JPS597331A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPS597331A JPS597331A JP57115509A JP11550982A JPS597331A JP S597331 A JPS597331 A JP S597331A JP 57115509 A JP57115509 A JP 57115509A JP 11550982 A JP11550982 A JP 11550982A JP S597331 A JPS597331 A JP S597331A
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- JP
- Japan
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- scanning
- angle
- axis
- moving
- mirror
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザビームプリンター，パターンジェネレ
ータ、画像読み取り装置、多色刷印刷用製服装Ｎ等に使
用さｔしる光走査装置に関するものである。更に詳し＜
（ｄ、本発明ｄ１光ビームをＸ方向に直線走査する手段
と、この光ビームによって描画される対象物をＸ方向と
交わるＸ方向に移動する移動手段とを含み、対象物（投
影面）上に所望のパターンを描画する光走査装置に関す
るものである。
ータ、画像読み取り装置、多色刷印刷用製服装Ｎ等に使
用さｔしる光走査装置に関するものである。更に詳し＜
（ｄ、本発明ｄ１光ビームをＸ方向に直線走査する手段
と、この光ビームによって描画される対象物をＸ方向と
交わるＸ方向に移動する移動手段とを含み、対象物（投
影面）上に所望のパターンを描画する光走査装置に関す
るものである。
従来より，レーザビームを回転ポリコンミラーやガルバ
ノミラ−で偏向走査し、ｆθレンズを介して微小スポッ
トに集束し、かつ面線走査する光走査装置がある。この
装置は、１軸の走査（主走査）はレーザスポットの走査
で行ない、この軸と直交する軸の走査（副走査）は、回
転ドラムや１次元移動ステージ等で行なっている。
ノミラ−で偏向走査し、ｆθレンズを介して微小スポッ
トに集束し、かつ面線走査する光走査装置がある。この
装置は、１軸の走査（主走査）はレーザスポットの走査
で行ない、この軸と直交する軸の走査（副走査）は、回
転ドラムや１次元移動ステージ等で行なっている。
第１図は、このような従来の走査装檻で走査した感光物
（投影面）上のレーザスポットの走査軌跡を示す説明図
である。走査軌跡Ｓｔは、ステージの運動の為にＸ軸と
平行にならず、角変θだけＸ軸に対して傾斜したものと
なる。この傾斜角θＶ１．レーザスポットの２方向走汗
速度をＶｘ ＋ステージのｙ方向移動速度をｖｙとすれ
ば、となり、僅かではあるが有限のｌｉ＃となる。
（投影面）上のレーザスポットの走査軌跡を示す説明図
である。走査軌跡Ｓｔは、ステージの運動の為にＸ軸と
平行にならず、角変θだけＸ軸に対して傾斜したものと
なる。この傾斜角θＶ１．レーザスポットの２方向走汗
速度をＶｘ ＋ステージのｙ方向移動速度をｖｙとすれ
ば、となり、僅かではあるが有限のｌｉ＃となる。
通常、画像等のパターンをΔ・＆光ドラムーヒに描画−
Ｊ“る場合、前配置−たような走査軌跡のＸ輛νこ対す
る傾斜角θは微小であって、はとんど問題とならないが
、例えば、両面シリンド基板用の原版フィルムにパター
ンを描画する場合１重なり合う２種類のパターンのマス
クは、プリント基敬の表と裏側とで正確（Ｃ一致するこ
とか要求され、走査軌跡の傾余１角θの存在、１゛なわ
ち、座檜糸の直交度の誤差が問題となる。
Ｊ“る場合、前配置−たような走査軌跡のＸ輛νこ対す
る傾斜角θは微小であって、はとんど問題とならないが
、例えば、両面シリンド基板用の原版フィルムにパター
ンを描画する場合１重なり合う２種類のパターンのマス
クは、プリント基敬の表と裏側とで正確（Ｃ一致するこ
とか要求され、走査軌跡の傾余１角θの存在、１゛なわ
ち、座檜糸の直交度の誤差が問題となる。
ここ６ておいて、本発明−これらの問題点を解決し、面
交座嘩系に従った正確な２次元走査ができる光走査装置
を実現しようとするものである。
交座嘩系に従った正確な２次元走査ができる光走査装置
を実現しようとするものである。
本発明に係る装置は、光ビームを対象物に反射させると
共に、この光ビームのｉＮｇ走査範囲中のはソ中央部分
を軸として回転自在とＬ−た反射手段と、この反射手段
の回転角を調整する手段とを設けた点に特徴がある。
共に、この光ビームのｉＮｇ走査範囲中のはソ中央部分
を軸として回転自在とＬ−た反射手段と、この反射手段
の回転角を調整する手段とを設けた点に特徴がある。
第２図は本発明に係る装置の一例を示す構成斜視図、第
６図は第２図装置の要部を示す丁面配置図である。これ
らの図において、ＩＨレーザ光源、２は光源１からのレ
ーザビームを）くターン信号（描画データ）に応じて変
調させる光変調器、６はビームエクスパンダ、４（ｄビ
ームエクスノくンタ“６を介して入射するレーザビーム
をＸ方向に直線走査させるいくつかの反射面５を不する
回転ポリゴンミラー、６は回転ポリゴンミラー４からの
レーザビームが入射するｆθレンズである。これらの各
要素は、従来から用いられてきたものと同じである。
６図は第２図装置の要部を示す丁面配置図である。これ
らの図において、ＩＨレーザ光源、２は光源１からのレ
ーザビームを）くターン信号（描画データ）に応じて変
調させる光変調器、６はビームエクスパンダ、４（ｄビ
ームエクスノくンタ“６を介して入射するレーザビーム
をＸ方向に直線走査させるいくつかの反射面５を不する
回転ポリゴンミラー、６は回転ポリゴンミラー４からの
レーザビームが入射するｆθレンズである。これらの各
要素は、従来から用いられてきたものと同じである。
７はｆθレンズ６から出射した光を、感光物（投影面）
９上に垂ｉＵ Ｋ反射させる反射鏡で、レーザビームの
直線走査範囲り中のはソ中央部に設けた軸Ｃｔを中心と
して回転できるように構成されている。８は感光物９上
に走査されるスポラトノ軌跡、１０は感光物９をｙ軸方
向に移動させる移動ステージ、１１はこの移動ステージ
の基台で、この基台上にＩ′ｉｖ字型の案内溝１４と、
７ラント面１５が設けられており、、移動ステージ１ｏ
の運動方向を拘束している。１２ｒｒｉモータ、１６は
このモータに結合し、かつ移動ステージ１ｏに螺合１、
ているネジで、モータ１２の１９１転によって、移動ス
テージ１０をｙ ｎｕｎ方向に定速度で移動させる。
９上に垂ｉＵ Ｋ反射させる反射鏡で、レーザビームの
直線走査範囲り中のはソ中央部に設けた軸Ｃｔを中心と
して回転できるように構成されている。８は感光物９上
に走査されるスポラトノ軌跡、１０は感光物９をｙ軸方
向に移動させる移動ステージ、１１はこの移動ステージ
の基台で、この基台上にＩ′ｉｖ字型の案内溝１４と、
７ラント面１５が設けられており、、移動ステージ１ｏ
の運動方向を拘束している。１２ｒｒｉモータ、１６は
このモータに結合し、かつ移動ステージ１ｏに螺合１、
ているネジで、モータ１２の１９１転によって、移動ス
テージ１０をｙ ｎｕｎ方向に定速度で移動させる。
１６は反射鏡７を保持するホールダ、１６ｏはホールダ
１６に設けられた＋Ｉｊ＋転機構、１７す゛固定部１８
に同定されたマイクロメータで、これを回転させるとホ
ールダ１６の一端に接触している先端部が矢印２１方向
に微小移動する。１９け固定部２０に固定されたスプリ
ングで、ホールダ７の一端を押している。
１６に設けられた＋Ｉｊ＋転機構、１７す゛固定部１８
に同定されたマイクロメータで、これを回転させるとホ
ールダ１６の一端に接触している先端部が矢印２１方向
に微小移動する。１９け固定部２０に固定されたスプリ
ングで、ホールダ７の一端を押している。
第４図は、反射鏡７を保持している部分を回転軸Ｃｔを
含む断面図で示（〜たものである。回転機構１６０、各
固定部１８．２０は、いずれも固定板２２に取り伺けら
れている。マイクロメータ１７の先端部を矢印２１方向
に移動させると、ホールダ１６け感光物（投影面）９に
対ｊ、２て垂直な回転＠Ｃｔを中心に１７で回じように
矢印２１方向に微小僧回動し、これによって１反射′境
７も回動し、反射鏡７で反射１．て感光物９ヒに水平走
査される。レーザスポットの軌跡のｚｌｌＩＩとなす角
θを調整することができる。尚、感光物９上に所望のパ
ターンを描画するには、回転ポリゴンミラー４とレーザ
光源１との間にレーザビームラＯＮ。
含む断面図で示（〜たものである。回転機構１６０、各
固定部１８．２０は、いずれも固定板２２に取り伺けら
れている。マイクロメータ１７の先端部を矢印２１方向
に移動させると、ホールダ１６け感光物（投影面）９に
対ｊ、２て垂直な回転＠Ｃｔを中心に１７で回じように
矢印２１方向に微小僧回動し、これによって１反射′境
７も回動し、反射鏡７で反射１．て感光物９ヒに水平走
査される。レーザスポットの軌跡のｚｌｌＩＩとなす角
θを調整することができる。尚、感光物９上に所望のパ
ターンを描画するには、回転ポリゴンミラー４とレーザ
光源１との間にレーザビームラＯＮ。
ＯＦ’Ｆさせる光スイツチング素子を設ける必要がある
。
。
ここで、ステージ１０の移６１１方向ｙと、レーザスポ
ットの走査方向Ｘのなす角を調整するためには、調整す
べき角度を測定しなければならない。
ットの走査方向Ｘのなす角を調整するためには、調整す
べき角度を測定しなければならない。
以下、この調整すべき角度の測定方法につい−て、第５
図〜第７図を参照しながら次に説明する。
図〜第７図を参照しながら次に説明する。
第５図において、３０Ａ、 ３０Ｂ、 ３０Ｃ・・・・
・・ハ感光物上に水平走査されるレーザスポットの軌跡
であって、これらの各軌跡のｙ軸とのなす角は、図示す
るように直角になるように調整されなければならない。
・・ハ感光物上に水平走査されるレーザスポットの軌跡
であって、これらの各軌跡のｙ軸とのなす角は、図示す
るように直角になるように調整されなければならない。
いま、調整前において、レーザスポットの軌跡は破線ろ
１に示す通りであって、Ｘ軸とのなす角がθであるもの
とする。
１に示す通りであって、Ｘ軸とのなす角がθであるもの
とする。
けじめに、第６図（ａＬ （ｂ）に示すように、描画デ
ータによって、２枚の感光物上にそれぞれ互いに直交す
るような数値データによって、直線石！。
ータによって、２枚の感光物上にそれぞれ互いに直交す
るような数値データによって、直線石！。
ｔ１□及びに＋ ＋ Ａ２２を描く。ここで直線ｈｓｔ
Ｌｚｌは同じ長さＳであって、２本の直線ｔ＋＋＋
Ａ１２（１２１＋ｔ２２）のなす角は、描画すべき数値
データ上では直角になっているが、実際に描画されたパ
ターンは直角ではない。
Ｌｚｌは同じ長さＳであって、２本の直線ｔ＋＋＋
Ａ１２（１２１＋ｔ２２）のなす角は、描画すべき数値
データ上では直角になっているが、実際に描画されたパ
ターンは直角ではない。
次に、描かれた第６図（ａ）、 （ｂ）のパターンのい
ずれか一方（ここでは（ｂ）のパターン）を轟返し、他
方のパターン（ここでは（ａ）のパターン）に第６図（
ｃ） Ｋ示すようにｙ軸方向の直線ｔＩ２ ＋ Ａ２２
が重なるように合せる。そして、Ｘ軸方向の直線Ｌ＋＋
ｖＬ２＋の一端３２．３６間の距離δを測定すれば、（
２）式から、直線４１とＡ２１のなす角度、すなわちＸ
軸に対する走査軌跡の傾斜角θが求められる。なお。
ずれか一方（ここでは（ｂ）のパターン）を轟返し、他
方のパターン（ここでは（ａ）のパターン）に第６図（
ｃ） Ｋ示すようにｙ軸方向の直線ｔＩ２ ＋ Ａ２２
が重なるように合せる。そして、Ｘ軸方向の直線Ｌ＋＋
ｖＬ２＋の一端３２．３６間の距離δを測定すれば、（
２）式から、直線４１とＡ２１のなす角度、すなわちＸ
軸に対する走査軌跡の傾斜角θが求められる。なお。
ここで、θは微小角であるものとする。
δ
この傾斜角θが求めらｈると、第６図においで、回転軸
Ｃｔとマイクロメータ１７との距離ｔから、マイクロメ
ーター７の送り量ε＆：ｉ： （３１式で得られる。
Ｃｔとマイクロメータ１７との距離ｔから、マイクロメ
ーター７の送り量ε＆：ｉ： （３１式で得られる。
たｙしθけ微小角であるものとする。
ε ＝ ｔ・θ
このようｐこして求められた送りＭｔだけ、マイクロメ
ーター７によって補正すれば、反射・雌７は回転機構１
６０を中心にして僅かに回転し、感光物（対称物）上に
水平走査されるレーザスポットの軌跡が第５図の３ＯＡ
、 ３０Ｂ、 ３０Ｃ・・・に示すように、ｙ軸となす
角す（かいずれも直角になるように、すなわち、対象物
上の直交座標系に正確に従ったものに訪整される。
ーター７によって補正すれば、反射・雌７は回転機構１
６０を中心にして僅かに回転し、感光物（対称物）上に
水平走査されるレーザスポットの軌跡が第５図の３ＯＡ
、 ３０Ｂ、 ３０Ｃ・・・に示すように、ｙ軸となす
角す（かいずれも直角になるように、すなわち、対象物
上の直交座標系に正確に従ったものに訪整される。
なお、感光物に入射するレーザビームが感光面に垂直で
はない場合、ｆθ１／ンズ６から感光物才での光軸上の
距離が変わって、描画されるパターンの大きさに誤差を
生じる。しかし本発明においてけ、反射鏡７の回転の中
心はＸ方向の走査範囲の中央部に設けられ、レーザビー
ムは感光面に垂直に入射するからＪθレンズ６から感光
物９までの距離ｄｆθレンズ６の光軸上では変らない。
はない場合、ｆθ１／ンズ６から感光物才での光軸上の
距離が変わって、描画されるパターンの大きさに誤差を
生じる。しかし本発明においてけ、反射鏡７の回転の中
心はＸ方向の走査範囲の中央部に設けられ、レーザビー
ムは感光面に垂直に入射するからＪθレンズ６から感光
物９までの距離ｄｆθレンズ６の光軸上では変らない。
したがって、描画されるパターンの大きさに誤差は生じ
ない。
ない。
第７図Ｖよ、走査軌跡のＸ軸となす角θの他の測定方法
の説明図である。ここでは、１枚の感光物を使用する場
合であって、嬉じめに、第７図（ａ）に示すように描画
データでは直交するような２木の直線４１１１石２を描
画し、これを現像せず、次に、感光物を９０°時計方向
に回転し、第７図（ｂ）に示すように描画データでは直
交するような２本の１自線 ｔ２し １２２を描画する
。続いて、これを現像１〜、第７図（Ｃ）に示すような
パターンを得る。そ（２て、このパターンの中でｋ ｕ
Ｗ線ｔｏ ｒ １２２の延長線が交わる角度γと、直
ｍ Ａ１２１ Ａ２１の延長線が交わる角度βを求めれ
ば、（４）式から２軸に対する走査軌跡の傾斜角θが求
めらね、る。
の説明図である。ここでは、１枚の感光物を使用する場
合であって、嬉じめに、第７図（ａ）に示すように描画
データでは直交するような２木の直線４１１１石２を描
画し、これを現像せず、次に、感光物を９０°時計方向
に回転し、第７図（ｂ）に示すように描画データでは直
交するような２本の１自線 ｔ２し １２２を描画する
。続いて、これを現像１〜、第７図（Ｃ）に示すような
パターンを得る。そ（２て、このパターンの中でｋ ｕ
Ｗ線ｔｏ ｒ １２２の延長線が交わる角度γと、直
ｍ Ａ１２１ Ａ２１の延長線が交わる角度βを求めれ
ば、（４）式から２軸に対する走査軌跡の傾斜角θが求
めらね、る。
第８図回反射境７の回転角を、レーザスポットの走査速
度がどのように架わっても、常に旧交性が正確に維持さ
れるように制御する場合の、本発明の他の実施例を示す
要部構成ブロック図である。
度がどのように架わっても、常に旧交性が正確に維持さ
れるように制御する場合の、本発明の他の実施例を示す
要部構成ブロック図である。
コ（７） 実Ｎａ例においては、第５図に示す装置ｒ（
おいて、ホールタ１６（反射鏡７）を回動させるマイク
ロメータ１７の代りにモータ等の駆動部５０を用いたも
のである。第８図において、５１はマイクロコンピュー
タ等の演算処理装置、５２ ｉｒ、ｔ ホ’ ＩＪゴン
ミラ−４を所定回転数で回わすモータ制御回路、５６は
ステージ１０を駆動するモータ１２のモータ駆動回路で
ある。演算処理装置６５１は、ポリゴンミラー４による
Ｘ方向の走査速度に関連した信号”Ｊｚと、ステージ１
０のｙ方向の移動速度に関連した信号ｖｙとを入力して
おり、モータ制御回路５２．モータ駆動回路５３を介し
てポリゴミラー４の回転数とステージ１０の移動速度を
さらに演算処理装置５１１−ｔ、信号Ｖｘｒ ＶｙＯ値
に基づいて駆動部５０を介して反射鏡７の帥Ｊ動角が走
るように制御している。これによって、レーザスポット
の走査（ラスク形式）速度がどのように変わっても、常
に対象物上の自交座標系に従った正確な２次元走査がで
きるようにしている。
おいて、ホールタ１６（反射鏡７）を回動させるマイク
ロメータ１７の代りにモータ等の駆動部５０を用いたも
のである。第８図において、５１はマイクロコンピュー
タ等の演算処理装置、５２ ｉｒ、ｔ ホ’ ＩＪゴン
ミラ−４を所定回転数で回わすモータ制御回路、５６は
ステージ１０を駆動するモータ１２のモータ駆動回路で
ある。演算処理装置６５１は、ポリゴンミラー４による
Ｘ方向の走査速度に関連した信号”Ｊｚと、ステージ１
０のｙ方向の移動速度に関連した信号ｖｙとを入力して
おり、モータ制御回路５２．モータ駆動回路５３を介し
てポリゴミラー４の回転数とステージ１０の移動速度を
さらに演算処理装置５１１−ｔ、信号Ｖｘｒ ＶｙＯ値
に基づいて駆動部５０を介して反射鏡７の帥Ｊ動角が走
るように制御している。これによって、レーザスポット
の走査（ラスク形式）速度がどのように変わっても、常
に対象物上の自交座標系に従った正確な２次元走査がで
きるようにしている。
なお、上記の各実施例では、いずｔ″Ｌ、もＸ方向走査
手段として回転ポリゴンミラーを使用した場合を例示（
またが、ガルバノミラ−や他の走査手段を用いてもよい
。また、上記の実施例では、反射源をホールダに支持さ
せ、このホールダに設けた回転機構によつで反射源を回
動させたものであるが、これらの構造としては、図示し
たものに限定されず、他の構成手段を用いてもよい。ま
た反射源としてはペンタプリズム等も使する。
手段として回転ポリゴンミラーを使用した場合を例示（
またが、ガルバノミラ−や他の走査手段を用いてもよい
。また、上記の実施例では、反射源をホールダに支持さ
せ、このホールダに設けた回転機構によつで反射源を回
動させたものであるが、これらの構造としては、図示し
たものに限定されず、他の構成手段を用いてもよい。ま
た反射源としてはペンタプリズム等も使する。
以上説明し／ヒように、本発明によれば、対象物上の直
交座標系に従った正確な２次元走査のできる光走査装置
が実現できるばかりでなく、反射嘩の回転角によって対
象物上に正確な斜交座伸系を構成できる利点も有ス１、
る。
交座標系に従った正確な２次元走査のできる光走査装置
が実現できるばかりでなく、反射嘩の回転角によって対
象物上に正確な斜交座伸系を構成できる利点も有ス１、
る。
第１図は従来装置のレーザスポットの走査軌跡を示す説
明図、第２図は本発明に係る装置の一例を示す４１１？
成斜視図、第６図は第２図装置の要部を示す平面配置図
、第４図は反射俤及びポールダの断面図、ｆ！ｆ、５図
〜第７図１ｑｌレーザスポツトの走査軌跡のＸ軸となす
角の測定方法の説明図、第８図は本発明の他の実施例を
示す上部構成ブロック図である。 １・・・レーザ光源 ４・・・回転ポリゴンミラー６・
・・ｆθレンズ ７・・・反射遺１０・・・ステージ
１６・・・ホールダ １７・・・マイクロメータ代理人
−７Ｆ理士 木 村 ヨ 朗 第３図 オ乙図 第５図 第３区 ■カＶｑ
明図、第２図は本発明に係る装置の一例を示す４１１？
成斜視図、第６図は第２図装置の要部を示す平面配置図
、第４図は反射俤及びポールダの断面図、ｆ！ｆ、５図
〜第７図１ｑｌレーザスポツトの走査軌跡のＸ軸となす
角の測定方法の説明図、第８図は本発明の他の実施例を
示す上部構成ブロック図である。 １・・・レーザ光源 ４・・・回転ポリゴンミラー６・
・・ｆθレンズ ７・・・反射遺１０・・・ステージ
１６・・・ホールダ １７・・・マイクロメータ代理人
−７Ｆ理士 木 村 ヨ 朗 第３図 オ乙図 第５図 第３区 ■カＶｑ
Claims (2)
- （１） 光ビームをＸ方向に直線走査させる走査手段
と、この光ビームによって描画される対象物を前記Ｘ方
向と交わるＸ方向に移動させる移動手段とを含み、前記
対象物上に所望のパターンを描画する光走査装置におい
て、 前記光ビームのＸ方向の走査範囲中のはｙ中央部を中心
として１四転町訃に構ｈｌｉされ、ｆｉｆ７記光ビ記入
ビーム物上に反射させる反射手段と、この反射手段を回
動させる調整手段とを設け、 前記調整手段によって前記対象物上を２方向に走査する
光スポットの軌道と、対象物上の所定の２軸とがなす角
度を調整できるようにしたことを特徴とする光走査装置
。 - （２） 前記調整手段は、前記走査手段の走査速度ｍ
と移動手段の移動速度との比に応じて前記反射手段の回
転角を調整することを４′５徴とする特許請求の範囲第
１項記載の光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115509A JPS597331A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115509A JPS597331A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597331A true JPS597331A (ja) | 1984-01-14 |
| JPH0222928B2 JPH0222928B2 (ja) | 1990-05-22 |
Family
ID=14664277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115509A Granted JPS597331A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597331A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988000109A1 (en) * | 1986-07-09 | 1988-01-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser beam machining method |
| US5549257A (en) * | 1993-11-12 | 1996-08-27 | Tokusen Kogyo Co., Ltd. | Metal wire winding reel |
| US6271869B1 (en) | 1998-12-15 | 2001-08-07 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Multicolor image forming apparatus having adjustable optical members |
| JP2010250212A (ja) * | 2009-04-20 | 2010-11-04 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| CN110088660A (zh) * | 2016-10-11 | 2019-08-02 | 凯利博成像和诊断公司 | 共振扫描仪与可移动载物台的互操作 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0565436U (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-31 | 株式会社オー・アンド・エムシステムズ | ドラム缶用蓋板受入装置 |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP57115509A patent/JPS597331A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222928B2 (ja) | 1990-05-22 |
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