JPS5974659U - イオン注入装置のイオン発生装置 - Google Patents

イオン注入装置のイオン発生装置

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JPS5974659U
JPS5974659U JP17033382U JP17033382U JPS5974659U JP S5974659 U JPS5974659 U JP S5974659U JP 17033382 U JP17033382 U JP 17033382U JP 17033382 U JP17033382 U JP 17033382U JP S5974659 U JPS5974659 U JP S5974659U
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JP
Japan
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ion
arc chamber
generator
ion implantation
implanter
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JP17033382U
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Inventor
石垣 秀樹
Original Assignee
東京エレクトロン株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
添付図面はこの考案の一実施例を示す断面図である。 1・・・・・・フィラメント、3・・・・・・アークチ
ャンバー、5・・・・・・イオン化物質、3A・・・・
・・アークチャンバースリット。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ■ 陽極のアークチャンバー内に陰極のフィラメントを
    電気的に絶縁して挿通し、前記アークチャンバーの内壁
    にイオン化物質を設けてなるイオン注入装置のイオン発
    生装置。 2 イオン化物質をアークチャンバーの内壁にコーティ
    ングしてなる実用新案登録請求の範囲第一項記載のイオ
    ン注入装置のイオン発生装置。 3 イオン化物質をアークチャンバーの内壁にライナー
    等として組込んでなる実用新案登録請求の範囲第一項記
    載のイオン注入装置のイオン発生装置。 4 イオン化物質でアークチャンバーを形成した実用新
    案登録請求の範囲第一項記載のイオン注入装置のイオン
    発生装置。
JP17033382U 1982-11-10 1982-11-10 イオン注入装置のイオン発生装置 Granted JPS5974659U (ja)

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JPH051895Y2 JPH051895Y2 (ja) 1993-01-19

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07153417A (ja) * 1993-11-26 1995-06-16 Tel Varian Ltd イオン注入装置
JPH10188833A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Toshiba Corp イオン発生装置及びイオン照射装置
JP2014086137A (ja) * 2012-10-19 2014-05-12 Ran Technical Service Kk コールドカソード型イオン源

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5252099A (en) * 1975-10-22 1977-04-26 Hitachi Ltd Plasma ion source
JPS5459870A (en) * 1977-10-21 1979-05-14 Japan Atomic Energy Res Inst Ion source unit

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