JPS60130701A - Antireflection film for plastic substrate - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To increase the substrate reinforcing effect of an antireflection film and the antireflection effect in the visible light region independently of the kind of plastic substrate by forming a multilayered antireflection film having a specified composition of a plastic substrate. CONSTITUTION:A multilayered antireflection film is formed on a plastic substrate 1 by successively laminating an SiO film as the 1st layer of 0.13lambda-lambda optical thickness (lambda is the wavelength of light), an SiO2 film as the 2nd layer 3 of 0.13lambda-lambda thickness, a film of Al2O3, SiO or a mixture of them or a multilayered film consisting of them as the 3rd layer 4 of 0.36lambda-0.44lambda thickness, a film of ZrO2, CeO2 or a mixture of them or a multilayered film consisting of them as the 4th layer 5 of 0.18lambda-0.22lambda thickness, a film of SiO2, MgF2 or a mixture of them or a multilayered film consisting of them as the 5th layer 6 of 0.33lambda-0.04lambda thickness, a film of Ta2O5, TiO, TiO2 or a mixture of two or more among them or a multilayered film consisting of them as the 6th layer 7 of 0.22lambda-0.27lambda thickness, and a film of SiO2, MgF2 or a mixture of them or a multilayered film consisting of them as the 7th layer 8 of 0.24lambda-0.30lambda thickness. By this structure, a substrate reinforcing effect and a significant antireflection effect in the visible light region are produced, and the structure is applied to a camera, a copying machine or the like.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は合成樹脂レンズのような合成樹脂基板の多層反
射防止膜に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a multilayer antireflection coating for a synthetic resin substrate such as a synthetic resin lens.

近年、成形の容易さと軽量とによって合成樹脂光学部品
、特にレジズが用いられるようになったが、これらの光
学部品の反射防止膜には、なお問題が残っている。In recent years, synthetic resin optical components, particularly resin, have come into use due to their ease of molding and light weight, but problems still remain with antireflection coatings for these optical components.

従来、このような反射防止膜としては、例えば次のもの
が知られている。すなわち、特開昭５６〒１８９２２号
には、合成樹脂基板上に機械的強度を補うに十分７ｊ、
数μの膜厚の二酸化ケイ素（Ｓｉｎ２）からなる第１層
を形成し、その上に膜厚０，１５λ〜０２５λ〔λ（光
の波長）＝４５０〜５５０ｎｍ−）の酸化イツトリウム
（Ｙ２Ｏ２）膜からなる第２層、その上に膜厚０．３５
λ〜０．４５λの酸化ジルコニウム（ＺｐＯｔ）膜から
なる第３層、およびさらに第３層の上に膜１／２λ（λ
＝　５３０　ｎｍ）の厚さに蒸着し、ついで第２層とし
て二酸化ケイ素をＶ４λの厚さに蒸着して多層反射防止
膜を形成することが開示されている。Conventionally, the following are known as such antireflection films, for example. That is, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 18922, 7j, which is sufficient to supplement mechanical strength on a synthetic resin substrate, is disclosed.
A first layer made of silicon dioxide (Sin2) with a film thickness of several microns is formed, and on top of that a yttrium oxide (Y2O2) film with a film thickness of 0.15λ to 025λ [λ (wavelength of light) = 450 to 550 nm-] is formed. A second layer consisting of a film with a thickness of 0.35
A third layer consisting of a zirconium oxide (ZpOt) film with a thickness of λ to 0.45λ, and a film 1/2λ (λ
= 530 nm) and then depositing silicon dioxide as a second layer to a thickness of V4λ to form a multilayer anti-reflection coating.

また、特開昭５６−１２１００１号には、合成樹脂基板
上に第１層として膜厚２０　ｎｍ以下の一酸化ケィ素膜
、その上に第２層として膜厚０５０λ未満のアルミナ膜
、さらにその上に第３層として膜厚０．２５λ〜０３０
λのフン化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜を順次積層した
プラスチック光学部品が開示されてい仝。Furthermore, JP-A-56-121001 discloses a silicon monoxide film with a thickness of 20 nm or less as a first layer on a synthetic resin substrate, an alumina film with a thickness of less than 050λ as a second layer thereon, and furthermore, Film thickness 0.25λ~030 as the third layer on top
A plastic optical component in which magnesium fluoride (MgF2) films of λ are sequentially laminated has been disclosed.

さらに、特開昭５８−６０７０１号には、複数の、蒸着
条件を異にするため異った屈折率を持った一酸化ケイ素
の蒸着膜によって構成される多層反射防止膜が開示され
、具体的には基板上（＝屈折率１．６０〜１６８、光学
的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる第１層、その上
に屈折率１．７５〜１．８３、光学的膜厚がＶ４の一酸
化ケイ素からなる第２層、さらにその上に屈折率１５０
〜１，５５、光学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素膜から
なる第３層を、順次積層した多層反射防止膜が開示され
ている。この際、−酸化ケイ素の屈折率は蒸着速度の条
件下に酸素　・ガス圧力を変化させたり、または酸素ガ
ス圧力一定の条件下に蒸着速度を変化させることによっ
て、変化させることが開示されている。Furthermore, JP-A No. 58-60701 discloses a multilayer antireflection film composed of a plurality of vapor-deposited films of silicon monoxide having different refractive indexes due to different vapor-deposition conditions. On the substrate (=first layer made of silicon monoxide with a refractive index of 1.60 to 168 and an optical thickness of λ/4, on top of which a refractive index of 1.75 to 1.83 and an optical thickness of A second layer of V4 silicon monoxide with a refractive index of 150
~1,55, a multilayer antireflection film is disclosed in which a third layer consisting of a silicon monoxide film having an optical thickness of λ/4 is sequentially laminated. In this case, it is disclosed that the refractive index of silicon oxide can be changed by changing the oxygen gas pressure under the conditions of the evaporation rate, or by changing the evaporation rate under the condition of the oxygen gas pressure being constant. .

これらの多層反射防止膜のうち、特開昭５６−１８９２
２号に開示されたものは、合成樹脂基板としてジエチレ
ングリコールビスアリルカーポネー）（ＣＲ−３９）が
使用され、メガネ用に開発された多層反射防止膜であり
、上記の構成膜をインジェクションおよびキャスト成形
された基板に適用すると第１層の二酸化ケイ素膜に亀裂
が発生する。Among these multilayer antireflection coatings, JP-A-56-1892
What was disclosed in No. 2 is a multilayer antireflection film developed for eyeglasses that uses diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-39) as a synthetic resin substrate, and the above-mentioned constituent films are injection-molded and cast-molded. When applied to a coated substrate, cracks occur in the first layer of silicon dioxide film.

また特開昭５０−６７１４７号および特開昭５６−１２
１００１号に開示さ些たものは、膜の亀裂の発生は１１
いが、可視光領域における反射防止効果が低く、密着性
に若干の不安がある。Also, JP-A-50-67147 and JP-A-56-12
The small thing disclosed in No. 1001 is that the occurrence of cracks in the membrane is 11
However, the antireflection effect in the visible light region is low, and there are some concerns about adhesion.

さらに、特開昭５８−６０７０１号に開示されたものは
、−酸化ケイ素のみで構成されているので、大気中に放
置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ素に近ずくため
、経時的に分光反射特性が変化するという欠点がある。Furthermore, since the material disclosed in JP-A No. 58-60701 is composed only of -silicon oxide, if left in the atmosphere it will be affected by oxygen and will approach silicon dioxide, resulting in spectral reflection over time. The disadvantage is that the characteristics change.

本発明の目的は、合成樹脂基板の種類に関係なく、基板
の補強効果と可視光領域における反射防止効果を向上さ
せた合成樹脂基板の反射防止膜を提供することにある。An object of the present invention is to provide an antireflection film for a synthetic resin substrate that improves the reinforcing effect of the substrate and the antireflection effect in the visible light region, regardless of the type of synthetic resin substrate.

本発明のいま一つの目的は、カラーバランスが良好で、
基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤性、耐磨耗性、
耐環境性の良好な反射防止膜を圀供することにある。Another object of the present invention is to achieve good color balance,
High adhesion to the substrate, solvent resistance, abrasion resistance,
An object of the present invention is to provide an antireflection film with good environmental resistance.

本発明による合成樹脂基板の反射防止膜は、合成樹脂基
板上に形成された光学的膜厚０１３λ〜λ〔λ（光の波
長）＝４５０〜５５０ｎｍ）の−酸化ケイ素膜からなる
第１層、該第１層上に形成された０、１３λ〜λの二酸
化ケイ素膜からｒ（る第２層、該第２層上に形成された
光学的膜厚０．３６λ〜０．４４λ）のアルミナ、−酸
化ケイ素またはこれらの混合物の膜、或はアルミナおよ
び一酸化ケイ素の多層膜からなる第３層、該第３層上に
形成された光学的膜厚０１１８λ〜０．２２λの酸化ジ
ルコニウム、酸化セリウムまたはこれらの混合物の膜、
或は酸化ジルコニウムおよび酸化セリウムの多層膜から
なる第４層、該第４層上に形成された光学的膜厚００３
λ〜０．Ｏ１２の二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムま
たはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフン
化マダイ・シクムの多層膜からなる第５層、該第５層上
に形成された光学的膜厚０，２２λ〜０．２７λの五酸
化タンタル、−酸化チタン、二酸化テタ。The anti-reflection film for a synthetic resin substrate according to the present invention includes a first layer formed on a synthetic resin substrate of a -silicon oxide film having an optical thickness of 013λ to λ [λ (wavelength of light) = 450 to 550 nm); r (a second layer formed on the second layer, an optical film thickness of 0.36λ to 0.44λ) from a silicon dioxide film of 0,13λ to λ formed on the first layer, - A third layer consisting of a film of silicon oxide or a mixture thereof, or a multilayer film of alumina and silicon monoxide; zirconium oxide or cerium oxide having an optical thickness of 0118λ to 0.22λ formed on the third layer; or membranes of these mixtures,
Or a fourth layer made of a multilayer film of zirconium oxide and cerium oxide, an optical film thickness of 003 formed on the fourth layer.
λ~0. A fifth layer consisting of a film of O12 silicon dioxide, magnesium fluoride, or a mixture thereof, or a multilayer film of silicon dioxide and red sea bream shicum fluoride, an optical film thickness of 0.22λ formed on the fifth layer. ~0.27λ tantalum pentoxide, -titanium oxide, teta dioxide.

ンまたはこれらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タン
タル、−酸化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層
膜から７．ｆる第６層、および該第６層上に形成された
光学的膜厚０．２４λ〜０．３０λの二酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシウムまたはこれらの混合物の膜、或は二酸
化ケイ素およびフッ化マグネシウムの多層膜からなる第
７層からｆＩることを特徴とするものである。or a mixture of two or more of these, or a multilayer film of two or more of tantalum pentoxide, -titanium oxide and titanium dioxide.7. f, and a film of silicon dioxide, magnesium fluoride, or a mixture thereof having an optical thickness of 0.24λ to 0.30λ formed on the sixth layer, or a film of silicon dioxide and magnesium fluoride. It is characterized by fI starting from the seventh layer consisting of a multilayer film.

本発明において、前記第２層から第７層までは活性化反
応蒸着により形成されたものであることが各層間の密着
性を高める上で好ましい。こ＼で「活性化反応蒸着」と
は、プラズマ化された活性ガス、例えば酸素ガス中で蒸
着を行なうことを意味する。In the present invention, it is preferable that the second to seventh layers be formed by activated reaction vapor deposition in order to improve the adhesion between each layer. Here, "activated reactive vapor deposition" means vapor deposition in an active gas that has been turned into plasma, such as oxygen gas.

本発明における合成樹脂基板としては、特に小型カメラ
用レンズ、ビデオ力、メラ用レンズ、複写機用レンズ等
に利用される非球面レンズを目的としたレンズ構成に用
いられる合成樹脂レンズを挙げることができる。これら
の合成樹゛脂基板は、例えばジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、キャスティング成形またはインジ
ェクション成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、スチレン樹脂からなる。Examples of the synthetic resin substrate in the present invention include synthetic resin lenses used in lens configurations intended for aspherical lenses used in small camera lenses, video lenses, camera lenses, copier lenses, etc. can. These synthetic resin substrates are made of, for example, diethylene glycol bisallyl carbonate, cast or injection molded acrylic resin, polycarbonate resin, or styrene resin.

合成樹脂基板上に各層を順次積層するには、真空蒸着エ
レクトロンビームなどの公知の手段を用いることができ
るが、第２層から第７層までは前述した活性化反応蒸着
により積層するのが、各層相瓦間の密着性が高くなるの
で好ましい。第１層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂との密
着性がよいので、特に活性化反応蒸着によらなくてもよ
い。In order to sequentially laminate each layer on a synthetic resin substrate, known means such as vacuum evaporation electron beam can be used, but it is preferable to laminate the second to seventh layers by the activation reaction evaporation described above. This is preferable because the adhesion between the tiles of each layer becomes high. Since the silicon monoxide film of the first layer has good adhesion to the synthetic resin, activation reaction vapor deposition is not particularly necessary.

本発明による多層反射防止膜において、−酸化ケイ素膜
からｒｚる第１層と二酸化ケイ素ｆｌｕからなる第２層
とは反射防止の機能とともに、基板の補強機能をも備え
ている。In the multilayer antireflection film according to the present invention, the first layer made of -rz silicon oxide film and the second layer made of silicon dioxide flu have an antireflection function as well as a substrate reinforcing function.

以下に本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below by way of examples.

実施例　１ 第１図を参照して本発明の詳細な説明する。Example 1 The present invention will be described in detail with reference to FIG.

第１図は、この実施例の反射防止膜の一部の拡大断面図
である。インジェクション成形されたアクリル樹脂基板
１の表面に、真空度１　Ｘ　１０”　Ｔｏｒｒにおいて
一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速度２λ／秒（一
定）で真空蒸着して膜厚０，５λ（λ−４５０〜５５０
ｎｍ）の第１層２を形成する。このときの第１層の屈折
率は１．６０〜１６８である。FIG. 1 is an enlarged sectional view of a part of the antireflection film of this example. On the surface of the injection-molded acrylic resin substrate 1, silicon monoxide is vacuum-deposited at a deposition rate of 2λ/sec (constant) at a vacuum degree of 1×10” Torr by resistance heating to a film thickness of 0.5λ (λ-450). ~550
A first layer 2 with a thickness of 100 nm) is formed. The refractive index of the first layer at this time is 1.60 to 168.

第１層の上に二酸化ケイ素をエレクトロンビームで蒸着
して膜厚０．５λの第２層３を形成する。Silicon dioxide is deposited on the first layer using an electron beam to form a second layer 3 having a thickness of 0.5λ.

第２層の屈折率は１．４５〜１４６である。第１層と第
２層とは基板の補強効果をも有している。The second layer has a refractive index of 1.45 to 146. The first layer and the second layer also have the effect of reinforcing the substrate.

第２層の上に、アルミナをエレクトロンビームで蒸着し
て膜厚０４λの第３層４を形成する。第３層の屈折率は
１５９〜１６２である。On the second layer, alumina is deposited using an electron beam to form a third layer 4 having a thickness of 04λ. The third layer has a refractive index of 159-162.

ついで、第３層の上に酸化ジルコニウムをエレクトロン
ビームで蒸着して膜厚０２λ、屈折率１．８９〜１９１
の第４層５を形成する。Next, zirconium oxide is deposited on the third layer using an electron beam to give a film thickness of 02λ and a refractive index of 1.89 to 191.
A fourth layer 5 is formed.

第４層の上に、二酸化ケイ素をエレクトロンビームで蒸
着して膜厚Ｑ、０４λ、屈折率１．４５〜１．４６の第
５層６を形成する。On the fourth layer, silicon dioxide is deposited using an electron beam to form a fifth layer 6 having a film thickness Q of 04λ and a refractive index of 1.45 to 1.46.

１５層の上に、五酸化タンタルをエレクトロンビームで
蒸着して膜厚０．２５λ、屈折率２０〜２１の第６層７
を形成する。On layer 15, tantalum pentoxide is deposited using an electron beam to form a sixth layer 7 with a thickness of 0.25λ and a refractive index of 20 to 21.
form.

ついで、第６層の上に、二酸化ケイ素をエレクトロンビ
ームで蒸着して膜厚０．２８λの第７層８を形成する。Next, silicon dioxide is deposited on the sixth layer using an electron beam to form a seventh layer 8 having a thickness of 0.28λ.

第７層の屈折率は１４５〜１．４６である。The refractive index of the seventh layer is 145 to 1.46.

このよう（−して得られた反射防止膜は、第２図に示さ
れた分光反射率曲線から明らかなように、可視光領域に
おいて良好ｆＩ分光反射率特性を示し、波長５．２０〜
５６０ｎｍの光の反射率がわずかに山形に高くなってい
るので反射光がｊｉ［Ｙか７［緑色となる。したがって
、眼鏡に対しても利用することができる。As is clear from the spectral reflectance curve shown in FIG.
Since the reflectance of 560 nm light is slightly high in the shape of a mountain, the reflected light becomes green. Therefore, it can also be used for eyeglasses.

この反射防止膜を次の各試験に付した３３（］）　密着
性テスト二　上記のようにしてイ（すられた反射防止膜
の表面にセロハンテープにチバン）を接着させた後、こ
の表面にはゾ垂直な角度で、すばやくとりのぞくテスト
を１５回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずることがなか
った。This anti-reflective film was subjected to the following tests.33(]) Adhesion test 2 After adhering A (cellophane tape to the surface of the smoothed anti-reflective film) as described above, A quick removal test was repeated 15 times at a perpendicular angle, but no peeling of the deposited film occurred.

（２）耐溶剤性テスト二　反射防止膜表面をエーテル、
アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙（ンルポン紙）
で拭いたが、異常が認められなかった。(2) Solvent resistance test 2 The surface of the anti-reflection film was coated with ether,
Lens cleaning paper soaked in alcohol mixture (Nurpon paper)
I wiped it with water, but no abnormality was found.

（３）耐摩耗テスト二　反射防止膜表面の１ケ所をレン
ズ拭き紙（シルボン紙）を用いて３〜４　Ｋｙ／ｄの圧
で５０往復こすったが、異常が認められなかった。(3) Abrasion Resistance Test 2 One spot on the surface of the antireflection film was rubbed 50 times with a lens wiping paper (Silbon paper) at a pressure of 3 to 4 Ky/d, but no abnormality was observed.

（４）耐環境テスト：　反射防止膜を４５°Ｃ１相対湿
度９５チの恒湿槽中に１０００時間放置し、ついで熱衝
撃テスト（６０℃ニー３０℃）を５回繰返したが、異常
が認められなかった。(4) Environmental resistance test: The anti-reflection film was left in a constant humidity chamber at 45°C and relative humidity of 95° for 1000 hours, and then the thermal shock test (60°C to 30°C) was repeated 5 times, but no abnormality was found. I couldn't.

実施例　２ 実施例１における第２層３〜第７層８を真空度７　Ｘ　
ＩＦ５〜１　Ｘ　１０−’　Ｔｏｒｒにおいて高周波（
１３，５６ＭＨｚ）酸素プラズマ中において活性化蒸着
する。Example 2 The second layer 3 to the seventh layer 8 in Example 1 were vacuumed to a degree of vacuum of 7
High frequency (
13,56 MHz) activated vapor deposition in oxygen plasma.

この実施例により得られた反射防止膜は、実施例１によ
り得られた反射防止膜と実質的に同じ分光反射特性を示
し、密着性テストにおける２０回の繰返しでも膜の剥離
は認められず、また耐溶剤性も実施例１の反射防止膜の
それと同等またはそれ以上であった。The antireflection film obtained in this example showed substantially the same spectral reflection characteristics as the antireflection film obtained in Example 1, and no peeling of the film was observed even after 20 repetitions of the adhesion test. Further, the solvent resistance was also equal to or higher than that of the antireflection film of Example 1.

この実施例において、第３層４のアルミナ１１つ）に代
えて一酸化ケイ素膜またはアルミナと一酸化ケイ素との
混合物の膜若しくはこれらの多層膜、第４層５のジルコ
ニウム膜に代えて酸化セリウム膜またはジルコニウムと
セリウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層１換、第
５層６の二酸化ケイ素膜に代えてフッ化マグネシウム膜
または二酸化ゲイ素とフッ化マグネシウムとの混合物の
１１１λ若しくはそれらの多層膜、第６層７の五酸化タ
ンタル１１分に代えて一酸化チタン膜若しくは二酸化チ
タン１１ψまたは五酸化タンタル、−酸化チタン、二酸
化チタンの２以上の混合物の膜若しくはこれらの多層膜
、および／または第７層８の二酸化ケイ素膜に代えてフ
ッ化マグネシウム膜または二酸化ケイ素とフン化マダイ
・シウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層膜を用い
て作製した反則防止膜は、いずれも密着性、耐溶剤性、
耐摩耗性および耐環境性において優れたものであった。In this example, a silicon monoxide film or a mixture film of alumina and silicon monoxide or a multilayer film thereof is used instead of alumina (11 pieces) in the third layer 4, and cerium oxide is used in place of the zirconium film in the fourth layer 5. A film or a film of a mixture of zirconium and cerium or a multilayer film thereof, a magnesium fluoride film or a 111λ film of a mixture of silicon dioxide and magnesium fluoride, or a multilayer film thereof in place of the silicon dioxide film of the fifth layer 6. , a titanium monoxide film or titanium dioxide 11ψ or a film of a mixture of two or more of tantalum pentoxide, -titanium oxide, titanium dioxide, or a multilayer film thereof, and/or a multilayer film of these, in place of the tantalum pentoxide 11 min of the sixth layer 7. In place of the silicon dioxide film in layer 7 and 8, a magnesium fluoride film or a film of a mixture of silicon dioxide and red sea bream/sium fluoride, or a fouling prevention film made using a multilayer film of these, has excellent adhesion and solvent resistance. sex,
It had excellent abrasion resistance and environmental resistance.

本発明によれば、合成樹脂の種類、成形方法に無関係に
、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域における良４好
ｆｊＱ反射防止効果とを兼ね備え、しカＳも密着性、耐
溶剤性、耐摩耗性および耐環境性Ｃニ優れた合成樹脂基
板の反射防止膜をうろこと力；できる。According to the present invention, regardless of the type of synthetic resin or the molding method, it combines the reinforcing effect of the synthetic resin substrate and the good antireflection effect in the visible light region, and also has good adhesion, solvent resistance, It is possible to create an anti-reflection coating on a synthetic resin substrate with excellent abrasion resistance and environmental resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明の一実施例の反射防止膜の一部の拡大断
面図であり、第２図は上記反射防止膜の分光反射率特性
を示すグラフである。 １・・・基板　２・・・第１層　３・・第２層４・・・
第３層　５・・第４層　６・・・第５層７・・・第６層
　８・・・第７層 第１図 第２図FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a part of an antireflection film according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a graph showing the spectral reflectance characteristics of the antireflection film. 1... Substrate 2... First layer 3... Second layer 4...
3rd layer 5... 4th layer 6... 5th layer 7... 6th layer 8... 7th layer Figure 1 Figure 2

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）合、成樹脂基板上に形成された光学的膜厚００１
３λ〜λ〔λ（光の波長）＝４５０〜５５０ｎｍ：］の
一酸化ケイ素膜からなる第１層、該第１層上に形成され
た０１３λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、該第
２層上に形成された光学的膜厚０．３６λ〜０４４λの
アルミナ、−酸化ケイ素またはこれらの混合物の膜、或
はアルミナおよび一酸化ケイ素の多層膜からなる第３層
、該第３層上に形成された光学的膜厚０１８λ〜０．２
２λの゛　（ 酸化ジルコニクム、酸化セリウムまたはこれらの混合物
の膜、或は酸化ジルコニウムおよび酸化セリウムの多層
膜からなる第４層、該第４層上に形成された光学的膜厚
０．０３λ〜０．０４λの二酸化ケイ素、フッ化マグネ
シウムまたはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素お
よびフッ化マグネシウムの多層膜からなる第５層、該第
５層上に形成された光学的膜厚０２２λ〜０．２７λの
五酸化タンタル、−酸化チタン、二酸化チタンまたはこ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタル、−酸
化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層膜からなる
第６層および該第６層上に形成された光学的膜厚０．２
４λ〜０，３０λの二酸化ケイ素、フッ化マグネシウム
またはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフ
ッ化マグネシウムの多層膜からなる第７層からなること
を特徴とする合成樹脂基板の多層反射防止膜。(1) Optical film thickness 001 formed on resin substrate
A first layer made of a silicon monoxide film of 3λ to λ [λ (wavelength of light) = 450 to 550 nm:], a second layer made of a silicon dioxide film of 013λ to λ formed on the first layer, a third layer formed on the second layer and consisting of a film of alumina, silicon oxide or a mixture thereof having an optical thickness of 0.36λ to 044λ, or a multilayer film of alumina and silicon monoxide; Optical film thickness formed on top: 018λ~0.2
2λ (4th layer consisting of a film of zirconium oxide, cerium oxide or a mixture thereof, or a multilayer film of zirconium oxide and cerium oxide, the optical film thickness formed on the fourth layer is 0.03λ to 0. A fifth layer consisting of a film of silicon dioxide, magnesium fluoride or a mixture thereof, or a multilayer film of silicon dioxide and magnesium fluoride, having an optical thickness of 022λ to 0.04λ, formed on the fifth layer. A sixth layer consisting of a film of tantalum pentoxide, -titanium oxide, titanium dioxide, or a mixture of two or more thereof, or a multilayer film of two or more of tantalum pentoxide, -titanium oxide, and titanium dioxide, and the sixth layer Optical film thickness formed on top: 0.2
A multilayer antireflection coating on a synthetic resin substrate, characterized by comprising a seventh layer consisting of a film of silicon dioxide, magnesium fluoride, or a mixture thereof, or a multilayer film of silicon dioxide and magnesium fluoride, with a thickness of 4λ to 0.30λ. . （２）前記第２層から第７層までが活性化反応蒸着によ
り形成されたものである特許請求の範囲第１項記載の反
射防止膜。(2) The antireflection film according to claim 1, wherein the second to seventh layers are formed by activated reaction vapor deposition.