JPS6013739U - ウエハ保持装置 - Google Patents

ウエハ保持装置

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JPS6013739U
JPS6013739U JP10484883U JP10484883U JPS6013739U JP S6013739 U JPS6013739 U JP S6013739U JP 10484883 U JP10484883 U JP 10484883U JP 10484883 U JP10484883 U JP 10484883U JP S6013739 U JPS6013739 U JP S6013739U
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JP
Japan
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wafer
holding device
wafer holding
processing table
substrate
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JP10484883U
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鈴木 美雄
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東芝機械株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示す側断面図、第2図は本考案の一実
施例であるウェハ基板を示す平面図、第3図は第2図中
■−■線に沿って示す側断面図である。 11・・・・・・基板本体、A・・・・・・ウェハ、4
・・・・・・基準面、13・・・・・・基準ピン。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)ウェハを載置し、前記ウェハが加工台の基準面に
    合致するように保持される基板本体を備えたものにおい
    て、前記基板本体に複数個の基準ピンを前記ウェハの厚
    さ寸法に対応して突設し、これら基準ピンを前記加工台
    の基準面に当接させて位置決めすることを特徴とするウ
    ェハ基板。
  2. (2)基準ピンの突出量は調整可能であることを特徴と
    する実用新案登録請求の範囲第1項記載のウェハ基板。
JP10484883U 1983-07-06 1983-07-06 ウエハ保持装置 Granted JPS6013739U (ja)

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JP10484883U JPS6013739U (ja) 1983-07-06 1983-07-06 ウエハ保持装置

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JP10484883U JPS6013739U (ja) 1983-07-06 1983-07-06 ウエハ保持装置

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JPS6013739U true JPS6013739U (ja) 1985-01-30
JPS6322673Y2 JPS6322673Y2 (ja) 1988-06-22

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JPS6322673Y2 (ja) 1988-06-22

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