JPS5990813A - 落射型顕微鏡 - Google Patents

落射型顕微鏡

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JPS5990813A
JPS5990813A JP20020182A JP20020182A JPS5990813A JP S5990813 A JPS5990813 A JP S5990813A JP 20020182 A JP20020182 A JP 20020182A JP 20020182 A JP20020182 A JP 20020182A JP S5990813 A JPS5990813 A JP S5990813A
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JP
Japan
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phase
light
aperture
plate
area
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JP20020182A
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English (en)
Inventor
Eiji Nakamura
栄治 中村
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • G02B21/08Condensers
    • G02B21/082Condensers for incident illumination only

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は反射物体の微細な凹凸構造を位相差法により観
桜することのできる落射照明型顕微鏡に関する、 反射物体の倣細な凹凸構造を可視化する装置としては、
従来代表的なものとして落射型微分干渉顕微鏡があるが
、これは物体上の凹凸の相対址ではなく変化率を見るの
に適しており、値段も商価である。一般に、凹凸の微細
な相対箪を見る(こは位相差法が適している。
位相差法の原理は、透過型顕微鏡を例にとって説明ずれ
ば、コンテンサーレンズの前側焦点位j(41−なわち
照明系中の開(]紋り位置にリング絞りを設け、コンテ
ンサーレンズと対物レンズとに関してこのリング絞りと
共役な位置すなわち対物レンズの射出瞳位置にリンク状
の位相板及び吸収膜を設け、こイ1. tこより物体面
を通過するiげ接光の強度を弱め、かつ物体面で生ずる
回折光との位相を合せ、両光線を干渉させることによっ
て不透明物体を可視化するものである、女は、開口絞り
面上の開口部と共役な位置に位相板と吸収膜とを設けl
、Cければならない、ところが、落射型顕微鏡では透過
型と異なり対物レンズがコンデンサーの役目も兼ねてい
るため、照明光も結像光も両方が対物1/ンズの瞳面を
通過する、したがって、落射型順微鏡では位相差法で要
求される照明光の確保と位相板及び吸収膜の配置dとを
対物レンズの瞳面上で同時に満だ1−ことは不可能であ
る、この問題を解決1−るにはリレーレンズを加えるこ
とによって像面より手前に対物1/ンズの1linの共
役像を作り、そこに位相板及び吸収膜を設けれはよいが
、レンズ枚数の増)inや鋭筒長の寸法的制約などの離
点かあり、複雑な構成にならさなな得ない。
本発明の目的は、反射物体の微細な凹凸構造を位相差法
により観察することのできる詐1」単な+14成の落躬
型顕微腕を提供することにある、本発明は開[]絞りの
像を半透過部材を介して対物レンズの瞳面上に投影する
ためのフィールドレンズを有し、半透過部材及び該対物
レンズを介して被検物体へ照明光を供給し得る落射照明
型顕微鏡において、前記開口絞りの位置に該開口絞り面
上で光軸と交わる中心点に関して非点対称形状の開口部
を有する遮光板を設けるときもに、前記対物レンズのに
面上に、該−面一ヒで前記開口絞りの開口部と共役な領
域に対して相補的な領域に所定の位相膜及び吸収膜を・
flする位相板を配置4シたものである。
換計1−るl、Cら(才、対物レンズの瞳面な互いに非
点対称な形状の領吠に分割し、一方の領域に位相板とし
ての位相吸収膜を形成し、残る相補的な領域からのみI
IK明元が通過−16ように、この相補的な領域と相似
形状すなわち、非点対称形状θ)開ロ部ケ有する遇yt
板を照明系中の開口絞り位置に配置したものである。
こCで、遮光板が有する非点対称形状の開[」部とは、
既)し根をその中心す/λわぢ光軸との父点な回転中心
として180° 回転しても開口部かもとの開1」部と
重複しないような形状の開[」部な意味する。そして望
才しくは、遮光板を180° 回転した状態の開口部上
回転しない状態の開口部とが互い(こ相補的となるよう
な形状である、以ド本発明を実施例に基づいて説明1−
る。第1図は本発明による落射照明型顕微鏡の一実施j
+I Q’)構成を示す光路図である。半透過面(1)
を介して供給される照明光は対物レンズ(■、O)を)
11つて被、1矢’l”21体(0)を照明し、対物レ
ンズ(Lo )により物体(0)の1象(11か形成さ
イ1.る。ここで、照明系番こ8け61jFJ Ll 
級’i (21及び視野絞り(3)に一ついてQ)各共
役関係は周知のとおりである。詳述1れは、光1.(8
1から発74イ) Jj(B明光は、東)Lレンズ(J
=)  により開口絞り(2)の位(鉦ζこ集光され、
さらにフィールドレンズ(L2 )により半透過面(1
)を介して対物レンズ(1,。)C”)llli而゛J
面わち光源側焦点面(F’l上に集光される。これによ
りいわゆるケーラー照明が達成され、fl(i明光のI
JJるさは開口絞り(2)の口径を変えることにJ、す
Roll 1j111され也)。才だ、視野絞り(3)
はフィー7kl・レンズ(Lり及び対物レンズ(Lo)
lコより半透】1逸聞(1)をづrして物体細土に投影
され、視野絞り(3)の開1コを変えることにより照明
可成(視野)を変えるCとができる。すなわち1.集光
レンズ(■、+Nこl、S&l 1. C元隊(81と
開口絞り(2)とが共役でア”) s  フィールドレ
ンズ(1,1)に関して開口絞り(2)と対・拗レンズ
(L、)のx源側−面(F’)とが共役でδう外そしこ
、フィールドレンズ(L、)と対物レンズ(Lo)とを
こ関して、視野絞り(3)と物体(0)とが共役である
このような基本構成においで、開口絞6)(2+の位置
には第2図に示1ごときa元板(4)か配mlさイ′1
.ている。第2図は第1図における遮光板(4)のII
 −11矢視平面図であり、図示のごとく遮光板(4)
は九軸瘉こ相当する中心九番こ半円状の輪帯開口(4a
)を有している。才だ、対物レンズ(Le)  の光源
側瞳位置(焦点向)Fには第3図に示すごとき位相板(
5)か配置され°Cいる。第3図は駆1図における位相
板(5)のiL −Ill矢視平面図であり、図示のご
とく、元lll1j1に相当する中心外の半円状輪帯領
域(5b)には所定の位相膜及び吸収膜が形成されてお
り、その余の領域は透明台こ形成さatでいろ。そして
、開口絞り(2)と対物レンズ(L@ )の1(Flと
は前述したとおり共役であるから、遮光板(4)の半円
状輪帯開口(4a)の像は位相板(5)の位相膜及び吸
収膜が形成さ21.た半円状輪帯開口(5b)と相補的
な半円状輪帯領域(5a)上に結像される。
従って、光源(81から供給され集光し/ス(I、I)
により遮光板(4)の開口(4a月こ集光される光束ハ
、フィールドレンズ(L茸)により半透過鏡(11馨弁
じて位相板(5)上の透明な半円状輪(!頭載(5a)
上に集光され、対物レンズ(L・)を通って1吻体向l
こ達−Jる、このような照明光の光路は第1図中で斜線
部によって表わされている。
連)′に板(4)の半円状輪帯開口部(4a)を通り対
l吻1/ノズの1鑵而(f’l上で集光されて物体。)
に達する光束は、物体(OJで反射された後対物レンズ
(L6)の作用により書ひI−面(Ft上に集光され4
)。
ここで、瞳面(F’)上では光軸と父ゎる中心点に関し
て互いに点対称な1立置が対物レンズ(L、)及び物体
(0)での反射に関して相互に共役となっており、従っ
て、巣3図に示した位相板(5)上において、透明な半
円状輪帯領域(5a)がこれと相補的な半円状輪帯領域
(5b)と共役である。このため物体像(I+の形成に
寄与1°る物体面からの直接反射yt束は全て位相板(
5)上の位相、吸収膜が形成された半円状輪帯領域を通
過し、ここで所定の位相差を力11えらイ1.るととち
にMr定強1こまで減衰される。
ぞしてこの10接反射)I=Ii、 (Iytr体面で
の微小凹凸によって生じ位相板(5jの位相・吸収領域
(5b)以外を通過する回折光と干接し、像面(1)上
−と物体の微小凹凸による位相差ζこLl−1、じた濃
度差を有する物体1象が形成される。この像が位相差法
をこよる所望の物体像に外ならない。
上記実施例では対物レンズの一面上での輪帯領域を18
0°づつ2分割して照明光の光路と観察光の光路とを区
分したため、いわゆる斜光照明となり物体像には若干の
立体感が加味される。立体感な必要としない場合には、
斜光照明を避ける描成とイればよい。このための実施例
における遮光板及び位相板の平面図を第4図A及び第4
図Bに示す。第4図Aに示した遮光板4は光軸と交わる
その中心点を中心きする輪帯を60’づつの等しい角度
間隔で分割する3つの部分輪帯状開口(41a、  4
2 a、  43 a )を有している。そして、第4
図Bに示した位相板(5)は、元軸と交わる中心点を中
心とする輪帯を60°づつの等しい角度間隔で分割する
ように3つの位相・吸収領域(51b、52b、53b
)をMしている。従って、遮光板(4)の像がフィール
ドレンズ(tx)+こより位相板(り)上に投影さイ1
.るので、遮光板(4)の部分輪帯開口(41a、42
a、43a)を通る照明光は位相板(5)上で位相・吸
収領域(51b、52b。
53b)、2相補的な透明領域(51a、52a153
a)ケそイr7ぞれ通過し、物体面ζこ達する。そして
、物体面で正反射された11屯明光は、対物レンズ(L
o)により再度位相板(5)上番こ集光される。
ここで、対物レンズ(Lo)と物体(0)での反射に関
しC1位相板(5)上の透明な3つ0)部分輪帯領域(
51a、52a、53a)は3つの位相・吸収領域(5
1b、52b、53b)とそれぞれ相互に共役てあゐ。
このため、透明な部分輪帯領域(51a)を3tflる
照明光は物体面゛Cの反射後、この透明/X部部分輪帯
形状51a)と中心点に関して点対称1.(形状の位相
・吸収領域(51,b )な通り、その他の領域(52
a、53a)を通る照明光も同様番こしCそtzぞれ位
相・吸収領域(52b。
53b)を辿る。従って物体m1に達する照明光のうち
物体面で正反射さイする光束は、位相板を通過する除、
全てlツf足の位相変化と強度変化を受けろ。
第5図A及び第5(スBは上記の実施例と同様に輪帯を
等角度で分割した形状の開口部及び位A1」・吸収領域
を有1−る第3実施例の遮光板(4)及び位相板(5)
の平面図”Cある。本実施抄14では遮光板(4)は輪
帯を等角度に」0分割するよ・うな5つの部分輪帯状開
口部(41a、〜45a)を有し、位相板(5)は同様
に5つの部分輪帯形状の位相・吸収・岨域(51b、〜
55b)を有している。この場合にも第4図A1第4図
Bに示した紀2実施例と同様ζ(、開口絞り(4)の5
つの開口部(’41a、〜45a)はフィールドレンズ
(I、、 )に関して、位相板(5)での5つの位相・
吸収領域(51b、〜55b)に対して相補的な透明領
域(51a、〜55a)と共役であり、さらに、対物レ
ンズ(Lll )古物体面での反射に関して位相板(5
)上の、左開な部分輪帯領域(51a、〜55a)は、
位相・吸収領域(5] b、〜55b)と共役である。
従って、遮光板(4)の開し」部を通って位相板(5)
に達(る光束は、遮ぎられることなく物体に達し、物体
面での正反射の後、位相・吸収領域にて所定の位相変化
及び強1隻変化を受ける。
上MT2年2、第3実b’ilt例では、対物レンズの
一面上での輪帯領域゛を多数に分割しているため、はぼ
等方的な11(4明とI′iす、立体感を無く1−こと
ができる。ぞしr、 1itII曲上での輪帯を等しい
角度間隔で偶数個に分割し、これらの分割領域の互いに
隣接しない鼾数個の部分輪帯領域に位相・吸収膜な形成
し、これらの位相・吸収領域と相補的な奇数個の部分輪
帯領域に照明光が集光さ2’Lるように、奇数個の等角
度部分輪帯状開口を有する遮光板を設けることが望J]
シい。
8g6図A及び第6図Bは、本発明による第4実施例に
用いられる遮光板(4)及び位相板(5)の平面lソ)
である。本実施1り11では遮光板の開口部及び位相板
の位相・吸収領域は矩形状である。遮光板(4)は第6
図Aのごとく、光軸と父わる、中心外に第1の矩形開口
(4]c)と、互いに同一直線状に位置する第1及び第
2の矩形開口(42c)(43c)とを巾している。こ
こで第1矩形開口(41c)と第2.第3矩形開口(4
2c)(43c)とは、遮光板(4)をその中上・(こ
関して180°回転した時に力゛いに型抜することがな
く、相補的形状ζこなっている。そして、位相0L(5
1は遮光板(4)上の3つの矩形開口と相似形状の3つ
の矩形領域(51d。
52d、53d)jこ位相・吸収膜を廟しており、その
余の領域は透明である。ここでも、第1矩形領域(51
rl)と第2、第3矩形領域(52d)(!53 d 
)とは、位相板の光611と交わる中心点に関して18
0°回転し、た時ζこ互いに相補的形状である。従って
、遮光板(4)の第1矩形開口(41C)を通る照明光
束はフィールドレンズによ6]位相板(5)上の透明領
域(5]、c)jこ集光され、物体面でのIE反射の後
対物レンズの作用により位相板(5)上の矩形状の第1
位相吸収領域(51,d )土に集光される。また、同
45ICこして、遮光板(4)の第2、第3矩形開口(
42c ’) (43c )を辿る照明光束は、位相板
(5)の透明穣域(52c、53c)に集光され、さら
に物体面での正反射の後、位相板(5)上の矩形状の第
2、第3位相吸収領域(52d)(53d)に集光され
る。このようにして、遮光板(4)(1) 3つの矩形
開口を通る光束のうち物体面で正反射される光束は全て
位相板上の矩形状の3つの位相領域を通り、ここで所定
の位相変化と強度の減衰を受けろ。ぞしC1この正反射
光束は物体面で生じ位相板の透明領域を通過′1″る回
折光との干渉(こより、物体面上に物体面上の微小凹凸
構造の位相差に応じたコントラスト差を有する物体像を
形成する。
本実施例のij・構成では照明光は紀4図A、B及び第
5図A% B(こ示した構成はど等方的ではないため、
若干の立体感を得イ)ことができ、また、同様に効率良
く位相差観察を行なうことができる。
尚、上記谷実施例における遮光板及び位相板の形状は、
各図に示したごとく、同一の大きさである必要はなく、
フィールドレンズに関する所定倍率での共役関係により
、遮光板の形状も位相板の形状もそれぞれ相似形を維持
しつつ大きさは変わり得るものである。また、遮光板と
位相板との実際的配置に際しては、上述した光束の状態
が実現さ、11.るように両名のフィールドレンズに関
する共役関係に訓えて半透過面での反射も考慮されなけ
れはならないことはいうまでもない。
以上のごとく本発明によれは、対物レンズの瞳面が照明
jに0)通過領域と結像に寄与する直接反射光の通過領
域とlこより相補的に分ν11]さイ1.て使用される
ため、結像系中に対物トンズの瞳面を再結像させるため
のリレーレンズは何ら必要ではない。
ぞして、開口絞り位置の遮光板と対物レンズ瞳位置の位
相4ルとを・本発明θ)ごとく組合せること(こより、
従来の落射照明型顕微鏡の基本構成を用いた簡単な構成
において反射物体の微小凹凸を位相差法により観察する
ことができる、
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による落射型顕微鏡の第1実施例の概略
y〔1路図、#1.2図は第1図中のII −I+矢視
平面図であり、第1実施例に用いられる遮光板を示し、
渠3図は第1図中のl1l−1矢視平面図であり第1実
施例に用いられる位相板を示し、第4図A、Bはそれぞ
れ第2実施例の遮ブC2板及び位相板の半面図、第5図
A、 B及び第6図A、Bはそれぞれ第3、第4実施し
11の遮光板及び位相板の平面図である。 (生鰻部分の符号の説明) 116・・対物レンズ、   Ll  集光レンズ、I
、富・ ・フィールドレンズ、 1・・・・半透過面、    2・・・ 開口絞り、3
・・ 視野絞り、    4・ ・遮光板、4a、41
a〜45a、41c〜43c・・・開口部 5・ 位相板、 5b、51b〜55b、’51d〜53d・・・・位相
吸収領域、 F  対物レンズの瞳面 出願人 日本元学工業株式会社 代理人 渡辺隆男

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 開口部りの像を半透過部材を介して対物レンズの瞳面上
    に投影1−るだめのフィールドレンズを有し、該半透過
    部材及び該対物レンズを介して被検物体へ照明光を供宿
    し得る落射照明型顕微鏡において、前記開口絞りの位置
    に該開口絞り面上で光軸と交わる中心点に関して非点対
    称形状の開口部を有する遮光板を設けるとともに、前記
    対物レンズの瞳面上に、該−面上で前記開口絞りの開口
    部と共役な領域に対して相補的な鎖酸に所定の位相膜及
    び吸収膜を有′1−る位相板を配置6シたことを特徴と
    する落射型顕微鏡。
JP20020182A 1982-11-15 1982-11-15 落射型顕微鏡 Pending JPS5990813A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61175513A (ja) * 1985-01-31 1986-08-07 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JPS6279335A (ja) * 1985-10-03 1987-04-11 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JPH0235408A (ja) * 1988-07-26 1990-02-06 Olympus Optical Co Ltd 顕微鏡
EP0816893A2 (de) * 1996-06-24 1998-01-07 CARL ZEISS JENA GmbH Verfahren zur Erzeugung des stereoskopischen Bildes eines Objektes sowie Anordnung zur stereoskopischen Betrachtung
JP2014092366A (ja) * 2012-10-31 2014-05-19 Olympus Corp 測光装置
DE102009003682B4 (de) 2009-03-26 2022-11-03 Jörg Piper Phasenkontrastmikroskop

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1963604A1 (de) * 1969-06-20 1971-02-04 Jenoptik Jena Gmbh Mikroskopische Einrichtung zur kontrastreichen Darstellung von Phasenobjekten im Auflicht

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1963604A1 (de) * 1969-06-20 1971-02-04 Jenoptik Jena Gmbh Mikroskopische Einrichtung zur kontrastreichen Darstellung von Phasenobjekten im Auflicht

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61175513A (ja) * 1985-01-31 1986-08-07 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JPS6279335A (ja) * 1985-10-03 1987-04-11 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JPH0235408A (ja) * 1988-07-26 1990-02-06 Olympus Optical Co Ltd 顕微鏡
EP0816893A2 (de) * 1996-06-24 1998-01-07 CARL ZEISS JENA GmbH Verfahren zur Erzeugung des stereoskopischen Bildes eines Objektes sowie Anordnung zur stereoskopischen Betrachtung
EP0816893A3 (de) * 1996-06-24 1998-09-09 CARL ZEISS JENA GmbH Verfahren zur Erzeugung des stereoskopischen Bildes eines Objektes sowie Anordnung zur stereoskopischen Betrachtung
DE102009003682B4 (de) 2009-03-26 2022-11-03 Jörg Piper Phasenkontrastmikroskop
JP2014092366A (ja) * 2012-10-31 2014-05-19 Olympus Corp 測光装置

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