JPS5992020A - 無酸化熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無酸化熱処理技術、特に高周波加熱を用いて無
酸化熱処理するための還元性ガスの挿入方法およびその
ための装置１こ関する。

従来、高温加熱処理の１つとして、高周波加熱処理を用
いて肢処理材を無酸化熱処理する場合。

第１図のような装置を用いて熱処理していた。従来装置
では、処理室７′が＾周波加熱コイル２′から処理室側
壁１′まで１００　ｍｍ以上離して設置しである。なお
、３′は被処理物、４′は還元性ガス挿入１」。

５′は還元性ガス排出口である。

ここでは、鋼製の炉体６′が誘尋加熱されないように、
大型の処理室７′を用いて処理室７′円に＾周波加熱コ
イル２′および被処理物３′を収容し、窒素ガス等の不
活性ガスあるいは還元性ガスで置換した後、高周波加熱
を行ない所要の条件で熱処理を行なっているが、処理室
７′が大型のため不活性カス等とのカス置換に長時間を
要するのと、不活性カス等ガス消費屋が大で夛）るとい
う欠点がある。

またこの処理室７′内で無酸化熱処理を行なう場合、被
処理物３′の全曲にわたって均一な無酸化熱処理を行な
うには、多大な茄元性ガスを挿入しなければ被処理物３
′表面での活性ガスが不充分となり、処理ムラを生ずる
欠点もある。

本発明は高周波加熱を用いて無酸化熱処理を行なう場合
において、還元性ガス等のガス消費風を低減させるとと
もに被処理物３′を均一に無酸化熱処理させる熱処理装
置の提供を目的とする。

かかる目的は、高周波加熱を用いて高温浸炭などの無酸
化熱処理を１１なう場合において、被処理物を密閉する
とともに、該被処理物側面には高周波コイルおよび非金
属材料を配して処理室を構成し、処理室ド方より挿入す
る還元性ガスを被処理物の測面に設けた吹き出し口から
、被処理物に吹きつけて処理することを特徴とした無酸
化熱処理装置によって達成される。

以ド添（＝Ｊ図面に基づいて本発明の詳細な説明する。

第２図は本発明にかかる無酸化熱処理装置の一例を示す
。天井と底面で囲むとともに側面を高周波加熱コイルお
よび非金属材ｆ！４（たとえばセラミック）のガス遮蔽
板３を設は処理室５を空室４から隔絶した２室構造とし
、処理室５内へのみ還元性ガスを挿入している。

また被処理物６表面を活性な還元性ガスで十分覆い被処
理物６の表面の均一な無酸化処理を行なうために、尚周
波加熱フィル２の内周面のガス穴８から、あるいは被処
理物６近憎に設けたノズル７から、被処理物６表面に〆
６性な還元性ガスを吹きつけながら所要条件で高周波加
熱を行ない、無酸化熱処理を行なうものである。

なお処理室５内を２至構造として空室４から隔絶して高
周波加熱コイル２の内向のガス穴８あるいはノズル７か
ら還元性ガスを吹きつけながら。

無酸化熱処理を行なうため、挿入［」８からのキャリヤ
ガスは従来装置に比べ大幅に低減できる。

−例として所定の浸炭焼入を行なう！コめに必要な浸炭
ガスの消費量を第１表１と７ドす。

第１表　浸炭焼入処理におけるガス消費量所定の浸炭焼
入を行なうのに必要な浸炭性ガスは、従来装置に比べ本
発明装置を用いることにより１／１０に減少しているこ
とが理解される。

また従米装置において１本発明装置での浸炭に適した垣
まで浸炭性ガスの挿入足を減少させると第３図に示すよ
うに浸炭ムラを生じて１９１要の浸炭焼入ができない、
、第３図は同一浸炭ガス挿入条件で、従来装置および本
発明装置で浸炭したものの外観および一部（す【曲状部
を観察した結果である。

図中１および１′は断面浸炭ノー、２は浸炭ムラ都。

３および３′は表面截某上均−浸炭されていると認めら
れる部分である。

なお２本実施例では、ガスシールを完全とするため、２
Ｍｈ’４造としているが１本発明において２室構造であ
ることは必須の条件ではない。

本発明装置により浸炭したものは均一に浸炭されている
のに対し、従米装置により浸炭したものは表面観察から
も断面観察からも浸炭ムラの存在が明瞭に確認できる。

以上より明らかなように１本発明装置によれば処理室５
の内容積を著しく小さくでき、被処理物６表向を活性な
還元性ガスで十分覆うことができるため被処理物全体が
均一に無酸化熱処理できるばかりか、該熱処理に要する
還元性ガスの使用量を著しく減少させることができる利
点がみる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の＾周反加熱無酸化熱処理装置。 第２図は本発明にかかる高周波加熱無酸化熱処理装置の
一例、＠３図は本発明装置の鳩正条件で。 従来装置および本発明装置ｕを用いて浸炭処理した処理
品の一例を示す。 ２・・・高周波加熱用コイル、３・・・非金属材料製遮
蔽板、５・・・処理室、６・・・被処理物、７・・・ノ
ズル。 ８・・・高周波加熱用コイル内周向のガス穴、９・・・
キャリヤガス挿入口、１０・・・ガス排出日出　　願　
　人 トヨタ自動車株式会社 第１図 第２０ オ芝釆ゼ青賞父馬Ｊ里品　　　　本」は日月士」置処Ｉ
里市第３図 手　続　補　正　書　（方　式） ％式％（ ７、事ｆりの表示 昭和５７年特許願第２０１７５１号 ２、発明の名称 無酸化熱処理装置 ３、補正をする壱 事件どの関係　　特許出願人 住所　　愛知県豊田市］・ヨタ町１番地　〒４７１４、
補正命令の日刊 昭和５８年２月２日（発送り　　ｆｆ和５８年２月２２
日）５、棺ｉ正の対象 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高周波加熱を用いて高温浸炭などの無酸化熱処理（以゛
   ド単に無酸化熱処理という）を行なう場合において、ａ
   処理物を密閉するとともに、該被処理物側面には高周波
   加熱コイルおよび非金属材料を配して処理室を構成し、
   処理室ド方より挿入する還元性ガス（以ド単に還元性ガ
   スという）を被処理物の６１１ｊ面に設けた吹き出（ノ
   ロから、被処理物に吹きつけて処理することを特徴とし
   ｔこ無酸化熱処理装置。