(′
″、、除去ばよい。画像露光時にも使用できるような保
護フィルムとしては上記のような材質のフィルムで紫外
線を透過しうる透明性と露光時の焼きぼけを防ぐために
/ 00 p DI下、好ましくは30μ以下の厚みを
有するものである。
かかる湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の層構成とし
ては、次のようになる。即ち、順に支持体、必要なら接
着層またはプライマ一層をはさんで感光層、さらに必要
なら接着層をはさんでシリコーンゴム層、最後に必要な
ら保護層からなるものである。感光層の厚さはほぼ0.
2〜3μ、シリコーンゴム層の厚さはO0!〜10μ程
度が適当テする。シリコーンゴム層の厚さは調子再現性
の点からはできる限り薄い方がよくまた耐刷性、印刷汚
れの点からはある程度の厚さを必要とするので通常7.
0〜3.θμが望ましい。プラ・fマ一層および接着層
はその機能を十分発揮し得る範囲内で出来る限り薄い方
が好ましい。
ては、次のようになる。即ち、順に支持体、必要なら接
着層またはプライマ一層をはさんで感光層、さらに必要
なら接着層をはさんでシリコーンゴム層、最後に必要な
ら保護層からなるものである。感光層の厚さはほぼ0.
2〜3μ、シリコーンゴム層の厚さはO0!〜10μ程
度が適当テする。シリコーンゴム層の厚さは調子再現性
の点からはできる限り薄い方がよくまた耐刷性、印刷汚
れの点からはある程度の厚さを必要とするので通常7.
0〜3.θμが望ましい。プラ・fマ一層および接着層
はその機能を十分発揮し得る範囲内で出来る限り薄い方
が好ましい。
本発明の湿し水不要ネガ感光性平版印刷版は、画像露光
後に現像処理して露光部分におけるシリコーンゴム層の
みか、又はシリコーンゴム層と感光層とが除去されるが
、画像露光後の任意の段階で塩基処理される。この塩基
処理により、未露光部分の0−キノンジアジド構造を含
む化合物がカップリング成分とカップリング反応を起こ
して感光性を失なう為、製版後に曝光されても非画像部
に変化は生じない。画像露光の光源としては、例えば超
高圧水鏝灯、カーボンアーク灯、メタルハラ・fトラン
プ、キセノンランプ、ケミカル灯、けい光灯、太陽光な
どが用いられる。
後に現像処理して露光部分におけるシリコーンゴム層の
みか、又はシリコーンゴム層と感光層とが除去されるが
、画像露光後の任意の段階で塩基処理される。この塩基
処理により、未露光部分の0−キノンジアジド構造を含
む化合物がカップリング成分とカップリング反応を起こ
して感光性を失なう為、製版後に曝光されても非画像部
に変化は生じない。画像露光の光源としては、例えば超
高圧水鏝灯、カーボンアーク灯、メタルハラ・fトラン
プ、キセノンランプ、ケミカル灯、けい光灯、太陽光な
どが用いられる。
本発明において用いられる現像液としては湿し水不要ネ
ガ型感光性平版印刷版の現像液として公知のものが使用
できる。たとえば脂肪族炭化水素類(ヘキャン、ヘプタ
ン、′アイツノ耐−E、H。
ガ型感光性平版印刷版の現像液として公知のものが使用
できる。たとえば脂肪族炭化水素類(ヘキャン、ヘプタ
ン、′アイツノ耐−E、H。
G”(エッソ化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あるい
はガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン
、キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類(トリ
クレンなど)に下記の極性溶媒を添加したものが好適で
ある。
はガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン
、キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類(トリ
クレンなど)に下記の極性溶媒を添加したものが好適で
ある。
アルコール類(メタノーノへエタノール、水すど)
エーテル類(メチルセロソルブ、エテルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルピトール、エテルカルピト
ール、ブチルカルピトール、ジオキサンなど) ケトン類(アセトン、メチルエテルク°トンなど)エス
テル類(酢酸エチル、メチルセロソルブアセテート、セ
ロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど) またクリスタルバイオレット、アセドラシンレッドなど
の染料を現像液(=加えて現像と感光層の染色化を同時
に行なうこともできる。
チルセロソルブ、メチルカルピトール、エテルカルピト
ール、ブチルカルピトール、ジオキサンなど) ケトン類(アセトン、メチルエテルク°トンなど)エス
テル類(酢酸エチル、メチルセロソルブアセテート、セ
ロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど) またクリスタルバイオレット、アセドラシンレッドなど
の染料を現像液(=加えて現像と感光層の染色化を同時
に行なうこともできる。
現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用)ξラ
ドでこすったり、現像液を版面に注いだ後に現像ブラシ
でこするなど、公知の方法で行なうことができる。これ
により、画像露光時の露光部分のシリコーンゴム層又は
シリコーンゴム層と感光層が除かれ、感光層又は支持体
表面が露出し、その部分が・インク受容部となる。
ドでこすったり、現像液を版面に注いだ後に現像ブラシ
でこするなど、公知の方法で行なうことができる。これ
により、画像露光時の露光部分のシリコーンゴム層又は
シリコーンゴム層と感光層が除かれ、感光層又は支持体
表面が露出し、その部分が・インク受容部となる。
本発明の塩基処理に用いられる塩基とは、通常の化学分
野で用いられている塩基を意味し、陽子蛍容体あるいは
電、子供与体と定義されるものである。塩基として無機
または有機のいずれでもよく、−例をあげると次のよう
なものである。
野で用いられている塩基を意味し、陽子蛍容体あるいは
電、子供与体と定義されるものである。塩基として無機
または有機のいずれでもよく、−例をあげると次のよう
なものである。
有機塩基としては、炭素数/から30の有機塩基(ただ
し、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシアミンは例外
)が好ましく、これらの例としてはたとえば、アンモニ
ア(アンモニウムハイドロキサイド)、メチルアミン、
エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブ
チルアミン、アミルアミン、ジエチルアミン、ジブチル
アミン、シアミルアミン、トリジ11ビルアミン、トリ
ブチルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン N。
し、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシアミンは例外
)が好ましく、これらの例としてはたとえば、アンモニ
ア(アンモニウムハイドロキサイド)、メチルアミン、
エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブ
チルアミン、アミルアミン、ジエチルアミン、ジブチル
アミン、シアミルアミン、トリジ11ビルアミン、トリ
ブチルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、N、N−ジメチ
ルベンジルアミン N。
N−ジエチルベンジルアミン、N、N−ジプロピルベン
ジルアミン、〇−またはm−またはp−メトキシまたは
メチルベンジルアミン、N、N−ジ(メトキシベンジル
)アミン、β−フェニルエチルアミン、ε、δ−フェニ
ルアミルアミン、r−フェニルプロピルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメ
チルアニリン、トルイジン、ベンジジン、αまたはl−
ナフチルアミン、0またはm−またはp−フエコレンジ
アミン、ピロリジン、ビはリジン、ピSラジン、モルホ
リン、ウロトロビン、ジアザビシクロウンデカン、ピロ
ール、ピリジン、キノリン、ヒドラジン、フェニルヒド
ラジン、N、N −ジフェニルヒドラジン、ヒドロキシ
ルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ尿素、リジン、
ヒスチジン、キニン、フルシン、カフェ・fン、シンコ
ニン、コカ・fン、ストリキニン、水酸化テトラアルキ
ルアンモニウム、アミノ安息香酸、ホルムアミド、アセ
タミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセタミド、アセタニリド、モノエタノールアεン
、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン1.2−
(,2−アミノエテル)エタノール、コーアミノーコー
メテル=/、3−プロパンジオール、2−アミノ−/、
3−−Fロノξンジオール、コーアミノーコーヒドロキ
シメテルー/、3−iロパンジオールなどのアミン化合
物(/級、2級。
ジルアミン、〇−またはm−またはp−メトキシまたは
メチルベンジルアミン、N、N−ジ(メトキシベンジル
)アミン、β−フェニルエチルアミン、ε、δ−フェニ
ルアミルアミン、r−フェニルプロピルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメ
チルアニリン、トルイジン、ベンジジン、αまたはl−
ナフチルアミン、0またはm−またはp−フエコレンジ
アミン、ピロリジン、ビはリジン、ピSラジン、モルホ
リン、ウロトロビン、ジアザビシクロウンデカン、ピロ
ール、ピリジン、キノリン、ヒドラジン、フェニルヒド
ラジン、N、N −ジフェニルヒドラジン、ヒドロキシ
ルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ尿素、リジン、
ヒスチジン、キニン、フルシン、カフェ・fン、シンコ
ニン、コカ・fン、ストリキニン、水酸化テトラアルキ
ルアンモニウム、アミノ安息香酸、ホルムアミド、アセ
タミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセタミド、アセタニリド、モノエタノールアεン
、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン1.2−
(,2−アミノエテル)エタノール、コーアミノーコー
メテル=/、3−プロパンジオール、2−アミノ−/、
3−−Fロノξンジオール、コーアミノーコーヒドロキ
シメテルー/、3−iロパンジオールなどのアミン化合
物(/級、2級。
3級アミン、モノアミン、ジアミン、トリアミン、テト
ラアミンからポリアミンまで、脂肪族鎖式アミン、脂肪
族環式アミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミン)およ
び酸アミドなどのアミン誘導体あるいはカルボン族とア
ミンの塩(例えばオクタン酸などとモノエタノールアミ
ン、ジェタノールアミンなどとの塩)などが用いられる
。
ラアミンからポリアミンまで、脂肪族鎖式アミン、脂肪
族環式アミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミン)およ
び酸アミドなどのアミン誘導体あるいはカルボン族とア
ミンの塩(例えばオクタン酸などとモノエタノールアミ
ン、ジェタノールアミンなどとの塩)などが用いられる
。
才だ、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、
ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウム
エチラート、カリウムプロピラード、リチウムメチラー
ト、リチウムエチラートなどのアルカリ金属アルコラー
ド、ナトリウム、カリウム、リチウムのアミド、エテル
アミド、ジプロピルアミドなどのアルカリ金属アミドな
どが用いられる。
ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウム
エチラート、カリウムプロピラード、リチウムメチラー
ト、リチウムエチラートなどのアルカリ金属アルコラー
ド、ナトリウム、カリウム、リチウムのアミド、エテル
アミド、ジプロピルアミドなどのアルカリ金属アミドな
どが用いられる。
無機塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、
りん酸ナトリウム、りん酸カリウム、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、ナトリウムメタシリケートなどのアルカ
リ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩などが用
いられる。
水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、
りん酸ナトリウム、りん酸カリウム、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、ナトリウムメタシリケートなどのアルカ
リ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩などが用
いられる。
また、塩基としてはマスクされているような形、たとえ
ばカルボン酸、りん酸などの酸とアルカリ金属、アルカ
リ土類金属との塩でも使用可能である。
ばカルボン酸、りん酸などの酸とアルカリ金属、アルカ
リ土類金属との塩でも使用可能である。
これらの塩基のなかで特に奸才し、いものは有機塩基で
あり、さらにその中でも特にアミン化合物が好ましい。
あり、さらにその中でも特にアミン化合物が好ましい。
これらの塩基は単独あるいは混合して、液状あるいは気
相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものあ
るいは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合、溶媒
は水または有機溶剤または両者混合のいずれでもよい。
相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものあ
るいは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合、溶媒
は水または有機溶剤または両者混合のいずれでもよい。
また現像液と一緒にしたものでもよい。
気相、液相いずれで処理する場合でも用いる塩基の量と
しては、いちがいに決められない。その効果の発現には
塩基の濃度が低い場合、必要量の塩基が供給されるとい
う条件下、時間をかけて処理さえすればよく、濃い場合
は短時間でよい。かかる意味において溶液として用いる
場合の濃度は特に限定されなく、塩基の強さ、あるいは
操作のしやすさ、安全上および実用的な処理時間から、
気相ではso%以下0.0/%以上、好ましくは30−
410係以下0.7%以上、液相では100多以下θ、
007%以上、好才しくは!O係以下θ、oi%以上の
濃度範囲で充分効果が得られる。
しては、いちがいに決められない。その効果の発現には
塩基の濃度が低い場合、必要量の塩基が供給されるとい
う条件下、時間をかけて処理さえすればよく、濃い場合
は短時間でよい。かかる意味において溶液として用いる
場合の濃度は特に限定されなく、塩基の強さ、あるいは
操作のしやすさ、安全上および実用的な処理時間から、
気相ではso%以下0.0/%以上、好ましくは30−
410係以下0.7%以上、液相では100多以下θ、
007%以上、好才しくは!O係以下θ、oi%以上の
濃度範囲で充分効果が得られる。
塩基で処理する時間は特に限定されなく、塩基の強さと
濃度によって適宜選択できるが、通常処理液に触れると
即時に効果があられれ、かつ長時間接触させても何ら効
果に変化はない。通常約コ。
濃度によって適宜選択できるが、通常処理液に触れると
即時に効果があられれ、かつ長時間接触させても何ら効
果に変化はない。通常約コ。
3秒〜3θ分間程度でよい。
液状で処理する場合は印刷版原版を塩基または塩基溶液
に浸漬するか、あるいは塩基または塩基溶液で版面なぬ
らす程度でよい。また気相で処理する場合は、該塩基を
含む気相に版面な曝露すればよい。
に浸漬するか、あるいは塩基または塩基溶液で版面なぬ
らす程度でよい。また気相で処理する場合は、該塩基を
含む気相に版面な曝露すればよい。
上記のような塩基によ、る処理は、前述の如く、画像露
光後の任意の段階、即ち、現像前、現像後又は現像と同
時のいずれであってもよい。現像と同時に塩基処理を施
こす場合は、現像液中に塩基を含有させる。この場合、
現像液に溶解しやすい塩基(例えばアミン化合物)が有
利に使用される。
光後の任意の段階、即ち、現像前、現像後又は現像と同
時のいずれであってもよい。現像と同時に塩基処理を施
こす場合は、現像液中に塩基を含有させる。この場合、
現像液に溶解しやすい塩基(例えばアミン化合物)が有
利に使用される。
塩基処理を現像前又は現像と同時に行なうことは、未露
光部(非画像部)の感光層とその上のシリコーンゴム層
との接着力が向上して非画像部の耐溶剤性も著しく向上
するという効果があるため、現像ラチチュード(同一の
現像結果を与えるのに許容される現像時間などの現像条
件の変動中)が広がるという利点も得られるので有利で
ある。中でも、現像と同時に塩基処理する方法は、処理
工程の簡素化(−もつながるので特に好ましい。
光部(非画像部)の感光層とその上のシリコーンゴム層
との接着力が向上して非画像部の耐溶剤性も著しく向上
するという効果があるため、現像ラチチュード(同一の
現像結果を与えるのに許容される現像時間などの現像条
件の変動中)が広がるという利点も得られるので有利で
ある。中でも、現像と同時に塩基処理する方法は、処理
工程の簡素化(−もつながるので特に好ましい。
以上説明した手順で作成された湿し水不要平版印刷版は
、印刷機にマウントされ、湿し水を供給することなく印
刷することができる。
、印刷機にマウントされ、湿し水を供給することなく印
刷することができる。
本発明による湿し水不要イ、ガ型感光性平版印刷版は、
従来のような加熱により定着するといった頒雑な工程を
施こすことなく、非画像部が定着された湿し水不要平版
印刷版を与えることができる。
従来のような加熱により定着するといった頒雑な工程を
施こすことなく、非画像部が定着された湿し水不要平版
印刷版を与えることができる。
即ち、本発明による湿し水不要平版印刷版は、非画像部
の感光層は塩基処理によりカップリング反応を起こして
感光性が消失しており、しかもこのカップリング反応に
よりその上にあるシリコーンゴム層と感光層との接着力
が向上している。従って、製版後に非画像部が曝光され
ても感光層はもはや何ら変化せず、従って、プレートク
リーナーなどの処理剤に触れても非画像部のシリコーン
ゴム層が剥離することがなく、良好な画質の印刷物を多
数枚刷ることが可能である。更(1非画像部の感光層で
のカップリング反応により着色染料が形成されるので、
画像部と非画像部とを視覚的に識別することができる。
の感光層は塩基処理によりカップリング反応を起こして
感光性が消失しており、しかもこのカップリング反応に
よりその上にあるシリコーンゴム層と感光層との接着力
が向上している。従って、製版後に非画像部が曝光され
ても感光層はもはや何ら変化せず、従って、プレートク
リーナーなどの処理剤に触れても非画像部のシリコーン
ゴム層が剥離することがなく、良好な画質の印刷物を多
数枚刷ることが可能である。更(1非画像部の感光層で
のカップリング反応により着色染料が形成されるので、
画像部と非画像部とを視覚的に識別することができる。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。なお
、係は他に指定のない限り重量%を示す。
、係は他に指定のない限り重量%を示す。
実施例/および比較例/
厚さθ、 、2 Q mmのアルミニウム板を、tθQ
C。
C。
コθチの第三燐酸ソーダ水溶液で2分間処理して脱脂し
、良く水洗した。次に、このアルミニウム板を7θ0C
53%JISJ号珪酸ソーダ水溶液で処理し、支持体を
作成した。プライマ一層として、東しシリコーンプライ
マーSHtθコθ(N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン)7重量部をメタノール
!θθ重量部に溶解したものを、上記支持体に塗布し、
7000097分乾燥した。このようにして得られた、
プライマ一層を塗布したアルミニウム支持体上に、下記
組成の感光液を、乾燥重量で/、017m2となるよう
に塗布し、乾燥した。
、良く水洗した。次に、このアルミニウム板を7θ0C
53%JISJ号珪酸ソーダ水溶液で処理し、支持体を
作成した。プライマ一層として、東しシリコーンプライ
マーSHtθコθ(N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン)7重量部をメタノール
!θθ重量部に溶解したものを、上記支持体に塗布し、
7000097分乾燥した。このようにして得られた、
プライマ一層を塗布したアルミニウム支持体上に、下記
組成の感光液を、乾燥重量で/、017m2となるよう
に塗布し、乾燥した。
アセトンとピロガロールの縮合重合
により得られるポリヒドロキシフ
ェニルの2−ジアゾ−/−ナブト
ールー!−スルホン酸エステル
(米国特許第J、AG3.709号
明細書中記載の化合物) と、5重量部下記(1)式の
構造式をもつ高分子 化合物(平均分子量約io 、 ooθ)/、jt重量
部 メチルセロソルブアセテート /、20重量部メチルエ
チルケトン 6θ重量部 α 次にトーレシリコーン社製のシランカップリング剤5H
−Aoxo(N−β(7’−/ z y−ル)−r−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン)7重量部をトルエン
SOO重量部に溶解した溶液を濾過し、上記感光層上に
塗布し、さらに信越シリコーンK Eグ/T(/深型R
TV脱酢酸型)9重量部、信越シリコーンKS709(
,2液型離形用シリコーン)3.3重量部および触媒C
AT−PS(信越化学社製)0.09重量部をアイソパ
ーQ(BXXON Chemica1社製)/Jθ1i
ii[に溶解したものを乾燥重量で2y/m”になるよ
うに塗布した。10θ0Cで2分間乾燥し暗所に一晩放
置し硬化を完了させた。この湿し水不要ネガ型感光性平
版印刷版上にネガフ・fルムとステップタブレット(初
段の透過光学濃嘴が0.0!、段差光学濃度O3/!で
75段あるもの。)とを密着させ、BTCASCOR社
製バーキープリンターにより40秒間露光した。この版
を、:rfレンジアミン3正量部、エチルアルコール1
0重量部およびア・fソノξ−Gオθ重量部よりなる現
像液を含ませたハニロン・リソパッド(ハニーファ・f
バー社製)で!分間擦ったところ、露光部分の感光層お
よびその上のシリコーン・ラバ一層は除去された。一方
、未露光部分の感光層は褐色に着色し、その上のシリコ
ーン・ラバ一層はなんらの変化なうけずそのま才残って
いた。感光層が褐色(二着色したのは、オルソキノンジ
アジドと(1)式の化合物とが塩基すなわちエチレンジ
アミンの存在下でカップリングを起したためである。ま
た、同時(二焼き付けたステップタブレットの3段以上
のシリコーン・ラバ一層はそのまま残っていた。
構造式をもつ高分子 化合物(平均分子量約io 、 ooθ)/、jt重量
部 メチルセロソルブアセテート /、20重量部メチルエ
チルケトン 6θ重量部 α 次にトーレシリコーン社製のシランカップリング剤5H
−Aoxo(N−β(7’−/ z y−ル)−r−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン)7重量部をトルエン
SOO重量部に溶解した溶液を濾過し、上記感光層上に
塗布し、さらに信越シリコーンK Eグ/T(/深型R
TV脱酢酸型)9重量部、信越シリコーンKS709(
,2液型離形用シリコーン)3.3重量部および触媒C
AT−PS(信越化学社製)0.09重量部をアイソパ
ーQ(BXXON Chemica1社製)/Jθ1i
ii[に溶解したものを乾燥重量で2y/m”になるよ
うに塗布した。10θ0Cで2分間乾燥し暗所に一晩放
置し硬化を完了させた。この湿し水不要ネガ型感光性平
版印刷版上にネガフ・fルムとステップタブレット(初
段の透過光学濃嘴が0.0!、段差光学濃度O3/!で
75段あるもの。)とを密着させ、BTCASCOR社
製バーキープリンターにより40秒間露光した。この版
を、:rfレンジアミン3正量部、エチルアルコール1
0重量部およびア・fソノξ−Gオθ重量部よりなる現
像液を含ませたハニロン・リソパッド(ハニーファ・f
バー社製)で!分間擦ったところ、露光部分の感光層お
よびその上のシリコーン・ラバ一層は除去された。一方
、未露光部分の感光層は褐色に着色し、その上のシリコ
ーン・ラバ一層はなんらの変化なうけずそのま才残って
いた。感光層が褐色(二着色したのは、オルソキノンジ
アジドと(1)式の化合物とが塩基すなわちエチレンジ
アミンの存在下でカップリングを起したためである。ま
た、同時(二焼き付けたステップタブレットの3段以上
のシリコーン・ラバ一層はそのまま残っていた。
」−記の製版された版を上記プリンターを用いてtθ秒
秒間間曝光した後にエチルアルコールを宮才せたハニロ
ン・リソバッドで7分間版面を擦ったところ、ステップ
タブレットの変化は全くなかった。すなわち、非画像部
は定着されていることが確δ忍された。
秒間間曝光した後にエチルアルコールを宮才せたハニロ
ン・リソバッドで7分間版面を擦ったところ、ステップ
タブレットの変化は全くなかった。すなわち、非画像部
は定着されていることが確δ忍された。
一方、比較として、実施例/で用いた湿し水不要ネガ型
感光性平版印刷版をステップタブレットと共にバーキー
プリンターで40秒間露光し、実施例/の現像液からエ
チレンジアミンを除いた現像液、すなわち、エチルアル
コールjθ電値部およびアイソパー050重量部からな
る現像液で5分間現像を行った。ステップタブレットの
6段以上のシリコーン・ラバ一層はその才ま残っており
、また感光層は全く着色しなかった。この版面をバーキ
ープリンターで60秒間全面曝光した後にエチルアルコ
ールを含ませたハ二ロンリソパッドで7分間擦ったとこ
ろ支持体から感光層およびシリコーン・ラバ一層は完全
に除去されてしまったっすなわち非画像部は定着されて
いなかった。
感光性平版印刷版をステップタブレットと共にバーキー
プリンターで40秒間露光し、実施例/の現像液からエ
チレンジアミンを除いた現像液、すなわち、エチルアル
コールjθ電値部およびアイソパー050重量部からな
る現像液で5分間現像を行った。ステップタブレットの
6段以上のシリコーン・ラバ一層はその才ま残っており
、また感光層は全く着色しなかった。この版面をバーキ
ープリンターで60秒間全面曝光した後にエチルアルコ
ールを含ませたハ二ロンリソパッドで7分間擦ったとこ
ろ支持体から感光層およびシリコーン・ラバ一層は完全
に除去されてしまったっすなわち非画像部は定着されて
いなかった。
実施例 認
実施例/と同様にして、但し感光層を下記の組成のもの
を用いて、湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版を作成し
た。
を用いて、湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版を作成し
た。
アセトンとピロガロールの縮合重合
により得られるポリヒドロキシフ
ェニルのコージアゾー/−ナンド
一ルー!−スルホン酸エステル
(米国暢許第3.tj3,702号
明細書中記載の化合物) 7.θ重量部μ
m1’l記(1)式の構造式をもつ高分子化合物 3.
0重量部 メチルセロソルブアセート/ao重WkfRrメチルエ
チルケトン 60重量部 この版をバーキープリンターでステップタブレットと共
に6θ秒間露光した後に、エチレンジアミン3重量部、
エテルアルコール50重量部、お様(−褐色に着色され
ていた。
0重量部 メチルセロソルブアセート/ao重WkfRrメチルエ
チルケトン 60重量部 この版をバーキープリンターでステップタブレットと共
に6θ秒間露光した後に、エチレンジアミン3重量部、
エテルアルコール50重量部、お様(−褐色に着色され
ていた。
この版をハ・fデルベルグ社製の印刷機GTOに取り付
けて、湿し水を供給せずに印刷したところ、汚れのない
きれいな印刷物が!、θθθ枚以上得られた。
けて、湿し水を供給せずに印刷したところ、汚れのない
きれいな印刷物が!、θθθ枚以上得られた。
また、現像された版を実施例/と同様にバーキープリン
ターで60秒間全面曝光した後に、エチルアルコールを
含ませたハニロン・リッツeツドで7分間擦ったところ
、感光層もその上のシリコーン・ラバ一層も何ら損傷を
受けなかった。
ターで60秒間全面曝光した後に、エチルアルコールを
含ませたハニロン・リッツeツドで7分間擦ったところ
、感光層もその上のシリコーン・ラバ一層も何ら損傷を
受けなかった。
実施例3および比較例λ
実施例3;二は実施例コと全く同様の版を用いた。
比較例2には、下記感光層を用いること以外は全〈実施
例−と同様なものを作成した。
例−と同様なものを作成した。
アセトンとピロガロールの縮合重合
(二より得られるポリヒドロキシフ
ェニルのコージアゾ〜/−ナツト
一ルー!−スルホン酸エステル
(米国特許第3.1.3!、709号
明細書中記載の化合物) 70重量部
メチルセロソルブアセテート 720重量部メチルエテ
ルケトン 60重量部 実施例3と比較例コの版をそれぞれにネガフ・fルムと
ステップタブレットとを密着させて、バーキープリンタ
ーで20秒間露光を行った。露光後エチルアルコール7
!重量部とアイソパーGコ!重量部とから成る現像液を
ハニロン・リソパッドに含ませて、版面な擦り現像を行
ったところ、実施例3の版は!分間で現像が終了し、一
方比較例コの版は3分間で現像が終了し7’coヌテツ
ゾタブレツトは、実施例3の版は4段以上にシリコーン
・ラバーがついており、比較例コの版は4段以上にシリ
コーン・ラバーがついていた。
ルケトン 60重量部 実施例3と比較例コの版をそれぞれにネガフ・fルムと
ステップタブレットとを密着させて、バーキープリンタ
ーで20秒間露光を行った。露光後エチルアルコール7
!重量部とアイソパーGコ!重量部とから成る現像液を
ハニロン・リソパッドに含ませて、版面な擦り現像を行
ったところ、実施例3の版は!分間で現像が終了し、一
方比較例コの版は3分間で現像が終了し7’coヌテツ
ゾタブレツトは、実施例3の版は4段以上にシリコーン
・ラバーがついており、比較例コの版は4段以上にシリ
コーン・ラバーがついていた。
現像終了後コ一つの版を、エチレンジアミン3重量部、
エチルアルコール97重量部から成る処理液に7分間浸
漬した後に水洗、乾燥した。次に、これらλつの版をバ
ーキープリンターでグO秒間全面曝光した後にエチルア
ルコール7!重量部およびア・fソバ−(,21重量部
から成る現像液をハニロン・リソパッド(=含ませて実
施例3の版は5分間、比較例−の版は3分間版面を擦っ
た。その結果実施例3の版は感光層およびシリコーン・
ラバ一層共にほとんど損傷を受けておらずまたステップ
タブレットの段数もほとんど変化していなかった。一方
、比較例コの版の網点の画像部はほとんどすべて支持体
上から除去されており、ステップタブレットは3段から
7段位才での感光層およびシリコーン・ラバ一層のみが
支持体上に残り、1段以上の感光層およびシリコーン・
ラバ一層は除去されていた。これらの結果から、実施例
3の版はカップリング反応が起こって、定着されたが、
比較例コの版はカプラーがないためにカップリング反応
が起こらず定着されていないことが判った。
エチルアルコール97重量部から成る処理液に7分間浸
漬した後に水洗、乾燥した。次に、これらλつの版をバ
ーキープリンターでグO秒間全面曝光した後にエチルア
ルコール7!重量部およびア・fソバ−(,21重量部
から成る現像液をハニロン・リソパッド(=含ませて実
施例3の版は5分間、比較例−の版は3分間版面を擦っ
た。その結果実施例3の版は感光層およびシリコーン・
ラバ一層共にほとんど損傷を受けておらずまたステップ
タブレットの段数もほとんど変化していなかった。一方
、比較例コの版の網点の画像部はほとんどすべて支持体
上から除去されており、ステップタブレットは3段から
7段位才での感光層およびシリコーン・ラバ一層のみが
支持体上に残り、1段以上の感光層およびシリコーン・
ラバ一層は除去されていた。これらの結果から、実施例
3の版はカップリング反応が起こって、定着されたが、
比較例コの版はカプラーがないためにカップリング反応
が起こらず定着されていないことが判った。
手続補正書
特許庁長官殿
1、事件の表示 昭和jり年 特願第111r307号
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、補正の対象 間作111:の「発明の詳細な説明」
の欄 5、補正の内容 (1)第1/頁弘行〜/1行の 「Qは・・・・・・核であり、」に下記の文に補正する
。
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、補正の対象 間作111:の「発明の詳細な説明」
の欄 5、補正の内容 (1)第1/頁弘行〜/1行の 「Qは・・・・・・核であり、」に下記の文に補正する
。
[Qは0−キノンジアジド構造ケ有する化合物と塩基性
環境下でカップリング反応を起こしてアゾ染料を形成す
るアゾカップリング残基紮示す。
環境下でカップリング反応を起こしてアゾ染料を形成す
るアゾカップリング残基紮示す。
上記Qの特に好捷しい例は、」
(2) 第73頁1行の
一般式中、Rと84の間に結合手孕記入する。
(3)第20貞/J行の
「o、x〜3μ」を
「θ、θj〜3μ」
に補正−する。
(4)第、2/頁76行の
1−ニック」紮
「エクソン」
に補正する。
(5) 第、2コ頁/2行の
「感光層」を
「プライマ一層」
に補正する。
(6)同頁lり行の
「感光層又は」を
「感光層、プライマ一層又は」
に補正する。
(7)第29頁j行の
「煩雑」を
「煩雑」
に訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11支持体上に、順に、0−キノンジアジド構造を含
む化合物を構成成分とし、且っ堪基性波渓下でジアゾカ
ップリング反応を起こすカップリング成分を含有する感
光層およびシリコーンゴム層を有する湿し水不要イ・ガ
型感光性平版印刷版。 (2)支持体上に、順に、0−キノンジアジド構造を含
む化合物を構成成分とし、且つ塩基性環境下でジアゾカ
ッシリング反応を起こすカップリング成分を含有する感
光層およびシリコーンゴム層を有する湿し水不要ネガ型
感光性平版印刷版を画像露光し、現像しC6Mし水不要
平版印刷版を得る方法であって、該画像露光後に塩基処
理する工程が含まれていることを特徴とする製版方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59048307A JPS60192948A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
EP85102838A EP0154980B1 (en) | 1984-03-14 | 1985-03-12 | Negative working light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution and plate making process |
DE8585102838T DE3578013D1 (de) | 1984-03-14 | 1985-03-12 | Negativ arbeitende trockendruckplatte und verfahren zur herstellung. |
CA000476384A CA1277170C (en) | 1984-03-14 | 1985-03-13 | Negative working light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution and plate making process |
US06/711,861 US4642283A (en) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Plate making processing for using negative working light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59048307A JPS60192948A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60192948A true JPS60192948A (ja) | 1985-10-01 |
JPH0356625B2 JPH0356625B2 (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=12799760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59048307A Granted JPS60192948A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4642283A (ja) |
EP (1) | EP0154980B1 (ja) |
JP (1) | JPS60192948A (ja) |
CA (1) | CA1277170C (ja) |
DE (1) | DE3578013D1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62266541A (ja) * | 1986-04-29 | 1987-11-19 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 半導体デバイスの製造方法 |
JPS6314140A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-21 | Konica Corp | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JPS6352145A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-05 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版用現像液 |
JPH02282257A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
US5582952A (en) * | 1994-03-08 | 1996-12-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate containing a two-equivalent coupler residue-containing polymer |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4826752A (en) * | 1986-06-25 | 1989-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry photosensitive lithographic plate comprising a silicon rubber layer containing an aromatic aminosilane |
DE3628719A1 (de) * | 1986-08-23 | 1988-02-25 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
DE3628720A1 (de) * | 1986-08-23 | 1988-02-25 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
DE3715792A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
DE3729035A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial |
IL89790A (en) * | 1988-04-01 | 2002-05-23 | Johns Hopking University | Sequences of nucleic acids encoding and cells producing CR1 protein and methods for its production and purification |
EP0441638B1 (en) * | 1990-02-08 | 1999-10-13 | Konica Corporation | Light sensitive litho printing plate |
US5225309A (en) * | 1990-02-08 | 1993-07-06 | Konica Corporation | Light-sensitive litho printing plate with cured diazo primer layer, diazo resin/salt light-sensitive layer containing a coupler and silicone rubber overlayer |
US5260166A (en) * | 1992-03-04 | 1993-11-09 | Graphic Controls Corporation | Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture |
US5866294A (en) * | 1993-10-26 | 1999-02-02 | Toray Industries, Inc. | Water-less quinonediazide lithographic raw plate |
WO1995012146A1 (fr) * | 1993-10-26 | 1995-05-04 | Toray Industries, Inc. | Plaque lithographique a sec |
US6742453B1 (en) | 1998-07-30 | 2004-06-01 | Mark Alan Borski | Printing sleeves and methods for producing same |
WO2008038550A1 (fr) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Composition sensible au rayonnement, procédé de formation d'un film de protection à base de silice, film de protection à base de silice, appareil et élément comportant un film de protection à base de silice et agent photosensibilisant destiné à isoler un film |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2551133A (en) * | 1946-08-29 | 1951-05-01 | Du Pont | Photographic light-sensitive diazo element |
US2974042A (en) * | 1956-06-23 | 1961-03-07 | Keuffel & Esser Co | Diazotype reproduction process |
US3086861A (en) * | 1960-07-01 | 1963-04-23 | Gen Aniline & Film Corp | Printing plates comprising ink receptive azo dye surfaces |
US3149972A (en) * | 1960-08-16 | 1964-09-22 | Gen Aniline & Film Corp | Diazo and resinous coupler printing plates for photomechanical reproduction |
US3404005A (en) * | 1963-10-01 | 1968-10-01 | Ind Dyestuff Company | Diazo light-sensitive composition and element |
US3373021A (en) * | 1964-01-29 | 1968-03-12 | Harris Intertype Corp | Presensitized positive working lithographic plate |
JPS5539825B2 (ja) * | 1972-05-12 | 1980-10-14 | ||
US4108664A (en) * | 1976-11-01 | 1978-08-22 | Gaf Corporation | Light-sensitive negative-working film containing a diazo oxide sensitizer and a p-toluenesulfonyl halide or a 2,4-dihalo-S-triazine |
NZ194648A (en) * | 1979-08-20 | 1982-12-07 | Vickers Ltd | Producing lithographic printing plate from radiation sensitive plate plate finishing composition |
JPS5917552A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Toray Ind Inc | 画像形成用積層体の処理方法 |
-
1984
- 1984-03-14 JP JP59048307A patent/JPS60192948A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-12 DE DE8585102838T patent/DE3578013D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-12 EP EP85102838A patent/EP0154980B1/en not_active Expired
- 1985-03-13 CA CA000476384A patent/CA1277170C/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-03-14 US US06/711,861 patent/US4642283A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62266541A (ja) * | 1986-04-29 | 1987-11-19 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 半導体デバイスの製造方法 |
JPS6314140A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-21 | Konica Corp | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JPS6352145A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-05 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版用現像液 |
JPH02282257A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
US5582952A (en) * | 1994-03-08 | 1996-12-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate containing a two-equivalent coupler residue-containing polymer |
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