JPS6017375B2 - ポリアミド樹脂の製造方法 - Google Patents
ポリアミド樹脂の製造方法Info
- Publication number
- JPS6017375B2 JPS6017375B2 JP7944779A JP7944779A JPS6017375B2 JP S6017375 B2 JPS6017375 B2 JP S6017375B2 JP 7944779 A JP7944779 A JP 7944779A JP 7944779 A JP7944779 A JP 7944779A JP S6017375 B2 JPS6017375 B2 JP S6017375B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyamide resin
- reaction
- general formula
- tables
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐熱性溶解性に優れたポリアミド樹脂の製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
詳しくは高分子毅にキナゾロン環を有するボリアミド樹
脂の製造方法に関する。従釆耐熱性ボリアミドとして、
芳香族ポリァミドやポリアミドィミド等が知られている
。
脂の製造方法に関する。従釆耐熱性ボリアミドとして、
芳香族ポリァミドやポリアミドィミド等が知られている
。
前者のものは芳香族環に直接結合したカルボキシル基と
アミノ基を有する単量体を軍縮合した構造のポリアミド
であり、その重合方法はカルボキシル基とアミ／基を直
接高温で反応させる方法。あるいは二酸ハライドとジア
ミンを低温で反応させる方法等がある。直接反応させる
には通常２００℃以上の過酷な反応条件等を必要とする
し、また、脱塩酸反応を用いて行なう場合、その反応は
非常に急速に進行し、普通数分で終了するため、それに
伴なう副反応等が引き起されやすく、品質調整には高度
の技術を必要とする。一方、後者のボリアミドイミドに
おいても、ィミド孫含有モノマーを用いる場合、前者と
同様の径路をたどる場合が多く、やはり前者同機の欠点
を有する。本発明の目的は安定なポリアミド樹脂を提供
することにあり、かつ耐熱性、溶解性に優れたキナゾロ
ン環を有することにより、熱安定性の優れたボリアミド
が得られるという特長を有している。
アミノ基を有する単量体を軍縮合した構造のポリアミド
であり、その重合方法はカルボキシル基とアミ／基を直
接高温で反応させる方法。あるいは二酸ハライドとジア
ミンを低温で反応させる方法等がある。直接反応させる
には通常２００℃以上の過酷な反応条件等を必要とする
し、また、脱塩酸反応を用いて行なう場合、その反応は
非常に急速に進行し、普通数分で終了するため、それに
伴なう副反応等が引き起されやすく、品質調整には高度
の技術を必要とする。一方、後者のボリアミドイミドに
おいても、ィミド孫含有モノマーを用いる場合、前者と
同様の径路をたどる場合が多く、やはり前者同機の欠点
を有する。本発明の目的は安定なポリアミド樹脂を提供
することにあり、かつ耐熱性、溶解性に優れたキナゾロ
ン環を有することにより、熱安定性の優れたボリアミド
が得られるという特長を有している。
すなわち、本発明は下記一般式０１（式中Ｒ，は−Ｃ比
−、 および から選ばれた２価の有機基 を示す。
−、 および から選ばれた２価の有機基 を示す。
）で示される１分子中に２つのキナゾロン環を含むビス
メチロール化合物と、一般式（０） ＮＣ−Ｒ２−ＣＮ （０）（式中Ｒ２
は一（ＣＱ）４−およびから 選ばれた２価の有機基を示す。
メチロール化合物と、一般式（０） ＮＣ−Ｒ２−ＣＮ （０）（式中Ｒ２
は一（ＣＱ）４−およびから 選ばれた２価の有機基を示す。
）で示されるジニトリル化合物とを反応させることを特
徴とするポリアミド樹脂の製造方法に関するものである
。
徴とするポリアミド樹脂の製造方法に関するものである
。
本発明によって得られるポリアミド樹脂は、ｍ−クレゾ
ールＮ・Ｎジメチルアセトアミド、Ｎ・Ｎジメチルホル
ムアミド、Ｎメチル２ピロリドン等の通常知られている
溶媒に可溶であり、これらの溶液から耐熱性のある強じ
んなフィルムを得ることができる。生成するボリアミド
樹脂の構造は となる。
ールＮ・Ｎジメチルアセトアミド、Ｎ・Ｎジメチルホル
ムアミド、Ｎメチル２ピロリドン等の通常知られている
溶媒に可溶であり、これらの溶液から耐熱性のある強じ
んなフィルムを得ることができる。生成するボリアミド
樹脂の構造は となる。
本発明において使用される前記一般式（１）で示される
ビスメチロール化合物は、例えば、以下に述べる方法に
より容易に得ることができる。
ビスメチロール化合物は、例えば、以下に述べる方法に
より容易に得ることができる。
即ちアントラニル酸と、マロン酸クロライド、あるいは
、テレフタル酸クロラィド等と反応させたのち、無水只
酢酸などで脱水閉窮させて得られる下記一般式（式中Ｒ
，は前記した２価の有機基を示す。
、テレフタル酸クロラィド等と反応させたのち、無水只
酢酸などで脱水閉窮させて得られる下記一般式（式中Ｒ
，は前記した２価の有機基を示す。
）で示されるビスオキサジノン化合物を出発嬢料とし、
この一般式（ｍ）の化合物とアンモニアとの反応により
得られる下記一般式（Ｗ）のピスーキナゾロン化合物を
１０〜１５％溶液となる量のＮＮジメチルホルムアミド
、ＮＮジメチルアセトアミド、または、Ｎメチル２ピ。
リドンと、ともに加え、１３０〜１５ぴ０に加熱する。
（式中Ｒ，は前記した２価の有機基を示す。
この一般式（ｍ）の化合物とアンモニアとの反応により
得られる下記一般式（Ｗ）のピスーキナゾロン化合物を
１０〜１５％溶液となる量のＮＮジメチルホルムアミド
、ＮＮジメチルアセトアミド、または、Ｎメチル２ピ。
リドンと、ともに加え、１３０〜１５ぴ０に加熱する。
（式中Ｒ，は前記した２価の有機基を示す。
）ついでこの系に例えば一般式（Ｗ）の２．１モル倍の
ホルムアルデヒドを含んだ総％ホルマリン溶液を加え、
１〜２時間リフラックスさせる。反応系はこの間に均一
な溶液となる。さらに、一般式（Ｗ）の１．０モル倍の
ホルムアルデヒドを含む３８％ホルマリン溶液を加え、
３０分間リフラツクスさせる。反応溶液を水中に投入し
て沈磯を得、それをろ別して、一般式（１）で示される
ビスメチロール化合物を得ることができる。
ホルムアルデヒドを含んだ総％ホルマリン溶液を加え、
１〜２時間リフラックスさせる。反応系はこの間に均一
な溶液となる。さらに、一般式（Ｗ）の１．０モル倍の
ホルムアルデヒドを含む３８％ホルマリン溶液を加え、
３０分間リフラツクスさせる。反応溶液を水中に投入し
て沈磯を得、それをろ別して、一般式（１）で示される
ビスメチロール化合物を得ることができる。
その後、例えばジオキサンーＮＮジメチルホルムアミド
により再結晶することによりさらに純度の良いビスメチ
ロール化合物を得ることができる。また、本発明におい
て使用される上記一般式（ｍで表わされるジニトリル化
合物として、例えば、アジボニトリル、イソフタロニト
リル、およびテレフタロニトリルが挙げられる。
により再結晶することによりさらに純度の良いビスメチ
ロール化合物を得ることができる。また、本発明におい
て使用される上記一般式（ｍで表わされるジニトリル化
合物として、例えば、アジボニトリル、イソフタロニト
リル、およびテレフタロニトリルが挙げられる。
尚、これらジニトリル化合物は２種類以上の混合物とし
て＊使用してもなんらさしつかえることはない。本発明
の方法は上記で示される一般式（１）のピスメチロール
化合物と一般式（０）のジニトリル化合物とを酸性溶媒
中で親蟹子的に行なうことができる。すなわち、望まし
くは等モル量のビスメチロール化合物とジニトリル化合
物を、例えば硫酸、酢酸、ギ酸、ポリリン酸等の酸性溶
媒あるいはそれらの混合溶媒中で０〜５０℃、２〜１母
時間反応を行なことで樹脂溶液を得ることができ、この
溶液を水中に投入してポリアミド樹脂を沈澱として分離
取得することができる。この樹脂はｍ・クレゾール、Ｎ
Ｎジメチルアセトアミド等の極性溶媒に可溶であり固有
粘度は０．２〜１．０の値を示す。上記の如く、本発明
によれば０〜５０００、２〜１５時間というおだやかな
条件下で反応を進行させることによりアミド結合を生じ
させることができ、副反応を伴なうことなく目的とする
ポリアミド樹脂を得ることができる。
て＊使用してもなんらさしつかえることはない。本発明
の方法は上記で示される一般式（１）のピスメチロール
化合物と一般式（０）のジニトリル化合物とを酸性溶媒
中で親蟹子的に行なうことができる。すなわち、望まし
くは等モル量のビスメチロール化合物とジニトリル化合
物を、例えば硫酸、酢酸、ギ酸、ポリリン酸等の酸性溶
媒あるいはそれらの混合溶媒中で０〜５０℃、２〜１母
時間反応を行なことで樹脂溶液を得ることができ、この
溶液を水中に投入してポリアミド樹脂を沈澱として分離
取得することができる。この樹脂はｍ・クレゾール、Ｎ
Ｎジメチルアセトアミド等の極性溶媒に可溶であり固有
粘度は０．２〜１．０の値を示す。上記の如く、本発明
によれば０〜５０００、２〜１５時間というおだやかな
条件下で反応を進行させることによりアミド結合を生じ
させることができ、副反応を伴なうことなく目的とする
ポリアミド樹脂を得ることができる。
か）るポリアミド樹脂はキナゾロン環を含有しているた
め、耐熱性、溶解性に優れた性質を持つており、電気絶
縁材料、例えば適当な溶媒に溶解して含浸ワニスとして
用い、あるいはェポキシ樹脂など他の樹脂と混合して注
型に用いるなど種々の用途に用いることができる。なお
その際にアルミナなどの充填材、あるいは着色剤などを
併用することも差し支えない。以下実施例をあげて、本
発明の具体的な説明を行なう。実施例で使用するビスメ
チロール化合物の構造式とその略号は下記のとおりであ
る。
め、耐熱性、溶解性に優れた性質を持つており、電気絶
縁材料、例えば適当な溶媒に溶解して含浸ワニスとして
用い、あるいはェポキシ樹脂など他の樹脂と混合して注
型に用いるなど種々の用途に用いることができる。なお
その際にアルミナなどの充填材、あるいは着色剤などを
併用することも差し支えない。以下実施例をあげて、本
発明の具体的な説明を行なう。実施例で使用するビスメ
チロール化合物の構造式とその略号は下記のとおりであ
る。
ＭＱ‐１；
ＭＱ−２；
ＭＱ−３；
実施例 １
損梓器、温度計をそなえたフラスコにＭＱ−１の３．６
＆（０．０１モル）と濃硫酸１繋を加えて、均一に溶解
させたのち２５℃に保つ。
＆（０．０１モル）と濃硫酸１繋を加えて、均一に溶解
させたのち２５℃に保つ。
反応温度を２５℃に保つたまま、アジポニトリルの１．
０斑（０．０１モル）を加え８時間縄洋を続ける。反応
後、樹脂液をこまかく砕いた氷水中に投入し、白色沈澱
を生じさす。この沈澱をろ別して、希炭酸ナトリワム水
溶液、水、アセトンの順に洗浄し、減圧乾燥してポリマ
ーを得る。このポリマーは、ｍクレゾール、ＮＮジメチ
ルアセトアミド、Ｎメチル２ビロリドンに可溶であり、
固有粘度は０．班（ＮＮジメチルアセトアミド中３び○
で測定）であった。
０斑（０．０１モル）を加え８時間縄洋を続ける。反応
後、樹脂液をこまかく砕いた氷水中に投入し、白色沈澱
を生じさす。この沈澱をろ別して、希炭酸ナトリワム水
溶液、水、アセトンの順に洗浄し、減圧乾燥してポリマ
ーを得る。このポリマーは、ｍクレゾール、ＮＮジメチ
ルアセトアミド、Ｎメチル２ビロリドンに可溶であり、
固有粘度は０．班（ＮＮジメチルアセトアミド中３び○
で測定）であった。
また、赤外吸収スペクトルによる分析では、１６７＆ス
‐１、および１６１０の‐１にキナゾロン壕の特有な吸
収があり、１６５０仇‐１および１５２反か‐１にアミ
ド結合に基ずく吸収が現われた。さらに、３４０瓜ネ‐
１付近のメチロール基による吸収の消失が認められ、キ
ナゾロン環含有ポリアミドの生成が認められた。実施例
２ 縄杵器、温度計をそなえたフラスコにＭＱ一２の４．２
６ｇ（０．０１モル）とギ酸２咳と濃硫酸滋を加え、均
に溶解させる。
‐１、および１６１０の‐１にキナゾロン壕の特有な吸
収があり、１６５０仇‐１および１５２反か‐１にアミ
ド結合に基ずく吸収が現われた。さらに、３４０瓜ネ‐
１付近のメチロール基による吸収の消失が認められ、キ
ナゾロン環含有ポリアミドの生成が認められた。実施例
２ 縄杵器、温度計をそなえたフラスコにＭＱ一２の４．２
６ｇ（０．０１モル）とギ酸２咳と濃硫酸滋を加え、均
に溶解させる。
反応温度を２５℃に保つたまま、イソフタロニトリルの
１．２滋（０．０１モル）を加え、１加持間反応を続け
る。反応後、実施例１と同様に処理して、ポリマーを得
る。固有粘度は０．６５（ＮＮジメチルァセトアミド中
３０℃で測定）であった。実施例１と同様に、赤外吸収
スペクトル分析により、キナゾロン環含有ポリアミド樹
脂であることが確認された。
１．２滋（０．０１モル）を加え、１加持間反応を続け
る。反応後、実施例１と同様に処理して、ポリマーを得
る。固有粘度は０．６５（ＮＮジメチルァセトアミド中
３０℃で測定）であった。実施例１と同様に、赤外吸収
スペクトル分析により、キナゾロン環含有ポリアミド樹
脂であることが確認された。
実施例 ３
縄梓器、温度計をそなえたフラスコに、ＭＱ−３の５．
１雛（０．０１モル）とポリリン酸２舷を加え、５ぴ○
のオイル格にフラスコを保持する。
１雛（０．０１モル）とポリリン酸２舷を加え、５ぴ○
のオイル格にフラスコを保持する。
反応温度を５０℃に保ち、テレフタロニトリルの１．２
滋（０．０１モル）を加え、ｌｑ時間反応を続ける。反
応後、実施例１と同様に処理して、ポリマーを得る。固
有粘度は０．２４（ＮＮジメチルアセトアミド中３ぴ○
で測定）の値を示した。実施例１と同様、赤外吸収スペ
クトル分析により、キナゾロン環含有ポリアミド樹脂で
あることが確認された。
滋（０．０１モル）を加え、ｌｑ時間反応を続ける。反
応後、実施例１と同様に処理して、ポリマーを得る。固
有粘度は０．２４（ＮＮジメチルアセトアミド中３ぴ○
で測定）の値を示した。実施例１と同様、赤外吸収スペ
クトル分析により、キナゾロン環含有ポリアミド樹脂で
あることが確認された。
試験例 １〜３実施例１〜３で得られた樹脂を、ＮＮジ
メチルアセトアミドに溶解させたのち、それぞれをアル
ミ坂上に塗布したのち、乾燥させることによりフィルム
を得た。
メチルアセトアミドに溶解させたのち、それぞれをアル
ミ坂上に塗布したのち、乾燥させることによりフィルム
を得た。
実施例１〜２から生成したポリマーは強じんであったが
、実施例３で得られたものは強じんさはなかった。空気
中の熱重量分析を昇溢速度１ぴ○／分で測定した。その
結果を表１に示す。表１
、実施例３で得られたものは強じんさはなかった。空気
中の熱重量分析を昇溢速度１ぴ○／分で測定した。その
結果を表１に示す。表１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（I） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１は−ＣＨ＿２−、 ▲数式、化学式、表等があります▼ および ▲数式、化学式、表等があります▼ から選ばれた２価の有機基 を示す。 ）で示される１分子中に２つのキナゾロン環を含むビス
メチロール化合物と、 一般式（II） ＮＣ−Ｒ＿２−ＣＮ （II） （式中Ｒ＿２は−（ＣＨ＿２）＿４−、および▲数式、
化学式、表等があります▼か ら選ばれた２価の有機基を示す。 ）で示されるジニトリル化合物とを反応せしめることを
特徴とするポリアミド樹脂の製造方法。 ２ 酸性溶媒中で反応させることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載のポリアミド樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7944779A JPS6017375B2 (ja) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | ポリアミド樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7944779A JPS6017375B2 (ja) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | ポリアミド樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS562322A JPS562322A (en) | 1981-01-12 |
| JPS6017375B2 true JPS6017375B2 (ja) | 1985-05-02 |
Family
ID=13690128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7944779A Expired JPS6017375B2 (ja) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | ポリアミド樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017375B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07149090A (ja) * | 1993-05-24 | 1995-06-13 | Morningstar Inc | ノートバインダ |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SI2223922T1 (sl) * | 2000-04-25 | 2016-04-29 | Icos Corporation | Inhibitorji humane fosfatidil-inositol 3-kinazne delta izoforme |
| US6667300B2 (en) | 2000-04-25 | 2003-12-23 | Icos Corporation | Inhibitors of human phosphatidylinositol 3-kinase delta |
| DK1761540T3 (en) | 2004-05-13 | 2016-11-21 | Icos Corp | Quinazolinones as inhibitors of human phosphatidylinositol 3-kinase DELTA |
| US9492449B2 (en) | 2008-11-13 | 2016-11-15 | Gilead Calistoga Llc | Therapies for hematologic malignancies |
| BRPI1012333A2 (pt) | 2009-03-24 | 2016-03-29 | Gilead Calistoga Llc | atropisômeros de derivados de 2-purinil-3-tolil-quinazolinonas e métodos de uso |
| ES2548253T3 (es) | 2009-04-20 | 2015-10-15 | Gilead Calistoga Llc | Métodos para el tratamiento de tumores sólidos |
| WO2011011550A1 (en) | 2009-07-21 | 2011-01-27 | Calistoga Pharmaceuticals Inc. | Treatment of liver disorders with pi3k inhibitors |
| KR20140133590A (ko) | 2012-03-05 | 2014-11-19 | 길리아드 칼리스토가 엘엘씨 | (s)-2-(1-(9h-퓨린-6-일아미노)프로필)-5-플루오로-3-페닐퀴나졸린-4(3h)-온의 다형체 형태 |
| NZ736970A (en) | 2013-12-20 | 2018-11-30 | Gilead Calistoga Llc | Process methods for phosphatidylinositol 3-kinase inhibitors |
| AU2014364414A1 (en) | 2013-12-20 | 2016-06-30 | Gilead Calistoga Llc | Polymorphic forms of a hydrochloride salt of (S) -2-(1-(9H-purin-6-ylamino) propyl) -5-fluoro-3-phenylquinazolin-4 (3H) -one |
| CN106459005A (zh) | 2014-06-13 | 2017-02-22 | 吉利德科学公司 | 磷脂酰肌醇3‑激酶抑制剂 |
-
1979
- 1979-06-20 JP JP7944779A patent/JPS6017375B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07149090A (ja) * | 1993-05-24 | 1995-06-13 | Morningstar Inc | ノートバインダ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS562322A (en) | 1981-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6017375B2 (ja) | ポリアミド樹脂の製造方法 | |
| US5493002A (en) | Aryl ethynyl phthalic anhydrides and polymers with terminal or pendant amines prepared with aryl ethynyl phthalic anhydrides | |
| JP5564684B2 (ja) | 芳香族ジアミン及びその製造方法並びに樹脂 | |
| US5130481A (en) | Bis-n,n' nitro or amino benzoyl amino phenols | |
| Jeong et al. | Synthesis and characterization of novel aromatic polyamides from 3, 4‐bis (4‐aminophenyl)‐2, 5‐diphenylpyrrole and aromatic diacid chlorides | |
| US3763211A (en) | Aminophenoxy benzonitriles | |
| Kurita et al. | Polyimides derived from bismethylolimides. I. Polyamide–imides from bismethylolimides and dinitriles | |
| US5270432A (en) | Polybenzoxazole via aromatic nucleophilic displacement | |
| US4973707A (en) | Acetylene bis-phthalic compounds and polyimides made therefrom | |
| JPS6017376B2 (ja) | ポリアミド樹脂の製造方法 | |
| Kondo et al. | Phenazasiline‐containing polyamides and polyesters | |
| Packham et al. | Polymers from aromatic nitriles and amines: Polybenzimidazoles and related polymers | |
| Morikawa | Synthesis and Characterization of Novel Aromatic Polyimides from Aromatic Diamine and 3, 3''', 4, 4'''-p-Quarterphenyltetracarboxylic Dianhydride | |
| JPS58180531A (ja) | 含フツ素ポリイミド、アミド酸並びにそれらの製造方法 | |
| Ueda et al. | Synthesis of Sequential Polyamide by Direct Polycondensation II. | |
| Ueda et al. | Synthesis of polyamides from pseudo dibenzoylphthaloyl chlorides and aliphatic diamines | |
| Pyriadi et al. | Synthesis of phenol formaldehyde-containing pendant itaconamic, itaconimide and poly [N-(substituted) itaconimides] | |
| TWI227251B (en) | Fluoropolyamide and fluoropolyimide and its manufacturing method | |
| Morikawa et al. | Synthesis and characterization of novel aromatic polyimides from aromatic diamine and 3, 3''''', 4, 4'''''-p-sexiphenyltetracarboxylic dianhydride | |
| JPS62256831A (ja) | 芳香族ポリアミド樹脂及びその製造法 | |
| SU1077234A1 (ru) | Бис( @ -метилфталимид-4-окси) перфторарилены в качестве промежуточных продуктов дл получени гидролитически устойчивых полимеров | |
| JPS6153372B2 (ja) | ||
| JP3085610B2 (ja) | ビスマレイミド類の製造方法 | |
| JPS6019746B2 (ja) | ポリイミドの製造法 | |
| KR0134880B1 (ko) | 방향족 디아민화합물과 그의 제조방법 |