JPS60144936A - 微動回転駆動装置 - Google Patents
微動回転駆動装置Info
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- JPS60144936A JPS60144936A JP58252148A JP25214883A JPS60144936A JP S60144936 A JPS60144936 A JP S60144936A JP 58252148 A JP58252148 A JP 58252148A JP 25214883 A JP25214883 A JP 25214883A JP S60144936 A JPS60144936 A JP S60144936A
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000008602 contraction Effects 0.000 abstract description 5
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000286173 Raphanus raphanistrum subsp raphanistrum Species 0.000 description 1
- 102100023185 Transcriptional repressor scratch 1 Human genes 0.000 description 1
- 101710171414 Transcriptional repressor scratch 1 Proteins 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、ＩＣ，Ｌ’ＳＩの露光装置のマスク合せ用タ
ーンテーブルや電子顕微鏡、電子ビーム分析器等の試料
載物台、あるいは、工学機器類のミラー、プリズム等の
回転調整部の回転駆動等に使用可能な微動回転駆動装置
に関するものである。
ーンテーブルや電子顕微鏡、電子ビーム分析器等の試料
載物台、あるいは、工学機器類のミラー、プリズム等の
回転調整部の回転駆動等に使用可能な微動回転駆動装置
に関するものである。
（ロ）従来技術
ＩＣやＬＳＩ等の回路パターンは集積度を高めるために
年々微細化傾向を強めており、その露光装置のマスク合
せには、例えば、０．１秒以下の角度精度でターンテー
ブル等を駆動することができる回転駆動装置を用いるこ
とが要求されている。
年々微細化傾向を強めており、その露光装置のマスク合
せには、例えば、０．１秒以下の角度精度でターンテー
ブル等を駆動することができる回転駆動装置を用いるこ
とが要求されている。
従来、微動操作に適した回転駆動装置として、ウオーム
等を用いた歯車減速機や調和減速機等が知られている。
等を用いた歯車減速機や調和減速機等が知られている。
しかしながら、ウオーム等を用いた歯車減速機はバック
ラッシュが大きく、また、当り面の面粗さのため高い位
置決め精度を確保するととができない。一方、調和減速
機は、歯車減速機に比べてより高い精度が期待できるが
、これもパックランシュが皆無ではなく、しがも、剛性
が比較的低いため約ｌＯ秒位の精度を得るのが精一杯で
ある。
ラッシュが大きく、また、当り面の面粗さのため高い位
置決め精度を確保するととができない。一方、調和減速
機は、歯車減速機に比べてより高い精度が期待できるが
、これもパックランシュが皆無ではなく、しがも、剛性
が比較的低いため約ｌＯ秒位の精度を得るのが精一杯で
ある。
そのため、近時、第１図および第２図に示すような微動
回転駆動装置が開発されている。すなわち、このものは
、対をなす半円板ａ、ｂを弾性ヒンジＣを介して連結す
るとともに、これら両半円板の対向隙間の両端部に圧電
素子ｄ、ｅを介設してなる回転体ｆをベースｇ上に回転
可能に設けている。そして、図示しない圧電素子の伸縮
動作を利用して前記半円板ａ、ｂを前記ベースｇに画定
するためのブレーキｈ、ｉを設けている。しかして、こ
の装置の作動は、まず、第１のブレーキｈだけを作動（
作動中のブレーキを実線で示す）させて第１の半円板ａ
をベースｇに固定する（Ｍ２図ａ）。しかる後、第１の
圧電素子ｄを伸長させるとともに第２の圧電素子ｅ縮小
させて第２の半円板すを微小角度回動させ（第２図ｂ）
、その状態で第２のブレーキｉをも作動させて該第２半
円板すを前記ベースｇに固定する（第２図Ｃ）。次いで
、第１のブレーキｈを解除して＄１の半円板ａを開放し
く第２図ｄ）、その状態で前記両圧電索子ｄ、ｅを元の
長さに復帰させることによって第１の半円板ａを第２の
半円板すと同一角度だけ回動させる（第２図ｅ）。次に
、第１ブレーキｈを作動させて両半円板ａ、ｂを固定し
、しかる後にｆｉＴＪ２ブレーキｉを解除して前述した
第２図ａの状態に戻る。そして、このサイクルを繰り返
すことによって前記回転体ｆを前記圧電素子ｄ、ｅの伸
縮量に対応する微小角度づつ図中反時計回り方向に微動
回転させることができる。また、前記圧電素子ｄ、ｅの
伸縮を逆にすれば前記回転体ｆを図中時計回り方向に回
転させることができる。
回転駆動装置が開発されている。すなわち、このものは
、対をなす半円板ａ、ｂを弾性ヒンジＣを介して連結す
るとともに、これら両半円板の対向隙間の両端部に圧電
素子ｄ、ｅを介設してなる回転体ｆをベースｇ上に回転
可能に設けている。そして、図示しない圧電素子の伸縮
動作を利用して前記半円板ａ、ｂを前記ベースｇに画定
するためのブレーキｈ、ｉを設けている。しかして、こ
の装置の作動は、まず、第１のブレーキｈだけを作動（
作動中のブレーキを実線で示す）させて第１の半円板ａ
をベースｇに固定する（Ｍ２図ａ）。しかる後、第１の
圧電素子ｄを伸長させるとともに第２の圧電素子ｅ縮小
させて第２の半円板すを微小角度回動させ（第２図ｂ）
、その状態で第２のブレーキｉをも作動させて該第２半
円板すを前記ベースｇに固定する（第２図Ｃ）。次いで
、第１のブレーキｈを解除して＄１の半円板ａを開放し
く第２図ｄ）、その状態で前記両圧電索子ｄ、ｅを元の
長さに復帰させることによって第１の半円板ａを第２の
半円板すと同一角度だけ回動させる（第２図ｅ）。次に
、第１ブレーキｈを作動させて両半円板ａ、ｂを固定し
、しかる後にｆｉＴＪ２ブレーキｉを解除して前述した
第２図ａの状態に戻る。そして、このサイクルを繰り返
すことによって前記回転体ｆを前記圧電素子ｄ、ｅの伸
縮量に対応する微小角度づつ図中反時計回り方向に微動
回転させることができる。また、前記圧電素子ｄ、ｅの
伸縮を逆にすれば前記回転体ｆを図中時計回り方向に回
転させることができる。
しかして、このようなものであれば、例えば、圧電素子
で直接回転体を回転付勢する場合に比べて大きなストロ
ークを得ることがでＳるが、それにも一定の限界がある
。すなわち、このものは、回転体ｆに圧電素子ｄ、ｅが
組み込まれているため、ベースｇから前記回転体ｆへの
リード線の引きまわしが不可欠であり、該回転体ｆにエ
ンドレスの回転を行なわせることはできない。また、か
かる構造のものは、半円板付勢用と、ブレーキ用とを合
せると計４種類の圧電素子が必要であり、しかも、これ
らをそれぞれ異なったタイミングで作動させなければな
らない。そのため、構造が煩雑化するだけでなく、前記
圧電素子への通電制御用の回路が複雑となり装置の高価
格化を免れない。
で直接回転体を回転付勢する場合に比べて大きなストロ
ークを得ることがでＳるが、それにも一定の限界がある
。すなわち、このものは、回転体ｆに圧電素子ｄ、ｅが
組み込まれているため、ベースｇから前記回転体ｆへの
リード線の引きまわしが不可欠であり、該回転体ｆにエ
ンドレスの回転を行なわせることはできない。また、か
かる構造のものは、半円板付勢用と、ブレーキ用とを合
せると計４種類の圧電素子が必要であり、しかも、これ
らをそれぞれ異なったタイミングで作動させなければな
らない。そのため、構造が煩雑化するだけでなく、前記
圧電素子への通電制御用の回路が複雑となり装置の高価
格化を免れない。
（ハ）目的
本発明は、このような事情に着目してなされたもので、
筒車な構造のもので高い精度の微動回転駆動が可能であ
る」−にエンドレスの回転も行なわせることができ、し
かも、発熱やカス放出が極小であるため種々の分野で広
く利用することができる微動回転駆動装置を提供するこ
とを目的とする。
筒車な構造のもので高い精度の微動回転駆動が可能であ
る」−にエンドレスの回転も行なわせることができ、し
かも、発熱やカス放出が極小であるため種々の分野で広
く利用することができる微動回転駆動装置を提供するこ
とを目的とする。
（ニ）構成
本発明は、かかる目的を達成するために、軸心回り１こ
回転可能な回転円盤と、添接面をこの回転円盤の外周面
に接触させて設けた第１の電歪アクチュエータと、この
電歪アクチュエータを前記添接面が前記回転円板の外周
面に添接しつつ傾動し得るように支持する遊動支点と、
前記電歪アクチュエータの添接面を前記回転円板の外周
面に押し伺ける弾性偏倚手段と、前記第１の電歪アクチ
ュエータを傾動させて前記添接面と前記外周面との接触
位置を円周方向に移動させる第２の電歪アクチュエータ
とを具備してなるものにし、この第２の電歪アクチュエ
ータの作動により前記接触位置を第１ポイントから第２
ポイントへ移行させた後に前記第１の電歪アクチュエー
タを伸長または短縮させるとともに前記接触位置を前記
＄２ポイントから前記第１ポイントに復帰させた後に前
記第１の電歪アクチュエータを元の長さに戻し得るよう
に構成したことを特徴とする特 （ホ）実施例 以下１本発明の一実施例を第３図〜第９図を参照して説
明する。
回転可能な回転円盤と、添接面をこの回転円盤の外周面
に接触させて設けた第１の電歪アクチュエータと、この
電歪アクチュエータを前記添接面が前記回転円板の外周
面に添接しつつ傾動し得るように支持する遊動支点と、
前記電歪アクチュエータの添接面を前記回転円板の外周
面に押し伺ける弾性偏倚手段と、前記第１の電歪アクチ
ュエータを傾動させて前記添接面と前記外周面との接触
位置を円周方向に移動させる第２の電歪アクチュエータ
とを具備してなるものにし、この第２の電歪アクチュエ
ータの作動により前記接触位置を第１ポイントから第２
ポイントへ移行させた後に前記第１の電歪アクチュエー
タを伸長または短縮させるとともに前記接触位置を前記
＄２ポイントから前記第１ポイントに復帰させた後に前
記第１の電歪アクチュエータを元の長さに戻し得るよう
に構成したことを特徴とする特 （ホ）実施例 以下１本発明の一実施例を第３図〜第９図を参照して説
明する。
第３図、第４１ズに示すように、一回転円盤たるターン
テーブルｌをベース２」二に回転可能に配設している。
テーブルｌをベース２」二に回転可能に配設している。
ターンテーブル１は、外周面１ａを精度良く加工した厚
肉円板状のもので、その軸心部に設けた軸部１ｂを軸受
３を介して前記ベース２に支持させている。軸受３とし
ては、磁気軸受や静圧軸受等のようにがたつきのないも
のが好ましい。そして、このターンテーブル１の外周面
１ａに第１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａを接触
させている。この第１の電歪アクチュエータ４は、第５
図、第６１Δに示すように、両端にフランジ部５．６を
有した角柱状のケース７内に複数の′１ｆ、歪素子８を
積層収容するとともに、該ケース７の端壁に調整ネジ９
を螺装し、この調整ネジ９と前記電歪素子８との間にス
ペーサ１１を介在させたものである。そして、この第１
の電歪アクチュエータ４は、前記調整ネジ９を所要のト
ルクで締付けて前記電歪素子８にやや歪を与えた状態に
組立てられており、前記電歪素子８に電圧を印加すると
Ａ−Ａ’間の寸法りが数ミクロン伸び縮みするようにな
っている。そして、この第１の電歪アクチュエータ４を
遊動支点１２により、その添接面４ａが前記ターンテー
ブル１の外周面１ａに添接しつつ傾動し得るように支持
している。具体的には、遊動支点１２は、前記第１の電
歪アクチュエータ４の一方のフランジ部５に固着したＬ
形の取付具１３と、前記ベース２に固設したフレーム１
４のサポート部１５とを板バネ１６により連結してなる
ものである。また、この第１の゛電歪アクチュエータ４
をりｉ性偏倚手段１７によりターンテーブル１方向に付
勢してその添接面４ａを該ターンテーブル１の外周面１
ａに押し付けるようにしている。具体的には、弾性偏倚
手段１７は、前記第１の電歪アクチュエータ４の他端フ
ランジ部６に固着したＬ形の取付具１８と、前記フレー
ム１４との間に圧縮コイルバネ１９を介在させたもので
ある。なお、前記取付具１８の先端には、Ｍ放しバー２
１が一体に形成されており、この解放レバー２１を手動
または電動あるいは流体圧駆動などで前記バネ１９に抗
する方向（矢印Ｘ方向）に操作することによって、前記
第１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａを前記ターン
テーブルｌの外周面１ａから離間させることができるよ
うになっている。また、前記第１の電歪アクチュエータ
４を第２の電歪アクチュエータ２２により傾動させて、
前記添接面４ａとの接触位置を円周方向に移動させるよ
うにしている。具体的に説明すれば、第２の電歪アクチ
ュエータ２２は、前述した第１の°電歪アクチュエータ
４と同様な内部構造をなしている。そして、この第２の
電歪アクチュエータ２２は、その一方のフランジ部２３
を前記取付具１３に固着するとともに他方のフランジ部
２４を前記フレーム１４のマウント部２５に固着した状
態で、前記第１の電歪アクチュエータ４に対して直交配
置されている。
肉円板状のもので、その軸心部に設けた軸部１ｂを軸受
３を介して前記ベース２に支持させている。軸受３とし
ては、磁気軸受や静圧軸受等のようにがたつきのないも
のが好ましい。そして、このターンテーブル１の外周面
１ａに第１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａを接触
させている。この第１の電歪アクチュエータ４は、第５
図、第６１Δに示すように、両端にフランジ部５．６を
有した角柱状のケース７内に複数の′１ｆ、歪素子８を
積層収容するとともに、該ケース７の端壁に調整ネジ９
を螺装し、この調整ネジ９と前記電歪素子８との間にス
ペーサ１１を介在させたものである。そして、この第１
の電歪アクチュエータ４は、前記調整ネジ９を所要のト
ルクで締付けて前記電歪素子８にやや歪を与えた状態に
組立てられており、前記電歪素子８に電圧を印加すると
Ａ−Ａ’間の寸法りが数ミクロン伸び縮みするようにな
っている。そして、この第１の電歪アクチュエータ４を
遊動支点１２により、その添接面４ａが前記ターンテー
ブル１の外周面１ａに添接しつつ傾動し得るように支持
している。具体的には、遊動支点１２は、前記第１の電
歪アクチュエータ４の一方のフランジ部５に固着したＬ
形の取付具１３と、前記ベース２に固設したフレーム１
４のサポート部１５とを板バネ１６により連結してなる
ものである。また、この第１の゛電歪アクチュエータ４
をりｉ性偏倚手段１７によりターンテーブル１方向に付
勢してその添接面４ａを該ターンテーブル１の外周面１
ａに押し付けるようにしている。具体的には、弾性偏倚
手段１７は、前記第１の電歪アクチュエータ４の他端フ
ランジ部６に固着したＬ形の取付具１８と、前記フレー
ム１４との間に圧縮コイルバネ１９を介在させたもので
ある。なお、前記取付具１８の先端には、Ｍ放しバー２
１が一体に形成されており、この解放レバー２１を手動
または電動あるいは流体圧駆動などで前記バネ１９に抗
する方向（矢印Ｘ方向）に操作することによって、前記
第１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａを前記ターン
テーブルｌの外周面１ａから離間させることができるよ
うになっている。また、前記第１の電歪アクチュエータ
４を第２の電歪アクチュエータ２２により傾動させて、
前記添接面４ａとの接触位置を円周方向に移動させるよ
うにしている。具体的に説明すれば、第２の電歪アクチ
ュエータ２２は、前述した第１の°電歪アクチュエータ
４と同様な内部構造をなしている。そして、この第２の
電歪アクチュエータ２２は、その一方のフランジ部２３
を前記取付具１３に固着するとともに他方のフランジ部
２４を前記フレーム１４のマウント部２５に固着した状
態で、前記第１の電歪アクチュエータ４に対して直交配
置されている。
次いで、この実施例の作動を説明する。
まず、両方の電歪アクチュエータ４．２２に電圧を印加
しない状態では、第１の電歪アクチュエータ４の添接面
４ａとターンテーブルｌの外周面１ａとは第３図および
第７図ａに示すように第１ポイントＰ１において接して
いる（第８図のｔｏ参照）。換言すれば、第１の電歪ア
クチュエータ４の第１接触部２６とターンテーブルｌの
第１接点部２７とが接している。この状態から第２の電
歪アクチュエータ２２に電圧を印加して該第２の電歪ア
クチュエータ２２を伸長させると、第３図（想像線）お
よび第７図（ｂ）に誇張して示すように、前記第１の電
歪アクチュエータ４が図中時計回り方向に傾動し、該第
１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａとターンテーブ
ル１の外周面１ａとの接触位置が第２ポイントＰ２へ移
動する。換言すれは、第１の電歪アクチュエータ４の第
２接触部２８とターンテーブル１の第２接点部２９とが
接することになる。そして、第２の電歪アクチュエータ
２２が伸びきって第１の電歪アクチュエータ４の傾動角
度が最大になった後（第８１４のｔ１参照）に、第７図
Ｃに示すように第１の電歪アクチュエータ４に電圧を加
え該第１の電歪アクチュエータ４を伸長させる。これに
よって、この第１の電歪アクチュエータ４の第１接触部
２６と第２接触部２８との距離がｄからｄ＋Δｄに変化
する。ここで、Δｄは数ミクロンである。このように１
７で第１の電歪アクチュエータ４が充分伸びきった後（
第８図のｔ２参照）、第２の電歪アクチュエータ２２へ
の電圧印加を停止する。その結果、第７図（ｄ）に示す
ように、第１の電歪アクチュエータ４が先はどとは逆方
向に傾動して元の姿勢に戻ることになり、該第１の電歪
アクチュエータ４の添接面４ａとターンテーブル１の外
周面との接触位置が第２ポイントＰ２から第１ポイント
Ｐｌへ復帰する。ところが、この第１の電歪アクチュエ
ータ４は前述のように伸長した状態にあるので、前記第
１接触部２６がターンテーブルｌの第１接点部２７に接
触するのではなく、この第１接触部２６よりも△ｄだけ
図中右側にある第３接触部３１が前記第１接点部２７に
接触することになる。このようにして、第２の電歪アク
チュエータ２２が充分復帰した時（第８図のｔ３参照）
に第１の電歪アクチュエータ４への電圧の印加を停止す
る。そうすると、第７図（ｅ）に示すように−、この第
１の電歪アクチュエータ４が元の長さにまで縮小するこ
とになり、この際に前記ターンテーブルエがΔｄに相当
する分だけ図中時計回り方向に回転させられる。すなわ
ち、第１接触部２６と第２接触部２８との距離がｄ＋△
ｄからｄに縮むことになり、この時、前記ターンテーブ
ル１の外周が数ミクロン右回転してｌサイクルを完了す
る。以−１二の操作を繰り返すことによってターンテー
ブル１はエンドレスに回転する。この際の１パルス当り
の回転角は、第１の電歪アクチュエータ４に印加する電
圧を加減することにより０〜数秒の範囲で調整できる。
しない状態では、第１の電歪アクチュエータ４の添接面
４ａとターンテーブルｌの外周面１ａとは第３図および
第７図ａに示すように第１ポイントＰ１において接して
いる（第８図のｔｏ参照）。換言すれば、第１の電歪ア
クチュエータ４の第１接触部２６とターンテーブルｌの
第１接点部２７とが接している。この状態から第２の電
歪アクチュエータ２２に電圧を印加して該第２の電歪ア
クチュエータ２２を伸長させると、第３図（想像線）お
よび第７図（ｂ）に誇張して示すように、前記第１の電
歪アクチュエータ４が図中時計回り方向に傾動し、該第
１の電歪アクチュエータ４の添接面４ａとターンテーブ
ル１の外周面１ａとの接触位置が第２ポイントＰ２へ移
動する。換言すれは、第１の電歪アクチュエータ４の第
２接触部２８とターンテーブル１の第２接点部２９とが
接することになる。そして、第２の電歪アクチュエータ
２２が伸びきって第１の電歪アクチュエータ４の傾動角
度が最大になった後（第８１４のｔ１参照）に、第７図
Ｃに示すように第１の電歪アクチュエータ４に電圧を加
え該第１の電歪アクチュエータ４を伸長させる。これに
よって、この第１の電歪アクチュエータ４の第１接触部
２６と第２接触部２８との距離がｄからｄ＋Δｄに変化
する。ここで、Δｄは数ミクロンである。このように１
７で第１の電歪アクチュエータ４が充分伸びきった後（
第８図のｔ２参照）、第２の電歪アクチュエータ２２へ
の電圧印加を停止する。その結果、第７図（ｄ）に示す
ように、第１の電歪アクチュエータ４が先はどとは逆方
向に傾動して元の姿勢に戻ることになり、該第１の電歪
アクチュエータ４の添接面４ａとターンテーブル１の外
周面との接触位置が第２ポイントＰ２から第１ポイント
Ｐｌへ復帰する。ところが、この第１の電歪アクチュエ
ータ４は前述のように伸長した状態にあるので、前記第
１接触部２６がターンテーブルｌの第１接点部２７に接
触するのではなく、この第１接触部２６よりも△ｄだけ
図中右側にある第３接触部３１が前記第１接点部２７に
接触することになる。このようにして、第２の電歪アク
チュエータ２２が充分復帰した時（第８図のｔ３参照）
に第１の電歪アクチュエータ４への電圧の印加を停止す
る。そうすると、第７図（ｅ）に示すように−、この第
１の電歪アクチュエータ４が元の長さにまで縮小するこ
とになり、この際に前記ターンテーブルエがΔｄに相当
する分だけ図中時計回り方向に回転させられる。すなわ
ち、第１接触部２６と第２接触部２８との距離がｄ＋△
ｄからｄに縮むことになり、この時、前記ターンテーブ
ル１の外周が数ミクロン右回転してｌサイクルを完了す
る。以−１二の操作を繰り返すことによってターンテー
ブル１はエンドレスに回転する。この際の１パルス当り
の回転角は、第１の電歪アクチュエータ４に印加する電
圧を加減することにより０〜数秒の範囲で調整できる。
回転方向を逆にしたい場合は、第１の電歪アクチュエー
タ４と第２の電歪アクチュエータ２２に加える電圧のタ
イミングを第９図の如く逆にするか第１の電歪アクチュ
エータ４に加える電圧の極性を逆にすればよい。
タ４と第２の電歪アクチュエータ２２に加える電圧のタ
イミングを第９図の如く逆にするか第１の電歪アクチュ
エータ４に加える電圧の極性を逆にすればよい。
なお、回転円盤は、ターンテーブルに限らず、例えば、
ターンテーブルと同軸に設けた駆動専用の円盤であって
もよい。また、その用途は、露光装置用のものに限らず
、電子顕微鏡や電子ビーム分析器等の試料載物台用のも
のや、光学機器等のミラー′、プリズム等を回転調整す
る部分に使用するもの等であってもよい。
ターンテーブルと同軸に設けた駆動専用の円盤であって
もよい。また、その用途は、露光装置用のものに限らず
、電子顕微鏡や電子ビーム分析器等の試料載物台用のも
のや、光学機器等のミラー′、プリズム等を回転調整す
る部分に使用するもの等であってもよい。
また、弾性偏倚手段もバネを用いたものに限らず、例え
ば、ゴムまたは流体圧等を用いたものであってもよい。
ば、ゴムまたは流体圧等を用いたものであってもよい。
さらに、前記実施例では、回転円盤の片側に電歪アクチ
ュエータを添接させた場合について説明したが、本発明
は、必ずしもこのようなものに限られるわけではなく１
回転円盤の両側に電歪アクチュエータを添接させるよう
にしてもよい。
ュエータを添接させた場合について説明したが、本発明
は、必ずしもこのようなものに限られるわけではなく１
回転円盤の両側に電歪アクチュエータを添接させるよう
にしてもよい。
また、１パルス当りの回転角は、前記のように第１の電
歪アクチュエータへの印加電圧のみを変えることにより
調整してもよいが、第１．第２の電歪アクチュエータに
加える電圧を共に変化させることによって調整するよう
にしてもよい。
歪アクチュエータへの印加電圧のみを変えることにより
調整してもよいが、第１．第２の電歪アクチュエータに
加える電圧を共に変化させることによって調整するよう
にしてもよい。
（へ）効果
本発明は、以上のような構成であるから、次のような効
果が得られる。
果が得られる。
まず、回転円盤の外周面に第１の電歪アクチュエータを
常時添接させておき、この第１の電歪アクチュエータを
第２の電歪アクチュエータにより傾動させながら伸縮さ
せることによって前記回転円盤を微動回転させるように
しているので、／＼ツクラシ１がなく、電歪素子の精密
な伸縮制御によって精度の高い微動回転駆動が可能であ
る。したがって、１パルス当り０．１秒程度の角度精度
で駆動することも容易であり、さらに、前記回転円盤の
外径を太きイすることによって０．１秒以下の分解能を
得ることもできる。
常時添接させておき、この第１の電歪アクチュエータを
第２の電歪アクチュエータにより傾動させながら伸縮さ
せることによって前記回転円盤を微動回転させるように
しているので、／＼ツクラシ１がなく、電歪素子の精密
な伸縮制御によって精度の高い微動回転駆動が可能であ
る。したがって、１パルス当り０．１秒程度の角度精度
で駆動することも容易であり、さらに、前記回転円盤の
外径を太きイすることによって０．１秒以下の分解能を
得ることもできる。
また、２種類の電歪アクチュエータのみを用いて回転円
盤を駆動するようにしているので、構造か簡単である上
に、制御も容易であり、安価な装置を提供できるもので
ある。
盤を駆動するようにしているので、構造か簡単である上
に、制御も容易であり、安価な装置を提供できるもので
ある。
しかも、回転円盤側には、電歪素子を設けることがない
ため、該回転円盤とベースとの間にり−ド線を架設する
必要がない。そのため、エンドレス回転が可能である。
ため、該回転円盤とベースとの間にり−ド線を架設する
必要がない。そのため、エンドレス回転が可能である。
また、°電歪アクチュエータは放出ガスが少ないので真
空中にも設置できるため、駆動軸の真空シール等が不要
である。したがって、温度上昇がないことと相まって、
雰囲気を悪化させることのない優れた回転駆動装置を提
供できるものである。
空中にも設置できるため、駆動軸の真空シール等が不要
である。したがって、温度上昇がないことと相まって、
雰囲気を悪化させることのない優れた回転駆動装置を提
供できるものである。
さらに、このようなものであれば、畦圧制御とは無関係
に手動等によりブレーキを解除することができるので、
操作性も向上させることができる。
に手動等によりブレーキを解除することができるので、
操作性も向上させることができる。
第１図は従来例を示す概略平面図、第２図（ａ） 、
（ｂ） 、 （ｃ） 、 （ｄ） 、 （ｅ） 、 （
ｆ）は、同従来例の作用説明図である。第３図〜第９図
は本発明の一実施例を示し、第３図は要部を示す平１ａ
ｉ図、第４図は第３図におけるｒＶ−ＴＶ線断面図、第
５図は電歪アクチュエータを示す正断面図、第６図は同
側面図、第７ ［ｆｆ１（ａ） 、 （ｂ） 、 （ｃ
） 、 （ｄ） 、 （ｅ）は作用説明図、第８図、第
９図は制御電圧の印加タイミングを示す図である。 １・・・回転円盤（ターンテーブル） １ａ・・・外周面 ２・・・ペース ４・１１４第１の電歪アクチュエータ ４ａ・・・添接面 ８・・・電歪素子 １２・・・遊動支点 １７・・・弾性偏倚手段 ２２礫・Φ第２の電歪アクチュエータ Ｐ１・・・第１ポイント Ｐ２−＠−第２ポイン１ 代理人 弁理士 赤澤−博 第７図 第８図
（ｂ） 、 （ｃ） 、 （ｄ） 、 （ｅ） 、 （
ｆ）は、同従来例の作用説明図である。第３図〜第９図
は本発明の一実施例を示し、第３図は要部を示す平１ａ
ｉ図、第４図は第３図におけるｒＶ−ＴＶ線断面図、第
５図は電歪アクチュエータを示す正断面図、第６図は同
側面図、第７ ［ｆｆ１（ａ） 、 （ｂ） 、 （ｃ
） 、 （ｄ） 、 （ｅ）は作用説明図、第８図、第
９図は制御電圧の印加タイミングを示す図である。 １・・・回転円盤（ターンテーブル） １ａ・・・外周面 ２・・・ペース ４・１１４第１の電歪アクチュエータ ４ａ・・・添接面 ８・・・電歪素子 １２・・・遊動支点 １７・・・弾性偏倚手段 ２２礫・Φ第２の電歪アクチュエータ Ｐ１・・・第１ポイント Ｐ２−＠−第２ポイン１ 代理人 弁理士 赤澤−博 第７図 第８図
Claims (1)
- 軸心回りに回転可能な回転円盤と、添接面をこの回転円
板の外周面に接触させて設けられ電歪素子の変形を利用
して前記添接面を該回転円板の接線方向に伸縮させ得る
ように構成した第１の電歪アクチュエータと、この電歪
アクチュエータを前記添接面が前記回転円盤の外周面に
添接しつつ傾動し得るように支持する遊動支点と、前記
電歪アクチュエータの添接面を前記回転円板の外周面に
押し付ける弾性偏倚手段と、前記第１の電歪アクチュエ
ータを傾動させて前記添接面と前記外周面との接触位置
を円周方向に移動させる第２の電歪アクチュエータとを
具備してなり、この第２の電歪アクチュエータの作動に
より前記接触位置を第１ポイントから第２ポイントへ移
行させた糧に前記第１の電歪アクチュエータを伸長また
は短縮させるとともに前記接触位置を前記第２ポイント
から前記第１ポイントに復帰させた僕に前記第１の電歪
アクチュエータを元の長さに戻し得るように構成したこ
とを特徴とする微動回転駆動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58252148A JPH063788B2 (ja) | 1983-12-30 | 1983-12-30 | 微動回転駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58252148A JPH063788B2 (ja) | 1983-12-30 | 1983-12-30 | 微動回転駆動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60144936A true JPS60144936A (ja) | 1985-07-31 |
| JPH063788B2 JPH063788B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=17233144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58252148A Expired - Lifetime JPH063788B2 (ja) | 1983-12-30 | 1983-12-30 | 微動回転駆動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063788B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58139681A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-19 | Toshiba Corp | 回転微動機構 |
| JPS58190079A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-05 | Toshiba Corp | 微動機構 |
| JPS58190080A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-05 | Toshiba Corp | 回転微動機構 |
-
1983
- 1983-12-30 JP JP58252148A patent/JPH063788B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58139681A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-19 | Toshiba Corp | 回転微動機構 |
| JPS58190079A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-05 | Toshiba Corp | 微動機構 |
| JPS58190080A (ja) * | 1982-04-28 | 1983-11-05 | Toshiba Corp | 回転微動機構 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH063788B2 (ja) | 1994-01-12 |
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