JPS5978428A - カラ−受像管用マスク - Google Patents
カラ−受像管用マスクInfo
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- JPS5978428A JPS5978428A JP18815382A JP18815382A JPS5978428A JP S5978428 A JPS5978428 A JP S5978428A JP 18815382 A JP18815382 A JP 18815382A JP 18815382 A JP18815382 A JP 18815382A JP S5978428 A JPS5978428 A JP S5978428A
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- masks
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/80—Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching
- H01J29/81—Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching using shadow masks
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はスクリーン面に近接対向して複数枚のマスクを
それぞれ所定間隔を有して対向せしめ、且つ前記複数枚
のマスクの各アパーチャを電子ビームが通過するように
配置した構造なイ」するカラー受像管用マスクに関し、
特にそのマスク構造に関するものである。
それぞれ所定間隔を有して対向せしめ、且つ前記複数枚
のマスクの各アパーチャを電子ビームが通過するように
配置した構造なイ」するカラー受像管用マスクに関し、
特にそのマスク構造に関するものである。
複数枚のマスク構造を有するカラー受像管としてはマス
ク集束型カラー受像管が良く知られている。
ク集束型カラー受像管が良く知られている。
マスク集束型カラー受像管はＢ［定間隔を有して対向せ
しめた複数枚のマスクＣ二それぞれ所定の電位差を与え
、マスクの各アパーチャを通過する電子ビームに対して
静電レンズを形成させることによって電子ビームの利用
率を著るしく高めることができるもので、この様なマス
ク集束型カラー受像管は、例えば米国特許第２．９７１
．１１７号、米国特許第３．３９８．３０９号、特公昭
３８−２２０３０号公報、実公昭４７−２０４５１号公
報などに示されている。
しめた複数枚のマスクＣ二それぞれ所定の電位差を与え
、マスクの各アパーチャを通過する電子ビームに対して
静電レンズを形成させることによって電子ビームの利用
率を著るしく高めることができるもので、この様なマス
ク集束型カラー受像管は、例えば米国特許第２．９７１
．１１７号、米国特許第３．３９８．３０９号、特公昭
３８−２２０３０号公報、実公昭４７−２０４５１号公
報などに示されている。
また前記構造を有するカラー受像管の他の例としては特
公昭５５−２６９８号公報、特開昭５０−５７５７５号
公報、実開昭４８−９３７６９号公報等に示されている
様な２枚マスク構成のカラー受像管がある。
公昭５５−２６９８号公報、特開昭５０−５７５７５号
公報、実開昭４８−９３７６９号公報等に示されている
様な２枚マスク構成のカラー受像管がある。
これは通常の１枚マスク構成のカラー受像管では、マス
クへの電子ビーム衝撃によってマスクが熱変形をおこし
電子ビームがスクリーン上の所定の螢光体を衝￥しない
ため謂ゆるミスランディングをおこし色純度が劣化して
しまうので、これを防ぐため２枚マスク構成として螢光
体の衝撃に不必要な電子ビームを１枚目のマスクで遮断
して色純度機能に重装な２枚目のマスクの温度上昇を極
力抑える様にしたものである。
クへの電子ビーム衝撃によってマスクが熱変形をおこし
電子ビームがスクリーン上の所定の螢光体を衝￥しない
ため謂ゆるミスランディングをおこし色純度が劣化して
しまうので、これを防ぐため２枚マスク構成として螢光
体の衝撃に不必要な電子ビームを１枚目のマスクで遮断
して色純度機能に重装な２枚目のマスクの温度上昇を極
力抑える様にしたものである。
前記マスク集束型カラー受像管や前記ミスランディング
防止のための２枚マスクを鳴するカラー受像管では、複
数枚のマスクの各アパーチャをマスク全面においてそれ
ぞれ対応させて配置した構造となさねばならないが、こ
の様な構造を有するマスクの製作は極めて困難である。
防止のための２枚マスクを鳴するカラー受像管では、複
数枚のマスクの各アパーチャをマスク全面においてそれ
ぞれ対応させて配置した構造となさねばならないが、こ
の様な構造を有するマスクの製作は極めて困難である。
例えば特公昭４７−８２６１号公報、特公昭４７−２８
１８８号公報などに上記構造を有するマスクの製作法が
提案されているが、これはマスク全面にアパーチャ部を
除いて絶縁体、例えばガラス絶縁体を配賦するためマス
クの成形性に欠けることや、上記絶縁体部にビーム衝撃
による帯電現象がおこりアパーチャ部を通過するビーム
（二恋影響な力える等実用性Ｃ二欠けるものである。
１８８号公報などに上記構造を有するマスクの製作法が
提案されているが、これはマスク全面にアパーチャ部を
除いて絶縁体、例えばガラス絶縁体を配賦するためマス
クの成形性に欠けることや、上記絶縁体部にビーム衝撃
による帯電現象がおこりアパーチャ部を通過するビーム
（二恋影響な力える等実用性Ｃ二欠けるものである。
これに対し、平坦な複数枚のフラットマスクを重ね合せ
同時５ニブレス成形することによって複数枚のマスクの
各アパーチャをそれぞれ一対一（二正しく対応させるこ
とができる実用的なマスク成形法が特開昭５７−１３８
７４６号に提案されている。
同時５ニブレス成形することによって複数枚のマスクの
各アパーチャをそれぞれ一対一（二正しく対応させるこ
とができる実用的なマスク成形法が特開昭５７−１３８
７４６号に提案されている。
前記マスク成形法番二おいて通常のマスクと同様のプレ
ス成形を行ないマスクの周辺部謂ゆるスカート部を深く
折り込んだ場合、成形された複数枚マスクを所定間隔を
もって固定してもスカート部においては各成形マスクが
接触してしまう危険性がある。従って複数枚のマスクの
各々に異なった電位を印加することができないことや、
複数枚のマスクを同電位にするにしても各マスクが接触
しているため１枚のマスクの温度変化が他のマスクに迅
速に伝達してしまうこと等の問題が生ずる０この様な問
題を解消するためＣ：マスクのスカート部に予め絶縁体
を挿入しておく方法が考えられるが、複数枚のフラット
マスクを密着させて同時にプレス成形を行なう様な前記
マスク成形法においては、複数枚のマスクのそれぞれの
マスクの間に絶縁体を挿入すると絶縁体の厚みによるプ
レス成形時の変形や位置ずれの不都合が生ずる。
ス成形を行ないマスクの周辺部謂ゆるスカート部を深く
折り込んだ場合、成形された複数枚マスクを所定間隔を
もって固定してもスカート部においては各成形マスクが
接触してしまう危険性がある。従って複数枚のマスクの
各々に異なった電位を印加することができないことや、
複数枚のマスクを同電位にするにしても各マスクが接触
しているため１枚のマスクの温度変化が他のマスクに迅
速に伝達してしまうこと等の問題が生ずる０この様な問
題を解消するためＣ：マスクのスカート部に予め絶縁体
を挿入しておく方法が考えられるが、複数枚のフラット
マスクを密着させて同時にプレス成形を行なう様な前記
マスク成形法においては、複数枚のマスクのそれぞれの
マスクの間に絶縁体を挿入すると絶縁体の厚みによるプ
レス成形時の変形や位置ずれの不都合が生ずる。
本発明の目的は、ａ数枚のマスクを密着させて同時にプ
レス成形しても変形や位置ずれがなく、且つ良好な絶縁
性を保持したカラー受像管用マスクを得るととにある。
レス成形しても変形や位置ずれがなく、且つ良好な絶縁
性を保持したカラー受像管用マスクを得るととにある。
本発明す伏数枚のマスクのうち少くとも１枚のマスクの
他のマスクとの対向面側のスカート部或はスカート部を
含み、且つ曲面上の非有効部の少くとも一部のマスクの
板厚を他の部分のマスク本来の板厚より薄く形成し、且
つその部分に絶縁体を配置することζ：よって、複数枚
のマスクを密着して同時プレス成形することを可能とし
、変形のない絶縁性良好なカラー受像管用マスクとする
ものである。
他のマスクとの対向面側のスカート部或はスカート部を
含み、且つ曲面上の非有効部の少くとも一部のマスクの
板厚を他の部分のマスク本来の板厚より薄く形成し、且
つその部分に絶縁体を配置することζ：よって、複数枚
のマスクを密着して同時プレス成形することを可能とし
、変形のない絶縁性良好なカラー受像管用マスクとする
ものである。
以下図面を参照しつつ本発明の実施例について詳細に説
明する。第１図は本発明（二より製作したマスクな゛適
用したカラー受像管の一例で、マスク集束型カラー受像
管の概略構成を示すものである。
明する。第１図は本発明（二より製作したマスクな゛適
用したカラー受像管の一例で、マスク集束型カラー受像
管の概略構成を示すものである。
第１図に示すマスク集束型カラー受像管は主としてスク
リーン面（１）をもつフェースプレート（２）と、前記
フェースプレート（２）の側壁部にファンネル（８）を
弁して連結されたネック（４）と、前記ネック（４）に
内装された電子銃（５）と、前記ファンネル（Ｉｌｌか
らネック（４）にかけての外壁に装着された偏向装ｆ（
６）と、前記スクリーン（１）に所定間隔をもって対設
された多数のアパーチャ＋１４）を有するマスク（γ）
と、前記マスク（γ）から前記電子銃（６）側に所定間
隔をもって対設された多数のアパーチャ（Ｉ５）を有す
るマスク（８）と、前記ファンネル部（８）の内壁Ｃ二
前記ネック部（４）の一部寸で一様に塗布された導電膜
（９）とから構成されている。スクリーン面（１）には
メタルバックされた三色の螢光体（１８）が規則正しく
配列されている。７エースプレート（２）の倒曲内壁に
はフレーム（１６）を保持するビン（１７）が設けてあ
り、フレーム（１６）に溶接されている弾性体θ８）が
ビンａ７） ｒ二嵌合することによってフレーム０６勝
（保持されている。フレーム（１６）にはマスク（８）
が溶接１．制定されておりマスク（８）には接着剤（ユ
て他のマスク（７）が固定されている。
リーン面（１）をもつフェースプレート（２）と、前記
フェースプレート（２）の側壁部にファンネル（８）を
弁して連結されたネック（４）と、前記ネック（４）に
内装された電子銃（５）と、前記ファンネル（Ｉｌｌか
らネック（４）にかけての外壁に装着された偏向装ｆ（
６）と、前記スクリーン（１）に所定間隔をもって対設
された多数のアパーチャ＋１４）を有するマスク（γ）
と、前記マスク（γ）から前記電子銃（６）側に所定間
隔をもって対設された多数のアパーチャ（Ｉ５）を有す
るマスク（８）と、前記ファンネル部（８）の内壁Ｃ二
前記ネック部（４）の一部寸で一様に塗布された導電膜
（９）とから構成されている。スクリーン面（１）には
メタルバックされた三色の螢光体（１８）が規則正しく
配列されている。７エースプレート（２）の倒曲内壁に
はフレーム（１６）を保持するビン（１７）が設けてあ
り、フレーム（１６）に溶接されている弾性体θ８）が
ビンａ７） ｒ二嵌合することによってフレーム０６勝
（保持されている。フレーム（１６）にはマスク（８）
が溶接１．制定されておりマスク（８）には接着剤（ユ
て他のマスク（７）が固定されている。
ファンネル部（８１５二は２個のボタンα１．（２０）
が埋め込まれており、１つのボタンα１１は導電膜（９
）と接触し、もう１つのボタン（イ）は導電膜（９）と
絶縁されており外部より異なった電位が印加できる様ｌ
二なっている。
が埋め込まれており、１つのボタンα１１は導電膜（９
）と接触し、もう１つのボタン（イ）は導電膜（９）と
絶縁されており外部より異なった電位が印加できる様ｌ
二なっている。
電子銃側のマスク（８）はフレーム（１６）を介してコ
ネクタ（２１）によってファンネル部に塗布された導電
膜（９）と接触していると同時にフレーム（１０）及び
ビンａ７）を介してスクリーン面（１）とも接触してお
り、外部よりアノード高電圧が印加されている。
ネクタ（２１）によってファンネル部に塗布された導電
膜（９）と接触していると同時にフレーム（１０）及び
ビンａ７）を介してスクリーン面（１）とも接触してお
り、外部よりアノード高電圧が印加されている。
一方スクリーン側のマスク（７）はコネクターによって
導電膜と絶縁されているボタン（社）と直接接触してお
り、外部からアノード高電圧より少し低い雷、圧が印加
されている。
導電膜と絶縁されているボタン（社）と直接接触してお
り、外部からアノード高電圧より少し低い雷、圧が印加
されている。
以上の構成において、電子銃（６）より発生した３本の
電子ビーム’Ｑｏ＋ 、 ＤＩ） 、 （旧は偏向装置
（６）−より偏向され、一枚目のマスク（８）のアノ（
−チャ（１５）を通りレンズ効果を受けながら二枚目の
マスク（γ）のアノく−チャＱ→を通ってスクリーン面
（１）Ｃ到達し対応する螢光体を衝撃発光させる。従っ
て２枚のマスク（７）、 （８１の各アパーチャに）、
０５）はそれぞれ一対−Ｃ二対応していなければならな
い。この様に構成されたマスクの製作は例えば以下の方
法による。
電子ビーム’Ｑｏ＋ 、 ＤＩ） 、 （旧は偏向装置
（６）−より偏向され、一枚目のマスク（８）のアノ（
−チャ（１５）を通りレンズ効果を受けながら二枚目の
マスク（γ）のアノく−チャＱ→を通ってスクリーン面
（１）Ｃ到達し対応する螢光体を衝撃発光させる。従っ
て２枚のマスク（７）、 （８１の各アパーチャに）、
０５）はそれぞれ一対−Ｃ二対応していなければならな
い。この様に構成されたマスクの製作は例えば以下の方
法による。
第２図に示す様Ｃ二基準孔１’１ｔｌ）を有する平坦な
第１のフラットマスク１３１）を基準ビン（ａｍを有す
る箱型の定板（８３）の上に基準ピン１３２＋と基準孔
（８ｆｌｌを一致させて載せる。このとき第１のフラッ
トマスク（８１）のアノく一チャ（州の存在する有効部
９ｍの周囲（二設けられたアパーチャの存在しない非有
効部（判の大部分（３７）は、ハーフエツチングによっ
てその厚さが本来のフラットマスクの板厚である有効部
（至））の板厚より薄く形成されている。この薄肉部１
８７１ に絶縁体フィルムシート（８８１を載せ、つい
で同じく基準孔（判を有するもう１枚の駆２のフラット
マスクＷζを基準ピンイａに合せて載せ、糸層に上板用
）を載せる。２枚のフラットマスク１ｌｌｌｌ、Ｍと上
板ｆｌ）は鉄板でまた定板（８８）６ステンレスなどで
形成されている。
第１のフラットマスク１３１）を基準ビン（ａｍを有す
る箱型の定板（８３）の上に基準ピン１３２＋と基準孔
（８ｆｌｌを一致させて載せる。このとき第１のフラッ
トマスク（８１）のアノく一チャ（州の存在する有効部
９ｍの周囲（二設けられたアパーチャの存在しない非有
効部（判の大部分（３７）は、ハーフエツチングによっ
てその厚さが本来のフラットマスクの板厚である有効部
（至））の板厚より薄く形成されている。この薄肉部１
８７１ に絶縁体フィルムシート（８８１を載せ、つい
で同じく基準孔（判を有するもう１枚の駆２のフラット
マスクＷζを基準ピンイａに合せて載せ、糸層に上板用
）を載せる。２枚のフラットマスク１ｌｌｌｌ、Ｍと上
板ｆｌ）は鉄板でまた定板（８８）６ステンレスなどで
形成されている。
前記箱型の定板（８３Ｉの下にはヒーター■が、またそ
の下には電磁石−が設値されていて１足板の上に２枚の
フラットマスク如）、鴎及び上板…）を載せた后電磁石
（６））を動作させこれら３枚の鉄板を密着させる。そ
の后ヒーター晴を動作させ箱型の定板１８８）を含め３
枚の鉄板を加熱し、その后熱溶解したパラフィンに・）
を２枚のマスクのアパーチャ部に注入する。
の下には電磁石−が設値されていて１足板の上に２枚の
フラットマスク如）、鴎及び上板…）を載せた后電磁石
（６））を動作させこれら３枚の鉄板を密着させる。そ
の后ヒーター晴を動作させ箱型の定板１８８）を含め３
枚の鉄板を加熱し、その后熱溶解したパラフィンに・）
を２枚のマスクのアパーチャ部に注入する。
次いでヒーター囮を止め、マスクのアパーチャ部に注入
した前記パラフィン４＄４１が冷却して固形化した后電
磁石（ト））の動作を止める。その后パラフィンによっ
て密着固定された２枚のフラットマスク＋１’ｌｌｌ、
Ｈを定板（８８）より取り出す。この様にして製作され
た２枚のフラットマスクは、第３図６二示す様にそれぞ
れのマスクのアパーチャー、倒が正しく一対一に対応し
て配置され且つ２枚の７ラツトマスク１８１１．Ｍ打全
面において密着した状態で２枚のマスクのそれぞれのア
パーチャ例、６０部にパラフィン淋）が充填固形化して
、２枚のフラットマスクは非有効部Ｃ二組縁フィルムシ
ート（囮を挾んでしっかりと固定されている。尚、第３
図は第２図におけるＸ−Ｘ断面図である。
した前記パラフィン４＄４１が冷却して固形化した后電
磁石（ト））の動作を止める。その后パラフィンによっ
て密着固定された２枚のフラットマスク＋１’ｌｌｌ、
Ｈを定板（８８）より取り出す。この様にして製作され
た２枚のフラットマスクは、第３図６二示す様にそれぞ
れのマスクのアパーチャー、倒が正しく一対一に対応し
て配置され且つ２枚の７ラツトマスク１８１１．Ｍ打全
面において密着した状態で２枚のマスクのそれぞれのア
パーチャ例、６０部にパラフィン淋）が充填固形化して
、２枚のフラットマスクは非有効部Ｃ二組縁フィルムシ
ート（囮を挾んでしっかりと固定されている。尚、第３
図は第２図におけるＸ−Ｘ断面図である。
この様１ユして製作された２枚のフラットマスクをプレ
ス成形によって同時に成形して第４図に示す様に一定の
曲率をもつ面１１６１とそれを支えるスカート部斬）を
有する形状とする。前記同時【ニブレス成形された２枚
のマスクは、その后マスクのアパーチャ部に殉、０６）
に充填固形化しているパラフィン間を熱溶解又は化学的
溶解（例えばトリクレン液洗浄）により除去し、２枚の
マスクをずらしマスクの曲面部ｔｉａ＋を所定間隔Ｃ二
設定固定する。このときＪ５；、形されたマスクのコー
ナ一部間１にはプレス歪による皺←Ｑ）ができるので成
形された２枚のマスクをずらし易くするため一方のマス
クの４つのコーナ一部を予め除去したマスク構造として
おくこともできる。２枚のマスクの固定は、第３図６二
示す様にまず第２のマスク曲を予め治具に固定されたフ
レーム（醐に溶接固定し、次いで所定間隔だけずらした
第１のマスク（８１）を第２のマスク―又ｄ゛フレーム
リ０）へ接着剤等で固定すればよい。第５図は第４図の
Ｚ−Ｚ断面を示す。
ス成形によって同時に成形して第４図に示す様に一定の
曲率をもつ面１１６１とそれを支えるスカート部斬）を
有する形状とする。前記同時【ニブレス成形された２枚
のマスクは、その后マスクのアパーチャ部に殉、０６）
に充填固形化しているパラフィン間を熱溶解又は化学的
溶解（例えばトリクレン液洗浄）により除去し、２枚の
マスクをずらしマスクの曲面部ｔｉａ＋を所定間隔Ｃ二
設定固定する。このときＪ５；、形されたマスクのコー
ナ一部間１にはプレス歪による皺←Ｑ）ができるので成
形された２枚のマスクをずらし易くするため一方のマス
クの４つのコーナ一部を予め除去したマスク構造として
おくこともできる。２枚のマスクの固定は、第３図６二
示す様にまず第２のマスク曲を予め治具に固定されたフ
レーム（醐に溶接固定し、次いで所定間隔だけずらした
第１のマスク（８１）を第２のマスク―又ｄ゛フレーム
リ０）へ接着剤等で固定すればよい。第５図は第４図の
Ｚ−Ｚ断面を示す。
前ロ１：実施例の詳細な仕様は例えば以下の様になる。
フラットマスクの外形は第１のフラットマスク（３１）
が約４２１ Ｘ ３２８ ｍ 、第２の７ラツトマスク
顛が約４２３ Ｘ ３３０ ｍ 、板厚は第１．第２の
フラットマスク共に本来の鉄板の板厚が０．３ ｍ 、
第１のフラットマスクの薄肉部飯）の板厚は０．２ ｍ
、絶縁体フィルムシート■の厚さは０．１ ｍ 、成
形された第１のマスクのスカート部（ロ）の長さは約１
５鞘１曲面上の絶縁体フィルムシートの幅は約３１１Ｊ
である。
が約４２１ Ｘ ３２８ ｍ 、第２の７ラツトマスク
顛が約４２３ Ｘ ３３０ ｍ 、板厚は第１．第２の
フラットマスク共に本来の鉄板の板厚が０．３ ｍ 、
第１のフラットマスクの薄肉部飯）の板厚は０．２ ｍ
、絶縁体フィルムシート■の厚さは０．１ ｍ 、成
形された第１のマスクのスカート部（ロ）の長さは約１
５鞘１曲面上の絶縁体フィルムシートの幅は約３１１Ｊ
である。
オた成形された２枚のマスクの曲面部の間隔１ｄ０．５
緒である。絶縁体フィルムシートとしてはポリイミド系
フィルムシートを用いている。
緒である。絶縁体フィルムシートとしてはポリイミド系
フィルムシートを用いている。
とのｉｌｌ二して製作された２枚マスク構成のものｔｌ
、２枚のマスクがスカート部において絶縁体フィルムシ
ートによって絶縁され、２枚のマスクに異なった電圧を
容易に印加するととができる。また絶縁体フィルムシー
） ６Ｍがスカート部Ｗ！＋のみならず曲面上＠句の一
部まで延びていることからこの部分で２枚のマスク間の
沿面距離を稼ぐことができるという利点をも有する。
、２枚のマスクがスカート部において絶縁体フィルムシ
ートによって絶縁され、２枚のマスクに異なった電圧を
容易に印加するととができる。また絶縁体フィルムシー
） ６Ｍがスカート部Ｗ！＋のみならず曲面上＠句の一
部まで延びていることからこの部分で２枚のマスク間の
沿面距離を稼ぐことができるという利点をも有する。
以上の実施例では絶縁体フィルムシートの厚さが第１の
フラットマスクの薄肉部のハーフエツチングされた厚さ
と同等としたが、本発明けこれに限らずハーフエツチン
グされた厚さが絶縁体フィルムシートの厚さより厚くて
もよい。この場合Ｃ二は他の金属で全厚さを一定とする
こともできる。
フラットマスクの薄肉部のハーフエツチングされた厚さ
と同等としたが、本発明けこれに限らずハーフエツチン
グされた厚さが絶縁体フィルムシートの厚さより厚くて
もよい。この場合Ｃ二は他の金属で全厚さを一定とする
こともできる。
一般にフラットマスクにハーフエツチングを行なうとき
には有効部のアパーチャをエツチングするときと同時に
行なうためハーフエツチングの量は有効部のアパーチャ
のエツチングの進み具合１−よって大きく影響される。
には有効部のアパーチャをエツチングするときと同時に
行なうためハーフエツチングの量は有効部のアパーチャ
のエツチングの進み具合１−よって大きく影響される。
このため必ずしもこのハーフエツチングの量を絶縁体フ
ィルムシートの厚さと同じε二することはできないので
エツチング保さに応じて上記のように調整するとよい。
ィルムシートの厚さと同じε二することはできないので
エツチング保さに応じて上記のように調整するとよい。
また前記実施例では第１のフラットマスクの方にハーフ
エツチングによる薄肉部を設けているが、本発明はこオ
Ｌｌ−限らず第２のフラットマスクの方に薄肉部を設け
ても良いことは１う迄もない。
エツチングによる薄肉部を設けているが、本発明はこオ
Ｌｌ−限らず第２のフラットマスクの方に薄肉部を設け
ても良いことは１う迄もない。
前記実施例では２枚のフラットマスクのそれぞれのアパ
ーチャを一対一に対応させ磁力によって密着させパラフ
ィンｌ二よって固定しているカ、本発明幻これζ二限ら
れるものではｋく特に磁力やパラフィンを用いなくても
例えば特開昭５７−１３８７４６号公報に記載されてい
る様な方法でもよい。
ーチャを一対一に対応させ磁力によって密着させパラフ
ィンｌ二よって固定しているカ、本発明幻これζ二限ら
れるものではｋく特に磁力やパラフィンを用いなくても
例えば特開昭５７−１３８７４６号公報に記載されてい
る様な方法でもよい。
さらに前記実施例ではマスク集束型カラー受像管ｆ二本
発明のマスク構造を適用した例であるが、本発明はこれ
に限らず前述した様なマスクの熱変形によるミスランデ
ィング防止用２枚マスク構成のマスクにも適用すること
ができる。
発明のマスク構造を適用した例であるが、本発明はこれ
に限らず前述した様なマスクの熱変形によるミスランデ
ィング防止用２枚マスク構成のマスクにも適用すること
ができる。
ま永前記実施例では２枚マスク構成について述べている
が本発明はこれに限らず複数枚のマスク構成の場合にも
適用できることは貫う迄もない。
が本発明はこれに限らず複数枚のマスク構成の場合にも
適用できることは貫う迄もない。
以上の様に本発明によれば、複数枚のフラットマスクの
それぞれのマスクの間に予め絶縁体フィルムシートを設
ｆｉｆ Ｌ、たまま複数枚のフラットマスクを沖ね合せ
全面均一の厚さとし同時１ニブレス成形してもそれぞれ
のマスクを１ｈ、気的に接触させるとと々く所定間隔に
固定保持することができ、実用性に富んだ複数枚マスク
構成のカラー受像管を得ることができる。
それぞれのマスクの間に予め絶縁体フィルムシートを設
ｆｉｆ Ｌ、たまま複数枚のフラットマスクを沖ね合せ
全面均一の厚さとし同時１ニブレス成形してもそれぞれ
のマスクを１ｈ、気的に接触させるとと々く所定間隔に
固定保持することができ、実用性に富んだ複数枚マスク
構成のカラー受像管を得ることができる。
第１図は本発明を適用したカラー受像管の一例を示す概
略構成図、第２図は本発明を説明するためのマスクの組
立法を示す概略分解組立図、第３図は第２図のＸ−Ｘ断
面図、第４図はプレス成形層のマスクの概観図、第５図
は複数マスクの組立を説明するための概略断面図である
。 ３１・・・第１のマスク ３６・・・非有効部３７・
・・薄肉部 ３８・・・絶縁体フィルムシート４０・
・・第２のマスク
略構成図、第２図は本発明を説明するためのマスクの組
立法を示す概略分解組立図、第３図は第２図のＸ−Ｘ断
面図、第４図はプレス成形層のマスクの概観図、第５図
は複数マスクの組立を説明するための概略断面図である
。 ３１・・・第１のマスク ３６・・・非有効部３７・
・・薄肉部 ３８・・・絶縁体フィルムシート４０・
・・第２のマスク
Claims (1)
- それぞれ一定の曲面上に多数のアパーチャを有する有効
部及びその周囲にアパーチャの存在しない非有効部を有
し且つそれらを保持するスカート部とからなる複数枚の
マスクを所定ＩＭＪ隔をもって固定保持したカラー受像
管用マスクにおいて、前−ＱｉＬ複数枚のマスクのうち
少なくとも１枚のマスクの他のマスクとの対向面側の前
記スカート部或いは前記スカート部を含み且つ前記曲ｍ
ｉ上の前記非有効部の少なくとも一部のマスクの板厚を
他の部分のマスク本来の板厚より薄く形成し且つその部
分Ｃ二絶縁体が配置されていることを特徴とするカラー
受像管用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18815382A JPS5978428A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | カラ−受像管用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18815382A JPS5978428A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | カラ−受像管用マスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978428A true JPS5978428A (ja) | 1984-05-07 |
| JPH0343738B2 JPH0343738B2 (ja) | 1991-07-03 |
Family
ID=16218673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18815382A Granted JPS5978428A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | カラ−受像管用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978428A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101588929B1 (ko) * | 2013-09-02 | 2016-01-27 | 서울대학교산학협력단 | 랭킨 사이클 장치 및 이를 포함하는 발전시스템 |
-
1982
- 1982-10-28 JP JP18815382A patent/JPS5978428A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0343738B2 (ja) | 1991-07-03 |
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