JPS60181852U - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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Publication number
JPS60181852U
JPS60181852U JP7093284U JP7093284U JPS60181852U JP S60181852 U JPS60181852 U JP S60181852U JP 7093284 U JP7093284 U JP 7093284U JP 7093284 U JP7093284 U JP 7093284U JP S60181852 U JPS60181852 U JP S60181852U
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JP
Japan
Prior art keywords
base material
ion beam
ion implantation
ion
implanted
Prior art date
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Pending
Application number
JP7093284U
Other languages
English (en)
Inventor
青木 正彦
Original Assignee
日新電機株式会社
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Publication date
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Priority to JP7093284U priority Critical patent/JPS60181852U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来のイオン注入装置の構成図、第2図はこの
考案の一実施例であるイオン注入装置の構成図、第3図
はその要部拡大断面図である。 1・・・チャンバ、2・・・イオンビーム、3・・・マ
スク、4・・・基材、8・・・サプレッサー電極、11
・・・コーテイング膜。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)真空チャンバ内の基材に向けてイオンビームを注
    入するようにしたイオン注入装置において、イオンビー
    ムの進行経路途中に配設された部品の少なくとも表層部
    を、基材と同一組成の物質で構成したことを特徴とする
    イオン注入装置。
  2. (2)前記部品は、基材へ到達するイオンビームの範囲
    を制限するマスクと、基材へのイオンビームの注入によ
    りその基材から放出される二次電子を制御するサプレッ
    サー電極を含む実用新案登録請求の範囲第1項記載のイ
    オン注入装置。
JP7093284U 1984-05-15 1984-05-15 イオン注入装置 Pending JPS60181852U (ja)

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JP7093284U JPS60181852U (ja) 1984-05-15 1984-05-15 イオン注入装置

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JP7093284U JPS60181852U (ja) 1984-05-15 1984-05-15 イオン注入装置

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JPS60181852U true JPS60181852U (ja) 1985-12-03

Family

ID=30607966

Family Applications (1)

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JP7093284U Pending JPS60181852U (ja) 1984-05-15 1984-05-15 イオン注入装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016085799A (ja) * 2014-10-23 2016-05-19 浜松ホトニクス株式会社 X線像撮像用ユニット及びx線顕微鏡

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016085799A (ja) * 2014-10-23 2016-05-19 浜松ホトニクス株式会社 X線像撮像用ユニット及びx線顕微鏡

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