JPS60149704A - 回転デイスク構造 - Google Patents
回転デイスク構造Info
- Publication number
- JPS60149704A JPS60149704A JP59003475A JP347584A JPS60149704A JP S60149704 A JPS60149704 A JP S60149704A JP 59003475 A JP59003475 A JP 59003475A JP 347584 A JP347584 A JP 347584A JP S60149704 A JPS60149704 A JP S60149704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- rotating disk
- metal
- water cooling
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はR8T法を実用化する上で不可欠の技術であり
、R8T装置中に組込んで操業の際使用する回転ディス
ク構造に関するものである。
、R8T装置中に組込んで操業の際使用する回転ディス
ク構造に関するものである。
R8T法では回転ディスクを3000rl)m(周速で
400m/S )に高速回転するので非常に精度がよい
事が要求される。さらにディスク上面は融体と接触し約
1600℃に昇温するため、これに耐える耐熱性が要求
される。従来上記のようなきびしい要求に耐えるディス
クはなかった。
400m/S )に高速回転するので非常に精度がよい
事が要求される。さらにディスク上面は融体と接触し約
1600℃に昇温するため、これに耐える耐熱性が要求
される。従来上記のようなきびしい要求に耐えるディス
クはなかった。
本発明の目的は、高性能ディスクを実現し実用に供する
ことにある。
ことにある。
R8T法は第1図に示すように、回転ディスク上に溶融
′金属を落下させる。故にディスクを水冷しても、溶融
金属の熱でほとんどの金属は溶損または合金化してディ
スクとして使用できない。
′金属を落下させる。故にディスクを水冷しても、溶融
金属の熱でほとんどの金属は溶損または合金化してディ
スクとして使用できない。
そこでディスク表面に耐熱性の良いセラミックスを設置
することにより溶損または合金化の害は防止できるが、
一般的なセラミックスは容融金属による熱ショックで割
れることが多く、また溶融金属が耐着して凝固すると、
重両のバランスが失なわれて3000rpmという高速
回転は実現できない。
することにより溶損または合金化の害は防止できるが、
一般的なセラミックスは容融金属による熱ショックで割
れることが多く、また溶融金属が耐着して凝固すると、
重両のバランスが失なわれて3000rpmという高速
回転は実現できない。
故に300Orpmという高速回転全実現するにはまず
セラミックスが研削加工可能で精密仕上げができること
。次いで金属附着物を研削除去できることの2点が必要
である。そして熱ショックで割れない強度を有すること
が必要である。
セラミックスが研削加工可能で精密仕上げができること
。次いで金属附着物を研削除去できることの2点が必要
である。そして熱ショックで割れない強度を有すること
が必要である。
このような諸条件を満足する唯一の拐料として筆者等は
BN材を見出した。そしてこれをディスク上面に固定す
ることを特色とする。一方上記のBN材は研削のたびに
ディスクから取はずすのでディスクに接着したのでは不
便であり、ディスクに機械的に固定されることが望まし
い。これはディスクから着脱を自由にするためである。
BN材を見出した。そしてこれをディスク上面に固定す
ることを特色とする。一方上記のBN材は研削のたびに
ディスクから取はずすのでディスクに接着したのでは不
便であり、ディスクに機械的に固定されることが望まし
い。これはディスクから着脱を自由にするためである。
以下本発明の詳細な説明する。
第1図に示す急冷凝固装置を製作した。そして回転ディ
スクは第2図に示すように水冷構造とし、上部にBN’
(r機械的に固定した。
スクは第2図に示すように水冷構造とし、上部にBN’
(r機械的に固定した。
次いで第1図中の溶解ルツボ中でFe−20%C−15
%CrU’e700g溶解し、1570 ’cに達した
時ロートノズルを通してディスク上に落下させた。この
時ディスクは3000rpmで回転させ*。
%CrU’e700g溶解し、1570 ’cに達した
時ロートノズルを通してディスク上に落下させた。この
時ディスクは3000rpmで回転させ*。
この結果・合金は溶融粉末となって飛散し、上部のヘリ
ウム噴射ノズルから吹出すヘリウムによって急・冷凝固
した。
ウム噴射ノズルから吹出すヘリウムによって急・冷凝固
した。
得られた粉末粒度は第3図に示す通りであり、またディ
スクには何等損うばなかった。得られた粉末の冷却速度
は10”C/Sに達した。
スクには何等損うばなかった。得られた粉末の冷却速度
は10”C/Sに達した。
本発明によれば、急冷凝固粉末を作ることが可能となり
、この技術を用いた粉末によって次世代のフロッピーデ
ィスク材、超電導材、センヂマーロール材を開発するこ
とが可能となる。
、この技術を用いた粉末によって次世代のフロッピーデ
ィスク材、超電導材、センヂマーロール材を開発するこ
とが可能となる。
第1図は急冷凝固装置の全体図、第2図は回転ディスク
構造図、第3図は粉末の粒度分布線図である。 1・・・BN板、4・・・ディスク、5・・・弾性リン
グ、6・・・耐火リング、7・・・回転シャフト、8・
・・水冷パイη1m 桔20 9
構造図、第3図は粉末の粒度分布線図である。 1・・・BN板、4・・・ディスク、5・・・弾性リン
グ、6・・・耐火リング、7・・・回転シャフト、8・
・・水冷パイη1m 桔20 9
Claims (1)
- 1、回転ディスク上に融体を落下させて急冷粉末を作る
装置において5回転ディスクを水冷構造の金属製とし・
ディスクの融体と接触する表面に研削可能なりN材を設
置することを特徴とする回転ディスク構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59003475A JPS60149704A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 回転デイスク構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59003475A JPS60149704A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 回転デイスク構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60149704A true JPS60149704A (ja) | 1985-08-07 |
Family
ID=11558354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59003475A Pending JPS60149704A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | 回転デイスク構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60149704A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01201403A (ja) * | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Agency Of Ind Science & Technol | 遠心噴霧用回転デイスク |
JP2009062573A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | National Institute For Materials Science | 遠心噴霧法に用いる回転ディスクとこれを用いた遠心噴霧法 |
WO2011147630A3 (de) * | 2010-05-26 | 2012-03-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur erzeugung eines granulats aus einer mineralischen schmelze |
-
1984
- 1984-01-13 JP JP59003475A patent/JPS60149704A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01201403A (ja) * | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Agency Of Ind Science & Technol | 遠心噴霧用回転デイスク |
JP2009062573A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | National Institute For Materials Science | 遠心噴霧法に用いる回転ディスクとこれを用いた遠心噴霧法 |
WO2011147630A3 (de) * | 2010-05-26 | 2012-03-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur erzeugung eines granulats aus einer mineralischen schmelze |
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