JPS5974528A - 表示パネル用上下導通剤 - Google Patents
表示パネル用上下導通剤Info
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- JPS5974528A JPS5974528A JP18495782A JP18495782A JPS5974528A JP S5974528 A JPS5974528 A JP S5974528A JP 18495782 A JP18495782 A JP 18495782A JP 18495782 A JP18495782 A JP 18495782A JP S5974528 A JPS5974528 A JP S5974528A
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- liquid crystal
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、絶縁体物質からなる表示体用ギャップ剤に金
属酸化物層を形成し、その上に無電解メッキにより金“
属被膜を形成したことによって、導通性を付与した表示
体用上下導通剤に関している。
属酸化物層を形成し、その上に無電解メッキにより金“
属被膜を形成したことによって、導通性を付与した表示
体用上下導通剤に関している。
液晶パネルは従来、時計、ｉ！卓等の表示体として多く
使用されてきている。
使用されてきている。
最近は、液晶パネルの表示容量が大きくなる傾向があり
、それに伴って上下導通部の数が多くなってきている。
、それに伴って上下導通部の数が多くなってきている。
ここで第１図、第２図に従来の液晶パネルの上下導通部
の概略図を示す。
の概略図を示す。
第１図は、上下基板の上下導通を取るために軟金属を用
いた場合のものである。上基板に穴を開けておき、３の
コモン１！極のリード端子５へ導通を取るために、穴の
中に軟金属であるインジウムボール６を入れて、つぶし
た状態のものである。
いた場合のものである。上基板に穴を開けておき、３の
コモン１！極のリード端子５へ導通を取るために、穴の
中に軟金属であるインジウムボール６を入れて、つぶし
た状態のものである。
このように、インジウムボールによって上下導通ヲ取っ
た場合、乙のコモン電極と６のインジウムボールのコン
タクトが取れないことが多く、また、工数もかかり生産
性が悪かった。この欠点を改良して、銀ペースト９を上
下基板のどちらかに印刷することによって、工数を減し
たものが第２図の状態である。ところが、このような状
態の液晶パネルも、上下導通部の不良が液晶パネルの歩
留り低下の大きな原因となっていた。これは、７のシー
ル剤と９の銀ペーストの乾燥温度が異ること、また、通
常液晶パネルは単品で製造するのではなく、二枚のガラ
ス板を貼り合わせ、第５図のような形にしたあと破線部
に、切り込みを入れ、割ることによって学品の液晶パネ
ル１０を製造している。
た場合、乙のコモン電極と６のインジウムボールのコン
タクトが取れないことが多く、また、工数もかかり生産
性が悪かった。この欠点を改良して、銀ペースト９を上
下基板のどちらかに印刷することによって、工数を減し
たものが第２図の状態である。ところが、このような状
態の液晶パネルも、上下導通部の不良が液晶パネルの歩
留り低下の大きな原因となっていた。これは、７のシー
ル剤と９の銀ペーストの乾燥温度が異ること、また、通
常液晶パネルは単品で製造するのではなく、二枚のガラ
ス板を貼り合わせ、第５図のような形にしたあと破線部
に、切り込みを入れ、割ることによって学品の液晶パネ
ル１０を製造している。
このため液晶パネルの端部には力が加わり、シール剤の
外部にある銀ペーストが、ハガレ上下導通不良を起す原
因となっていた。そこで銀ペーストの接着性を良くする
ために樹脂分を多くすると、銀ペースト内での銀粒子の
接触が取れにくくなり、上下導通不良を起すこととなっ
た。また銀ペースト中の銀粒子を多くすると、当然のこ
とながら接着性が悪くなった。更に、適当の割合であっ
ても製造時の湿度、温度、乾燥時の湿度等によっても歩
留りが大きく変動し、その原因の解析も困難を極めてい
るのが現状である。
外部にある銀ペーストが、ハガレ上下導通不良を起す原
因となっていた。そこで銀ペーストの接着性を良くする
ために樹脂分を多くすると、銀ペースト内での銀粒子の
接触が取れにくくなり、上下導通不良を起すこととなっ
た。また銀ペースト中の銀粒子を多くすると、当然のこ
とながら接着性が悪くなった。更に、適当の割合であっ
ても製造時の湿度、温度、乾燥時の湿度等によっても歩
留りが大きく変動し、その原因の解析も困難を極めてい
るのが現状である。
また銀ペーストを用いた場合、銀粒子の径が一定でなく
、大きい粒子の径が７１１以上であるのが一般的なもの
である。このため、ギャップ厚が５μｍの液晶パネルを
量産することが困難であった。
、大きい粒子の径が７１１以上であるのが一般的なもの
である。このため、ギャップ厚が５μｍの液晶パネルを
量産することが困難であった。
第４図にこの状態を示す。１１は銀粒子、１２は銀ペー
スト中の接着樹脂である。
スト中の接着樹脂である。
そこで、粒径が液晶パネルのギャップを確保するために
用いられるギャップ剤に無電解メッキをすることで導電
性を付与した上下導通剤が考えられた。ところが絶縁体
物質に直接無電解メツ千被膜を形成したため、メッキ被
膜と絶縁体物質との密着性が悪く、接着剤中にメッキ被
膜のついたギャップ剤を分散させる時メッキ被膜が剥離
し７やすく、分散方法に注意を要し、また上下導通に信
頼性が不足しがちであった。また部分的にメッキ被膜が
形成されないところもあり、信頼性が不足していた。こ
こで本発明者は、絶縁体上に無電解メッキ被膜を密着よ
く均一に形成する方法として絶縁体上に金属酸化物層を
形成後、無電解メッキ被膜を形成する方法を見い出して
いる。
用いられるギャップ剤に無電解メッキをすることで導電
性を付与した上下導通剤が考えられた。ところが絶縁体
物質に直接無電解メツ千被膜を形成したため、メッキ被
膜と絶縁体物質との密着性が悪く、接着剤中にメッキ被
膜のついたギャップ剤を分散させる時メッキ被膜が剥離
し７やすく、分散方法に注意を要し、また上下導通に信
頼性が不足しがちであった。また部分的にメッキ被膜が
形成されないところもあり、信頼性が不足していた。こ
こで本発明者は、絶縁体上に無電解メッキ被膜を密着よ
く均一に形成する方法として絶縁体上に金属酸化物層を
形成後、無電解メッキ被膜を形成する方法を見い出して
いる。
そこで本発明は、このような欠点を改良するために、粒
径が液晶パネルのギャップを確保するために用いられる
ギャップ剤に、金属酸化物層を形成し、更にその上に無
電解メッキをすることによって導電性を付与した上下導
通剤を用いたこと全特徴としている。
径が液晶パネルのギャップを確保するために用いられる
ギャップ剤に、金属酸化物層を形成し、更にその上に無
電解メッキをすることによって導電性を付与した上下導
通剤を用いたこと全特徴としている。
上下導通剤としては、グラスファイバ７、アルミナ、無
機ガラスピーズ等があり、これを使用した場合、液晶パ
ネルのギャップによって上下導通の接点不良が解消され
る訳である。この状態を第５図に示す。
機ガラスピーズ等があり、これを使用した場合、液晶パ
ネルのギャップによって上下導通の接点不良が解消され
る訳である。この状態を第５図に示す。
また、絶縁体物質上に形成する金属酸化物層としては、
５ｎ０２ 、 Ｓｂ２０ｇ”、 ＴｉＣｌ２ 、 Ｉ
ｎ、Ｏ，等のうちどれか１つ、あるいは２つ以上の混合
被膜が無電解メッキを密着性良く、均一につけるのには
適当であるが、これらに限定されない。
５ｎ０２ 、 Ｓｂ２０ｇ”、 ＴｉＣｌ２ 、 Ｉ
ｎ、Ｏ，等のうちどれか１つ、あるいは２つ以上の混合
被膜が無電解メッキを密着性良く、均一につけるのには
適当であるが、これらに限定されない。
次に本発明の表示パネル用上下導通剤の製造方法の概略
を述べる。
を述べる。
グラスファイバー、アルミナ、無機ガラスピーズ等の無
機ギャップ剤を加熱水中に分散させ加熱懸濁液をつくる
。次にメタノール、エタノール等の低佛点溶媒に、塩化
第２スズ、塩化アンチモン、塩化チタン、塩化インジウ
ム等の金属塩のどれか１−）あるいは２つ以上を溶解し
、これを加熱懸濁液に加えるとアルコールは加熱水と［
１することで瞬時に蒸発し加水分解が起り均一に金属酸
化物層が、無機ギャップ剤上に形成される。これを３別
、洗浄し、空気中で４００℃〜５００℃で焼成すること
によって、絶縁体上に密着よく金属酸化物被膜が形成さ
れる。次にこの上に無電解メッキをするために、通常状
のような無電解前処理工程を用いる。
機ギャップ剤を加熱水中に分散させ加熱懸濁液をつくる
。次にメタノール、エタノール等の低佛点溶媒に、塩化
第２スズ、塩化アンチモン、塩化チタン、塩化インジウ
ム等の金属塩のどれか１−）あるいは２つ以上を溶解し
、これを加熱懸濁液に加えるとアルコールは加熱水と［
１することで瞬時に蒸発し加水分解が起り均一に金属酸
化物層が、無機ギャップ剤上に形成される。これを３別
、洗浄し、空気中で４００℃〜５００℃で焼成すること
によって、絶縁体上に密着よく金属酸化物被膜が形成さ
れる。次にこの上に無電解メッキをするために、通常状
のような無電解前処理工程を用いる。
１）アルカリ脱脂
２）酸中和
３）ＳｎＯｔ２溶液におけるセンシタイジング４ ）■
’ 〔１，Ｏ１，２溶ンｆ（におけるアクヂベイ千ング
“ＣＡ：）る。−トンンタイジングは、絶縁物質の表面
に例えばｓ ｎ２＋ イメンを吸陪さぜる工程であり、
アクチ・＼イチングは例えば Ｓｎ ２＋ ＋ Ｐｄ ２” ＝
Ｓｎ’ −ト Ｐｄ Ｏの反１ｉ１）ｒを絶縁
物質表面に起し、Ｐｄ０を無電解メッキの触媒核とする
上程である。
’ 〔１，Ｏ１，２溶ンｆ（におけるアクヂベイ千ング
“ＣＡ：）る。−トンンタイジングは、絶縁物質の表面
に例えばｓ ｎ２＋ イメンを吸陪さぜる工程であり、
アクチ・＼イチングは例えば Ｓｎ ２＋ ＋ Ｐｄ ２” ＝
Ｓｎ’ −ト Ｐｄ Ｏの反１ｉ１）ｒを絶縁
物質表面に起し、Ｐｄ０を無電解メッキの触媒核とする
上程である。
力（〔電解メッキ前処理工程を行ったあと、所定の方法
に従っ゛Ｃ建浴、加湿された無電解メッキ浴に浸漬ずれ
ばメタライジングできる。
に従っ゛Ｃ建浴、加湿された無電解メッキ浴に浸漬ずれ
ばメタライジングできる。
無電解メッキ浴としては、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ。
Ａ ｇ＋ Ｇ Ｏ＋ Ｓｎ等のメッキ浴があり、上下導
通剤よして使用可能であるが、メＳ・キ被膜の密着性は
、Ｎ１が最も良く、そのため絶縁性物質のメタライジン
グには力！ｅ ？ｌｆ解ニッケル浴が最もずぐれている
。
通剤よして使用可能であるが、メＳ・キ被膜の密着性は
、Ｎ１が最も良く、そのため絶縁性物質のメタライジン
グには力！ｅ ？ｌｆ解ニッケル浴が最もずぐれている
。
前述の金属酸化物層の厚さ、及びメッキ膜厚さは、液晶
パネルのギャップ剤を使用する場合は２ 〔Ｊ ＯＸ〜
５０００スが良い。２００Ｘ以下であるとギャップ剤に
メッキ被膜の形成されていない部分が生じたり、また抵
抗が大きくなるため実１：（、ゞ的ではない。５ｏｏｏ
Ｘ以上になると、上下導通部と液晶ギャップ厚が’Ｉｌ
ｔｍ以上の差ができ、液晶層が不均一となり駆動電圧の
変化、あるいけ干渉色により色ムラが出てしまう。
パネルのギャップ剤を使用する場合は２ 〔Ｊ ＯＸ〜
５０００スが良い。２００Ｘ以下であるとギャップ剤に
メッキ被膜の形成されていない部分が生じたり、また抵
抗が大きくなるため実１：（、ゞ的ではない。５ｏｏｏ
Ｘ以上になると、上下導通部と液晶ギャップ厚が’Ｉｌ
ｔｍ以上の差ができ、液晶層が不均一となり駆動電圧の
変化、あるいけ干渉色により色ムラが出てしまう。
また、絶縁性物質にニッケル被膜等を形成した場合、抵
抗値が大きい場合は、ニッケル等の表面に無電解銀メッ
キ無電解金メツキ等の’？ｌＹ気導通性の良い貴金属被
膜を形成するとよい。Ｖｔ金属蕪電解メッキの被膜の厚
さはｓｏＸ〜１μｍが好ましい。
抗値が大きい場合は、ニッケル等の表面に無電解銀メッ
キ無電解金メツキ等の’？ｌＹ気導通性の良い貴金属被
膜を形成するとよい。Ｖｔ金属蕪電解メッキの被膜の厚
さはｓｏＸ〜１μｍが好ましい。
このようにしてメタライズされた絶縁性物質を接着剤に
加え均一に分散させる。
加え均一に分散させる。
接着剤としては、エボキン樹脂、アクリルｊＩｌ脂等を
使用した。
使用した。
上記接着剤中へのメタライズされた絶縁性物質の割合は
０．１ ｗｔ％〜３０ ｗｔ％が適当であり、０１ｗｔ
％以下であると導通部の抵抗が大きくなったりばらつい
たりしやすくなる。また５ ０ ｗｔ％以上になると接
着性に問題がでやすくなる。またギヤツブ剤υ）分散状
態は、液晶パネルの少なくとも上下シ１４ ｉ１ｊ部に
おいて５つ／ ｖ４〜５００ケ／１．４が良い。
０．１ ｗｔ％〜３０ ｗｔ％が適当であり、０１ｗｔ
％以下であると導通部の抵抗が大きくなったりばらつい
たりしやすくなる。また５ ０ ｗｔ％以上になると接
着性に問題がでやすくなる。またギヤツブ剤υ）分散状
態は、液晶パネルの少なくとも上下シ１４ ｉ１ｊ部に
おいて５つ／ ｖ４〜５００ケ／１．４が良い。
１−眼、下限の値は１−記と同様の理由である。もちろ
ん、これらの値は、絶縁性物質の径により多少異る。
ん、これらの値は、絶縁性物質の径により多少異る。
このようにして作られた上下導通剤は、印刷によって液
晶パネルの上下導通部につけられ、液晶パネルに組み込
まれた。
晶パネルの上下導通部につけられ、液晶パネルに組み込
まれた。
液晶パネルの基板は通常ガラスが用いられているが、プ
ラスチックフィルムに透明電極（ＳｎＯ。
ラスチックフィルムに透明電極（ＳｎＯ。
＋ Ｉ ｎ、 （１，、！４ ）をパターニングしたも
のを用いてもよい。プラスチックフィルムの場合は、上
下導通部の接触した部分が、組立時の加圧によりへこみ
、それによって」二下導通材との接触面積が大きくなり
信頼性が増すことになる。
のを用いてもよい。プラスチックフィルムの場合は、上
下導通部の接触した部分が、組立時の加圧によりへこみ
、それによって」二下導通材との接触面積が大きくなり
信頼性が増すことになる。
次に実施例を用いて詳細に説明する。
実施例１゜
Ｍ ５ Ｉｔ ｒｎのグラスファイバーの粉末１０ｙを
水１ｔに加え９０℃に加熱し攪拌し、均一に分散した加
熱懸濁液を調製した。この加熱懸濁液に、エタノール３
００ ｃｃにＳ ｎ ＣＺ４ ８０ ｆを溶解したもの
からなる溶液を２時間かけてゆっくり注入して、前記グ
ラスファイバー上にＳｎ、０２から成る被膜層を析出さ
せ、３別、洗浄して５００ ℃で１時間焼成を行った。
水１ｔに加え９０℃に加熱し攪拌し、均一に分散した加
熱懸濁液を調製した。この加熱懸濁液に、エタノール３
００ ｃｃにＳ ｎ ＣＺ４ ８０ ｆを溶解したもの
からなる溶液を２時間かけてゆっくり注入して、前記グ
ラスファイバー上にＳｎ、０２から成る被膜層を析出さ
せ、３別、洗浄して５００ ℃で１時間焼成を行った。
次に、５ｎＯｔ２１ｙ／ノ、 ＰＩＣｌ １ ａａ ／
ｔの混合溶液中にこれらの粒子を分散させ、ろ過、水
洗後、所定の方法によって建浴されたカニゼン社製のレ
ッドソー−マー中にこれらの粒子を分散し、ろ過、水洗
した。
ｔの混合溶液中にこれらの粒子を分散させ、ろ過、水
洗後、所定の方法によって建浴されたカニゼン社製のレ
ッドソー−マー中にこれらの粒子を分散し、ろ過、水洗
した。
そして、所定の方法によって建浴されたカニゼン社製の
Ｓ−６８０溶液（４５℃）に６分間分散させ、ろ過、水
洗した。これによってグラスファイバー上に３ｓｏｏＸ
のニッケルーリンメッキができた。これをエボキン樹脂
中に２５ ｗｔ％の割合で分散させ、ポウケイ酸ガラス
の液晶パネルの上下導通剤として使用したところ、抵抗
値は９にΩ（抵抗値はネサガラスを介して測定した）と
なった。また所定の加速試験を行っても抵抗値の変化は
なかった。
Ｓ−６８０溶液（４５℃）に６分間分散させ、ろ過、水
洗した。これによってグラスファイバー上に３ｓｏｏＸ
のニッケルーリンメッキができた。これをエボキン樹脂
中に２５ ｗｔ％の割合で分散させ、ポウケイ酸ガラス
の液晶パネルの上下導通剤として使用したところ、抵抗
値は９にΩ（抵抗値はネサガラスを介して測定した）と
なった。また所定の加速試験を行っても抵抗値の変化は
なかった。
実施例２゜
実施例１と同様にＳ ｎ Ｏ２被膜の形成された７μｍ
のグラスファイバー粒子上に２ｏｏｏＸのニッケルーリ
ンメッキを施した後、日本エンゲルハルト社製のアトメ
ノクス金メッキ浴で、５００Ｘのニッケルーリン層を金
と置換メンキした。つまり１５００Ｘはニッケルーリン
層、その上層として５ｏｏＸは金層が形成された。
のグラスファイバー粒子上に２ｏｏｏＸのニッケルーリ
ンメッキを施した後、日本エンゲルハルト社製のアトメ
ノクス金メッキ浴で、５００Ｘのニッケルーリン層を金
と置換メンキした。つまり１５００Ｘはニッケルーリン
層、その上層として５ｏｏＸは金層が形成された。
これをエポキシ樹脂中に５’ｗｔ％分散させ、液晶パネ
ルの上下導通剤として使用したところ、上下導通の抵抗
、値は８にΩとなった。また所定の加速試験を行っても
、抵抗の変化はなかった。
ルの上下導通剤として使用したところ、上下導通の抵抗
、値は８にΩとなった。また所定の加速試験を行っても
、抵抗の変化はなかった。
実施例３゜
実施例２でメタライズされた７μｍのグラスファイバー
粒子をＵ、Ｖ硬化（紫外線硬化）性のアクリル樹脂中に
１５ｗｔ％分散させ、上下導通剤としてポリエチレンフ
ィルムからなる液晶パネルに使用した。上下導通の抵抗
値は１７にΩとなり、加速試験にも抵抗値の変化はなか
った。
粒子をＵ、Ｖ硬化（紫外線硬化）性のアクリル樹脂中に
１５ｗｔ％分散させ、上下導通剤としてポリエチレンフ
ィルムからなる液晶パネルに使用した。上下導通の抵抗
値は１７にΩとなり、加速試験にも抵抗値の変化はなか
った。
実施例４゜
実施例２でメタライズされた７μｍのグラスファイバー
粒子を２ ｗｔ％、銀ペースト中に分散させて、液晶パ
ネルの上下導通剤として使用した。抵抗値は銀ペースト
よりやや下がり、加速試験での抵抗の変化はなかった。
粒子を２ ｗｔ％、銀ペースト中に分散させて、液晶パ
ネルの上下導通剤として使用した。抵抗値は銀ペースト
よりやや下がり、加速試験での抵抗の変化はなかった。
実施例５
実施例４と同様にグラスファイバー粒子を１０ｗｔ％銀
ペーストに分散させ、液晶パネルの上下導通剤として使
用したところ、同様の結果が得られた。
ペーストに分散させ、液晶パネルの上下導通剤として使
用したところ、同様の結果が得られた。
実施例６
１０μｍのアルミナ粒子に実施例１と同様の方法でＳ
ｎ Ｏ２被膜を形成後、ニッケルーリン無電解メッキを
３０００Ｘの厚さに行い、実施例１と同様の試験を行っ
たところ、抵抗値は１０にΩ（ネサガラスをかえして抵
抗値を測定した）となり、所定の加速試験を行っても抵
抗値に変化はながりた。
ｎ Ｏ２被膜を形成後、ニッケルーリン無電解メッキを
３０００Ｘの厚さに行い、実施例１と同様の試験を行っ
たところ、抵抗値は１０にΩ（ネサガラスをかえして抵
抗値を測定した）となり、所定の加速試験を行っても抵
抗値に変化はながりた。
実施例Ｚ
径７μ雷のグラスファイバーの粉末１０ｆを水１ｔに加
え９０℃に加熱摺拌し、均一に分散した加熱懸濁液を調
整した。この加熱懸濁液にエタノール５００ ｃｃにＴ
ｉ Ｃｊ ｔ、を５ＣＩ？溶解したものからなる溶液
を２時間かけてゆっくり注入して、前記グラスファイバ
ー上にＴ１０．からなる被膜層を析出させ、ろ別、洗浄
して５００℃で１時間焼成を行った。
え９０℃に加熱摺拌し、均一に分散した加熱懸濁液を調
整した。この加熱懸濁液にエタノール５００ ｃｃにＴ
ｉ Ｃｊ ｔ、を５ＣＩ？溶解したものからなる溶液
を２時間かけてゆっくり注入して、前記グラスファイバ
ー上にＴ１０．からなる被膜層を析出させ、ろ別、洗浄
して５００℃で１時間焼成を行った。
これを実施例１と同様な方法で無電解メッキを行ったと
ころ、実施例１と同様な結果を得た。
ころ、実施例１と同様な結果を得た。
以上実施例１から７までの上下導通剤を使用した場合、
上下導通不良は今までの上下導通剤を使用した場合と比
較（７て１／２ｏ←減少した。
上下導通不良は今までの上下導通剤を使用した場合と比
較（７て１／２ｏ←減少した。
本発明により、液晶パネルは大巾なコストダウンが可能
になった。
になった。
第１図・・・従来の液晶パネル断面図
１．２：上下基板
６．４：上下透明電極
５：上電極からの導通端子
６コ軟金属（インジウムボー／Ｉ／）
７ ；ギャップ剤を含んだシール部
８；液晶
第２図・・・従来の他の液晶／イネル断面図９二上下導
通剤 第６図・・・一般の液晶パネルの工程途上における基板
平面図 １０：単品の液晶パネル 第４図・・・上下導通部の断面図（従来例）１１：銀粒
子 １２：銀ペースト中の接着樹脂 第５図・・・上下導通部の断面図（本発明ニゲラスファ
イバー） １３！グラスフアイバー １４：接着材 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務 牙１図 第４隔
通剤 第６図・・・一般の液晶パネルの工程途上における基板
平面図 １０：単品の液晶パネル 第４図・・・上下導通部の断面図（従来例）１１：銀粒
子 １２：銀ペースト中の接着樹脂 第５図・・・上下導通部の断面図（本発明ニゲラスファ
イバー） １３！グラスフアイバー １４：接着材 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務 牙１図 第４隔
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 絶縁物の表面に金属酸化物層を形成後、無電解メ
ッキによりて金属被膜を形成したことを特徴とする表示
パネル用上下導通剤。 ２、特許請求の範囲第１項において、表示ツクネル用上
下導通剤として、表示ノ々ネルのギャップを確保するた
めに用いる絶縁性物質から成るギャップ剤の表面に金属
酸化物層を形成後、無電解シツキによって金属被膜を形
成したことを特徴とする表示パネル用上下導通剤。 ３、 特許請求の範囲第２項において、無電解メッキ被
膜がニッケル合金あるいはニッケル合金上に貴金属被膜
を積層させたものであることを特徴とする表示パネル用
上下導通剤。 ４、 特許請求の範囲第１項乃至第３項の少くとも１項
において、表面に金属被膜層を形成した絶縁物質から成
るギャップ剤を、接着剤中に分散したことを特徴とする
表示パネル用上下導通剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18495782A JPS5974528A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 表示パネル用上下導通剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18495782A JPS5974528A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 表示パネル用上下導通剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5974528A true JPS5974528A (ja) | 1984-04-27 |
| JPH0151167B2 JPH0151167B2 (ja) | 1989-11-01 |
Family
ID=16162302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18495782A Granted JPS5974528A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 表示パネル用上下導通剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5974528A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE41176E1 (en) * | 1997-01-08 | 2010-03-30 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid crystal display device having electrodes connected at a location close to an outside edge of a contact hole |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5337199A (en) * | 1976-08-10 | 1978-04-06 | Kebetsukushiyuu | Process for continuously preparing lithium carbonate |
| JPS5343306A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Current collecting method for moving body |
| JPS5713164A (en) * | 1980-06-28 | 1982-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Paste of activating metallic material for electroless plating and plating method using said paste |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP18495782A patent/JPS5974528A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5337199A (en) * | 1976-08-10 | 1978-04-06 | Kebetsukushiyuu | Process for continuously preparing lithium carbonate |
| JPS5343306A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-19 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Current collecting method for moving body |
| JPS5713164A (en) * | 1980-06-28 | 1982-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Paste of activating metallic material for electroless plating and plating method using said paste |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE41176E1 (en) * | 1997-01-08 | 2010-03-30 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid crystal display device having electrodes connected at a location close to an outside edge of a contact hole |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0151167B2 (ja) | 1989-11-01 |
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