JPS5983110A - パタ−ン状回折格子の複製方法 - Google Patents

パタ−ン状回折格子の複製方法

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Publication number
JPS5983110A
JPS5983110A JP19302582A JP19302582A JPS5983110A JP S5983110 A JPS5983110 A JP S5983110A JP 19302582 A JP19302582 A JP 19302582A JP 19302582 A JP19302582 A JP 19302582A JP S5983110 A JPS5983110 A JP S5983110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
diffraction grating
ionizing radiation
pattern
curable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19302582A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuji Yamazaki
哲司 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP19302582A priority Critical patent/JPS5983110A/ja
Publication of JPS5983110A publication Critical patent/JPS5983110A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1852Manufacturing methods using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 するものである。
回折格子は光を照射することにより得られる透過光若し
くは反射光が回折現象を起こすものであり、光学部品と
して使用される他、白色光を照射するときに見られる虹
色を利用して装飾品にも広(使用される等、利用価値の
高いものである。
回折格子を作製する方法には釉々の方法があり、例えば
機械的な方法としては材料の表面に間隔O. Sμ〜S
μ程度の微細な縞状の凹凸をダイヤモンドカッター等を
用いて切削する方法があり、光化学的な方法としてはフ
ォトレジスト等の感光性材料にレーザー光等を用いて干
渉縞を露光し、現像する方法がある。
しかし、上記の方法はいずれも回折格子自体を得る方法
としては適していると言っても、このような方法そのも
のを量産に利用すると甚だ非能率的である上、使用材料
やランニングコストの点でも有利とは言えないので、回
折格子を量産する際には上記のような方法で得られる回
折格子を原型として複製用型を作製し、複製用型を用い
て適宜な材料に賦型するのが能率的である。このように
複製用型を用いると回折格子の複製は容易になるが、回
折格子を装飾的な用途に使用する除には回折格子?−面
に設けるだけでな(、パターン状に形成する方が装飾的
な価値が高(、多(のパターンに対応した複製用型や、
ひいてはその原型を作製する必要があり、その都度、前
記した機械的な方法や光化学的な方法に頼らざるを得す
、非能率的、かつ、不経済である。
本発明は上記した従来の欠点を補なうものであって、電
離放射線硬化性組成物を]くターン状に形成した後、回
折格子複製用型を用い、かつ、電離放射線を照射すれば
、同一の回折格子複製用型を用いて種々のパターンの回
折格子を複製しうろことを見い出して研究の結果完成を
見たものである。
即ち本発明のパターン状回折格子の複製方法は以下に詳
細に述べるように少(とも一方が電離放射線透過性であ
る基体と回折格子複製用型を準備し、前記基体の表面に
霜、離放射線硬化性組成物をパターン状に塗布形成し、
前記塗布面に前記回折格子複製用型を密着させ、次いで
電離放射線を前記基体若しくは前記回折格子複製用型の
うち電離放射線透過性である物の側より照射して、前記
パターン状に塗布形成した電離放射線硬化性組成物を硬
化させると共に賦型し、その後、前記回折格子複製用型
を離脱させることを特徴とするものである。
以下、図面を用いながら本発明の方法について更に詳細
に説明する。
第1図は本発明の方法において基体lの表面に電離放射
線硬化性組成物をパターン状に塗布しパターンλを形成
した状態を示すための模式的な断面図である。第2図は
第1図のパターンλ上に回折格子複製用型3ン密着させ
、回折格子複製用型3の側より電離放射線ダを照射する
状態を示す断面図である。又、第3図は第9図のごとく
電離放射線ダを照射した後、回折格子複製用型3を離脱
し、パターンコの表面に回折格子の微細凹凸Sが複製さ
れた状態を示す断面図である。
本発明の方法におい′Cはまず、少(とも一方が電離放
射線透過性である基体と回折格子複製用型を準備する。
〔基 体〕
基体としては、釉々のプラスチックのフィルム若しくは
シート又は板状体、金属等の単独、若しくは複合体や、
或いは成形物を使用することができ、これらの基体には
後述する電離放射線硬化性組成物との硬化後の接着力を
向上させる意味で必要に応じ適宜な表面処理を行なって
もよい。基体として表面に蒸着金属薄膜を形成したもの
は回折格子の装飾効果上好ましい。
後述する電帥放射線の照射は基体若しくは回折格子複製
用型のうち、いずれか電離放射線透過性のものの側から
行なうが、基体をプラスチックのフィルム若しくはシー
ト又は板状体とするときは電離放射線透過性を有するの
で基体側から照射できる。
〔回折格子複製用型〕
回折格子複製用型としては種々のものを使用できる。例
えば前記したような機械的な方法や光化学的な方法によ
り原型を作製し、(イ)得られた原型にめっきを施して
めっき層を形成した後、該めっき層を剥離してなるもの
、(ロ)原型を熱可塑性樹脂シートに熱プレスしてなる
もの、更にはe−1w、型に硬化性樹脂液を密着させ、
熱、紫外線、若しくは電子線等により硬化させて得られ
るもの等が利用できる。
上、記において(ロ)及び(ハ)の回折格子複製用型を
用いるときは電離放射線透過性を有するので回折格子複
製用型の側より電離放射線の照射が行なえる。
仄に上記した基体の表面に電離放射線硬化性組成物をパ
ターン状に塗布形成する0 〔電離放射線硬化性組成物〕 電離放射線硬化性組成物としては分子中に不飽和結合を
有する七ツマ−及びオリゴマー及びブVポリマー等や、
エポキシ化合物とルイス酸の混合物等があり、必要によ
り増感剤を加え℃使用すればよい。
上記の電離放射線硬化性組成物を基体の表面にパターン
状に塗布形成するには種々の印刷方法、例えばグラビア
印刷、オフセット印刷、凸版印刷、フレキソ印刷、スク
リーン印刷等や手描きによって行なうことができ電離放
射線硬化性組成物及び基体の種類により適宜に選択して
用いればよ(、適宜なパターンを有する印刷版は周知の
方法により作製できる。
上記でパターン状に電離放射線硬化性組成物を設けた基
体のパターンの上に前記回折格子複製用型を密着させ、
次いで基体若しくは回折格子複製用型のうち電離放射線
透過性である物の側より電離放射線を照射する。基体の
パターンの上に回折格子複製用型を密着させる際には平
プレスやロールプVスを用いて加圧することが好ましい
電離放射線としては紫外線、電子線、xH1γ線、中性
子線等が使用できるが、装置が手軽な紫外線や透過力が
大きい電子線が好ましい。電離放射線の照射により、前
記したパターン状に形成された′電離放射線硬化性組成
物が硬化し、次いで回折格子複製用型を離脱させること
により基体の表面にパターン状回折格子が得られる。
以上の本発明によると、パターン状回折格子な得るのに
、その都度原型や複製用型を作製する会費がな(、電離
放射線硬化性組成物を予めパターン化することにより、
任意の〕くターンのパターン状回折格子が容易に、かつ
能率良(生産できる。
実施例 厚み0..2 mのトリアセテートフィルムに紫外線硬
化樹脂(A、P%R1旭化成四−をスクリーン印刷によ
りパターン状に塗布した。
次に、全面に微細な凹凸で回折格子が刻まれた金型な上
記フィルムの〕くターン面上に重ね合わせ、二本のロー
ル間を圧力をかけた状態で通過させて密着させた。さら
に、フィルム側より超高圧水銀灯を用いて紫外線を照射
し、紫外線硬化樹脂が硬化した後、フィルムを金型より
剥離したところ、フィルム上にノくターン状に回折格子
が記録された。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明の各工程を示すための断面図で
ある。 10争會・・・基   体 20・・・・・ パ  タ  −  ン3 ・・・・・
・・回折格子複製用型 グ・・・・・・・電離放射線 S・・・・・・・凹   凸 第1図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (11少くとも一方が電離放射線透過性である基体と回
    折格子複製用型を準備し、前記基体の表面に電離放射線
    硬化性組成物をパターン状に塗布形成し、前記塗布面に
    前記回折格子複製用型を密着させ、次いで電離放射腓を
    前記基体若しくは前記回折格子?7W用型のうち電離放
    射線透過性である物の側より照射して、前記パターン状
    に塗布形成した電離放射線硬化性組成物を硬化させると
    共に賦型し、その後、前記回折格子複製用型を離脱させ
    ることを特徴とするパターン状回折格子の複製方法。
JP19302582A 1982-11-02 1982-11-02 パタ−ン状回折格子の複製方法 Pending JPS5983110A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62231753A (ja) * 1985-12-05 1987-10-12 東洋メタライジング株式会社 虹彩模様を呈する積層体及びその製造方法
JPS644703A (en) * 1987-06-27 1989-01-09 Shimadzu Corp Diffraction grating and its production
JP2000264000A (ja) * 1999-03-15 2000-09-26 Dainippon Printing Co Ltd 変色性蒸着媒体とその製造方法
KR100624414B1 (ko) * 2003-12-06 2006-09-18 삼성전자주식회사 회절 렌즈 어레이 몰드의 제조 방법 및 uv 디스펜서

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