JPS60130562A - ジフエニルエ−テル、その製造法及び該化合物を有効物質として含有する除草剤 - Google Patents

ジフエニルエ−テル、その製造法及び該化合物を有効物質として含有する除草剤

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JPS60130562A
JPS60130562A JP23871284A JP23871284A JPS60130562A JP S60130562 A JPS60130562 A JP S60130562A JP 23871284 A JP23871284 A JP 23871284A JP 23871284 A JP23871284 A JP 23871284A JP S60130562 A JPS60130562 A JP S60130562A
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halogenated
alkyl
alkyl group
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JP23871284A
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アドルフ、パルク
ゲールハルト、ハムプレヒト
ブルーノ、ヴユルツアー
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BASF SE
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BASF SE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 厘架上の利用分野 不発明は、ジフェニルエーテル、その製造法及び該化付
物をn動物質として富有する除草剤に関する。更に1本
発明は、該化合物を使用して蚤ましからぬ[物生長を防
除することにも関連する。
従来技術 刊行物のB己載により、ニトロ基に対してオルト位に!
換アミノスルホニル基を何する。ジフェニルエーテルの
枇類からの檎々の除草作用する有効物質は、公知である
(ドイツ連邦共和国待針出願公開第2261918号明
細誉、同第zas3oz1号明細薔)O 作用 式 (1ン : zl 〔式中。
Zl及びZ!はそれぞれ互いに独立に水素原子。
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ&、C
,NC4−アルキル基+01〜C1−ハロゲン化アルキ
ル基又はC8〜c4−アルコキシ&(ff衣ゎし。
Zlはハロゲン原子、ニトロ基、シアノM、C。
NC4−アルキル基、01〜c4−ハロゲン化アルキル
基r 01NC4−アルコキシ基、01〜c4−ハロゲ
ン化アルコキシ基、C1Nc4−アルキルメルカプト基
C,NC4−ハロゲン化アルキルメルカプ)M、C,〜
C4−フルキルスルフィニルM、C,〜c4−ハロゲン
化アシアルキルスルフィニル基1〜c4−アルキルスル
ホニル基又はC1〜C4−ハロゲン化アルキルスルホニ
ル基を表わし。
Xは水素原子、C1〜C4−アルキル基、7個までの炭
素原子を有するハロゲン化されていてもよ一アシル基、
アルカリ金属イオン又はアルキル化されていてもよいア
ンモニウムイオンを表わし。
Rは01〜Cl0−アルキル基、C8〜Ctt−ハロゲ
ン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。ハロ
ゲン原子によってt侠されていてもよい芳香脂肪族基、
3〜12個の炭**子を有するシクロアルキル基9wt
侠されていてもよいフェニル基、アミノ基、01〜C4
−アルキルアミ7基又はジ−01〜C4−アルキルアミ
7基を表わし。
n及びmはそれぞれ互いに独立に0.1又は2の数を表
わす〕で示されるジフェニルエーテルは。
+14181!及び施用量に応じて全体的又はiM択的
に除草作用を有することが判明した。
式(])甲のzl及びz2は、それぞれ互いに独立に水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基。
カルボキシ基、C1〜C番−アルキル基、01〜C4−
ハロゲン化アルキル基又はC1〜C,−アルコキシ基。
例えば弗素原子、塩素原子、臭紫原子、沃累原子。
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基
、n−ブチル基、第ミプチル基、トリフルオルメチル基
、ジフルオルメチル基、フルオルメチル基、トリークロ
ルメチル基、ジクロルメチル基。
クロルメチル基、ジフルオルクロルメチル基、l−クロ
ルエチルJli、2−’クロルエチル基、1−フルオル
エチル基、2−フルオルエチルM、12゜2−トリクロ
ルエチル基、2,2.g−t’リアルオルエチルM、1
.1,2.2−テトラフルオルエチル基、1.1.2−
)リアルオル−2−クロルエチル基、1.l、2,2.
2−ペンタフルオルエチル基、メト千シ基、エトキシ基
、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基又は第
三ブチルオキシ基を衷わす。
式(J)のz3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基
、C,NC,−アルキル基、C1〜C4−ハロゲン化ア
ルキル基、01〜04−アルコキシ基、C,#C,−ハ
ロゲン化アルコキシ基、C8〜C4−アルキル゛メルカ
プト基、C+〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプト基
C1〜C4−アルキルスルフィニルM、C+〜C4−ハ
ロゲン化アルキルスルフ″イニル基、C2〜C4−アル
キルスルホニル基又はClNC4−ハロゲン化アルキル
スルホニル基を表わし1例えは弗素原子、塩素原子、臭
素原子、沃素原子、メチル基、エチル基。
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基。
第二ブチル基、トリフルオルメチル基、ジフルオルメチ
ル基、フルオルメチル基、トリクロルメチル基、ジクロ
ルメチル基、クロルメチル基、1−クロルエチル基、2
−クロルエチル&l 1−フルオルエチル基、2−フル
オルエチル基、2,2゜2−トリクロルエチル基、2.
,2.2−トリフルオルエチル’lk、1,1.2.2
−テトラフルオルエチル基、1.1.2−)リアルオル
−2−クロルエチル基、1.l、2,2.2−ペンタフ
ルオルエチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ。
ビルオキシ基、イソプロピルオキシ基、第二ブチルオキ
シ基、トリクロルメトキシ基、トリフルオルメトキシ基
、1−クロルエトキシ基、2−クロルエトキシi、1−
フルオルエトキシ基、2−フルオルエチル基、+g、、
2.j2−)リクo、/L/エトキシ基、2,2.2−
トリフルオルエトキシ基。
1.1,2.2−テトラフルオルエトキシ基、1゜1.
2,2.2−ペンタフルオルエトキシ基、メチルメルカ
プト基、エチル−メルカプト基、トリクロルメチルメル
カプト基、トリフルオルメチルメルカプト基、メチルス
ルフィニル基、エチルスルフィニル基、メチルスルホニ
ル基、エチルスルホニル基又はトリフルオルメチルスル
ホニル基ヲ衣わ丁。
式(1)甲のXは、水素原子を衣すし、C1〜C2−ア
ルキル基、飼えばメチル基、エチル参、n−プロピル基
、2−プロピルAt n−ブチル基、第三ブチル基を衷
わし、ハロゲン原子によって一換葛れていてもよい7個
までの炭素原子を有するアシル基1例えばアセチル基、
プロピオニル基、クロルアセチル基、ジクロルアセチル
基、ベンソイル基を衣わし、アルカリ金属イオン、列え
にナトリウムイオンもしくはカリウムイオンな衣わすか
又はアルキル化されて−てもよいアンモニウムイオン。
例えばアンモニウムイオン、メチルアンモニウムイオン
、ジメチルアンモニウムイオン、トリメチルアンモニウ
ムイオン、テトラメチルアンモニウムイオン、エチルア
ンモニウムイオン、ジエチルアンモニウムイオン、トリ
エチルアンモニウムイオンもしくはn−ブチルアンモニ
ウムイオンを表わす。
式(1)甲のRは、01〜喝−アルキル基、特に01〜
C1−アルキル基、殊に01〜C4−アルキル基1列え
はメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基及び異性体ペンチル−
、ヘキシル−又はヘプチル基な表わしl CI””C1
t−ハロゲン化アルキル基、将に01〜C4−ハロゲン
化アルキル基1列えeJクロルメチルM、l−ジクロル
メチル基。2−クロルエチル基。
2−フルオルエチル基、3−クロル−n−プロピル基、
4−クロル−n−ブチル基を衣わし、ハロゲン原子によ
ってttaされていてもよい、7〜20個の炭素原子、
殊に7〜9個の炭素原子を有する芳香脂肪族基1例えは
ペンシル基、4−クロルベンジル、NG、2..4−ジ
クロルベンジル基、フェネチル基、7エンプロビル基を
表わし、3〜12個。
特に3〜6個の炭素原子、殊に5又は6個の炭素原子を
有するシクロアルキル基、り1jえはシクロプロピル基
、シクロブチル基、シクロペンチル基。
シクロヘキシル基を表わし、ハロゲン原子1例えは弗素
原子、塩素原子、臭素原子、自〜c4−アルキル基1例
えはメチル基、エチル基、c、〜c4−アルコキシ基1
例えはメトキシ基、エトキシ&、c1〜C4−八ロゲン
化アルキル基1例えはトリフルオルメチル基、ニトロ基
又はシアノ基によって!侠されていてもよいフェニル基
を表わし、アミノ基。
C2〜C4−アルキルアミノ基又はジーC,〜C3−フ
ルキルアミノ基9例えはメチルアミノ基、エチルアミ/
M、n−7’ロビルアミノ基、イソプロピルアミノ基、
n−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基。
ジエチルアミ7基、ジ−n−プロピルアミ/基。
ジイソプロピルアミノ基又はジ−n−1チルアミ7基を
表わす。
好ましいジフェニルニーテルハ、 Z” 、 Z” 及
ヒz8がそれぞれ互いに独立に水素原子、ハロゲン原子
、C0〜C2−ハロゲン化アルキル基又は01〜c4−
ハロゲン化アルキルメルカプト基を表わし、Xが水素原
子、01〜C4−アルキル基又はアルカリ金属イオンを
衷わし、RがClNC10−アルキル基1 C。
〜C’+2−ハロゲン化アルキル基を表わすか又はハロ
ゲン原子+ C,〜C4−アルキル基、C,<、−アル
コキシ基、01〜C4−ハロゲン化アルキル基、ニトロ
基もしくはシアノ基によって直換されていてもよいフェ
ニル基を表わし、n1ffo、1叉は2の数を衣わし、
かつmか2の数を表わすような式(1)の化合物である
。殊に、好ましいのは zlが水素原子を表わし zl
か塩素原子を表わし、かつZ3かトリフルオルメチル基
を衣わすような式(1)のジフェニルエーテル、殊に2
−クロル−4−)17フルオルメチルフエノキシ基を含
有する式(1)のジフェニルエーテルである。
E(1)のジフェニルエーテルは、式(II):n 〔式中 zl 、 zj 、 zA及びnはそれぞれI
ll記のものを表わし、 Halはハロゲン原子を衣わ
丁〕で示されるスルホニルハロゲン化物を、少なくとも
等モル皿の式l: ’m 〔式中、R及びmはNu !tのものを衣わy〕で示さ
れる化合物と、不′r7!i性の有伽俗剤中で砺台によ
っては職受谷俸の仔仕卜で一20℃〜+150℃、殊に
0℃〜120℃のtn度で反j心させることによって得
られる。この反蛇:は、非浬軟的又は座枕的に、常圧下
又は圧力下で実施することかできろ0式(1)のジフェ
ニルエーテルのH造法は1例えば次の反応図式によって
記載することができる:出発IfI*は、はぼ化学1拳
的割付で、すなわち出莞?I買順に対して出発物質(2
)の10%までの不足量ないしは過剰量で使用される。
場合によっては。
[’32容体は1反応を児結させるために姉加すること
ができる。更に1反応の際に生じるハロゲン化水素は、
不粘性カス、例えは蓋巣カスを導入することによって排
出することかできる。この方法は。
不活性の有機浴剤中の′1M度−20℃〜+150℃、
特に0℃〜+120℃のスルホニルハロゲン化物叩)俗
te1.を、場合によっては寺モル蛍の取受谷伴と同時
に、不活性の有機苗剤中の出発物質1ンの浴液に流し込
むように実施するのが好ましい。
反応を終結させるためには0.5〜48時間、符に2〜
12時間、0℃〜60℃で後撹拌する。反J心泥合物は
、濾過され、濃縮される。所望の最終生戚物は、再沈殿
、再結晶によって単離することかできるか又は水と一緒
に再攪拌することによって単騎することができ;場合に
よってはそれは、クロマトグラフィーによって精製する
ことかできる。
更に1式(])のジフェニルニーテルハ、式(IV、l
 :1 〔式q、z1.z2.zs、x及0; ’n &Z ’
c し’e t’L nIINtのものを表わし、Ha
lはハロゲン原子を表わす〕で示されるスルホンアミド
を、少なくとも侍モルヒの式(■): Cl5−RCG m 〔式中、R及びmは前記のものを表わす〕で示される化
合物と、不活性の有機俗剤中で場合によりては酸受容体
の存在下で一り0℃〜+150’Q、殊に0℃〜120
℃の流度で反j心させることによって得られる。この反
応は、非連続的又は連続的に、常圧下又は圧力下で実施
すること一1Jzできる。
m及びnがそれぞれ1又は2の数を有するような式(j
)のジフェニルエーテルは1m及びnか0を衣わすよう
な式(1)の化合′@を過当な酸化剤を用いてば化する
ことによって得ることもできる。
Xの置換分アルキル基、ハロゲン化されていてもよいア
シル話、アルカリ金縞イオン又はアンモニウムイオンを
Xか水素原子であるような式(])の化@物中に事後に
導入するためには、昔辿のアルキル化−、アシル化−又
は中相反応6を利用することもできる。
E(])のジフェニルエーテルを式(1v)の化付物と
式(V)の化合物との反応によって製造する方法は。
例えば次の反J心図式によって記載することができる: C15NH2 出光vi質は、はぼ化字菫嗣的割付で、すなわち出発物
質(1■)に対して出発物質(■)の10%までの不足
量ないしは過剰量で使用される。吻合によっては1版父
谷体は1反応(1’光結δせるために硲〃口することか
できる。更に、 ty、、)心の際に生じるハロゲン化
水素は、不活狂ガス、例えば窒素カスを導入することに
よって排出することもできる。この方法は、不活性の有
機浴剤中の温良−20℃〜+150”C,特に0℃〜+
120℃のスルホニルハロゲン化物(V)の浴液を、場
合によっては等モル倉の版受容体と同時に、不活性の有
機溶剤中の出発物3G[(IV)の浴液に流し込むよう
に実施するのが好ましい。
この反応を終結させるためには0.5〜48時間。
特に2〜12時間後撹拌し、その際温度は、o℃〜60
℃の間に保持する。式(])の最終1P/l質は、得沈
殿。
再結晶によって単離することができるが又は水と一緒に
撹拌することによって単!INすることができ;場合に
よってはそれは、クロマトグラフィーによって精製する
ことかできる。
これら2つの方法には、それぞれの反応条件のもとて不
活性の有機浴剤か使用δれる。俗剤としては3例え―ハ
ロゲン化灰化水案、殊に塩素化炭化水素1例えrJテト
ラクロルエチレン、1.l。
2.2−又は1.1.l、2−テトラクロルエタン、ジ
クロルプロパン、塩化メチレン、ジクロルブタン、クロ
ロホルム、クロルナフタリン、ジクロルナフタリン、四
塩化炭紫、1.l、1−又は1.1.2−)リクロルエ
タン、トリクロルエチレン、ペンタクロルエタン、o−
、m−、p−ンフルオルベンゾール、l、2−ジクロル
エタン。
1.1−ジクロルエタン、1.2−シス−ジクロルエチ
レン、クロルベンゾール、フルオルペンゾール、フロム
ペンゾール、ヨードペンゾール、0−、p−、m−ジク
ロルペンゾール、o−、p−。
m−ジブロムペンゾール、o−、’、−、p−クロルド
ルオール、1,2.4−)!Jクロルベンシー/L7 
;ニー f /L’、 91Jにiミニチルプロピルエ
ーテルメチル−第三ブチルエーテル、n−ブチルエチル
エーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエー
テル、ジイソアミルエーテル、ジイソプロピルエーテル
、アニソール、フェネトール、シクロヘキシルメチルエ
ーテル、ジエチルエーテル。
エチレンクリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、チオアニソール、β。
!−ジクロルジエタールエーテル;ニトロ化炭化水素1
例えはニトロメタン、ニトロエタン、ニトロペンゾール
、o−、−、p−90ルニトロベンゾール、0−ニトロ
ドルオール;ニトリル、例えばアセトニトリル、ブチロ
ニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル、m−
クロルベンゾニトリル;脂肪族又は脂環式炭化水素1例
えはへブタン、ピナン、ノナン、o−、m−、p−シア
モール、70℃〜190℃の沸点範囲内のガソリン留分
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、
石油エーテル、ヘキサン、リグロイン。
2.2.4−トリメチルペンタン、2,2.3−トリメ
チルペンタン+ 2.3+3−1’リメチルベンタン、
オクタン;エステル、例えば酢酸エチルエステル、アセ
ト酢酸エステル、酢酸イソ1チルエステル;アミド、例
えはホルムアミド、メチルホルムアミド、ジメチルホル
ムアミド;ケトン。
■えはア七トン、メチルエチルケトン;及び相当する混
合物かこれに該当する。浴剤は、出発′#負に対して1
00〜2000 IL J1%、Wに200〜’700
1ffi%の量で使用するのか好ましい。
1!受容体としては、全部の常用の岐結合剤を使用する
ことかできる。これには、特に第三アミン。
アルカリ土類金縞化合物、アンモニウム化合物及びアル
カリ金属化合物ならびに相当する7M、合物が属する。
しかし、亜鉛化合物を使用してもよい。
例えは1次の塩基性化合物か当てはまる;水ば化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、水酸化リチウム、炭酸リチウム、 ゛麓炭酸ナトリウ
ム、Jim酸カリウム、水ば化カルシウム、酸化カルシ
ウム、酸化バリウム、水ば化マグネシウム、酸化マグネ
シウム、水酸化バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、N戻酸マクネシウみ、匪ハマグネシウム、水融
化!!i!鉛。
赦化亜鉛、炭ば亜鉛、IL炭ば亜鉛、lば亜鉛、蝋ばナ
トリウム、酢版ナトリウム、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリインブチルアミン、トリ
ー第二1チルアミン、トリー第三ブチルアミン、トリベ
ンジルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリアミル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリヘキシルア
ミン。
N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジエチルアニリン
、N、N−ジプロピルアニリン、N、N−ジメチルトル
イジン、N、N−ジエチトルイジン。
N、N−ジプロピルトルイジン、N、N−ジメチル−p
−アミ/ピリジン、N、N−ジエチル−p−アミノピリ
ジン、N、N−ジプロピル−1)−7ミノビリジン+−
N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N−メ
チルピペリジン、N−エチルピペリジン、N−メチルピ
ロリジン、N−エチルピロリジン、N−メチルイミダゾ
ール、N−エチルイミダゾール、N−メチルビロール、
N−エチルビロール、N−メチルモルホリン、N−エチ
ルモルホリン、N−メチルへキサメチレンイミン。
N−エチルへキサメチレンイミン、ピリジン、キノリン
、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、インキ
ノリン、ピリミジン、アクリジン。
N、 N、 N’、 N’−テトラメチルエチレンシア
ミン。
N、N、 N’、 N’−テトラエチルエチレンジアミ
ン。
キノキサリン、キナゾリン、N−プロピルジイソプロビ
ルアミン、N、N’−ジメチルシクロヘキシルアミン、
2.6−ルチジン、2.4−ルチジン。
トリフリルアミン、トリエチレンジアミン。
開始剤組成物は、刊行物に公知の方法により得られる。
すなわち1式印及び式(1v)のエーテルは。
ドイツ連邦共相国特許出願公開第2833021号明細
膏及び同第3212165号明細誉に記載の方法により
得られる。式(4)及び式(V)の化合物は、一般に入
手できるか又は同iK刊行物に公知の方法により得るこ
とができる。
実施列 次に、Wσ記方法による式(1)の化合物の製造を実地
例につき肝脱する。it部と谷賞都との比はにノ幻tで
ある。
実Tm[31/ 無水テトラヒドロフランBoo 谷、’l tIjD甲
の3−〔2′−クロル−4′〜トリフルオルメチルフエ
ノキシ〕−6−ニドロフエニルクロリド19.2崖Jt
 都ノI徹に同時にメタンスルホンぼアミド4.95厘
Xm及びピリジン3−953L JI mを冷加し、そ
の後にこの反応混合物を40℃で2時間撹拌する。引耽
き滑動し。
この反沌;混合物を水500容賞都甲に撹拌混入し。
2n塩叡で酸性にし、形成された沈殿物を吸引測過する
。1.2−ジクロルエタンからの再結晶後。
融点215℃〜218℃の3− (z’−クロル−4′
−トリフルオルメチルフェノキシ〕−6−二トロフエ二
ルーN−メタンスルホニル−スルフェンアミド18.1
 ]LJi!t((=e串82 % ) 1;?i レ
ル(化e物應1)。
実施例コ 3− (2’−クロル−4′−トリフルオルメチルフェ
ノキシ〕−6−ニトロフェニル−N−メタンスルホニル
−スル7エンアミドan:ts及び30%のナトリウム
メチラート3.25]Lji都を無水メタノール100
容lit部中に懸濁させ、この懸濁層を還流湿度に加熱
する。この反応混合物を減圧下で一縮した後、#Ii点
18り℃〜191’cの3− (2’−クロル−4’ 
−) 1Jフルオルメチルフェノキシ〕−6−ニトロフ
ェニル−N−メタンスルホニル−スルフェンアミドのナ
トリウムin8.37:iilLJIim (=収率:
lOO%〕が得られる(化合物&2)。
実地例3 3− (2’ −クロル−4−) +7 フルオルメチ
ルフェノキシ〕−6−ニドロフエニルーN−メタンスル
ホニル−スル7エンアミドs、5mff1s及びクロロ
ホルム150容jk鄭甲の(85%の)メタークロル過
安息査酸3−85N :it mの浴液を至湛で12時
間攪拌する。その後に、この反応混合物を希苛性ソーダ
液で抽出し、水で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
側台し、かつ乾燥のために菌紬する。融点178℃〜1
81℃の3−〔z−クロル−4′−トリフルオルメチル
フェノキシ〕−6−ニトロフェニル−N−メタンスルホ
ニル−スルフィンばアミド8皿重部(=収率87%)が
倚られる(化合物点3)。
実施例≠ 3− (2’−クロル−41−トリフルオルメチルフェ
ノキシ〕−6−二トロフエニルーN−メタンスルホニル
−スル7エンアミド8−831 it ta及びクロロ
ホルム150 谷:kt m中の(85%のツメターク
ロル過安息香酸9.36皿Itsの浴液な40℃で4時
間撹拌する。その後に、このL Ii6 浴液を希苛性
ソーダ液で抽出し、水で抽出し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、測過し、かつ乾11!0ためにW紬する0屈街率
n物1.5469σ) 3− (2’−り0 ルー 4
’ −1,リフルオルメチルフェノキシ〕−6−ニトロ
フェニル−N−メタンスルホニル−スルホン敵アミド9
1i都(=収4395%)が得られる(化合物点4)。
実施例5 3− (2’−クロル−4′−トリフルオルメチル−フ
ェノキシクー6ニトロロフエニルーN−メタンスルホニ
ル−スルフェンアミドl0IL:!Hμ、ジメチルスル
フェート2.9]Lit都及びアセトン100容X都甲
の炭ばカリウム3,21童部の混合物を64℃で2時間
撹拌する。その後に吸引m過し、この反j心俗液を乾燥
のために―紬する。ジイソプロピルエーテルからの再結
晶後、融点128℃〜130℃の3−〔2′−クロル−
4’ −) 1J フルオルメチルフニトロシフ−6−
二トロフエニルーN−メチル−N−メタンスルホニル−
スルフェンアミド7 k 鼠*μ(=収率69%)が得
られる(化合物点5)。
実施例6 ピリジン50容量部中の3− (2’−クロル−4′−
トリフルオルメチルフェノキシ〕−6−ニトロ7二二ル
スルフエン酸クロリド9.1 if部の溶液に少Xずつ
ペンゾールスルホン酸アミド3.LmJl゛を添加する
。この反応混合物を40℃で3時間さらに攪拌し1次い
で水に撹拌混入し、かっ3n塩酸で酸性にする。析出し
た沈殿物を吸引側渦し、l。
2−ジクロルエタンから再結晶させる。融点170℃〜
178℃の3− [2′−クロル−4′−トリフルオル
メチルフェノキシ〕−6−ニトロフェニル−N−ペンゾ
ールスルホニル−スル7工ンシアミド7皿量都(=収率
77%)が有られる(化合物点6)。
相当して3例えは式: で示きれる次の化合物を得ることかできる。
5 A n m X’ R融点[−c):nD ;7 0 
2 ブセチル メチル 8 0 2 アンモニウム 9 0 2 ジメチルアンモニウム 〃10 0 2 
エチル 〃 11 1 2 メチル 12 2 2 tt tt 13 2 2 ナトリウム 250℃(分m)1412
’// tt 240℃ 1502Hエチル 16 0 2 ナトリウム 17 0 2 メチル 18 1 2 H 922H 2012ナトリウム 2122// 220’2Hn−’フリヒフし 23 0 2 ナトリウム 24 1 2 H 522H 26l 2 ナトリウム 2722// 2802Hi−フb嵯 29 1 2 H 30’2 2 H 3102ナトリウム 3212 p tt 3322# 34 0 2 メチル 3502Hn−ブチル 36 L 2 H 3722H 2S 0 2 ナトリウム 39 1 2 1/ 4022// 〃 4102Hクロルメチル 212H 3228 4402ナトリウム 4512 // 4622 tt 4702Hベンジル 48 0 2 ナトリウム 4902Hクロルペンシル 50 0 2 ナトリウム 5102 tt フェニル 150℃(分解)52 1
 2 H、70775℃ 53 2 2 H90−92℃ 54 0 2 メチル 145−148℃55 1 2
 ナトリウム 5622 p 5702H4−クロルフェニル 168−17058 
0 2 ナトリウム 145℃(分1件)59 0 2
 メチル tt 、12B−132℃60 0 2 エ
チル 61 1 2 H75−82℃ 62 2 2 H75−80℃ 6302H2−クロルフェニル 110−113℃64
 0 2 ナトリウム 100℃(分m )65 0 
2 メチル 130−140℃66 1 2 )( 6722H170−174℃ 6802H4−フルオルワヱニル 115−120℃6
9 O2ナトリウム ’70”C(分解)70 0 2
 メチル 1.6141 7112 H油状 222H 7302H4−70ムフエニル 145−150℃74
 0 2 ナトリウム 160℃(分解)75 0 2
 メチル 64−66℃ 76 1 2、 H240℃ 7722Hm状 7802H2,6−ジクロルフェニル 16B−172
7902ナトリウム 80 0 2 メチル 8102H2,4−ジクロルフェニル 82 0 2 ナトリウム 8302H4−クロル−3−二トロフェニル84 0 
2 ナトリウム 85 0 2 メチル 8602H2−ニトロフェ邑ル 87 0 2 ナトリウム 8802H4−ニトロフエ璧 89 0 2 ナトリウム 90 0 2 メチル 91 0 OH〃 92 l OHtt 320H 411H 521H 622H 9702H4−シアノフェニル 98 0 2 ナトリウム 9902H4−メチルアミノ 198−2021000
2 ナトリウム 85℃(分触)10102 メチル 
106−110℃1020 2 H3−ニトロフエqし
 14B−152℃10302 ナトリウム 105℃
(分解)10402 メチル 128−134”c10
50 2 H4−メトヅエ、=Jし 165−172’
c10602 ナトリウム 〃 90′C10702メ
チル 98−106℃ 1081 2 H192−196℃ (分触) 1092 2 H 11002H4−トリフルオルメトキシフェニル111
0 2 H4−トリフノリ仁ルメチルワエニル1120
2 ナトリウム 4−トリフルオルメチルフェニル11
30 2 H3−)リフルオルメチルクエニル1402
 ナトリウム 1150 2 、H2,2,2−)リフノ叶ノ晰ル11
602 ナトリウム 1172 2 H 11802Hメチルアミノ 1190 2 Hx−f−/L/7ミノ1200 2 
Hブロヒシレアミノ 1210 2 Hイソフ”トコヒンレーノ′ミノ122
2 2 H4−メチルフェニル 56−60°C123
12H、165−170℃(分P1#)1242 2 
H3−二トロフェニル 油状1251 2 H65−7
0℃ 12622 ナトリウム 2−クロルフェニル 93−
98℃また1例えは式(1)の次のジフェニルエーテル
を得ることもできる: 1 122 2.4−ジクロルフェノキシ 02Hメチル1
23 tt O2ナトリウム 〃 1242.4−ジブレムフェノキシ 02H125〃 
02 ナトリウム 〃 127 tt O2ナトリウム 〃 129 tt O2ナトリウム 〃 13Q 〃 02 メチル 〃 131// ’02B イソプ唱ろし 132//、 02Hフェニル 133/’ 0284−クロルワエニル134// 0
2H4−フルオルクエ請式1のジフェニルエーテル及び
その塩は2例えば直接的に噴、霧可能な溶液、粉末、懸
濁液、更にまた高濃度の水性、油性又はその他の懸濁液
又は分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト。
ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダス
ト法、散布法又は注入法によって適用することができる
。適用形式は、完全に使用目的に基いて決定される;い
ずれの場合にも9本発明の作動物質の可能な限りの微細
分が保証されるべきである。
直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又は油分散液を
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
燈油又はディーゼル油、更にコールタ−浦等、並びに植
物性又は動物性産出源の浦、脂肪族、環吠及び芳香族炭
化水素例えばペンゾール、ドルオール、キジロール、パ
ラフィン。
テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン又は
その誘導体2例えばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノール、クロロフォルム、四環化炭!、シク
ロヘキサノール、シクロヘキサノン、クロルベンゾール
、インフオロン等。
強極性溶剤例えばジメチルフォルムアミド、ジメチルス
ルフオキシド、N−メチルピロリドン及び水が使用され
る。
水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤可能の粉
末(噴射粉末)、油分散液より水の添加により製造され
ることができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は浦又は溶剤中に溶解
して、湿潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤により水中に
均質に混合されることができる。しかもを動物質、湿潤
剤、接骨剤2分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は
浦よりなる濃縮物を製造するとともでき、これは水にて
希釈するのに適する。
表面活性物質としては次のものが挙げられる:リグニン
スルフオン酸、ナフタリンスルフォン酸、フェノールス
ルフォン酸のアルカリ塩、アルカリ土類塩、アンモニウ
ム塩、アルキルアリールスルフオナート、アルキルスル
フアート、アルキルスルフオリ゛−ト、ジブチルナフタ
リンスルフA/酸のアルカリ塩及びアルカリ上類塩、ラ
ウリルエーテルスルフアート、脂肪アルコールスルソア
ート、脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、硫酸化へ
キザデカノ一ル、ヘゾタデカノ一ル、オクタデカノール
の塩、硫酸化脂肪アル」−ルグリ:1−ルエーテルの塩
、スルフォン化ナフタリン又はリーフタリン誘導体とフ
ォルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフ
タリンスルフォン酸とフェノール及びフォルムアルデヒ
ドとの綜合生成物、ポリオキシエチレンーオクチルフェ
ノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノール
、オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキルフ
エノ−ルポリグリコールエ・−チル、トリブチルフェニ
ルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエー
テルアルコール、イツトリゾ ゛シルアルコール、脂肪
アルコールエチレンオキシド−綜合物、エトキシル化ヒ
マシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、エトキ
シル化ポリオキシプロピレン、ラウリルアルコールポリ
グリコールエーテルアセタール、ソルビットエステル。
リグニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維素。
粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。
粒状体例えば被覆−1透浸−及び均質粒状体2は、有効
物質を固状担体物質に結合することにより製造されるこ
とができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシリカ
ゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カリオン、アタ
クレ2石灰石2石灰、白亜、膠塊粒土2石灰質黄色粘土
、粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネ
シウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えハ
硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウ
ム、尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及
びクルミ殻粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である
本除草剤は一般に0.1〜95重量%、好ましくは0.
5〜90重景%重量効物質を含有する。
製剤例は以下の通りである。
1.90重量部のを動物室3をN−メチル−α−ピロリ
ドン10ffi量部と混合する時は、極めて小さい滴の
形にて使用するのに店する溶液が得られる。
■、10重量部の有効物質4を、キンロール00重量部
、エチレンオキシド8乃全10モルをオレイン酸−N−
モノエタノールアミド1モルに附加した附加生成物6重
量部、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウム塩
5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モ
ルに附加した附加生成物2重量部よりなる混合物中に溶
解する。
1[1,2C1ffiffi部のを動物室5を、シクロ
へキサノン60重量部、インブタノール30重量部、コ
チレ/オキシド7モルをインオクチルフェノール1モル
に附加した附加生成物5重量部及びエチレンオキシド4
0モルをヒマシ油1モルに附加した附加生成物5重足部
よりなる混合物中に溶解する。
■、20重量部のを動物室106を、シクロへキザノン
25重量部、沸点210乃至280℃の鉱浦留分65重
量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに
附加した附加生成物10重量部よりなる混合物中に溶解
する。この溶液を水100000重量部中に注入し且つ
細分布することによりを動物質0.02重量%を含有す
る水性分散液が得られる。
■、80重量部の有効物質1を、ジイソブチル−ナフタ
リン−α−スルフォン酸のナトリウム塩3重量部、亜硫
酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸のナトリウム塩1
0重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部と充分に混和し、
且つハンマーミル中に於て磨砕する。
Vl、 5重量部の有効物質2を、細粒状カオリ795
重量部と密に混和する。かくしてを動物室5重量%を含
有する噴霧剤が得られる。
■、30市量部のを動物室122を、粉末状珪酸ゲル9
2重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられたパ
ラフィン浦8重量部よりなる混合物と密に混和する。か
くして良好な接む性を仔する有効物質の製剤が得られる
■、20重量部のを動物室13を、ドデシルペンゾール
スルフォン酸のカルシウム塩2重是部。
脂肪アルコールポリグリコールニーデル8重Hk部、フ
ェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒドー縮
合物のナトリウム塩2徂量部及びパラフィン系鉱油68
重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
散布は1発芽前の処理法で行なうことができるか又は発
芽後の処理法で行なうことができる。有効?!I*が発
芽後の処理法を使用する際に一定の栽培植物に対して殆
んど認容性でない場合には、除草剤を@霧器な用いて1
w、感な栽培他物の茎葉にできるだけ当たらずに有効物
質がその下で生育する蚤1しからぬ他物の茎葉に達する
か又は露出した土壌表面に達する程度に噴紡するような
散布技術を使用することもできる(ホスト−ダイレフテ
ッド(post−directed )法、レイ−バイ
(1ay−by )法ノ。
有効物質の使用量は、李劾、目的柚物及び生長段階に応
じて0.025〜3.0 ky/ha、 Wに0.05
〜1.0kP/haである。
他物の生長に対する式(]Jのジフェニルエーテルの作
用は1次の渦室試験によって示すことかできる: 栽培容器としては、容tr1!3007及び基質として
の腐葉土約1.5%を有するローム砂を有するプラスチ
ック鉢が使用される。臥m殖物の柚子は、柚類に応じて
別個に浅く掃極される。発芽前の処理法を使用する場合
には、有効物質をその直後に土壌表面上に散布する。こ
の場合、この自効?71貿は。
分配剤としての水の中にMi濁又は乳化され、微分配ノ
ズルを用いて唄絡される。使用量は3.0にノ/haで
ある。
薬剤の散布後、容器に1発芽及び生長を聞知させるため
に少量潅水する。その後に、この容器を他物が生長する
lで透明なプラスチックキャップで救う。この撒いは、
これがM匁吻貿によって慣なわれない限り臥11R他物
の均一な発芽を生せしめる口 発芽後の処理法を使用する目的のために、試験他物を生
長形にめじてまず3〜15(1mの生長尚さにまで栽培
し、その後にそれを処理する。イネを泥炭細末(ビート
)の割−8−4!0.増大させた基質中で栽培する。発
芽後の処理法を使用するためには、直接に掃梱し、同じ
容器中で生長した植物から選択するか又は植物を子集殖
物として別個に栽培し。
処理する2、3日前に試験容器中に移梱する0発芽後の
処理法に対する使用量は、lha当り有効物質0.06
 kl 、0.25 kjL及び3.oklPである。
櫨いは。
発芽後の処理法の場合には省略する。
試験容器を温室中に設け、この場合熱惰性他物権には熱
い範囲(20℃〜35℃)が好ましく、′tM帝性植物
柚には10℃〜25℃が好ましい。試験時間は2〜4週
間に及ぶ。この時間の間、植物を育成させ、その個々の
処理に対する反応を評価する。
0〜1000目盛りにより評価する。この場合。
100は、植物の生長なしないしは少なくとも土壌衣面
郡分の完全な破壊を表わす。
湿¥試験で使用される41!物は1次の極類から構成さ
れる: アオビユ(Amaranthus retroflex
us )、ナンキンマメ(Arachis hypog
aea )、オートムギ(Avena 5ativa 
)+ヤグルマギク(Centaureacyanus 
) 、アカザ(Chenopodium album 
)、イヌヒエ(Echinochloa crus−g
alli )、ヤエムグラ(Galium apari
ne ) * イモJR(Ipomoea spp、)
 。
イネ(0ryza 5ativa ) 、シナビス・ア
ルバ(8inapis alba ) 、イヌホウズキ
(Solanumnigrum ) 、コムギ(Tri
ticum)。
発芽前の処理法を使用する場合1例えは化合物A4、&
106及びA122は除草作用を有することが判明し、
この場合法化合物は1例えは選択された穀物としてのカ
ラスムギに対して選択性を示す。
発芽後の処理法で例えは何9JJw/J負3.Oky/
haを使用する場合、化合′?/I應1.&2.應3.
應4及びA5は、濶葉の蚤ましからぬ他物に対して者し
い作用を示し、この場合化合物点3.A4及び應5なら
びにさらに化合@A13は、キヒのようなイネ科411
物に対しても作用を示す。化合物点1及び116、3 
’tI 材’Ar1m寅o、06又はO,25kp/h
aのような低い使用量で蚤ましからfl他物を選択的に
防除プ“るのに灯点である。
散布法の認容性に関連して、不発明による化付物は、な
お他の若干の栽培他物中で蚤ましがらぬ野草又はイネ科
の栽培他物を、それが一定の立地で望ましくない場合、
除去するために使用することができる。該当するのは0
例えは次の栽培他物である: 例えば以下の栽培植物が該当する: タマネギ(AAlllu cepa) パイナツプル(八nanas comosus)ナンキ
ンマメ(^rachis hypogaca)アスパラ
ガス(八sparagus o[1cinalis)オ
ートムギ(八vena 5ativa)フダンソウ(B
eta vulgaris spp、altissim
a)ツ°トウジシャ(1)eta vulgaris 
spp、raPa)トウツバキ(Camellia 5
inensis)ベニバナ(Carthamus ti
nctorius)キャリヤ イリノイネンシス (Carya 1llinoin cns+s)マルブ
シュカン(C1trus l imon)グレープフル
ーツ(CHrus maxima)ダイダイ(C1tr
us r白Hculata)す7ミカ7 (C1tru
s 5inensis)フーヒーノキ(Co「rea 
arabica (Co「「cacanephora、
Cof’Vea l1ber+ca) )アミメロン(
Cucum;s melo)キ コ・ ウ リ (Cu
cu+++s 5aHvus)ギョウギシバ(Cyno
don dactylon)ニンジン(Daucus 
carota)アプラヤミ(Elae+s guine
enis)イヂゴ(Fragaria vesca)大
豆(Glycine wax) 木綿(Gossypiui h+rsutum (Go
ssyp+umarboreum Gossyprut
i herbaceumGossypium vrt;
folium))ヒマワリ(l1elianthus 
annuus)キクイモ(l1elianLl+us 
tuberosus)ゴムツキ(l1evea bra
siliensis)カラハナソウ(Ilumulus
 1upulus)アメリカイモ(lpomoea b
atatas)オニグルミ(Juglans regi
a)レンズマメ(Lens culinaris)アマ
(Linum usitat+ssimu+1)ト マ
 ト (Lycopersicon Iycopers
icum)リンゴK (1jtalus SPP、)キ
ャツザバ(Mani、hot esculcnta)ム
ラサキウマゴヤシ(Medicago 5ativa)
ハツカ(Mentha piparita)ハ’/ ヨ
ウR(lilusa spp、)タバコCN1coti
ana tabacum(N、rustica) )オ
リーブ(01ea europaea)アズキ(Pha
seolus 1unatus)ササゲ(Phaseo
lus mungo)ゴガツササゲ(Phaseolu
s vulgaris)ベトロセリウム クリスバス (Petroselinum crispum)トウヒ
(P;cea abtes) モ ミ (八bies alba) マツR(Pin’us spp、) シロエントウ(Pisu++ 5ativu11)サク
ラ(Prunus avfum) アンズ(1’runus domestica)プルヌ
ス ダルシス(1’runus dulcis)モモ(
Prunus Persica)リ゛ シ (Pyru
s communis)サグリ(Robes 5ylv
estre)サンザシ(Robes IIva−cri
spa)トウゴマ(Ricfnus co++++un
+s)サトウキビ(Saccharu++ o[ict
narum)ライムギ(5ecale cereale
)ゴム(Sesamum +nd+cum)ジャガイモ
(Solanum tuberosum)モロコシ(S
orghu++ bicolor (S、vulgar
e) )モoコシガヤ(Sorghum ochna)
ホウレンソウ(5pinacia oleracea)
カカオツキ(Theobroma cacao)ムラザ
キツユクリ°(Trifoliui pratense
)小麦(Triticum aestivum)イワツ
ツジ(Vacoinium corymbosuw)コ
ケモモ(Vaccinium vitis−1daea
)ソウマメ(V+cra raba) ビグリー シネ/シス(変種つ/グイキュラータ)(V
igna s+nensis (V、unguicul
ata) )ブドウ(Vitis vinirera)
lウモロコシ(Zea IIays) 作動スペクトルを拡大させるため及び相乗効果を達成す
るために、式(I)のジフェニルエーテルは、他の除草
作用又は生長調整作用を自する有効物質の群の多数の代
表例と混合し、共通に散布することができる。例えば、
混合成分としては、ジアジン、41−1−3.i−ペン
ゾオキザジ/誘導体、ベンゾチアジアジノン、2,6−
ジニトリロアニリン、N−フェニルカルバメート、チオ
ールカルバメート、ハロゲン化カルボン酸、トリアジン
、アミド、尿素、ジフェニルエーテル、ドリアジノン、
ウラシル、ベンゾソラン誘i体、(illの構造のシク
ロへキサン−1,3−ジオン誘4体及び他の除草作用を
存する有効物質がこれに該当する。
更に、式(I)のジフェニルエーテルは、単独でか又は
他の除草剤と組合せて、またさらに他の植物保護剤、例
えば害虫又は植物病原性菌類ないしは細菌類を防除する
ための薬剤と混合して共通さこ散布するのに有用である
。更に、重要なのは、栄養不足及び微量成分不足をなく
するために使用される鉱酸塩溶液との混合可能性である
。また、非植物毒性油及び濃厚油を添加することもでき
る。
特許出願人 パスフ ァクチェンゲゼルシャフト代理人
 弁理士 1) 代 蒸 治

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)式(1): 〔式中。 zl及びz2はそれぞれ互いに独立に水素原子。 ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、0
    1〜C1−アルキル基、C,#C4−ハロゲン化アルキ
    ル基又はC1〜C4−アルコキシ基を表わし。 zlはハロゲン原子、ニトロ基、シアノM、C+〜C1
    −アルキル基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル&、C
    +〜C4−アルコキシ&、Cs〜C4−ハロゲン化アル
    コキシ基、C8〜C4−アルキルメルカプト基。 C8〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプト基、01〜
    C4−アルキルスルフィニル基、ClNC4−ハロゲン
    化アルキルスルフィニル基、C0〜C4−アルキルスル
    ホニル基又ハC3〜C4−ハロゲン化アルキルスルホニ
    ル基を表わし。 Xは水素原子、C3〜C4−アルキル基、7個までの炭
    素原子を何するハロゲン化されていてもよいアシル基、
    アルカリ金員イオン又はアルキル化されていてもよいア
    ンモニウムイオンを表わし。 RはCI NC20−アルキル基* CINC12−ハ
    ロゲン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。 ハロゲン原子によってii侠賂れていてもよい芳沓脂肋
    &基、3〜12個のI5t、業態子4r:有する7クロ
    アルキル基、t+を侠されていてもよいフェニル社、ア
    ミノtA、C1NC4−アルキル−アミ7基又はジーC
    ,〜C4−アルキルーアミノ基ヲ衣わし。 m及びnはそれぞれ互いに独立に0.1又は2の数を表
    わす〕で示されるジフェニルエーテル。 G2) zl 、 z2及びZ”ni2[,4僚友0;
    egKtbD。 互いに独立に水素原子、ハロゲン原子、C0〜C,−ハ
    ロゲン化アルキル基又はC0〜C4−ハロゲン化アルキ
    ルメルカプト基を表わし、Xli水素原子、01〜C4
    −アルキル基又はアルカリ金属イオンを衣わし、RがC
    8〜C7゜−アル′キル基、C1〜C11−ハロゲン化
    アルキル基を表わすか又はへロゲン原子、C8〜C4−
    アルキル基、01〜C(−アルコキシ基、01〜C4−
    ハロゲン化アルキル基、ニトロ基もしくはシアノ基によ
    って置換されていてもよいフェニル基を表わし、nは0
    ,1又は2の数を表わし、かりmが2の数を辰わす、特
    ff請求の#!、門第1項記載の式(1)のジフェニル
    エーテル。 (J)Z’が水素原子を衣わし zlが塩素原子を表わ
    し、かつz3がトリフルオルメチル基を表わす、特i!
    f曲求の馳囲第1項記載の式(J)のジフェニルエーテ
    ル。 W)式【1】: 〔式中。 Zl及びz智それぞれ互いに独立に水素原子、ハロゲン
    原子、ニトロ基、シアノ基、カルメキシ基。 01〜C4−アルキル基、C,〜C4−ハロゲン化アル
    キル基又はC1〜C4−アルコキシ基を衣わし。 Z3はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ&、C+〜C4
    −フルキルi、c、xc、−ハロゲン化アルキル基。 C3〜C4−アルコキシh、C+〜C1−ハロゲン化ア
    ルコキシ4. c、〜C4−アルキルメルカプト抽、C
    ,〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプトM、C+〜C
    ,−フルキルスルフィニル基、C1NC4−ハロゲン化
    アルキルスルフィニル&’+ CH〜Ca−フルキルス
    ルホニル基又はC3〜C4−ハロゲン化アルキルスルホ
    ニル基を辰わし。 Xは水素原子、C,#C4−アルキル基、7個までの炭
    素原子を有するハロゲン化されていてもよいアシル基、
    アルカリ金編イオン又はアルキル化されていてもよいア
    ンモニウムイオンを表わし。 RはC2〜C20−アルキル基1 C,〜Cl2−ハロ
    ゲン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。ハ
    ロゲン原子によって置換されていてもよい芳香脂肪族基
    、3〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、置
    換されていてもよいフェニル基、アミノi、C,〜C4
    −アルキル−アミノ基又はジー01〜C4−アルキル−
    アミノ基を我わし。 m及びnはそれぞれ互いに独立にo、1又は2の数を表
    わす〕で示されるジフェニルエーテルの製造法において
    9式叩: Zl Z’ 8−Hal ハ 〔式中 zl 、 zl 、 1a及びnはそれぞれ加
    配のも。 のを表わし、 Halはハロゲン原子を表わす〕で示さ
    れるスルホニルハロゲン化物を、少なくとも寺モル量の
    式1ン: 〔式中、R及びmはそれぞれ前記のものを衣ゎす〕で示
    される化合物と反j心させることを特徴とする1式(]
    )のジフェニルエーテルの製造法。 (jJ式(1): 〔式中。 Zl及びZ2はそれぞれ互いに独立に水素原子。 ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルざキシM、C
    ,〜C4−アルキルMl c、〜c4−ハロゲン化アル
    キル基又はC1〜C4−アルコキシ基を表わし。 zlはへロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、c。 〜C4−アルキル基、C8〜C4−八ロゲン化アルキル
    基+ C1”C4−アルコキシ基、C1〜c4−ハロゲ
    ン化7 A/ :l #シ基、C8〜C4−アルキルメ
    ルカプト基。 01〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプト基、01〜
    C4−アルキルスルフィニルh、Cr〜C4−ハロゲン
    化アルキルスルフィニル基、C8〜C4−アルキルスル
    ホニル基又はC8〜C4−ハロゲン化アルキルスルホニ
    ル基を表わし。 Xは水素原子、ClNC4−アルキル基、7個1での炭
    素原子を何するハロゲン化されていてもよいアシル基、
    アルカリ1mイオン又はアルキル化されていてもよいア
    ンモニウムイオンを表わし。 RはCI 〜C2G−アルキル基+ CI”Cu−ハロ
    ゲン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。ハ
    ロゲン原子によって置換されていてもよい芳沓脂肪族基
    、3〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、直
    換されていてもよいフェニル基、アミ7基、 Cl−0
    4−71キル−7@ 74又はジーclNc。 −アルキル−アミ7基を表わし。 m及びnはそれぞれ互いに独立に。、l又は2の数を表
    わす〕で示されるジフェニルエーテルの製造法において
    2式CCV) : 1 (%cp、Z’ 、 Z” 、 Zs、 X及(Jnハ
    ソレ’etLNUmr2のものを衣ゎし、Halはハロ
    ゲン原子を衣ゎす〕で示されるスルホンアミドを、少な
    くとも等モル賞の式(V): 〔式中、R及びmはそれぞれWU記のものを衣ゎす〕で
    示される化合物と反応させることを特徴とする1式中の
    ジフェニルエーテルの装fk法。 (6ン式(1) : 〔式中。 zl及びz2はそれぞれ互いに独立に水素原子。 ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシMI 
    C1〜04−アルキル基、c、〜c4−ハロゲン化ア・
    。 ルキル基又はC1Nc4−アルコキシ基を表わし。 がはハロゲン原子、ニトロ基、シアノj&、C+〜C4
    −アルキルi+ C1〜C4−ハロゲン化アルキル&、
    C,〜C4−アルコキシ基、c、〜c4−ハロゲン化ア
    ルキルM、c、−c、−アルキルメルカプト基。 C1〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプト基、01〜
    C4−フルキルスルフィニル基、ClNC4−ハロゲン
    化アルキルスルフィニルMl c、〜c4−アルキルス
    ルホニル基又はC8〜C4−ハロゲン化アルキルス′□
    ルホニル基を表わし。 Xは水素原子、C1〜C1−アルキル基、7個までの炭
    素原子を有するハロゲン化されていてもよいアシル基、
    アルカリ金属イオン又はアルキル化されていてもよいア
    ンモニウムイオンを表わし。 RはC1NCoo−アルキル基、C8〜C1!−ハロゲ
    ン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。ハロ
    ゲン原子によって置換されていてもよい芳査脂肋族基、
    3〜12個の炭素原子をMするシクロアルキル基、置換
    葛れていてもよいフェニル基、アミ7M、ClNC4−
    アルキル−アミ7基又はジーC8〜C4−アルキル−ア
    ミノ基を衣わし。 m及びnはそれぞれ互いに独立に0.1又は2の数を衣
    わす〕で示されるジフェニルエーテルを富有することを
    特徴とする除RL剤。 (7)不活性の碕加剤及び式(1): 〔式中。 zl及びがはそれぞれ互いに独立に水素原子。 へロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、C
    8〜C4−アルキル基I C,NC2−ハロゲン化アル
    キル基又はC8〜C4−アルコキシ基を衷わし。 zlはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、CI〜(:
    4−7#キルi、C+〜C4−ハロゲン化アルキル基、
    C,NC,−アルコキシ基、C,NC,−ハロゲン化ア
    ルコキシ基、C,#C,−アルキルメルカプト基。 01〜C4−ハロゲン化アルキルメルカプト基、CI〜
    C6−フルキルスルフィニルh+ C1〜C1−ハロゲ
    ン化アルキルスルフィニルに、CsNC4−アルキルス
    ルホニル基又は01〜C4−ハロゲン化アルキルスルホ
    ニル基を表わし。 Xは水素原子I C1〜C2−アルキル基、7個までの
    炭素原子を有するハロゲン化されていてもよいアシル基
    、アルカリ金属イオン又はアルキル化されていてもよい
    アンモニウムイオン4r:&わし。 RはC1NC20−アルキル基、01〜C11−ハロゲ
    ン化アルキル基、7〜20個の炭素原子を有する。ハロ
    ゲン原子によって置換されていてもよい芳香脂肪族基、
    3〜12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、ff
    換されていてもよいフェニル基、アミノ基I C,NC
    4−アルキル−アミン基又はジーcINc4−アルキル
    ーアミ7基を表わし。 m及びnはそれぞれ互いに独立にo、1又は2の数を表
    わす〕で示されるジフェニルエーテルを含有することを
    特徴とする除草剤。 (Ir)式(1ンのジフェニルエーテル0.1〜95J
    !L Ji’%を特徴する特許請求の411第7項記載
    の除草剤。 (?) Z” 、 Z”及ヒZ”li2位、4位及び6
    位ニアリ。 互いに独立に水素原子、ハロゲン原子I C1〜C4−
    ハロゲン化アルキル基又は01〜C4−ハロゲン化アル
    キルメルカプト基を衣わし、Xか水素原子、c。 NC4−アルキル基又はアルカv/iwaイオンを衣ゎ
    し、R!di C,NC,o−アルキルM + Cr 
    NCu−ハロゲン化アルキル基を表わすか又はハロゲン
    原子、C3〜C4−アルキル基、01〜C4−アルコキ
    シ基、CI〜C4−ハロゲン化アルキル基、ニトロ基も
    しくはシアノ基によって置換されていてもよいフェニル
    基を表わし、nは0.1又は2の数を表わし、かつmが
    2の数を表わす式(]、)のジフェニルエーテルを含有
    する特許請求の範囲第7項記載の除草剤。 (10) zsが水素原子を表わし zlが塩素原子を
    表わし、かつZ”X)Z)リフルオルメチル基を表わす
    式(])のジフェニルエーテルを含有する特許請求の範
    囲第7項記載の除草剤。
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TWI393815B (zh) * 2004-06-08 2013-04-21 Basf Ag 皮革之反應性染色

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