JPS6013739U - ウエハ保持装置 - Google Patents
ウエハ保持装置Info
- Publication number
- JPS6013739U JPS6013739U JP10484883U JP10484883U JPS6013739U JP S6013739 U JPS6013739 U JP S6013739U JP 10484883 U JP10484883 U JP 10484883U JP 10484883 U JP10484883 U JP 10484883U JP S6013739 U JPS6013739 U JP S6013739U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- holding device
- wafer holding
- processing table
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来例を示す側断面図、第2図は本考案の一実
施例であるウェハ基板を示す平面図、第3図は第2図中
■−■線に沿って示す側断面図である。 11・・・・・・基板本体、A・・・・・・ウェハ、4
・・・・・・基準面、13・・・・・・基準ピン。
施例であるウェハ基板を示す平面図、第3図は第2図中
■−■線に沿って示す側断面図である。 11・・・・・・基板本体、A・・・・・・ウェハ、4
・・・・・・基準面、13・・・・・・基準ピン。
Claims (2)
- (1)ウェハを載置し、前記ウェハが加工台の基準面に
合致するように保持される基板本体を備えたものにおい
て、前記基板本体に複数個の基準ピンを前記ウェハの厚
さ寸法に対応して突設し、これら基準ピンを前記加工台
の基準面に当接させて位置決めすることを特徴とするウ
ェハ基板。 - (2)基準ピンの突出量は調整可能であることを特徴と
する実用新案登録請求の範囲第1項記載のウェハ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10484883U JPS6013739U (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | ウエハ保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10484883U JPS6013739U (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | ウエハ保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6013739U true JPS6013739U (ja) | 1985-01-30 |
JPS6322673Y2 JPS6322673Y2 (ja) | 1988-06-22 |
Family
ID=30246017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10484883U Granted JPS6013739U (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | ウエハ保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6013739U (ja) |
-
1983
- 1983-07-06 JP JP10484883U patent/JPS6013739U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6322673Y2 (ja) | 1988-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6013739U (ja) | ウエハ保持装置 | |
JPS6056461U (ja) | 研磨治具 | |
JPS5983029U (ja) | 半導体基板 | |
JPS6052656U (ja) | 回路基板 | |
JPS5978523U (ja) | 磁気ヘツド用保持装置 | |
JPS6135747U (ja) | ウエハ−保持用ピンセツト | |
JPS59104487U (ja) | ソケツト | |
JPS59180424U (ja) | 半導体基板用治具 | |
JPS59159942U (ja) | スピンナ−装置 | |
JPS60178575U (ja) | ピンセツト | |
JPS63139638U (ja) | ||
JPS6092153U (ja) | イオンエツチング用サンプルホルダ | |
JPS6042738U (ja) | 半導体ペレツトの位置決めクランプ装置 | |
JPS5818388U (ja) | 配線基板保持装置 | |
JPS59107192U (ja) | 回路ブロツクの放熱構造 | |
JPS6097257U (ja) | ピンセツト | |
JPS58138676U (ja) | 伝票ホルダ− | |
JPS5837138U (ja) | 半導体素子用キヤリアラツク | |
JPS6061887U (ja) | 小型スピ−カ− | |
JPS58475U (ja) | 基板位置決め用キヤリア | |
JPS5984834U (ja) | 半導体基板 | |
JPS59192834U (ja) | 基板保持構造 | |
JPS59164238U (ja) | 混成集積回路装置 | |
JPS596834U (ja) | シリコンウエハ | |
JPS6036162U (ja) | 部品押え付けピンセット |