JPS60132304A - 低温槽 - Google Patents
低温槽Info
- Publication number
- JPS60132304A JPS60132304A JP59192746A JP19274684A JPS60132304A JP S60132304 A JPS60132304 A JP S60132304A JP 59192746 A JP59192746 A JP 59192746A JP 19274684 A JP19274684 A JP 19274684A JP S60132304 A JPS60132304 A JP S60132304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- cryostat
- inner container
- low
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
- F17C13/08—Mounting arrangements for vessels
- F17C13/086—Mounting arrangements for vessels for Dewar vessels or cryostats
- F17C13/087—Mounting arrangements for vessels for Dewar vessels or cryostats used for superconducting phenomena
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2203/00—Vessel construction, in particular walls or details thereof
- F17C2203/01—Reinforcing or suspension means
- F17C2203/014—Suspension means
- F17C2203/016—Cords
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2203/00—Vessel construction, in particular walls or details thereof
- F17C2203/06—Materials for walls or layers thereof; Properties or structures of walls or their materials
- F17C2203/068—Special properties of materials for vessel walls
- F17C2203/0687—Special properties of materials for vessel walls superconducting
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2270/00—Applications
- F17C2270/05—Applications for industrial use
- F17C2270/0527—Superconductors
- F17C2270/0536—Magnetic resonance imaging
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S285/00—Pipe joints or couplings
- Y10S285/904—Cryogenic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/825—Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
- Y10S505/888—Refrigeration
- Y10S505/898—Cryogenic envelope
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の青用
この発明は低d、A槽の(1“4)青、12iに該(6
気J(唱(NMR)作像装置に用いることが出来、il
D Uに/又は液体ヘリウムの様な流イホによっ′(冷
)、IIされる超導゛市コイルを収容する低1:n’+
槽の+77、 ilgに関づる。
気J(唱(NMR)作像装置に用いることが出来、il
D Uに/又は液体ヘリウムの様な流イホによっ′(冷
)、IIされる超導゛市コイルを収容する低1:n’+
槽の+77、 ilgに関づる。
NMR作像装置こ目[jの従来の低湿(1!iは、輸送
の際、磁6並びに内部の部品を保護づる−11も袖強克
持体を挿入J−る為に、低温槽の白字を切る必要がある
のが!It!型的である。従って、この様な超導電磁石
1の輸送は、一時支楯体を取外J為に(,4)イ1を分
解した後、内部の真空状態を山び設定りることを必′!
りとりることか判る3、これはIII′1間のか)る(
71: ′6である1、従来の低)部槽の設fit−C
は、絹\γ(及び分解をし易くりる為に、人g′イーi
弾1)1体、1qシを使うのが曹通で゛ある。史に、他
の低1#+i槽の説、:口よ、j喝1vl +’<勾配
コイルをf」勢した時の渦電流による(愚弄の歪みを防
止する為に、低4□1槽の中孔に、IIH金属の管壁を
用いている。こういう勾配コイルは磁石集成体の中孔の
中に配置J−るのが典型的である。然し、弾性体14じ
も非金属の中孔管もガスを透過させ、何れの段目でも、
装置の長!11J的な運転の問、内部の真空状態が汚染
される結果になる。従って、低;部槽の費用のか・る定
期的なポンプ動作が必要になる。更に、運転を全面的に
停止して、超j!ブ電性がもはやなくなる周囲渇磨まで
、超導電巻線を温めることが定till的に必要になる
。従って、輸送の為だl:J ’−Cなく、長期的な運
転の為にも、低治i槽内の真空状態を永久的に維持づ−
ることが望Jニジいことが判る。
の際、磁6並びに内部の部品を保護づる−11も袖強克
持体を挿入J−る為に、低温槽の白字を切る必要がある
のが!It!型的である。従って、この様な超導電磁石
1の輸送は、一時支楯体を取外J為に(,4)イ1を分
解した後、内部の真空状態を山び設定りることを必′!
りとりることか判る3、これはIII′1間のか)る(
71: ′6である1、従来の低)部槽の設fit−C
は、絹\γ(及び分解をし易くりる為に、人g′イーi
弾1)1体、1qシを使うのが曹通で゛ある。史に、他
の低1#+i槽の説、:口よ、j喝1vl +’<勾配
コイルをf」勢した時の渦電流による(愚弄の歪みを防
止する為に、低4□1槽の中孔に、IIH金属の管壁を
用いている。こういう勾配コイルは磁石集成体の中孔の
中に配置J−るのが典型的である。然し、弾性体14じ
も非金属の中孔管もガスを透過させ、何れの段目でも、
装置の長!11J的な運転の問、内部の真空状態が汚染
される結果になる。従って、低;部槽の費用のか・る定
期的なポンプ動作が必要になる。更に、運転を全面的に
停止して、超j!ブ電性がもはやなくなる周囲渇磨まで
、超導電巻線を温めることが定till的に必要になる
。従って、輸送の為だl:J ’−Cなく、長期的な運
転の為にも、低治i槽内の真空状態を永久的に維持づ−
ることが望Jニジいことが判る。
従来の低jjW 4+!lの6q八t−Cは、円筒形の
低温槽イ111造の頂部の厄介な場所に、液体ヘリウム
の様な冷ldJ剤を追加7る為の出入ボー1〜を用い−
でいるのが典型的である1、この冷7JI剤出入手段は
低温槽の湾曲した側面に配置されるのが菖通であり、イ
1(注、1槽集成体の全1木的な1肱をかなり増大づる
。これは全身N M R作像用の強度の強い磁界を発生
−リ−る為に使われる超導電巻線を収容づる為に使われ
る低溜1411にとっては、かなりの不利である。磁イ
」集成体の中孔管は人体を中孔管の中に収容しイfりれ
はならないのT′、典型的には白径が約′1ヌータであ
るから、磁石並びに低:Ka +FIの全体的な’J
>1が、大部分は(6石の二]スト、そしてそれを収容
りる部1jN又は構造のコストにもかなりの影響を!ノ
える。従って、液体冷!、11剤を追加りる為の水平の
出入手段を持つ低温4111ハウジングを提供−(Jる
ことが望ましい。
低温槽イ111造の頂部の厄介な場所に、液体ヘリウム
の様な冷ldJ剤を追加7る為の出入ボー1〜を用い−
でいるのが典型的である1、この冷7JI剤出入手段は
低温槽の湾曲した側面に配置されるのが菖通であり、イ
1(注、1槽集成体の全1木的な1肱をかなり増大づる
。これは全身N M R作像用の強度の強い磁界を発生
−リ−る為に使われる超導電巻線を収容づる為に使われ
る低溜1411にとっては、かなりの不利である。磁イ
」集成体の中孔管は人体を中孔管の中に収容しイfりれ
はならないのT′、典型的には白径が約′1ヌータであ
るから、磁石並びに低:Ka +FIの全体的な’J
>1が、大部分は(6石の二]スト、そしてそれを収容
りる部1jN又は構造のコストにもかなりの影響を!ノ
える。従って、液体冷!、11剤を追加りる為の水平の
出入手段を持つ低温4111ハウジングを提供−(Jる
ことが望ましい。
こういう手段が円筒形+f4造の端面に配置1′5”さ
れる。
れる。
発明の要約
この発明の好ましい実施例−(は、低W+4槽集成体が
、環状の真空にひくことが出来る外側容器′と、やはり
環状であって、完全に外側打器の中に収容されている内
側容器とを右し、各々の容器【五組軸線が略同じになる
様に配V1されている。史に、この発明の低温槽は、低
温槽の1端に配[直された少なくとも3本から成る第1
相の支J4jタイど、低錨1槽の他端に配置された少な
くとし3木がら成る第2組の支持タイとを右Jる3、支
持タイは内側容器上の取イ]り点から外側容器上のヌ・
j応りる取(=ju点まで横方向に伸びる。これらの取
イ」【プ点が夫々の容器の周縁に沿って略一様に配置さ
れている。低温槽の両端にある各相の支持タイは、11
(泥槽の縦軸を通る平面に対して互いに略鏡像の対称1
〕lを持つ様に配回される。横方向の支持タイが外側及
び内側容器を隔てた状態に保つ様に作用し、こうしてそ
の間に真空を維持することが出来る様にする。
、環状の真空にひくことが出来る外側容器′と、やはり
環状であって、完全に外側打器の中に収容されている内
側容器とを右し、各々の容器【五組軸線が略同じになる
様に配V1されている。史に、この発明の低温槽は、低
温槽の1端に配[直された少なくとも3本から成る第1
相の支J4jタイど、低錨1槽の他端に配置された少な
くとし3木がら成る第2組の支持タイとを右Jる3、支
持タイは内側容器上の取イ]り点から外側容器上のヌ・
j応りる取(=ju点まで横方向に伸びる。これらの取
イ」【プ点が夫々の容器の周縁に沿って略一様に配置さ
れている。低温槽の両端にある各相の支持タイは、11
(泥槽の縦軸を通る平面に対して互いに略鏡像の対称1
〕lを持つ様に配回される。横方向の支持タイが外側及
び内側容器を隔てた状態に保つ様に作用し、こうしてそ
の間に真空を維持することが出来る様にする。
更に、支持タイは外側及び内側容器の間の伝導1こよる
IQ失を最小限に抑える為に、引張り強度が強いと共に
熱伝導度の小さい材料で構成される。支持タイを鏡像の
対称性を持つ様に配置づることは、内側容器が縦軸線の
周りに回転移動し4cい様にづる。それて゛もこの発明
の支持装置は、内側及び外側容器の間の成る限られた程
度の軸方向の相対的な移動が出来る様にする。この軸方
向の自由度は、真空状態−(も、低温槽を容易に輸送づ
ることが出来る様にする3本又は更に多くのビンから成
る構造を利用づることが出来る様にJ−る点で、この発
明の重要な1面である。特にこの発明の低温槽の構造は
、この様な一組の熱伝導度の小さいビンを介して内側容
器を外側容器に押えっりることが出来る様にづる。こう
して低温槽は、低温槽のwLI1111線を垂直の向き
にしc、、真空状態を損ゎり”に輸送することが出来る
。この輸送用の位1ζ1ぐは、低温槽構造に加わる最ム
強いヵは、縦軸線に対して横向きの力である。然し、こ
の方向の動きが支1・1Jタイによって防止される。低
温(1シの輸送によって生ずる垂直方向の力は、外側容
器と内側容器の間に配置されてい−C1それらを1ii
ll II)+l した状態に保つ様に作用づる一組の
ビンによっ(吸収され、それど同時に熱伝導度の小さい
ことにJン)で、この4.1にしても、熱的な隔離が寄
られる1、この熱的な隔離は、物理的な接触を使う為に
、長期的(j状態にとっては理想的ではないが、それて
・″し低蒲1槽を縦11111]線を水平にした通常の
姿勢に取(;J t、、lk時、ビンはもはや外側容器
及び内側容器の間の物理的イ1熱的な架橋部とならない
。
IQ失を最小限に抑える為に、引張り強度が強いと共に
熱伝導度の小さい材料で構成される。支持タイを鏡像の
対称性を持つ様に配置づることは、内側容器が縦軸線の
周りに回転移動し4cい様にづる。それて゛もこの発明
の支持装置は、内側及び外側容器の間の成る限られた程
度の軸方向の相対的な移動が出来る様にする。この軸方
向の自由度は、真空状態−(も、低温槽を容易に輸送づ
ることが出来る様にする3本又は更に多くのビンから成
る構造を利用づることが出来る様にJ−る点で、この発
明の重要な1面である。特にこの発明の低温槽の構造は
、この様な一組の熱伝導度の小さいビンを介して内側容
器を外側容器に押えっりることが出来る様にづる。こう
して低温槽は、低温槽のwLI1111線を垂直の向き
にしc、、真空状態を損ゎり”に輸送することが出来る
。この輸送用の位1ζ1ぐは、低温槽構造に加わる最ム
強いヵは、縦軸線に対して横向きの力である。然し、こ
の方向の動きが支1・1Jタイによって防止される。低
温(1シの輸送によって生ずる垂直方向の力は、外側容
器と内側容器の間に配置されてい−C1それらを1ii
ll II)+l した状態に保つ様に作用づる一組の
ビンによっ(吸収され、それど同時に熱伝導度の小さい
ことにJン)で、この4.1にしても、熱的な隔離が寄
られる1、この熱的な隔離は、物理的な接触を使う為に
、長期的(j状態にとっては理想的ではないが、それて
・″し低蒲1槽を縦11111]線を水平にした通常の
姿勢に取(;J t、、lk時、ビンはもはや外側容器
及び内側容器の間の物理的イ1熱的な架橋部とならない
。
更にこの発明は水平の冷2J1剤出入ボー1−を]hっ
ことが好ましい。このボー1〜は、液体ヘリウム又は液
体窒素の様な冷却剤を導人力る手段どして作用するたり
で゛なく、位置す゛め棒を挿入Jる為の出入手段にもな
る。この発明の低温11iを輸送りる6Cr、この棒を
水平出入ボー1〜に挿入づる。この棒の長さ並びに設計
は、それが内側容器!fi mに押当てられて、内側容
器構造を軸方向に動かず様になっている。こうして、低
温槽を垂直の姿勢に動がJ前に、内側容器が外側容器と
強制的に接触させられる。位置きめ棒は一組の垂直支持
ビンを外側及び内側容器と突当らせる為に使われる。希
望ににっでは、これらのビンの周縁に斜め切りした縁を
設置ノ、この縁が外側及び内側容器の対応する構造ど合
さつ−C1整合を行なうど共に、輸送中に横方向に移動
しない様に一層の保護をJる。
ことが好ましい。このボー1〜は、液体ヘリウム又は液
体窒素の様な冷却剤を導人力る手段どして作用するたり
で゛なく、位置す゛め棒を挿入Jる為の出入手段にもな
る。この発明の低温11iを輸送りる6Cr、この棒を
水平出入ボー1〜に挿入づる。この棒の長さ並びに設計
は、それが内側容器!fi mに押当てられて、内側容
器構造を軸方向に動かず様になっている。こうして、低
温槽を垂直の姿勢に動がJ前に、内側容器が外側容器と
強制的に接触させられる。位置きめ棒は一組の垂直支持
ビンを外側及び内側容器と突当らせる為に使われる。希
望ににっでは、これらのビンの周縁に斜め切りした縁を
設置ノ、この縁が外側及び内側容器の対応する構造ど合
さつ−C1整合を行なうど共に、輸送中に横方向に移動
しない様に一層の保護をJる。
NMR作像用の強度の強い磁界を発生lJる為に、超導
電月わ1をその臨界温度より低い温度に保つのに特に有
用な低温41すを];N供覆る為、これ;1、で説明し
たよりも幾分か複5′11な低温槽構jもをljd供覆
ることが望ましい。特に、この為の低温槽は3番目の一
番内側の容器を含む。この容器も環状であって、全部が
前述の内側容器の中に収容されている。この一番内側の
容器は、内側の容器が外側容器の中に懸架されたのと同
様に、即ち、外側容器及び内側容器の間の支持タイと同
じ様な形をした支持タイから成る装置にJ:す、内側容
器、叩1)、中間の容器内に懸架される。簡単に云えば
、N M R作像用のこの発明の好ましい実施例は、巣
ごもり状の3個1絹の環状容器を持つCJ3す、その各
々の容器が別の容器の中に完全に収容されている。これ
らの容器は真空にひくことが出来る外側容器、内側容器
及び一番内側の容器である。史に、熱損失を更に少なく
する為に、−m内側の容器と内側容器の間に放射遮蔽体
を配+fl−’lることが出来る。内側容器は液体窒素
の様な液体冷JJl剤を収容し−でいることが好ましい
。一番内側の容器は液体ヘリウムの様な沸点が更に低い
冷却剤を収容1Jることが好ましい。低温槽の縦軸線ど
平1うな向ぎに+要成分を持つ、強度の強い一様な磁界
を設定する為に超導電材料で114成された電気巻線が
配置されるのは、この一番内側の容器内である。この磁
界は低温槽の環状構造によって形成された中孔管の中に
出゛、来る。
電月わ1をその臨界温度より低い温度に保つのに特に有
用な低温41すを];N供覆る為、これ;1、で説明し
たよりも幾分か複5′11な低温槽構jもをljd供覆
ることが望ましい。特に、この為の低温槽は3番目の一
番内側の容器を含む。この容器も環状であって、全部が
前述の内側容器の中に収容されている。この一番内側の
容器は、内側の容器が外側容器の中に懸架されたのと同
様に、即ち、外側容器及び内側容器の間の支持タイと同
じ様な形をした支持タイから成る装置にJ:す、内側容
器、叩1)、中間の容器内に懸架される。簡単に云えば
、N M R作像用のこの発明の好ましい実施例は、巣
ごもり状の3個1絹の環状容器を持つCJ3す、その各
々の容器が別の容器の中に完全に収容されている。これ
らの容器は真空にひくことが出来る外側容器、内側容器
及び一番内側の容器である。史に、熱損失を更に少なく
する為に、−m内側の容器と内側容器の間に放射遮蔽体
を配+fl−’lることが出来る。内側容器は液体窒素
の様な液体冷JJl剤を収容し−でいることが好ましい
。一番内側の容器は液体ヘリウムの様な沸点が更に低い
冷却剤を収容1Jることが好ましい。低温槽の縦軸線ど
平1うな向ぎに+要成分を持つ、強度の強い一様な磁界
を設定する為に超導電材料で114成された電気巻線が
配置されるのは、この一番内側の容器内である。この磁
界は低温槽の環状構造によって形成された中孔管の中に
出゛、来る。
この発明の好ましい実施例は、一番内側の容器に加えら
れた軸方向の力によって、当該ビンを外側容器及び一番
内側の容器と接触さけることが出来る様に、内側容器の
1端に装着された一組のビンをも持っている。この発明
の懸架装置はこういうことが出来る位の軸方向の移動が
出来る様にする。低温槽内の真空状態を乱さずに、低温
槽を垂直の姿勢で輸送し易くするのは、この発明の種々
の容器のこの突合せの位置ぎめである、1更に、この発
明の形式では、液体窒素及び液体ヘリウムの両方を持つ
、完全に装填した低温槽を輸送覆ることも出来る。この
発明では、容器を突合けの位置に移動するのに必要な軸
方向の力が、特別4丁形の位置きめ軸によって加えられ
る。この軸が、低温槽の外側から一番内側の容器の内部
まで伸びる液体ヘリウム出入室の中に挿入される。出入
ボートは、適当な長さを持つ特別に段用しlC軸を出入
充填管の中に挿入すると、熱伝導度の小さいビンによっ
て許される限定まで、各容器が軸方向に移動する様に構
成されている。この後低温槽を、輸送の為に縦軸線を垂
直の向きにした姿勢に動かJことが出来る。然し、この
発明の低温槽の輸送は、低温槽を水平の姿勢のJ:・で
行なうことも可能であることを承知されたい、2どの輸
送位1fffがい)かは、少なくとも1つにはビンの形
によっC決定Jることが出来る。
れた軸方向の力によって、当該ビンを外側容器及び一番
内側の容器と接触さけることが出来る様に、内側容器の
1端に装着された一組のビンをも持っている。この発明
の懸架装置はこういうことが出来る位の軸方向の移動が
出来る様にする。低温槽内の真空状態を乱さずに、低温
槽を垂直の姿勢で輸送し易くするのは、この発明の種々
の容器のこの突合せの位置ぎめである、1更に、この発
明の形式では、液体窒素及び液体ヘリウムの両方を持つ
、完全に装填した低温槽を輸送覆ることも出来る。この
発明では、容器を突合けの位置に移動するのに必要な軸
方向の力が、特別4丁形の位置きめ軸によって加えられ
る。この軸が、低温槽の外側から一番内側の容器の内部
まで伸びる液体ヘリウム出入室の中に挿入される。出入
ボートは、適当な長さを持つ特別に段用しlC軸を出入
充填管の中に挿入すると、熱伝導度の小さいビンによっ
て許される限定まで、各容器が軸方向に移動する様に構
成されている。この後低温槽を、輸送の為に縦軸線を垂
直の向きにした姿勢に動かJことが出来る。然し、この
発明の低温槽の輸送は、低温槽を水平の姿勢のJ:・で
行なうことも可能であることを承知されたい、2どの輸
送位1fffがい)かは、少なくとも1つにはビンの形
によっC決定Jることが出来る。
従って、この発明の1つの目的は、頑丈であるばかりで
なく、低温槽の各容器の間でかイ「りの熱的な隔離を行
なう懸架装]mを含む低温(fllの(?11造を提供
することである。
なく、低温槽の各容器の間でかイ「りの熱的な隔離を行
なう懸架装]mを含む低温(fllの(?11造を提供
することである。
この発明の別の目的は、N M I’< (’l作像用
強度の強い一様な磁界を発生づる為の超導電巻線を収容
覆るのに特に役立つ低温槽を11を供り−ることである
。
強度の強い一様な磁界を発生づる為の超導電巻線を収容
覆るのに特に役立つ低温槽を11を供り−ることである
。
この発明の別の目的は、水平の姿勢でも垂直の姿勢でも
、真空状態並びに液体冷却剤の装填状態をそのま1にし
て、容易に輸送号ることの出来る低温槽を1jI供ザる
ことである。
、真空状態並びに液体冷却剤の装填状態をそのま1にし
て、容易に輸送号ることの出来る低温槽を1jI供ザる
ことである。
この発明の別の目的は、低温槽の各容器の間で成る程度
の軸方向の移動が出来るもhにしたイ【(湯槽を提供す
ることである。
の軸方向の移動が出来るもhにしたイ【(湯槽を提供す
ることである。
この発明の別の目的は、略全部が溶接構造である低温槽
を提供することである。
を提供することである。
この発明の別の目的は、NMR作像装置用の超導電磁石
を提供すること(′ある。
を提供すること(′ある。
この発明の別の目的は、水平の向き、叩ら低温槽の内側
容器の縦軸線と略平行な向きの液体冷却剤出入充填ボー
トを持゛つ低温槽を提供り−ることである。
容器の縦軸線と略平行な向きの液体冷却剤出入充填ボー
トを持゛つ低温槽を提供り−ることである。
この発明の要旨は特ill請求の範囲に具体的に且つ明
確に記載しであるが、この発明の構成、作用並びにその
他の目的及び利点は、以下図面についてd(明りる所か
ら、最もにり理解されよう。
確に記載しであるが、この発明の構成、作用並びにその
他の目的及び利点は、以下図面についてd(明りる所か
ら、最もにり理解されよう。
3、発明の詳細な説明
第1図及び第2図はこの発明のΦ要な1面を成づ内部低
温槽懸架装置の主要な要素の基本を示している。第1図
及び第2図は1つの円筒を別の円筒の中に懸架する方法
をも図式的に示している。
温槽懸架装置の主要な要素の基本を示している。第1図
及び第2図は1つの円筒を別の円筒の中に懸架する方法
をも図式的に示している。
低温槽では、内側及び外側容器の間の物理的な接触がご
く少なくなる様な形で、内側容器を懸架するのが希望で
ある。こうづると、容器の間の容積をC(空にひいて、
熱的な隔離を行なうことが出来る。この発明で・【ま、
内側及び外側容器又は円筒の間の11171−の永久的
な機械的な接続部は、強度が強くて熱伝導度の小さいタ
イから成る装置Cある。
く少なくなる様な形で、内側容器を懸架するのが希望で
ある。こうづると、容器の間の容積をC(空にひいて、
熱的な隔離を行なうことが出来る。この発明で・【ま、
内側及び外側容器又は円筒の間の11171−の永久的
な機械的な接続部は、強度が強くて熱伝導度の小さいタ
イから成る装置Cある。
この装置が第1図及び第2図に例示されている。
特に第1図は外側容器1oの中に、6本の支持タイ(各
々の端に3本す゛っ)/J日ら成る装置ににって、内側
円筒11が懸架される様子を示しでいる。円筒(7)
1 CMi テLJ、、ターi’12a、1211.1
2Gが、内側円筒11上の取イ」り点15と外側円筒1
o上の取イ(H)点1/lの間を横方向に伸びている。
々の端に3本す゛っ)/J日ら成る装置ににって、内側
円筒11が懸架される様子を示しでいる。円筒(7)
1 CMi テLJ、、ターi’12a、1211.1
2Gが、内側円筒11上の取イ」り点15と外側円筒1
o上の取イ(H)点1/lの間を横方向に伸びている。
対応Jる一組の支持ター1’13a、13b、13cが
円筒10.11の他端に配置べされ−(いて、同様に作
用1Jる。然し、円筒の両端にある各組の支持タイは、
ljいに鏡像の対称的なパターンを成づ様に形成づるこ
とが好ましい。然し、−組のタイが他方の紺に対して回
転方向が反対になる様に配置されていれば、厳密な鏡像
の対称関係は必要で・はない。
円筒10.11の他端に配置べされ−(いて、同様に作
用1Jる。然し、円筒の両端にある各組の支持タイは、
ljいに鏡像の対称的なパターンを成づ様に形成づるこ
とが好ましい。然し、−組のタイが他方の紺に対して回
転方向が反対になる様に配置されていれば、厳密な鏡像
の対称関係は必要で・はない。
更に、取付は点は円筒10.11の周縁に沿っで略一様
な位置に段(プることが出来る1、この形により、支持
タイに於ける応力分イロが比較的一様になる。この発明
の好ましい実施例では、各組に3木の支持タイがある。
な位置に段(プることが出来る1、この形により、支持
タイに於ける応力分イロが比較的一様になる。この発明
の好ましい実施例では、各組に3木の支持タイがある。
2つの相反覆る目的の結束としてこうりることか好まし
い。第1に、内側及び外側円筒の間の熱伝導に対する隔
離を最大にづる為には、支持タイの数が出来るだり少4
1いことが望ましい。支持タイの熱伝導係数がごく小さ
いことが非常に望ましいので、タイの断面積が比較的小
さいこと、並びにタイ自体が熱伝導係数の小さい月利で
構成されることも一般的に望141.い。支持タイ装置
を熱絶縁したいという点からは、引張り強度の足りない
傾向を持つ支持タイを利用りることが考えられるが、望
にシくない程熱伝導度が大ぎく且つ断面積の大きい4A
利が、こういう強度を持つ場合の方/JS多い。従って
、相反Jる2番目の条件としで、支持タイは内側円筒の
重量に耐える十分な強度を持つことが要求される。更に
、第1図及び第2図に示覆−集成体を輸送する際、支持
タイ装置にイ」加的な荷重となる、円筒の型組以外の力
が発生されることがある。従って、強度条件からは、比
較的多数の支持タイを使うことが望ましい。円筒の各々
の端に1木ずつ、2木の支持タイしかない装置は、内1
111及び外側円筒の間の(1が方向の成る相対的な移
動を防]]ηるのに不十分であるから、支持しようとり
−る円11i)の各々の端に少なくとも3本の支持タイ
を持つタイ装置19を使うことが必要である。支持タイ
を更に増や−Uば、余分の強度が1qられるので望まし
い様に思われるが、支持タイ拐オ゛31を慎重に選べば
、追加の支槓体の必要がない。然し、他の理由で希望が
あれ【J工、その数を増やしてもよい。支持タイ12a
、12b、。
い。第1に、内側及び外側円筒の間の熱伝導に対する隔
離を最大にづる為には、支持タイの数が出来るだり少4
1いことが望ましい。支持タイの熱伝導係数がごく小さ
いことが非常に望ましいので、タイの断面積が比較的小
さいこと、並びにタイ自体が熱伝導係数の小さい月利で
構成されることも一般的に望141.い。支持タイ装置
を熱絶縁したいという点からは、引張り強度の足りない
傾向を持つ支持タイを利用りることが考えられるが、望
にシくない程熱伝導度が大ぎく且つ断面積の大きい4A
利が、こういう強度を持つ場合の方/JS多い。従って
、相反Jる2番目の条件としで、支持タイは内側円筒の
重量に耐える十分な強度を持つことが要求される。更に
、第1図及び第2図に示覆−集成体を輸送する際、支持
タイ装置にイ」加的な荷重となる、円筒の型組以外の力
が発生されることがある。従って、強度条件からは、比
較的多数の支持タイを使うことが望ましい。円筒の各々
の端に1木ずつ、2木の支持タイしかない装置は、内1
111及び外側円筒の間の(1が方向の成る相対的な移
動を防]]ηるのに不十分であるから、支持しようとり
−る円11i)の各々の端に少なくとも3本の支持タイ
を持つタイ装置19を使うことが必要である。支持タイ
を更に増や−Uば、余分の強度が1qられるので望まし
い様に思われるが、支持タイ拐オ゛31を慎重に選べば
、追加の支槓体の必要がない。然し、他の理由で希望が
あれ【J工、その数を増やしてもよい。支持タイ12a
、12b、。
12c 、13a 、13b 、13cの月1′シを選
択する時、硝子繊維、炭素又は黒鉛複合44 aijl
又はブタンの様な強度が強くc熱伝導度の小さい拐オ′
)1を用いることが好ましい。こういう+A 1.il
は所要の強度を持つと同時に、熱伝導度が小さい。)t
A籾自体は棒、ループ又は適切であれば編んだストシン
ドの伺れの形にしてもよい。
択する時、硝子繊維、炭素又は黒鉛複合44 aijl
又はブタンの様な強度が強くc熱伝導度の小さい拐オ′
)1を用いることが好ましい。こういう+A 1.il
は所要の強度を持つと同時に、熱伝導度が小さい。)t
A籾自体は棒、ループ又は適切であれば編んだストシン
ドの伺れの形にしてもよい。
第1図に9Wa面図で示しlcbのを第2図に斜視図で
示してあり、円筒の両端に設【プられる構造が史によく
判る様にしである。これに対して′111図は、取付り
点が一様に配置されること、並ひに円筒の両端にあるタ
イの相の間か、vL像量関係向い合った位置にあること
をはっきりと示している。。
示してあり、円筒の両端に設【プられる構造が史によく
判る様にしである。これに対して′111図は、取付り
点が一様に配置されること、並ひに円筒の両端にあるタ
イの相の間か、vL像量関係向い合った位置にあること
をはっきりと示している。。
第1図及び第2図はこの発明の懸架装置の成る基本的な
’JIS成を示しているが、他の図面は、この懸架装置
の利用法、並びに全身NMR作−像に特に役立つ様な低
)福槽にこの発明を用いた場合の協動作用を例示してい
る1、特に他の図面に示しlこ低温槽は、低温槽の中孔
を取巻く電気巻線に設定した持続電流が、環状低温槽の
中孔の中に強度の強い比較的一様な磁界を発/I−Jる
様に、超導電祠η′31を臨界温度より低い湿度に保つ
のに特に適している。
’JIS成を示しているが、他の図面は、この懸架装置
の利用法、並びに全身NMR作−像に特に役立つ様な低
)福槽にこの発明を用いた場合の協動作用を例示してい
る1、特に他の図面に示しlこ低温槽は、低温槽の中孔
を取巻く電気巻線に設定した持続電流が、環状低温槽の
中孔の中に強度の強い比較的一様な磁界を発/I−Jる
様に、超導電祠η′31を臨界温度より低い湿度に保つ
のに特に適している。
第3図はこの発明の好ましい実施例の(+(温槽の一部
分を切欠いて断面C′示した側面図である。、特にこの
発明の低温111は貞空にひくことの出来る外側容器1
10を有する。外側容器110は1z′1状であること
が好ましく、全真作(ρ(の為に約1メータの中孔の内
径を持つことが好ましい。その内部に収容される構造を
支持するのが外側容器110である。外側容器110の
各々の端に端板11Qaが設けられでいる。外側容器1
′1oは、インコネル×625の様な電気比抵抗の大さ
い合金で作ることが好ましい薄い内側殻1ホ11011
(!:’b持っている。内側殻体1101)の厚ざG
J約0.02乃至0.03吋にするのが典型的であり、
その拐料の高い比抵抗(約130X1(1)−6オーム
Cl1I)は、勾配磁界の立上り時間(約1ミリ秒)に
化へて短い渦電流時定数(約0.12ミリ秒)が11ノ
られる様に選ぶ。低温槽の環状の中孔の中に配置された
コイル(図に示してない)により、勾配Iln界が発生
される。こういうコイルはこの発明σ戸p要な1面を構
成するものではない。
分を切欠いて断面C′示した側面図である。、特にこの
発明の低温111は貞空にひくことの出来る外側容器1
10を有する。外側容器110は1z′1状であること
が好ましく、全真作(ρ(の為に約1メータの中孔の内
径を持つことが好ましい。その内部に収容される構造を
支持するのが外側容器110である。外側容器110の
各々の端に端板11Qaが設けられでいる。外側容器1
′1oは、インコネル×625の様な電気比抵抗の大さ
い合金で作ることが好ましい薄い内側殻1ホ11011
(!:’b持っている。内側殻体1101)の厚ざG
J約0.02乃至0.03吋にするのが典型的であり、
その拐料の高い比抵抗(約130X1(1)−6オーム
Cl1I)は、勾配磁界の立上り時間(約1ミリ秒)に
化へて短い渦電流時定数(約0.12ミリ秒)が11ノ
られる様に選ぶ。低温槽の環状の中孔の中に配置された
コイル(図に示してない)により、勾配Iln界が発生
される。こういうコイルはこの発明σ戸p要な1面を構
成するものではない。
要に、インコネルX625の内側殻体は(6れIC溶接
継目を作り、従っ−C1この発明の好ましい実施例では
、全部溶接にJζる外側容器が1!1られることを指摘
しておく1.更に、内側核体110 bの外器を防止づ
る為に、低温4111の中孔の中に硝J′″−繊紺 “
の円@117°を挿入りることが出来る1、一般的に、
この発明の低温槽を強度の強い磁界に関連して用いる時
、第3図に示1種々の容器は、特にことわらない限り、
並びに特に上に述べた理由C・、スプンレス鋼で構成し
得る外側容器110を別どすると、アルミニウムで構成
するのが典型的Cある。
継目を作り、従っ−C1この発明の好ましい実施例では
、全部溶接にJζる外側容器が1!1られることを指摘
しておく1.更に、内側核体110 bの外器を防止づ
る為に、低温4111の中孔の中に硝J′″−繊紺 “
の円@117°を挿入りることが出来る1、一般的に、
この発明の低温槽を強度の強い磁界に関連して用いる時
、第3図に示1種々の容器は、特にことわらない限り、
並びに特に上に述べた理由C・、スプンレス鋼で構成し
得る外側容器110を別どすると、アルミニウムで構成
するのが典型的Cある。
この発明の装置は部分的に機械的に複II ’C□ある
から、第3図、第4図、第5図、第6A図及び第6B図
をなるべく周部に参照され1ば、f3.もよく理解され
よう。第4図及び第5図は1セ■に懸架’K iP’f
を具体的に示づ端面図(・あり、第6A図及び第6B図
の側面断面図は使われる種々の環状容器が栄ごムリにな
ることを一層に<示している。
から、第3図、第4図、第5図、第6A図及び第6B図
をなるべく周部に参照され1ば、f3.もよく理解され
よう。第4図及び第5図は1セ■に懸架’K iP’f
を具体的に示づ端面図(・あり、第6A図及び第6B図
の側面断面図は使われる種々の環状容器が栄ごムリにな
ることを一層に<示している。
第3図は環状の内側容器111をへし示し−Cいる。
特に内側容器111が支持タイから成る装VイにJ、す
、外側容器110内に!け架されることが判る。
、外側容器110内に!け架されることが判る。
特に支持タイ112aがヨーク15)3ににっC容器1
10の定点に取(=j IJられでいることが判る。
10の定点に取(=j IJられでいることが判る。
支持タイ112aの他端は容器111のボス115く第
3図の下側に示J−)に接続される。ボス115は典型
的には内側容器111に溶接する。この発明の支持タイ
は、チタン棒、黒鉛又はカーボン繊維複合材)13+又
は硝子繊肩f、 4,1お1で構成づることが好ましい
。特にこの発明の支持タイは適当に選んだ月利のループ
どして示されCいる。ループが、ボス115に設(プだ
円形の)め路により、ボス1゛15内の所定位置に保持
される。史に、例えば支持タイ112aがビン152に
J:っ′(臼−り153内の所定位置に保持されること
が判る5、支]、°J全タイ、]−り153の側面に設
しノ’ /ζ対応りる円形孔に押込みばめにりることが
出来る1、第3図は容器111が、上側ボス115の周
りに一部分を示した支持タイ113bによっ−C支持さ
れることを示している。支持タイ113 bの他端(図
に示しくない)か外側容器110に取イζJりられる。
3図の下側に示J−)に接続される。ボス115は典型
的には内側容器111に溶接する。この発明の支持タイ
は、チタン棒、黒鉛又はカーボン繊維複合材)13+又
は硝子繊肩f、 4,1お1で構成づることが好ましい
。特にこの発明の支持タイは適当に選んだ月利のループ
どして示されCいる。ループが、ボス115に設(プだ
円形の)め路により、ボス1゛15内の所定位置に保持
される。史に、例えば支持タイ112aがビン152に
J:っ′(臼−り153内の所定位置に保持されること
が判る5、支]、°J全タイ、]−り153の側面に設
しノ’ /ζ対応りる円形孔に押込みばめにりることが
出来る1、第3図は容器111が、上側ボス115の周
りに一部分を示した支持タイ113bによっ−C支持さ
れることを示している。支持タイ113 bの他端(図
に示しくない)か外側容器110に取イζJりられる。
従って、外側容器110及び内側容器11′1が容積1
21を(111成し、この容積を真空にひいて、周囲’
InA庶及び内部の温度状態の間で所望の程度の熱的な
隔離をづることが出来ることが判る。
21を(111成し、この容積を真空にひいて、周囲’
InA庶及び内部の温度状態の間で所望の程度の熱的な
隔離をづることが出来ることが判る。
内側容器111(ま))ルミニウムの様41′月わ1で
(111成Jることかりrましく、全部溶接の41″4
込rあることが好ましい。内側容器111は、液体窒
素の様な冷却剤を収容する環状容積120を限定する外
側ジャケラi〜123を持つことが好ましい。更に放射
による熱伝達を減少する為に、容器1110周りに多重
層絶縁物122を配置することが出来る。従って、容器
111は熱放射遮蔽体として作用し、これは約77°に
の温度に保たれる。ジ17ケツl〜形の遮蔽体111は
遮蔽体である外側ジャケット123内に配置された液体
窒素の沸IIをにJ、って積極的に冷却される。外側ジ
ャケット123は、強度を強めると共に、真空の結果と
して起り19る座屈に対する堅牢性を持たせる為に、孔
あぎじヤま板116を持つことが好ましい。
(111成Jることかりrましく、全部溶接の41″4
込rあることが好ましい。内側容器111は、液体窒
素の様な冷却剤を収容する環状容積120を限定する外
側ジャケラi〜123を持つことが好ましい。更に放射
による熱伝達を減少する為に、容器1110周りに多重
層絶縁物122を配置することが出来る。従って、容器
111は熱放射遮蔽体として作用し、これは約77°に
の温度に保たれる。ジ17ケツl〜形の遮蔽体111は
遮蔽体である外側ジャケット123内に配置された液体
窒素の沸IIをにJ、って積極的に冷却される。外側ジ
ャケット123は、強度を強めると共に、真空の結果と
して起り19る座屈に対する堅牢性を持たせる為に、孔
あぎじヤま板116を持つことが好ましい。
容器111の環状容積内に別の熱放用鴻蔽体215を設
りることが出来る。熱放射遮蔽イホ215が第3図には
詳しく示されていないが、第6B図はこの遮蔽体を位置
きめする機構を訂しく示している。
りることが出来る。熱放射遮蔽イホ215が第3図には
詳しく示されていないが、第6B図はこの遮蔽体を位置
きめする機構を訂しく示している。
最後に、第3図は全部が敢用鴻蔽体215の内側に懸架
された一番内側の容器210を示している。−缶内側の
容器210の構造は第6A図及び第6B図から更によく
理解されよう。然し、第3図は、−缶内側の容器210
を遮蔽体2′15の中並びに内側容器111の中に懸架
Jる機構を少なくとも部分的に例示するのに」−分であ
る。特に、ボス214は、−缶内側の容器210に溶接
することが好ましいが、これが遮蔽IA215を通抜(
プること1fi−判る(第5図及び第6Δ図参照)。ボ
ス214がタイ・ループ212aを支持する取イ4り点
になることが判る。支持タイ212aの他端〈図に示し
てない)は、第5図に更によく示す様に容器211に取
付りられている。
された一番内側の容器210を示している。−缶内側の
容器210の構造は第6A図及び第6B図から更によく
理解されよう。然し、第3図は、−缶内側の容器210
を遮蔽体2′15の中並びに内側容器111の中に懸架
Jる機構を少なくとも部分的に例示するのに」−分であ
る。特に、ボス214は、−缶内側の容器210に溶接
することが好ましいが、これが遮蔽IA215を通抜(
プること1fi−判る(第5図及び第6Δ図参照)。ボ
ス214がタイ・ループ212aを支持する取イ4り点
になることが判る。支持タイ212aの他端〈図に示し
てない)は、第5図に更によく示す様に容器211に取
付りられている。
第3図には、低温槽の輸送中、容器110.111及び
210を軸方向の一定位置に保持づる様に作用づる輸送
機構525b部分的に示されている。この機構は、第8
図及び第ε3Δ図に更によく示されている。然し、この
図では、ビン300が第3図のボス214と整合してい
る様に見えるのは、単に透視図の効果にづざないことに
注意されたい。ビン3’ O0及びボス214の位置は
第5図から更によく理解されよう。
210を軸方向の一定位置に保持づる様に作用づる輸送
機構525b部分的に示されている。この機構は、第8
図及び第ε3Δ図に更によく示されている。然し、この
図では、ビン300が第3図のボス214と整合してい
る様に見えるのは、単に透視図の効果にづざないことに
注意されたい。ビン3’ O0及びボス214の位置は
第5図から更によく理解されよう。
この発明の低温槽の重要な特徴は、ジ1Tケツ1〜12
3に液体窒素を供給し、且つ一番内側の容器210に液
体ヘリウムを供給する為の水平に配置された一紺の出入
ボート及び管をこの低温槽が備えていることである。第
3図の低温槽の右側部分に示した液体ヘリウム出入ボー
ト525が第8図及び第8A図に詳しく示されてd5す
、後で訂しく説明づる。
3に液体窒素を供給し、且つ一番内側の容器210に液
体ヘリウムを供給する為の水平に配置された一紺の出入
ボート及び管をこの低温槽が備えていることである。第
3図の低温槽の右側部分に示した液体ヘリウム出入ボー
ト525が第8図及び第8A図に詳しく示されてd5す
、後で訂しく説明づる。
第4図はこの発明の好ましい実施例の低温槽の一部分を
切欠いた端面図であって、内側容器111を外側容器1
10の中に懸架する装置が特によく示されている。支持
タイ113a 、 113b 。
切欠いた端面図であって、内側容器111を外側容器1
10の中に懸架する装置が特によく示されている。支持
タイ113a 、 113b 。
113Cが容器111のボス115から外側容器11O
の対応Jる取イ」り点114まで伸びていることが判る
。希望によっては、外側容器110は台160の上に支
えることが出来る。取付tノ点114の構造の詳細は後
で第7A図について説明づ−る。第4図で、ボス115
が内側容器111に取付けられている。図示の懸架装置
は外側容器11O及び内側容器111を相隔でに位置に
保持して、その間に容積121を限定する。然し、一般
的に容器110の内部領域は真空状態に保Iこれている
ことに注意されたい。特に組立ての際、支持タイに張力
を加える為に使われる出入ボートを覆う)Jバー板15
0により、この真空状態が保たれる。
の対応Jる取イ」り点114まで伸びていることが判る
。希望によっては、外側容器110は台160の上に支
えることが出来る。取付tノ点114の構造の詳細は後
で第7A図について説明づ−る。第4図で、ボス115
が内側容器111に取付けられている。図示の懸架装置
は外側容器11O及び内側容器111を相隔でに位置に
保持して、その間に容積121を限定する。然し、一般
的に容器110の内部領域は真空状態に保Iこれている
ことに注意されたい。特に組立ての際、支持タイに張力
を加える為に使われる出入ボートを覆う)Jバー板15
0により、この真空状態が保たれる。
例えば真空封じ161によって真空状態を作ることが出
来る。更に、第4図には、輸送ビン300が点線で示さ
れている。実際、第4図はこういうビンの配置を最もよ
く示す図面である。更に内側容器111に固定されたボ
ス315も点線で示されている。第4図には、−缶内側
の容器210に取付りられていて放射遮蔽体215を通
抜(プるボス314も点線で示されている。支+:’j
構造は、第5図に示した対応する線で切った断面を承り
第6B図にも示されている。史に、切…i線6Aが第4
図に示されているが、これは第6A図に対応しており、
第6A図は後で訂しく説明する。
来る。更に、第4図には、輸送ビン300が点線で示さ
れている。実際、第4図はこういうビンの配置を最もよ
く示す図面である。更に内側容器111に固定されたボ
ス315も点線で示されている。第4図には、−缶内側
の容器210に取付りられていて放射遮蔽体215を通
抜(プるボス314も点線で示されている。支+:’j
構造は、第5図に示した対応する線で切った断面を承り
第6B図にも示されている。史に、切…i線6Aが第4
図に示されているが、これは第6A図に対応しており、
第6A図は後で訂しく説明する。
第4図は容器111が外側容器110の中に懸架される
ことを示しているが、−缶内側の容器210を内側容器
111の中に懸架覆ることを第5図に更に具体的に示し
である。前と同じく、内側容器111は外側ジャケラh
123を持つジャケットつぎ容器であることが好まし
い。然し、第5図の断面図にはジャケット123が示さ
れてい/了い。更に、−缶内側の容器210は、それを
取巻く熱放射遮蔽体215が存在する為に、この図では
見えない。ボス214が遮蔽体215に取(=JtJら
れている様に見えるかし知れないが、実際にはボス21
4は一番内側の容器210の☆i1:板210a (第
6A図参照)に固定されている。支持タイ213a 、
213b 、213cを用いて一番内側の容器210を
内側容器111から懸架Jる。支持タイ213a’、2
131)、213cがボス214から内側容器111の
取イ」り点414まで伸びる。こういう取イ」(」点の
構造の詳細は第713図に具体的に示されてd3す、後
で説明する。従って、放9AM蔽体215と内側容器1
11の間に容積216が限定されていることが判る。前
と同じく、この容積は真空にひくことが好ましい。真空
にひくことは封じ161を介して行なわれる。更に第5
図には、熱放剣鴻蔽体2′15を内側容器11゛lの内
壁部分から懸架1−る方法が示されている。この懸架装
置は第6B図に具体的に示されており、後で説明する。
ことを示しているが、−缶内側の容器210を内側容器
111の中に懸架覆ることを第5図に更に具体的に示し
である。前と同じく、内側容器111は外側ジャケラh
123を持つジャケットつぎ容器であることが好まし
い。然し、第5図の断面図にはジャケット123が示さ
れてい/了い。更に、−缶内側の容器210は、それを
取巻く熱放射遮蔽体215が存在する為に、この図では
見えない。ボス214が遮蔽体215に取(=JtJら
れている様に見えるかし知れないが、実際にはボス21
4は一番内側の容器210の☆i1:板210a (第
6A図参照)に固定されている。支持タイ213a 、
213b 、213cを用いて一番内側の容器210を
内側容器111から懸架Jる。支持タイ213a’、2
131)、213cがボス214から内側容器111の
取イ」り点414まで伸びる。こういう取イ」(」点の
構造の詳細は第713図に具体的に示されてd3す、後
で説明する。従って、放9AM蔽体215と内側容器1
11の間に容積216が限定されていることが判る。前
と同じく、この容積は真空にひくことが好ましい。真空
にひくことは封じ161を介して行なわれる。更に第5
図には、熱放剣鴻蔽体2′15を内側容器11゛lの内
壁部分から懸架1−る方法が示されている。この懸架装
置は第6B図に具体的に示されており、後で説明する。
第613図は第5図に示した線6°Bで切った断面図で
ある。カバー板′150を取外して、支持タイ213a
、213b 、213cの張力の調節が行なわれるこ
とに注意されたい。
ある。カバー板′150を取外して、支持タイ213a
、213b 、213cの張力の調節が行なわれるこ
とに注意されたい。
第6A図は第4図及び第5図に示した線で切った側面断
面図である。然し判り易くづ−る為、熱遮蔽体215に
対する懸架装置はこの図では省略されている。これは後
で説明する第613図に示されている。然し、−缶内側
の容器21 O1内側容器111及び外側容器に対りる
懸架装置は第6A図に具体的に示されている。特に支持
タイ113aがヨーク153のビン152の周りに配置
されることが判る。このヨークは途中までねじ山を設け
た軸154に取付(プられており、この軸が外側容器1
10の壁を通抜りる。軸15)4の内、外側容器110
の壁の先に伸びる部分が第7A図に具体的に示されてい
る。更に、支持タイ213a(鎖線)がヨーク253を
通抜りるビン252(これも鎖線で示しである)の周り
に配置されでいることが判る。ヨーク253が、内側容
器111の壁を通扱ける軸254に取イ](プられでい
る。+1Ml+ 254の内、この壁を通抜(〕る部分
は第713図に示されている。第6Δ図には、内側容器
111の端板111aに取付けたボス115も示されて
a3す、このボスが支持タイ113bに対する取(=I
tプ点として用いられる。同様に、ボス214が一番
内側の容器210の端板210aに取イ」【プられでい
て、熱敢側遮蔽体215の端板215aを通抜(ジるこ
とか示されている。ボス214が支持タイ213bの取
付【プ点として作用する。図面を判り易くザる為、支持
タイ213bは一部分しか示してない。
面図である。然し判り易くづ−る為、熱遮蔽体215に
対する懸架装置はこの図では省略されている。これは後
で説明する第613図に示されている。然し、−缶内側
の容器21 O1内側容器111及び外側容器に対りる
懸架装置は第6A図に具体的に示されている。特に支持
タイ113aがヨーク153のビン152の周りに配置
されることが判る。このヨークは途中までねじ山を設け
た軸154に取付(プられており、この軸が外側容器1
10の壁を通抜りる。軸15)4の内、外側容器110
の壁の先に伸びる部分が第7A図に具体的に示されてい
る。更に、支持タイ213a(鎖線)がヨーク253を
通抜りるビン252(これも鎖線で示しである)の周り
に配置されでいることが判る。ヨーク253が、内側容
器111の壁を通扱ける軸254に取イ](プられでい
る。+1Ml+ 254の内、この壁を通抜(〕る部分
は第713図に示されている。第6Δ図には、内側容器
111の端板111aに取付けたボス115も示されて
a3す、このボスが支持タイ113bに対する取(=I
tプ点として用いられる。同様に、ボス214が一番
内側の容器210の端板210aに取イ」【プられでい
て、熱敢側遮蔽体215の端板215aを通抜(ジるこ
とか示されている。ボス214が支持タイ213bの取
付【プ点として作用する。図面を判り易くザる為、支持
タイ213bは一部分しか示してない。
超導電巻線によって強度の強い磁界を発生Jる為にこの
発明を特に用いる様な用途では、−缶内側の容器210
は、その内部に配置された円筒形殻体101により、図
示の様に環状容積10O1200に更に分割される。こ
の場合、容積100は超導電材料で構成される電気巻線
を収容り”る。
発明を特に用いる様な用途では、−缶内側の容器210
は、その内部に配置された円筒形殻体101により、図
示の様に環状容積10O1200に更に分割される。こ
の場合、容積100は超導電材料で構成される電気巻線
を収容り”る。
容積200は典型的には液体ヘリウムの様な低濡冷Nl
剤で充填される。液体冷却剤を容積200に導入覆る手
段は、後で第8図について説明する。
剤で充填される。液体冷却剤を容積200に導入覆る手
段は、後で第8図について説明する。
第6B図は第5図に示した切断線で切・)だ側面断面図
である。然し、判り易くづる為、ボス214及び支持タ
イ213bは第6]3図に示してない。
である。然し、判り易くづる為、ボス214及び支持タ
イ213bは第6]3図に示してない。
第6B図はこの発明の2つの而を1z■に例示するしの
である。最も重要なことは、輸送ビン装置NがiiTし
く示されていることである。2番[=1として、熱hり
射鴻蔽体215を位;1Y1きめηる手段が示されてい
る。前に述べた様に、この発明の懸架装置(よ、内側容
器210がtli+l+方向にΦjJ C−する様にJ
る。す鵜型的には約3 / /I 1l=1の動きがv
′1される。この動きが、第8図に示J様に、輸送枠5
00を液体ヘリウム出入管551に挿入づることにJ、
つ゛(1−iなわれる。
である。最も重要なことは、輸送ビン装置NがiiTし
く示されていることである。2番[=1として、熱hり
射鴻蔽体215を位;1Y1きめηる手段が示されてい
る。前に述べた様に、この発明の懸架装置(よ、内側容
器210がtli+l+方向にΦjJ C−する様にJ
る。す鵜型的には約3 / /I 1l=1の動きがv
′1される。この動きが、第8図に示J様に、輸送枠5
00を液体ヘリウム出入管551に挿入づることにJ、
つ゛(1−iなわれる。
この結果起る軸方向の移動にJ、す、斜め切りした縁]
16.3”17を持つ輸送ビン300が、外側容器11
0の端板1’i0aに設()たぞれど合さる凹部318
と接触づる。輸送ビン300がボス315の中を通る様
にも配置されていて、このボスに固定され、且つ内側容
器111の端板111aを通抜(づる。軸方向の動きに
より、ビン300の斜め切りした端317と、−缶内側
の容器210の端板210aに固定されたボス314の
対応づる形の孔319の間で接触が起る。前に述べた様
に、ボス314は111射遮蔽体215の端壁215a
の孔(図面に示してない)を通抜(づる。更にビン30
0に皿形ワッシャ309を設けて、輸送中の衝撃荷重に
よる衝撃を吸収すると共に、輸送後に、集成体を普通の
軸方向に整合した位置に復帰させる助けとすることが出
来る。典型的には、ビン300は圧縮強度が大きいが、
熱伝導度の小さいチタンの様な月利で構成される。更に
、(ll’l子繊肩1材料で構成されるビンを用いるこ
と、史に具体的に云えば、両端を斜め切りしない硝子4
Ali Iffのビンを用いることも可能である。後に
述べたこの発明の実施例は、輸送中にビン300をその
中に入れる、318又は319に示づ様な孔を用いない
。
16.3”17を持つ輸送ビン300が、外側容器11
0の端板1’i0aに設()たぞれど合さる凹部318
と接触づる。輸送ビン300がボス315の中を通る様
にも配置されていて、このボスに固定され、且つ内側容
器111の端板111aを通抜(づる。軸方向の動きに
より、ビン300の斜め切りした端317と、−缶内側
の容器210の端板210aに固定されたボス314の
対応づる形の孔319の間で接触が起る。前に述べた様
に、ボス314は111射遮蔽体215の端壁215a
の孔(図面に示してない)を通抜(づる。更にビン30
0に皿形ワッシャ309を設けて、輸送中の衝撃荷重に
よる衝撃を吸収すると共に、輸送後に、集成体を普通の
軸方向に整合した位置に復帰させる助けとすることが出
来る。典型的には、ビン300は圧縮強度が大きいが、
熱伝導度の小さいチタンの様な月利で構成される。更に
、(ll’l子繊肩1材料で構成されるビンを用いるこ
と、史に具体的に云えば、両端を斜め切りしない硝子4
Ali Iffのビンを用いることも可能である。後に
述べたこの発明の実施例は、輸送中にビン300をその
中に入れる、318又は319に示づ様な孔を用いない
。
この形式は、ビンとそれを挿入Jる斜め切りした孔の間
の整合が問題にならない様に、ピン集成体の精密な位置
ぎめを必要としないことが望ましい場合に特に好ましい
。然し、図示の実施例では、ビンが正しく整合づる様に
保証づる為に、輸送装置が正しい寸法になっていること
が好ましい。
の整合が問題にならない様に、ピン集成体の精密な位置
ぎめを必要としないことが望ましい場合に特に好ましい
。然し、図示の実施例では、ビンが正しく整合づる様に
保証づる為に、輸送装置が正しい寸法になっていること
が好ましい。
第6B図は熱放射遮蔽体215を内側容器111から懸
架する装置をも示しCいる。特に、円周方向に配置され
た複数個のボス221が熱放射遮蔽体215に取付けら
れていることが判る1、こういうねし山を設りたボスの
中に、尖った先端223を持つ途中までねし山を設【づ
た棒222が配置される。先端223が内側容器111
の内面・に当り、棒222を通じての熱伝導をごく小さ
くりるのを助りる。ねじ山を設けた棒222を回転して
放射遮蔽体215を位置き′めJる。ナラl−220に
よって所定位置に固定する。棒222は硝子繊維、チタ
ン又は硼素或は黒鉛複合々A Hの様な熱伝導麿の小さ
い材料で構成される。棒222の配置は第5図にも示さ
れている。更に、放射遮蔽体215及び一番゛内側の容
器210がその間に容積217を限定することが判る。
架する装置をも示しCいる。特に、円周方向に配置され
た複数個のボス221が熱放射遮蔽体215に取付けら
れていることが判る1、こういうねし山を設りたボスの
中に、尖った先端223を持つ途中までねし山を設【づ
た棒222が配置される。先端223が内側容器111
の内面・に当り、棒222を通じての熱伝導をごく小さ
くりるのを助りる。ねじ山を設けた棒222を回転して
放射遮蔽体215を位置き′めJる。ナラl−220に
よって所定位置に固定する。棒222は硝子繊維、チタ
ン又は硼素或は黒鉛複合々A Hの様な熱伝導麿の小さ
い材料で構成される。棒222の配置は第5図にも示さ
れている。更に、放射遮蔽体215及び一番゛内側の容
器210がその間に容積217を限定することが判る。
内側容器111を懸架する為の外側の取イ」け点−11
4が第7A図に詳しく示されている。特に、支持タイ1
13Cがヨーク153でビン152の周りに配置されて
いることが判る。ヨーク153は、例えばねじ手段等に
より、外側容器110の外壁を通抜()る軸154に取
(=Jりられる。’l’l11154は外側ボス155
をも通り、そこでナラ]・156によって押えられる。
4が第7A図に詳しく示されている。特に、支持タイ1
13Cがヨーク153でビン152の周りに配置されて
いることが判る。ヨーク153は、例えばねじ手段等に
より、外側容器110の外壁を通抜()る軸154に取
(=Jりられる。’l’l11154は外側ボス155
をも通り、そこでナラ]・156によって押えられる。
この手段により、支持タイ113Cの張力を調節するこ
とが出来る。軸154が容器110の外壁、玉子形の張
力接近ポート・ハウジング151及び接近ボーi〜・カ
バー150によって限定された容積に入り込む。この外
側ハウジング構造は、内部の真空状態を温存Jる様に気
密に構成されている。
とが出来る。軸154が容器110の外壁、玉子形の張
力接近ポート・ハウジング151及び接近ボーi〜・カ
バー150によって限定された容積に入り込む。この外
側ハウジング構造は、内部の真空状態を温存Jる様に気
密に構成されている。
同様に、支持タイ213Cがヨーク253のビン252
の周りに配置されており、このヨークは内側容器111
を通抜けるねじM 254を持っている。軸254の張
力が調節自在のナツト256によって固定される。更に
、皿形ワッシr258を設けることが好ましい。外側容
器110の壁に設りた孔257を介してナラh 256
に接近し得る。接近ボート・ハウジング151を介して
孔257に接近することが出来る。張力調節プツト15
6.256の形は第7C図の底面図から5判るこの図で
同じ部分には対応りる参照数字を用いている。具体的に
云うと、この図(・ハウジング151−が玉子形である
ことがJ:<判る。
の周りに配置されており、このヨークは内側容器111
を通抜けるねじM 254を持っている。軸254の張
力が調節自在のナツト256によって固定される。更に
、皿形ワッシr258を設けることが好ましい。外側容
器110の壁に設りた孔257を介してナラh 256
に接近し得る。接近ボート・ハウジング151を介して
孔257に接近することが出来る。張力調節プツト15
6.256の形は第7C図の底面図から5判るこの図で
同じ部分には対応りる参照数字を用いている。具体的に
云うと、この図(・ハウジング151−が玉子形である
ことがJ:<判る。
前に述べた様に、この発明の重要な1面は、ビン3O0
が端板110a及びボス3−1 ”lに接する様に、一
番内側の容器210及び内側容器110を軸方向に変位
させることが出来ることである。
が端板110a及びボス3−1 ”lに接する様に、一
番内側の容器210及び内側容器110を軸方向に変位
させることが出来ることである。
第8図及び第8Δ図にその様子が更に4体的に示されて
いる。特に第3図にb示した外側部分525を持つ水平
の液体ヘリウム充填用人ボー1・がこの図に示されてい
る。外部から一番内側の容器210の内部まで伸びる導
管551を介して、容積200に液体ヘリウムを供給づ
ることが出来る。
いる。特に第3図にb示した外側部分525を持つ水平
の液体ヘリウム充填用人ボー1・がこの図に示されてい
る。外部から一番内側の容器210の内部まで伸びる導
管551を介して、容積200に液体ヘリウムを供給づ
ることが出来る。
液体ヘリウムの充填が、容積200の底から、少なくと
も殻体101の■負部が覆われる様な点まで起る様に保
証する為、管550を容積200の下側部分に入り込む
様に設ける。ボス314がビン300と接触し且つビン
300が最終的に外側容器110の端板110aと接触
Jる様に一番内側の容器210を動かづ為、輸送軸50
0が導管551の中に挿入される。輸送軸500の構成
並びに使い方を理解する為には、第8A図に示した輸送
軸500の端部の細部を参照するのがよい。特に、輸送
軸5OOが旋回自在のT形部分504に終端し、ひも5
02又は503を引張った時、このT形部分がビン50
5の周りに回転づることが判る。即ち、輸送軸500は
最初に、旋回自在のT形部分が軸500の縦軸線と整合
する位置に来る様にして、導管551の中に挿入される
。その後、ひも502に張力を加えて、T形部分をビン
505の周りに旋回さけ、軸500を全体的に−「とい
う細長い文字の形にする。この後、板506から圧力を
加えて、この時1時形の軸500が、一番内側の容器2
10の内部にしっかりと固定されたブロック508に接
する様にする。ねじ軸5O7のナツトを廻づ−こと等に
より、板506によって引続いて圧力を加えると、低湿
槽の内側部分が前述の如く突合せの形になる。この発明
の低温41シを輸送し得るのはこの形になった時′(゛
あり、液体冷却剤は所定位置にあってもなくでも」:い
し、容積121,216,217はり4空にひいである
。
も殻体101の■負部が覆われる様な点まで起る様に保
証する為、管550を容積200の下側部分に入り込む
様に設ける。ボス314がビン300と接触し且つビン
300が最終的に外側容器110の端板110aと接触
Jる様に一番内側の容器210を動かづ為、輸送軸50
0が導管551の中に挿入される。輸送軸500の構成
並びに使い方を理解する為には、第8A図に示した輸送
軸500の端部の細部を参照するのがよい。特に、輸送
軸5OOが旋回自在のT形部分504に終端し、ひも5
02又は503を引張った時、このT形部分がビン50
5の周りに回転づることが判る。即ち、輸送軸500は
最初に、旋回自在のT形部分が軸500の縦軸線と整合
する位置に来る様にして、導管551の中に挿入される
。その後、ひも502に張力を加えて、T形部分をビン
505の周りに旋回さけ、軸500を全体的に−「とい
う細長い文字の形にする。この後、板506から圧力を
加えて、この時1時形の軸500が、一番内側の容器2
10の内部にしっかりと固定されたブロック508に接
する様にする。ねじ軸5O7のナツトを廻づ−こと等に
より、板506によって引続いて圧力を加えると、低湿
槽の内側部分が前述の如く突合せの形になる。この発明
の低温41シを輸送し得るのはこの形になった時′(゛
あり、液体冷却剤は所定位置にあってもなくでも」:い
し、容積121,216,217はり4空にひいである
。
所望の目的地に到着した時、圧ヵ仮506を取外し、ひ
も又はケーブル5)O3に張力を加えで、T形部分50
4を取外しの為に輸送1+11500の縦軸線と整合す
る状態に戻る様に旋回される。この為、輸送@l+ 5
00には、その中をひ乙、−1−ド又はり一ブル502
,503を通す中心の通路501を設 【ノ る 。
も又はケーブル5)O3に張力を加えで、T形部分50
4を取外しの為に輸送1+11500の縦軸線と整合す
る状態に戻る様に旋回される。この為、輸送@l+ 5
00には、その中をひ乙、−1−ド又はり一ブル502
,503を通す中心の通路501を設 【ノ る 。
第8図には、ブロック508が一番内側の容器210の
殻体1O′1及び端板201bの何れか一プJ又は両方
にしっかりと固定されることも示されている。熱放射遮
蔽体215うの端板215 bは放射遮蔽体の冷7J]
作用をザる為に、沸騰したdし体ヘリウムを通過さ1!
導管553を設りるのが好ましいことが理解されよう。
殻体1O′1及び端板201bの何れか一プJ又は両方
にしっかりと固定されることも示されている。熱放射遮
蔽体215うの端板215 bは放射遮蔽体の冷7J]
作用をザる為に、沸騰したdし体ヘリウムを通過さ1!
導管553を設りるのが好ましいことが理解されよう。
最後に、水平のl\ツリウム入ポートの外側部分にベロ
ー集成体552が設りられ、これが、低温槽の内部と外
部の間の温度差が大きい為に必要となる石川な膨張及び
収縮補償機構となることが判る。熱llil連射体21
5は部分的に導管551によって支持することも出来る
ことが判る。放射遮蔽体215は、端板215bと熱的
に接触する熱交換コイル553を楯Iff ’?するヘ
リウム蒸気の蒸発により、典型的には約20’に乃至約
60°にの湿度に冷却される。
ー集成体552が設りられ、これが、低温槽の内部と外
部の間の温度差が大きい為に必要となる石川な膨張及び
収縮補償機構となることが判る。熱llil連射体21
5は部分的に導管551によって支持することも出来る
ことが判る。放射遮蔽体215は、端板215bと熱的
に接触する熱交換コイル553を楯Iff ’?するヘ
リウム蒸気の蒸発により、典型的には約20’に乃至約
60°にの湿度に冷却される。
液体窒素で冷却される内側容器11′1の外側の周りに
多重層絶縁物122を設(づて、敢q・1による熱伝達
を少なくすることが出来る。然し、液体窒素で冷却され
る容器111とヘリウムで冷却される遮蔽体2150間
の容積216にこの様な絶縁物の1層だけを挿入しても
よい。更に、ヘリウムで冷却される遮蔽体215と一番
内側の容器21○の間の容積217にこの絶縁物の1層
だけを配置して、これらの面の放出度を抑えることが出
来る。 この発明の別の1面は、外側容器110が全部
溶接の設計になっていることである。これは容器11○
の内壁110bをイン」ネル×625で構成づることに
よっ゛C容易になる。こうJると、300シリーズ・ス
テンレス鋼の様イ【異なる金属に対する優れた溶接li
t Llが得られる。、前に述べた様に、硝子繊維の円
筒117を挿入づることにより、檗110bの座11(
(を防止Jることか容易になる。
多重層絶縁物122を設(づて、敢q・1による熱伝達
を少なくすることが出来る。然し、液体窒素で冷却され
る容器111とヘリウムで冷却される遮蔽体2150間
の容積216にこの様な絶縁物の1層だけを挿入しても
よい。更に、ヘリウムで冷却される遮蔽体215と一番
内側の容器21○の間の容積217にこの絶縁物の1層
だけを配置して、これらの面の放出度を抑えることが出
来る。 この発明の別の1面は、外側容器110が全部
溶接の設計になっていることである。これは容器11○
の内壁110bをイン」ネル×625で構成づることに
よっ゛C容易になる。こうJると、300シリーズ・ス
テンレス鋼の様イ【異なる金属に対する優れた溶接li
t Llが得られる。、前に述べた様に、硝子繊維の円
筒117を挿入づることにより、檗110bの座11(
(を防止Jることか容易になる。
第9図はこの発明の別の形のピンを承り。特に、この発
明の低温槽を冷却した状態で輸送したい場合、低温槽の
ピン300を持つ端が底になる様に低温槽を垂直の姿勢
に配置づることが!Irましい。
明の低温槽を冷却した状態で輸送したい場合、低温槽の
ピン300を持つ端が底になる様に低温槽を垂直の姿勢
に配置づることが!Irましい。
低温(hを垂直のよ)輸送覆る場合、719図に・示し
た別の形のピンが好J、シい。特にこの場合、斜め切り
した面ではなく、平坦な面を持つ第9図のピン300の
様なピンを用いることが望ましい1.史に、この実施例
では、四部318は゛しはや不すタCある。その代りに
、硝子繊組及び−l−ボ1ニジの様な祠オ゛81で41
う成された平1jlな円板を、輸送中にピン3OOがそ
れと接触り−る突合せ面どじ(用いる。この場合、ピン
300は硝子繊卸及び上ボキシの様な材料で構成覆るこ
とが好ましい。第9図に示す形のピンは、ピンの精密に
【整合の必要が<2いことが判る。
た別の形のピンが好J、シい。特にこの場合、斜め切り
した面ではなく、平坦な面を持つ第9図のピン300の
様なピンを用いることが望ましい1.史に、この実施例
では、四部318は゛しはや不すタCある。その代りに
、硝子繊組及び−l−ボ1ニジの様な祠オ゛81で41
う成された平1jlな円板を、輸送中にピン3OOがそ
れと接触り−る突合せ面どじ(用いる。この場合、ピン
300は硝子繊卸及び上ボキシの様な材料で構成覆るこ
とが好ましい。第9図に示す形のピンは、ピンの精密に
【整合の必要が<2いことが判る。
以上述べた所から、この発明が最初に述べた目的を十分
に且つ有益に充たづ低温槽を提供したことが理解されよ
う。特に、この発明の低温槽は輸送、それも垂直の姿勢
で輸送づるのに特に適してd3す、この時完全な真空及
び冷却剤の状態が維持される。この発明の低温槽は、起
導電巻線を用いた電磁石を構成σることを希望する様な
用途でし、特に役立つことが判る。こういう巻線く図面
に示してない) ld低温IQの中心の鉄心の周りに配
置され、低fnA I!ffの中孔の縦軸線に沿って、
強度の強い比較的一様な磁界を発生覆るのに1,1gに
石川である。
に且つ有益に充たづ低温槽を提供したことが理解されよ
う。特に、この発明の低温槽は輸送、それも垂直の姿勢
で輸送づるのに特に適してd3す、この時完全な真空及
び冷却剤の状態が維持される。この発明の低温槽は、起
導電巻線を用いた電磁石を構成σることを希望する様な
用途でし、特に役立つことが判る。こういう巻線く図面
に示してない) ld低温IQの中心の鉄心の周りに配
置され、低fnA I!ffの中孔の縦軸線に沿って、
強度の強い比較的一様な磁界を発生覆るのに1,1gに
石川である。
この発明はこうしてNMR作像装置にとって有用な装置
を提供−りる。この発明が低温槽の金も時間もかきる分
解を避()ること、特に真空状態を肩f持する為に頻繁
な又は絶え間ないポンプ動作を必要どづる様な低温槽の
設計を特に避りる様になっていることが理解されよう。
を提供−りる。この発明が低温槽の金も時間もかきる分
解を避()ること、特に真空状態を肩f持する為に頻繁
な又は絶え間ないポンプ動作を必要どづる様な低温槽の
設計を特に避りる様になっていることが理解されよう。
この発明の低温槽はガスを透過し、その結果、長期的に
L;1内部の真空状態が汚染される様な弾性体の1・1
じし非金属の中孔管も要らないことが理解されよう1.
従っ−(、低温槽の真空の為に金のか)る定期的なポン
プ動作を必要どしない。更にこの発明は、運転停止を招
き、磁石が温まる結果になる様な(ばl向を持つ状態を
避ける。
L;1内部の真空状態が汚染される様な弾性体の1・1
じし非金属の中孔管も要らないことが理解されよう1.
従っ−(、低温槽の真空の為に金のか)る定期的なポン
プ動作を必要どしない。更にこの発明は、運転停止を招
き、磁石が温まる結果になる様な(ばl向を持つ状態を
避ける。
この発明の好ましい実施例を訂しく説明したが、当業者
にはいろいろな変更が考えられよう。特にこの出願で示
した支持タイの組が略同じ平面内にあることは不必要で
ある。従って、特、γ1請求の範囲の記載は、この発明
の範囲内で可能な全ての変更を包括するものであること
を承知されたい。
にはいろいろな変更が考えられよう。特にこの出願で示
した支持タイの組が略同じ平面内にあることは不必要で
ある。従って、特、γ1請求の範囲の記載は、この発明
の範囲内で可能な全ての変更を包括するものであること
を承知されたい。
第1図はこの発明の懸架装「ずの士な考えを例示Jる簡
略端面図、第2図は第1図に端面図で示した懸架装置の
一部分を切欠いた斜視図、第3図はNMR作像川の用度
の強い磁界を発生覆る為の超導電巻線を収容するのに特
に役立つこの発明の低温槽の一部分を切欠いた側面断面
図、第4図は第3図の低温槽の一部分を切欠いた端面断
面図で、特に外側容器の中に内側容器を懸架づる様子を
示す。第5図は第3図の低温槽の一部分を切欠いた端面
断面図であるが、中間の容器又は内側容器から一番内側
の容器を懸架する様子を示す。第6A図は第3図の低温
槽の一部分の側面断面図で、内側容器及び一番内側の容
器に対する懸架装置を示す。第6B図は第3図の低温槽
の一部分の側面断面図で、内側容器を軸方向の一定位回
に位置ぎめづる助りとなる1つのビンの細部を示すと共
に、一番内側の容器と内側容器の間の遮蔽体に対Jる懸
架装置をも示す。第7A図は外側容器と内側容器を接続
覆るタイに対する支持タイ取付(プ部の構成を示1部分
的な側面断面図、第7B図は第7Δ図と同様であるが、
内側容器と一番内側の容器を接続する支持タイに対づる
取イ」け部を示づ一図、第7C図は支持タイの張力を調
節り−る側面接近ボートの側面図、第8図はこの発明の
水平の向きの液体冷却剤出入充填管の一部分を断面で示
しl〔側面図であり、輸送中に内側の容器及び一番内側
の容器を輸送ビンと接触する様に移動さける為に使われ
る位置きめ棒の配置を示す。第8Δ図Vl第8図に示し
た位置きめ棒の端の詳細な側面図、第9図は別の形のビ
ンを示す側面断面図である。 主な符号の説明 110・・・外側容器 111・・・内側容器112.
113,212,213・・・支持タイ特許出願人 ゼネラル・エレク1〜リック・ヵンパニイ代理人 (7
630) 牛 沼 徳 二l6 F〃ヲ−3
略端面図、第2図は第1図に端面図で示した懸架装置の
一部分を切欠いた斜視図、第3図はNMR作像川の用度
の強い磁界を発生覆る為の超導電巻線を収容するのに特
に役立つこの発明の低温槽の一部分を切欠いた側面断面
図、第4図は第3図の低温槽の一部分を切欠いた端面断
面図で、特に外側容器の中に内側容器を懸架づる様子を
示す。第5図は第3図の低温槽の一部分を切欠いた端面
断面図であるが、中間の容器又は内側容器から一番内側
の容器を懸架する様子を示す。第6A図は第3図の低温
槽の一部分の側面断面図で、内側容器及び一番内側の容
器に対する懸架装置を示す。第6B図は第3図の低温槽
の一部分の側面断面図で、内側容器を軸方向の一定位回
に位置ぎめづる助りとなる1つのビンの細部を示すと共
に、一番内側の容器と内側容器の間の遮蔽体に対Jる懸
架装置をも示す。第7A図は外側容器と内側容器を接続
覆るタイに対する支持タイ取付(プ部の構成を示1部分
的な側面断面図、第7B図は第7Δ図と同様であるが、
内側容器と一番内側の容器を接続する支持タイに対づる
取イ」け部を示づ一図、第7C図は支持タイの張力を調
節り−る側面接近ボートの側面図、第8図はこの発明の
水平の向きの液体冷却剤出入充填管の一部分を断面で示
しl〔側面図であり、輸送中に内側の容器及び一番内側
の容器を輸送ビンと接触する様に移動さける為に使われ
る位置きめ棒の配置を示す。第8Δ図Vl第8図に示し
た位置きめ棒の端の詳細な側面図、第9図は別の形のビ
ンを示す側面断面図である。 主な符号の説明 110・・・外側容器 111・・・内側容器112.
113,212,213・・・支持タイ特許出願人 ゼネラル・エレク1〜リック・ヵンパニイ代理人 (7
630) 牛 沼 徳 二l6 F〃ヲ−3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1) R空にひくことが出来る環状の外側容器と、当該
内側容器及び前記外側容器の中心軸線が略し曲線」二に
来る様に、全部が前記外側容器内に収容された環状の内
側容器と、該内側容器の第1の端でその周縁に略一様に
配置された取付(プ位置から、前記外側容器のそれに近
い端にあって、該外側容器に沿って略一様に配置された
対応する取イ」り位置まで横方向に伸びる少なくとb
3木から成る第1 IIの支持タイと、前記内側容器の
第2の輻iでその周縁に沿って略一様に配置された取イ
」り位置から前記外側容器のそれに近い端で該外側容器
に冶つ−C略一様に配置されI、:対応する取イ」り位
置まで横方向に伸びる少なくとも3本から成る第2絹の
支持タイとを有し、前記第1組及び第2組の支持タイは
前記軸線を含む平面に対して互いに略鏡像の対称性を持
つ様に配置されている低温槽。 2、特許請求の範囲1)に記載した低温槽に於て、前記
支持タイが硝子繊維で構成されている低温槽。 3) 特許請求の範囲1)に記載しIC低温槽に於て、
前記支持タイがチタンで構成されている低温槽。 4) 特許請求の範囲1)に記載した低温槽に於て、前
記支持タイの張力を調節する手段を含む低温槽。 5) 特許請求の範囲1)に記載した低温槽に於て、更
に、当該一番内側の容器及び前記内側容器の中心軸線が
略同じ直線上に来る様に、前記内側容器内に全部が収容
される環状の一番内側の容器と、該一番内側の容器の第
1の端でその周縁に沿って略一様に配置された取イ」(
)位置から前記内側容器のそれに近い端で該内側容器に
沿って略一様に配置された対応する取付()位置まで横
方向に伸びる少なくとも3木から成る第3組の支持体と
、前記一番内側の容器の第2の端でその周縁に沿っC略
一様に配置された取付り位置から前記内側容器のそれに
近い端で該内側容器に?ffっC略一様に配置された対
応する取イ」り位買まて4M方向に伸びる少なくとも3
本から成る第4絹の支持タイとを有し、前記第1組及び
第2絹の支持タイが前記軸線を含Jむ平面に対して勾[
いに略鏡像の対称半径を持つ様に配置されている低gi
f Jfl n6) 特許請求の範囲5)に記載した低
温槽に於て、特に輸送の際、−前記容器の問が接触する
様に、前記内側容器の1端に配置された複数個のピンを
右づる低副槽。 7ン 特許請求の!i壱(用6ンに21銭した41f、
:Ea 4費に於C,前記一番内側の容器及び前記内
側容器を軸方向に動かす手段を含む41℃温イ1シ08
) 特Δ′[Wj求の範囲7)に記載した(It ?H
A槽に於て、前記軸方向に動が覆手段が、前記−缶内側
の容器に液体冷JJI剤を追加する為の出入ボー1〜に
仲春された棒を含む低ン晶槽、。 9) 特許請求の範囲5)に記載した低温槽に於て、前
記−缶内側の容器に前記冷7.II剤を供給する液体冷
fJl剤供給ボー1〜を有し、前記出入ボー1〜は前記
軸線に対して略平行な向きである低1h11槽。 10) 特許請求の範囲5)に記載した低温槽に於て、
前記−缶内側の容器及び内側容器の間に配置された熱敢
用鴻蔽体を右りる低湿4f11.11) 特8′[請求
の範囲2)に記載した低1#+i槽に於て、前記内側容
器が液体冷II剤を収容′りる為の外側ジX7ゲツトを
持つ低温槽。 12) 特5′[請求の範囲5)に記載した低湿4ft
に於て、前記−缶内側の容器内に配置f”?されていて
該容器を半径方向内側の容積及び半径方向外側の容積に
分割づる円筒形隔壁を右づ−る低d111槽。 13) 特許請求の範囲12)に記載した低温Iに於て
、超導電月131で(14成された電気巻線が前記−缶
内側の容器の半径方向内側の容積の中に配置されている
低温槽。 1/I) 特許請求の範囲1)に記載しI〔低温槽に於
て、前記外側容器の半径方向内側の壁と突合せに41つ
だ円筒形の硝子4M組の支持管を右1J−る低温槽。 15) 特H![請求の範囲5〉に記載した低湿槽に於
て、前記支持タイの引を力を’nI:I m TJる手
段を石Jる低温槽。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/533,336 US4492090A (en) | 1983-09-19 | 1983-09-19 | Cryostat for NMR magnet |
US533336 | 1983-09-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60132304A true JPS60132304A (ja) | 1985-07-15 |
JPH0260043B2 JPH0260043B2 (ja) | 1990-12-14 |
Family
ID=24125521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59192746A Granted JPS60132304A (ja) | 1983-09-19 | 1984-09-17 | 低温槽 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4492090A (ja) |
EP (1) | EP0135185B1 (ja) |
JP (1) | JPS60132304A (ja) |
CA (1) | CA1246660A (ja) |
DE (1) | DE3482207D1 (ja) |
IL (1) | IL72686A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0284936A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-03-26 | General Electric Co <Ge> | 磁気共鳴用磁石の放射遮蔽体用の低熱コンダクタンス支持装置 |
JP2007021202A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | General Electric Co <Ge> | 複合構造支持体を備えた薄肉金属層真空容器 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4522034A (en) * | 1984-03-30 | 1985-06-11 | General Electric Company | Horizontal cryostat penetration insert and assembly |
US4535596A (en) * | 1984-03-30 | 1985-08-20 | General Electric Company | Plug for horizontal cryostat penetration |
US4516404A (en) * | 1984-03-30 | 1985-05-14 | General Electric Company | Foam filled insert for horizontal cryostat penetrations |
US4622824A (en) * | 1985-09-03 | 1986-11-18 | Ga Technologies Inc. | Cryostat suspension system |
US4694663A (en) * | 1986-01-03 | 1987-09-22 | General Electric Company | Low cost intermediate radiation shield for a magnet cryostat |
US4819450A (en) * | 1986-01-03 | 1989-04-11 | General Electric Company | Low cost intermediate radiation shield for a magnet cryostat |
US4837541A (en) * | 1987-04-02 | 1989-06-06 | General Electric Company | Shield suspension system for a magnetic resonance cryostat |
DE3866570D1 (de) * | 1987-04-02 | 1992-01-16 | Gen Electric | Aufhaengesystem fuer einen magnetischen kernresonanz-kryostaten. |
US6157276A (en) * | 1998-08-14 | 2000-12-05 | General Electric Company | MRI magnet assembly with non-conductive inner wall |
US6185808B1 (en) * | 1999-01-29 | 2001-02-13 | General Electric Company | Cryostat, cryostat positioning method, and cryostat alignment set |
US7540159B2 (en) * | 2003-11-26 | 2009-06-02 | Ge Medical Systems, Inc | Superconducting magnet transport method and system |
DE102004006779B4 (de) * | 2004-02-11 | 2005-12-15 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Abstandshalter |
GB2435128B (en) * | 2006-02-09 | 2008-06-04 | Siemens Magnet Technology Ltd | Suspension tensioning arrangements |
GB2449652B (en) * | 2007-05-30 | 2009-06-10 | Siemens Magnet Technology Ltd | Suspension rod tensioning arrangements |
GB2456795B (en) * | 2008-01-24 | 2010-03-31 | Siemens Magnet Technology Ltd | A limiter for limiting the motion of components in a cryostat |
US20120091144A1 (en) * | 2010-03-08 | 2012-04-19 | Rolf Gerald Baumgartner | Flexible cryostat |
DE102013219169B4 (de) | 2013-09-24 | 2018-10-25 | Siemens Healthcare Gmbh | Anordnung zur Wärmeisolation eines MR-Magneten |
DE102015201373A1 (de) * | 2015-01-27 | 2016-07-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Supraleitende Magnetanordnung, insbesondere für einen Magnetresonanztomographen |
CN109686528B (zh) * | 2018-12-18 | 2020-08-11 | 武汉船用电力推进装置研究所(中国船舶重工集团公司第七一二研究所) | 一种高温超导储能磁体装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3155265A (en) * | 1964-11-03 | Thermal stress equalizing support system | ||
US3021027A (en) * | 1958-10-08 | 1962-02-13 | David R Claxton | Means for supporting the inner member of a double-walled tank |
US3110324A (en) * | 1961-03-20 | 1963-11-12 | Cryogenic Eng Co | Support system for conduits for cryogenic liquid |
FR1378916A (fr) * | 1963-09-05 | 1964-11-20 | Commissariat Energie Atomique | Perfectionnements aux dispositifs de centrage d'une conduite interne à l'intérieurd'une conduite externe, applicable notamment aux éléments de conduite pour gaz liquéfiés |
US3351224A (en) * | 1964-06-11 | 1967-11-07 | James H Anderson | Vacuum jacket construction |
DE1501304B2 (de) * | 1965-08-07 | 1970-05-27 | Siemens AG, 1000 Berlin u. 8000 München | Kryostat für tiefgekühlte Magnetspulen, insbesondere für Supraleitungsmagnetspulen, mit horizontal liegendem, von außen zugänglichem, etwa rohrförmigen! Innenraum |
US3485272A (en) * | 1966-10-21 | 1969-12-23 | Us Air Force | High impact protective structure and method for manufacturing same |
US3782128A (en) * | 1970-06-01 | 1974-01-01 | Lox Equip | Cryogenic storage vessel |
US3706208A (en) * | 1971-01-13 | 1972-12-19 | Air Prod & Chem | Flexible cryogenic liquid transfer system and improved support means therefor |
AT322301B (de) * | 1971-06-15 | 1975-05-12 | Kabel Metallwerke Ghh | Aus mindestens zwei konzentrischen rohren bestehendes rohrsystem |
NL7214296A (ja) * | 1972-10-21 | 1974-04-23 | ||
CA1103143A (en) * | 1978-02-21 | 1981-06-16 | George D. Kneip, Jr. | Cryostat with refrigerator for superconduction nmr spectrometer |
DE2903787C2 (de) * | 1979-02-01 | 1983-11-03 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München | Aufhängevorrichtung für einen in einem Außenbehälter thermisch isoliert angeordneten Tieftemperaturtank |
DE3144857C2 (de) * | 1981-11-11 | 1986-08-28 | INTERATOM GmbH, 5060 Bergisch Gladbach | Doppelwandiges Rohr |
-
1983
- 1983-09-19 US US06/533,336 patent/US4492090A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-08-15 IL IL7268684A patent/IL72686A/xx unknown
- 1984-09-08 EP EP19840110746 patent/EP0135185B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-09-08 DE DE8484110746T patent/DE3482207D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-14 CA CA000463224A patent/CA1246660A/en not_active Expired
- 1984-09-17 JP JP59192746A patent/JPS60132304A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0284936A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-03-26 | General Electric Co <Ge> | 磁気共鳴用磁石の放射遮蔽体用の低熱コンダクタンス支持装置 |
JPH0418853B2 (ja) * | 1988-07-05 | 1992-03-27 | Gen Electric | |
JP2007021202A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | General Electric Co <Ge> | 複合構造支持体を備えた薄肉金属層真空容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0135185A3 (en) | 1986-06-04 |
IL72686A0 (en) | 1984-11-30 |
CA1246660A (en) | 1988-12-13 |
EP0135185A2 (en) | 1985-03-27 |
JPH0260043B2 (ja) | 1990-12-14 |
IL72686A (en) | 1989-01-31 |
DE3482207D1 (de) | 1990-06-13 |
EP0135185B1 (en) | 1990-05-09 |
US4492090A (en) | 1985-01-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60132304A (ja) | 低温槽 | |
EP0171532B1 (en) | Supporting tie configuration of cryostat for cold shipment of nmr magnet | |
JPS6196299A (ja) | 低温槽貫入管用の支持体 | |
US6192690B1 (en) | Load bearing apparatus in NMR cryostat system | |
EP1016815B1 (en) | Superconducting magnet suspension assembly | |
US5113165A (en) | Superconductive magnet with thermal diode | |
US20180283769A1 (en) | Cryostat arrangement comprising a neck tube having a supporting structure and an outer tube surrounding the supporting structure to reduce the cryogen consumption | |
JPS63289909A (ja) | 磁気共鳴用超導電磁石 | |
US5225782A (en) | Eddy current free MRI magnet with integrated gradient coils | |
JPH0198202A (ja) | 極低温槽 | |
US4622824A (en) | Cryostat suspension system | |
EP0905435A2 (en) | Load bearing means in cryostat systems | |
Madur et al. | Final design of the superferric branched dipoles for the FAIR Super-FRS | |
Da Silva et al. | Mechanical design and analysis of the Baby-IAXO magnet cold mass, cryostat and support system | |
CN112397270B (zh) | 7t临床用磁共振影像设备的超导磁体 | |
Kircher et al. | CMS coil design and assembly | |
Jalloh et al. | Design and Analysis of the Cryostat System for a 15 m long Prototype Quadrupole Magnet | |
Bruni et al. | Design study of a phi 19.5* 36 m superconducting solenoid (for supercollider Multi-TeV detector) | |
JPH012635A (ja) | 磁気共鳴用極低温槽 | |
JPS63192281A (ja) | 極低温装置 | |
CN108663643A (zh) | 低温保持器及包括其的磁共振成像扫描装置 | |
JPS63274117A (ja) | 極低温断熱支持体 | |
Birmingham et al. | Experimental dewars developed by the national bureau of standards | |
JPH04137709A (ja) | 極低温容器 | |
JPH0391208A (ja) | 超電導磁石冷却装置 |