JPH10123303A - Antireflection optical parts - Google Patents
Antireflection optical partsInfo
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- JPH10123303A JPH10123303A JP8297210A JP29721096A JPH10123303A JP H10123303 A JPH10123303 A JP H10123303A JP 8297210 A JP8297210 A JP 8297210A JP 29721096 A JP29721096 A JP 29721096A JP H10123303 A JPH10123303 A JP H10123303A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックレン
ズ等の反射防止光学部品に関する。The present invention relates to an antireflection optical component such as a plastic lens.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光学用プラスチック材料は加工性が良
く、透光製、機械的強度に優れ、また小型、軽量化が可
能で量産性が良好であることからレンズ等の光学部品に
広く使用されている。一般的に、光学部品は光学的な性
能を上げるために表面に反射防止膜が形成される。ガラ
スレンズのようなガラス製の光学部品の場合には、反射
防止コーティングは、ガラス基材と膜との密着性を確保
するために、ガラス基材を３００℃程度まで加熱し、蒸
着により成膜を形成することにより行なわれる（例えば
特開平６−１０９９０２号公報）。2. Description of the Related Art Optical plastic materials are widely used for optical parts such as lenses because of their good workability, light transmission, excellent mechanical strength, small size, light weight and good mass productivity. ing. Generally, an antireflection film is formed on the surface of an optical component to improve optical performance. In the case of an optical component made of glass such as a glass lens, the antireflection coating is formed by heating the glass substrate to about 300 ° C. and vapor-depositing the film in order to secure adhesion between the glass substrate and the film. (For example, JP-A-6-109902).
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チック基材の場合には、これが耐熱性に劣るため、反射
防止膜を形成する際には、ガラス製品の場合とは異な
り、基材加熱を行なうことができない。そのため、プラ
スチック基材に対するコーティング膜に関しては、十分
な密着性や耐久性を得ることが困難であった。すなわ
ち、一般的に可視光帯域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を
対象とする反射防止膜は、一般的に高屈折率層と低屈折
率層の交互の繰り返しによる積層構造膜から構成され
る。高屈折率層用の材料としては種々存在するが、低屈
折率層用の材料は、実用的な見地から略ＭｇＦ2とＳｉ
Ｏ2の２種類に限られている。ＭｇＦ2 は、より屈折率
が低くて優れた分光特性を与える好ましい物質である。
しかしながら、このＭｇＦ2は、現状においては基材温
度を例えば３００℃程度まで十分に上げて蒸着すること
によってしか十分な硬度の膜を得ることができない。し
かるに、前述のようにプラスチック基材は耐熱性に劣る
ことから、成膜時にこれを十分な温度まで加熱すること
ができず、このためにコーティング膜の密着性や耐久性
が悪く、また、内部応力の緩和によりクラック等も発生
するという問題点があった。However, in the case of a plastic substrate, since it is inferior in heat resistance, it is necessary to heat the substrate when forming an anti-reflection film, unlike in the case of a glass product. Can not. Therefore, it has been difficult to obtain sufficient adhesion and durability for a coating film on a plastic substrate. That is, an anti-reflection film generally for the visible light band (400 nm to 700 nm) is generally composed of a multilayer structure film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately repeated. There are various materials for the high-refractive-index layer, but materials for the low-refractive-index layer are substantially MgF 2 and Si from a practical point of view.
O 2 is limited to two types. MgF 2 is a preferred material that has a lower refractive index and provides superior spectral properties.
However, under the present circumstances, a film having sufficient hardness can be obtained only by vapor-depositing MgF 2 at a substrate temperature sufficiently raised to, for example, about 300 ° C. However, as described above, since the plastic base material has poor heat resistance, it cannot be heated to a sufficient temperature at the time of film formation, so that the adhesion and durability of the coating film are poor and the internal There is a problem that cracks and the like also occur due to relaxation of the stress.
【０００４】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものであり、その目
的は、密着性及び耐久性の高い反射防止膜を有する反射
防止光学部品を提供することにある。[0004] The present invention focuses on the above problems,
The present invention has been made to solve this problem effectively, and an object thereof is to provide an antireflection optical component having an antireflection film having high adhesion and durability.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、耐熱性が劣る透明基材と、この透明基
材上に屈折用部材を順次積層した第１層から第５層と、
この第４層と第５層との間に設けた混合物層とからなる
反射防止膜とを備えた反射防止光学部品であって、前記
第１層及び第３層は第１の低屈折用部材からなり、前記
第２層及び第４層は高屈折用部材からなり、前記第５層
は前記第１の低屈折用部材の屈折率よりも低屈折の第２
の低屈折用部材からなり、前記混合物層は、前記第４層
に用いられる高屈折用部材と前記第５層に用いられる第
２の低屈折用部材とを主成分とする混合物からなるよう
にしたものである。また、本発明は、プラスチック基材
の表面に５層からなる反射防止膜を形成し、設計波長を
λ0 として各層の光学的膜厚が基材側より数えて順に、
第１層は０．５００λ0 、第２層は０．１２０λ0 〜
０．１３０λ0 、第３層は０．０３２λ0 〜０．０６０
λ0 、第４層は０．２５０λ0 〜０．３００λ0 、第５
層は０．２５０λ0 〜０．２６０λ0 であり、且つ第１
層及び第３層に用いられる物質がＳｉＯ2であり、第２
層、及び第４層に用いられる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2の
混合物、或いはＴａ2Ｏ5であり、第５層に用いられる物
質がＭｇＦ2である反射防止光学部品を形成した。これ
によれば、高い光学特性を維持しつつ、反射防止膜のプ
ラスチック基材、或いは透明基材との密着性を向上さ
せ、且つ耐久性を向上させることが可能となる。このよ
うな反射防止膜のコーティングは、プラスチック基材、
或いは透明基材を加熱することなく真空蒸着により容易
に形成することができる。また、上記混合物層の膜厚
は、１ｎｍ〜１０ｎｍ程度に設定するのが好ましい。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a transparent base material having poor heat resistance and a first to fifth layers in which a refractive member is sequentially laminated on the transparent base material. Layers and
An anti-reflection optical component comprising an anti-reflection film comprising a mixture layer provided between the fourth layer and the fifth layer, wherein the first and third layers are a first member for low refraction. Wherein the second layer and the fourth layer are made of a member for high refraction, and the fifth layer is made of a second material having a lower refractive index than the refractive index of the first member for low refraction.
The mixture layer is made of a mixture mainly composed of the high refractive member used for the fourth layer and the second low refractive member used for the fifth layer. It was done. Further, the present invention forms an antireflection film consisting of five layers on the surface of a plastic substrate, and sets the design wavelength to λ 0 , and the optical film thickness of each layer is counted in order from the substrate side,
The first layer is 0.500λ 0 , the second layer is 0.120λ 0 ~
0.130λ 0 , the third layer is 0.032λ 0 to 0.060
λ 0 , the fourth layer is 0.250λ 0 to 0.300λ 0 ,
The layer is between 0.250λ 0 and 0.260λ 0 and the first
The substance used for the layer and the third layer is SiO 2 ,
An antireflection optical component was formed in which the material used for the layer and the fourth layer was a mixture of TiO 2 and ZrO 2 or Ta 2 O 5 , and the material used for the fifth layer was MgF 2 . According to this, it is possible to improve the adhesion of the antireflection film to the plastic substrate or the transparent substrate and to improve the durability while maintaining high optical characteristics. Such anti-reflective coatings can be applied to plastic substrates,
Alternatively, the transparent substrate can be easily formed by vacuum deposition without heating. The thickness of the mixture layer is preferably set to about 1 nm to 10 nm.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る反射防止光
学部品の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１
は本発明に係る反射防止光学部品の部分拡大断面図であ
る。図示するように、この反射防止光学部品１は、素材
となる透明基材、例えばプラスチック基材２の表面に、
第１層３Ａから第５層３Ｅまで順次積層された５層から
なる反射防止膜３を形成して構成されている。設計波長
をλ0 とすると、各層の光学的膜厚は、第１層３Ａが
０．５００λ0 、第２層３Ｂが０．１２０λ0〜０．１
３０λ0 の範囲内、第３層３Ｃが０．０３２λ0 〜０．
０６０λ0 の範囲内、第４層３Ｄが０．２５０λ0 〜
０．３００λ0 の範囲内、第５層３Ｅが０．２５０λ0
〜０．２６０λ0 の範囲内になるようにそれぞれ設定さ
れている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an antireflection optical component according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG.
1 is a partially enlarged sectional view of an antireflection optical component according to the present invention. As shown in the figure, the antireflection optical component 1 is provided on a surface of a transparent base material such as a plastic base material 2.
The antireflection film 3 is composed of five layers sequentially laminated from a first layer 3A to a fifth layer 3E. If the design wavelength is lambda 0, the optical thickness of each layer, the first layer 3A is 0.500Ramuda 0, the second layer 3B is 0.120λ 0 ~0.1
In the range of 30λ 0, the third layer 3C is 0.032λ 0 ~0.
In the range of 060λ 0, the fourth layer 3D is 0.250λ 0 ~
Within the range of 0.300λ 0 , the fifth layer 3E has a thickness of 0.250λ 0.
It is set respectively to be in the range of ~0.260λ 0.
【０００７】また、第１層３Ａ及び第３層３Ｃに用いら
れる物質は、低屈折用部材であるＳｉＯ2であり、第２
層３Ｂ及び第４層３Ｄに用いられる物質は、高屈折用部
材であるＴａ2Ｏ5、或いはＴｉＯ2とＺｒＯ2 の混合物
である。また、第５層３Ｅに用いられる物質はＳｉＯ2
より低屈折率の低屈折用部材であるＭｇＦ2である。ま
た本発明において、第４層３Ｄと第５層３Ｅの境界面
に、第４層３Ｄと第５層３Ｅのそれぞれの物質の混合物
を主成分とする混合物層４が、１ｎｍ〜１０ｎｍの厚み
で形成されている。これにより、反射防止膜３の密着
性、耐環境性及び耐久性を向上させることが可能とな
る。ここで用いられるプラスチック基材２としてはポリ
カーボネイト樹脂、環状ポリオレフィ樹脂等を用いるこ
とができる。また、設計波長λ0 は、光学部品の用途に
もよるが、例えば５２０ｎｍ程度である。各層の形成
は、プラスチック基材２を加熱することなく、例えば電
子ビーム蒸着法等を用いた真空蒸着法により行なえばよ
い。また、混合物層４の形成は、イオンビームアシスト
法による蒸着や第４層３Ｄの蒸着終了と第５層３Ｅの蒸
着開始をクロスオーバーさせる方法などを採用すること
により容易に行なうことができる。The material used for the first layer 3A and the third layer 3C is SiO 2 which is a low refraction member.
The substance used for the layer 3B and the fourth layer 3D is Ta 2 O 5 , which is a member for high refraction, or a mixture of TiO 2 and ZrO 2 . The material used for the fifth layer 3E is SiO 2
MgF 2 , which is a low refractive index member having a lower refractive index. Further, in the present invention, a mixture layer 4 mainly containing a mixture of the respective substances of the fourth layer 3D and the fifth layer 3E is formed on the interface between the fourth layer 3D and the fifth layer 3E with a thickness of 1 nm to 10 nm. Is formed. This makes it possible to improve the adhesion, environmental resistance, and durability of the antireflection film 3. As the plastic substrate 2 used here, a polycarbonate resin, a cyclic polyolefin resin, or the like can be used. The design wavelength λ 0 is, for example, about 520 nm, although it depends on the use of the optical component. The formation of each layer may be performed without heating the plastic substrate 2 by, for example, a vacuum evaporation method using an electron beam evaporation method or the like. Further, the formation of the mixture layer 4 can be easily performed by employing a method of crossing over the deposition by the ion beam assist method or the end of the deposition of the fourth layer 3D and the start of the deposition of the fifth layer 3E.
【０００８】ここで、プラスチック基材としてポリカー
ボネイト樹脂を使用して反射防止膜を形成した時の具体
的実施例について説明する。ここでは、設計波長λ0 と
して５２０ｎｍを選択した。本実施例では、ポリカーボ
ネイト樹脂を基材とするレンズ形状のプラスチック基材
２を真空蒸着装置内のドームに固定して内部を２．０×
１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、第１層から第５層まで
の各層の蒸着物質を電子ビーム蒸着法、もしくは抵抗加
熱法を用いて基材上に順次形成した。各層の光学的膜厚
は表１に示す通りであり、膜厚の制御は水晶式膜厚計と
光学式膜厚計によって行なった。Here, a specific example in which an antireflection film is formed using a polycarbonate resin as a plastic substrate will be described. Here, 520 nm was selected as the design wavelength λ 0 . In this embodiment, a lens-shaped plastic substrate 2 made of a polycarbonate resin is fixed to a dome in a vacuum evaporation apparatus, and the interior is 2.0 ×
Evacuation was performed to 10 −5 Torr or less, and the deposition materials of the first to fifth layers were sequentially formed on the substrate by using an electron beam evaporation method or a resistance heating method. The optical film thickness of each layer is as shown in Table 1, and the film thickness was controlled by a quartz crystal film thickness meter and an optical film thickness meter.
【０００９】[0009]
【表１】 [Table 1]
【００１０】本実施例では、プラスチック基材を高温に
加熱せずに密着性、耐久性の良好な第５層のＭｇＦ2層
３Ｅを得る方法として、第４層３ＤのＴｉＯ2とＺｒＯ2
の混合物と第５層３ＥのＭｇＦ2との境界面に双方の混
合物層４を形成した。この混合物層４を形成する手段と
しては、イオンビームアシスト法による蒸着、電子線照
射による蒸着、イオンボンバード、または第４層３Ｄの
蒸着終了と第５層３Ｅの蒸着開始をクロスオーバーさせ
る方法等が挙げられる。このような手段によって形成さ
れた第４層３Ｄと第５層３Ｅの界面を、例えばオージェ
電子分光法による深さ方向の分析を行なうと、境界面に
双方の元素を含み、且つある程度の厚さ、例えば１ｎｍ
〜１０ｎｍ程度の厚さの混合物質を有するプロファイル
が観測された。また、第２層３Ｂの光学的膜厚が０．１
２０λ0 より小さい場合、０．１３０λ0 より大きい場
合、第３層３Ｃの光学的膜厚が０．０３２λ0 より小さ
い場合、０．０６０λ0 より大きい場合、第４層３Ｄの
光学的膜厚が０．２５０λ0 より小さい場合、０．３０
０λ0 より大きい場合、第５層３Ｅの光学的膜厚が０．
２５０λ0 より小さい場合、０．２６０λ0 よりも大き
い場合には、共に分光反射率が大きくなって好ましくな
かった。In this embodiment, as a method for obtaining a fifth MgF 2 layer 3E having good adhesion and durability without heating the plastic substrate to a high temperature, the TiO 2 and ZrO 2 of the fourth layer 3D are used.
And the mixture layer 4 was formed on the interface between the mixture of No. 5 and MgF 2 of the fifth layer 3E. Means for forming the mixture layer 4 include vapor deposition by an ion beam assist method, vapor deposition by electron beam irradiation, ion bombardment, or a method of crossing over the end of the deposition of the fourth layer 3D and the start of the deposition of the fifth layer 3E. No. When the interface between the fourth layer 5D and the fifth layer 3E formed by such means is analyzed in the depth direction by, for example, Auger electron spectroscopy, the boundary surface contains both elements and has a certain thickness. , For example, 1 nm
A profile with a mixture of about 10-10 nm thickness was observed. The optical thickness of the second layer 3B is 0.1
20Ramuda 0 is smaller than, 0.130Ramuda 0 greater than the optical thickness of the third layer 3C may 0.032Ramuda 0 less than, 0.060Ramuda 0 greater than, the optical film thickness of the fourth layer 3D 0.30 if less than 0.250λ 0
If it is larger than 0λ 0 , the optical film thickness of the fifth layer 3E is equal to 0.
250Ramuda 0 is smaller than, is greater than 0.260Ramuda 0 is not preferable increases both spectral reflectance.
【００１１】更に、混合物層４の物理的膜厚が１ｎｍよ
り小さい場合及び１０ｎｍより大きい場合には共に機械
的強度が低下して好ましくなかった。図２に本実施例に
よる試料の垂直入射光に対する分光反射率特性を示す。
グラフから明らかなように、４００ｎｍ〜７００ｎｍの
可視光帯域において、両サイドは僅かに分光反射率が
１．０％近傍まで上昇しているが、それ以外の部分で
は、せいぜい０．１％程度であり、従来の光学部品と同
様に高い反射防止効果を得ることができた。また、この
試料を、温度６０℃、湿度９０％の雰囲気下に５００時
間晒して高温多湿試験を行ない、更に、この試料を−３
０℃と＋６０℃との間で５回温度変化させてヒートショ
ック試験を行なったところ、膜の密着性は何ら劣化せ
ず、また、クラックの発生も見られなかった。また、こ
の際、反射防止効果も劣化することはなかった。Further, when the physical thickness of the mixture layer 4 is smaller than 1 nm and when it is larger than 10 nm, the mechanical strength is lowered unfavorably. FIG. 2 shows the spectral reflectance characteristics of the sample according to the present embodiment with respect to normal incident light.
As is clear from the graph, in the visible light band from 400 nm to 700 nm, the spectral reflectance on both sides slightly increases to around 1.0%, but in other portions, the spectral reflectance is at most about 0.1%. As a result, a high antireflection effect was obtained as in the case of the conventional optical components. The sample was exposed to an atmosphere at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% for 500 hours to perform a high-temperature and high-humidity test.
When a heat shock test was carried out by changing the temperature between 0 ° C. and + 60 ° C. five times, the adhesion of the film did not deteriorate at all, and no cracks were observed. At this time, the antireflection effect did not deteriorate.
【００１２】[0012]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の反射防止
光学部品によれば、次のように優れた作用効果を発揮す
ることができる。プラスチック基材上に、基材を加熱せ
ずに反射防止膜を形成することにより、優れた反射防止
効果を示すと共に高い耐久性、密着性が得られ、クラッ
クの発生も認められない反射防止光学部品を得ることが
できる。As described above, according to the antireflection optical component of the present invention, the following excellent functions and effects can be exhibited. By forming an anti-reflection film on a plastic substrate without heating the substrate, it has excellent anti-reflection effects, high durability and adhesion, and no cracks are observed. Parts can be obtained.
【図１】本発明に係る反射防止光学部品の部分拡大断面
図である。FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of an antireflection optical component according to the present invention.
【図２】本発明の反射防止光学部品の分光反射率特性を
示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a spectral reflectance characteristic of the antireflection optical component of the present invention.
１…反射防止光学部品、２…プラスチック基材（透明基
材）、３… 反射防止膜、３Ａ…第１層、３Ｂ…第２
層、３Ｃ…第３層、３Ｄ…第４層、３Ｅ…第５層、４…
混合物層。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Anti-reflective optical component, 2 ... Plastic base material (transparent base material), 3 ... Anti-reflective film, 3A ... First layer, 3B ... Second
Layers, 3C: third layer, 3D: fourth layer, 3E: fifth layer, 4 ...
Mixture layer.
Claims (3)
上に屈折用部材を順次積層した第１層から第５層と、こ
の第４層と第５層との間に設けた混合物層とからなる反
射防止膜とを備えた反射防止光学部品であって、前記第
１層及び第３層は第１の低屈折用部材からなり、前記第
２層及び第４層は高屈折用部材からなり、前記第５層は
前記第１の低屈折用部材の屈折率よりも低屈折の第２の
低屈折用部材からなり、前記混合物層は、前記第４層に
用いられる高屈折用部材と前記第５層に用いられる第２
の低屈折用部材とを主成分とする混合物からなることを
特徴とする反射防止光学部品。1. A transparent base material having inferior heat resistance, first to fifth layers in which a refraction member is sequentially laminated on the transparent base material, and provided between the fourth and fifth layers. An anti-reflection optical component comprising an anti-reflection film comprising a mixture layer, wherein the first layer and the third layer are made of a first low refractive member, and the second layer and the fourth layer are high refractive. The fifth layer is composed of a second low refractive member having a lower refractive index than the refractive index of the first low refractive member, and the mixture layer is a high refractive index used for the fourth layer. Member used for the fifth layer and the second member
An anti-reflection optical component comprising a mixture containing a low refractive index member as a main component.
反射防止膜を形成し、設計波長をλ0 として各層の光学
的膜厚が基材側より数えて順に、第１層は０．５００λ
0 、第２層は０．１２０λ0 〜０．１３０λ0 、第３層
は０．０３２λ0〜０．０６０λ0 、第４層は０．２５
０λ0 〜０．３００λ0 、第５層は０．２５０λ0 〜
０．２６０λ0 であり、且つ第１層及び第３層に用いら
れる物質がＳｉＯ2であり、第２層、及び第４層に用い
られる物質がＴｉＯ2とＺｒＯ2の混合物、或いはＴａ2
Ｏ5であり、第５層に用いられる物質がＭｇＦ2であるこ
とを特徴とする反射防止光学部品。Wherein forming the anti-reflection film composed of five layers on the surface of the plastic substrate, in order optical thickness of each layer design wavelength as lambda 0 is counted from the substrate side, the first layer 0.500λ
0 , the second layer is 0.120λ 0 to 0.130λ 0 , the third layer is 0.032λ 0 to 0.060λ 0 , and the fourth layer is 0.25
0λ 0 to 0.300λ 0 , the fifth layer is 0.250λ 0 to
0.260λ 0, and materials used in the first and third layers are SiO 2, second layer, and materials used in the fourth layer is a mixture of TiO 2 and ZrO 2, or Ta 2
An O 5, the anti-reflection optical component materials used in the fifth layer is characterized in that it is a MgF 2.
と第５層の混合物層が物理的膜厚で１ｎｍ〜１０ｎｍの
厚さに形成されていることを特徴とする請求項１記載の
反射防止光学部品。3. The method according to claim 1, wherein a mixed layer of the fourth layer and the fifth layer is formed on the interface between the fourth layer and the fifth layer to a physical thickness of 1 nm to 10 nm. The anti-reflection optical component according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297210A JPH10123303A (en) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | Antireflection optical parts |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297210A JPH10123303A (en) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | Antireflection optical parts |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123303A true JPH10123303A (en) | 1998-05-15 |
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ID=17843613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8297210A Pending JPH10123303A (en) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | Antireflection optical parts |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10123303A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0994368A2 (en) * | 1998-10-13 | 2000-04-19 | Nikon Corporation | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same |
| FR2817267A1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-05-31 | Essilor Int | METHOD FOR DEPOSITING COLD ANTI-REFLECTIVE LAYER ON ORGANIC SUBSTRATE |
| JP2009042278A (en) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Hoya Corp | Anti-reflection film, and optical member using the same |
| JP2009145710A (en) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | Static charge removing function of optical multilayer-film filter |
| JP2011158909A (en) * | 2011-03-02 | 2011-08-18 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | Optical multilayer film filter |
| JP2018180493A (en) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | Optical thin film |
-
1996
- 1996-10-18 JP JP8297210A patent/JPH10123303A/en active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0994368A2 (en) * | 1998-10-13 | 2000-04-19 | Nikon Corporation | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same |
| EP0994368A3 (en) * | 1998-10-13 | 2000-05-03 | Nikon Corporation | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same |
| FR2817267A1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-05-31 | Essilor Int | METHOD FOR DEPOSITING COLD ANTI-REFLECTIVE LAYER ON ORGANIC SUBSTRATE |
| WO2002044440A1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-06-06 | Essilor International | Method for cold process deposition of an antiglare layer |
| AU2002222043B2 (en) * | 2000-11-28 | 2006-10-12 | Essilor International | Method for cold process deposition of an antiglare layer |
| US7175878B2 (en) | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
| JP2009042278A (en) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Hoya Corp | Anti-reflection film, and optical member using the same |
| JP2009145710A (en) * | 2007-12-17 | 2009-07-02 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | Static charge removing function of optical multilayer-film filter |
| US8233219B2 (en) | 2007-12-17 | 2012-07-31 | Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. | Optical multilayer thin-film filters and methods for manufacturing same |
| JP2011158909A (en) * | 2011-03-02 | 2011-08-18 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | Optical multilayer film filter |
| JP2018180493A (en) * | 2017-04-21 | 2018-11-15 | キヤノン株式会社 | Optical thin film |
| US11346983B2 (en) | 2017-04-21 | 2022-05-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical thin film and manufacturing method of optical element |
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